JP2000102793A - 有害物質処理方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 埋立地浸出水や産業廃水等中の例えば有機ハ
ロゲン系化合物などのような有害物質を処理する有害物
質処理方法およびその装置を提供する。 【解決手段】 予めＳＳ成分を分離除去した廃水１１に
ｐＨ調整剤１２を添加してｐＨを弱酸性域から中性域に
調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジ
カル発生手段１３を有する第１の処理槽１４と、ｐＨ調
整剤１５を添加して廃水中のｐＨを中性域から弱アルカ
リ性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロ
キシラジカル発生手段１６を有する第２の処理槽１７と
を備えてなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、埋立地浸出水や産
業廃水等中の例えば有機ハロゲン系化合物などのような
有害物質を処理する有害物質処理方法およびその装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来で
は、埋立地浸出水や産業廃水等の汚水は調製槽におい
て、水量，ｐＨ等の調製を行った後、生物処理槽におい
て有機物及び窒素成分を除去し凝集沈殿槽において凝集
剤の添加により凝集させ、重金属，ＳＳ（浮遊物質）成
分を分離している。その後、上澄み液は、液中のダイオ
キシン類等をはじめとする難分解性有機物を促進酸化処
理により分解し、砂濾過塔，活性炭吸着塔を経て処理水
として放流されている。

【０００３】ここで、該有機塩素化合物を含有する水の
浄化方法としては、有機塩素化合物を含有する水に過酸
化水を添加し、紫外線を照射することで該化合物を分解
するものが提案されている（特開昭52−０３５４４５号
公報参照）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
過酸化水素水に紫外線処理する場合では、分解速度が遅
く、しかも分解槽を大型化する必要があり、設備費用並
びに処理費用が嵩む、という問題がある。

【０００５】このようなことから、本発明は、埋立地浸
出水や産業廃水等中の例えば有機ハロゲン系化合物など
のような有害物質の処理を低コストで確実に処理するこ
とができる有害物質処理方法およびその装置を提供する
ことを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前述した課題を解決する
［請求項１］の発明は、廃水等の被処理水中のｐＨを弱
酸性域から中性とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該
廃水等の被処理水中の有害物質を分解処理すると共に、
ｐＨを中性域から弱アルカリ性域とし、ヒドロキシラジ
カル存在の下で該廃水の被処理水中の難分解物質を分解
処理することを特徴とする。

【０００７】［請求項２］の発明は、請求項１におい
て、オゾンの溶解とヒドロキシラジカルの発生とを分離
して行うことを特徴とする。

【０００８】［請求項３］の発明は、請求項１におい
て、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、オゾ
ンに紫外線を照射するか、オゾンと過酸化水素とを併用
して紫外線を照射するか、過酸化水素に紫外線を照射す
る方法のいずれかであることを特徴とする。

【０００９】［請求項４］の発明は、請求項３におい
て、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、光触
媒に紫外線を吸収させることを特徴とする。

【００１０】［請求項５］の発明は、請求項１におい
て、前記オゾン発生の流れにより、被処理水の循環流を
形成し、オゾン溶解水を紫外線照射手段の近傍で且つ気
泡量を抑えつつ紫外線を照射することを特徴とする。

【００１１】［請求項６］の発明は、請求項１におい
て、前記廃水等の被処理水中の難分解物質がダイオキシ
ン類，ポリ塩化ビフェニル類，クロルベンゼン類，クロ
ロフェノール及びクロロトルエンから選ばれる少なくと
も一種であることを特徴とする。

【００１２】［請求項７］の発明は、廃水等の被処理水
中のｐＨを弱酸性域から中性域に調整し、ヒドロキシラ
ジカルを発生するヒドロキシラジカル発生手段を有する
第１の処理槽と、廃水等の被処理水中のｐＨを中性域か
ら弱アルカリ性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生
するヒドロキシラジカル発生手段を有する第２の処理槽
とを備えてなることを特徴とする。

【００１３】［請求項８］の発明は、請求項７におい
て、第１の処理槽のｐＨが６〜７であり、第２の処理槽
のｐＨが７〜９であることを特徴とする。

【００１４】［請求項９］の発明は、請求項７におい
て、第１の処理槽の前流側に廃水等の被処理水にオゾン
を溶解させるオゾン溶解槽を備えたことを特徴とする。

【００１５】［請求項１０］の発明は、請求項７におい
て、第２の処理槽のヒドロキシラジカル発生手段の近傍
に光触媒を担持した部材を配することを特徴とする。

【００１６】［請求項１１］の発明は、請求項１０にお
いて、第２の処理槽の光触媒を担持した部材が被処理水
を整流化するように配してなることを特徴とする。

【００１７】［請求項１２］の発明は、請求項１１にお
いて、第２の処理槽の光触媒を担持した部材が複数配さ
れてなり、被処理水が上昇流と下降流とを繰り返すこと
で整流化するようにしてなることを特徴とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明による有害物質処理方法お
よびその装置の実施の形態を以下に説明するが、本発明
はこれらの実施の形態に限定されるものではない。

【００１９】［第１の実施の形態］本発明の第１の実施
の形態を図１を用いて説明する。本実施の形態にかかる
有害物質処理装置は、予めＳＳ成分を分離除去した廃水
１１にｐＨ調整剤１２を添加してｐＨを弱酸性域から中
性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキ
シラジカル発生手段１３を有する第１の処理槽１４と、
ｐＨ調整剤１５を添加して廃水中のｐＨを中性域から弱
アルカリ性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生する
ヒドロキシラジカル発生手段１６を有する第２の処理槽
１７とを備えてなる。

【００２０】前記第１のｐＨ調整剤１２は通常の廃水１
１のｐＨが７〜８程度であるので、廃水１１のｐＨを弱
酸性域から中性とするために添加するものである。この
第１のｐＨ調整剤１２としては、例えば硫酸等を添加し
ているが、本発明はこれに限定されるものではない。ま
た、第１の処理槽１４に設けられたヒドロキシラジカル
発生手段１３ではヒドロキシラジカルを発生するものの
低ｐＨではオゾン自体が酸化の主体となり、オゾンによ
り廃水中の有害物質の２重結合の部分を攻撃して分解す
ることとなる。よって第１の処理槽１４では、単にオゾ
ン（Ｏ₃ ）のみで簡単に分解されるものを分解すること
で有機物を分解している。一方の第２のｐＨ調整剤１５
は、第２の処理槽１７内を高ｐＨとするために、アルカ
リ剤を添加するものである。この第２のｐＨ処理剤１５
としては、例えば水酸化ナトリウム等を添加している
が、本発明はこれに限定されるものではない。また、第
２の処理槽１７ではｐＨが中性から弱アルカリ性域とし
ているので、ヒドロキシラジカル発生手段１３からはヒ
ドロキシラジカルが発生し易くなり、オゾンの自己分解
による強力なヒドロキシラジカル作用により、第１の処
理槽１４内のオゾン酸化では分解されなかった難分解性
の有機物部分を酸化し、酸化分解能力が更に高められて
いる。

【００２１】ここで、本発明でヒドロキシラジカル発生
手段とは、オゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射
する方法、オゾンと過酸化水素とを併用し、紫外線ラ
ンプにより紫外線を照射する方法、過酸化水素に紫外
線ランプにより紫外線を照射する方法等を挙げることが
できる。前記のオゾンに紫外線ランプ（例えば、低圧
水銀ランプ：出力１０〜２００Ｗ）により紫外線を照射
する方法は、波長１８５ｎｍ，２５４ｎｍの紫外線をオ
ゾン（オゾン濃度１０ｇ／ｍ³ 以上）に照射することで
ヒドロキシラジカルを発生するものである。前記のオ
ゾンと過酸化水素とを併用する方法は、過酸化水素の注
入量を１０〜５０００ｍｇ／リットルとし、オゾンの注
入量を５０〜５０００ｍｇ／リットルとしてこれに紫外
線ランプにより紫外線を照射して、ヒドロキシラジカル
を発生するものである。前記の過酸化水素に紫外線ラ
ンプにより紫外線を照射する方法は、過酸化水素の注入
量を１０〜５０００ｍｇ／リットルとし、前記紫外線ラ
ンプにより紫外線を照射することによりヒドロキシラジ
カルを発生するものである。

【００２２】なお、本実施の形態では、図１に示すよう
に、ヒドロキシラジカル発生手段としては、前記のオ
ゾンに紫外線ランプにより紫外線を照射する方法を用い
ており、外部に設けたオゾン発生機２１から散気管２２
を介して第１及び第２の処理槽１３，１７内にオゾン
（Ｏ₃ ）を含有した気泡２３を導入し、該導入されたオ
ゾン（Ｏ₃ ）に紫外線照射ランプ（ＵＶランプ）２４か
ら紫外線（ＵＶ）を照射することで、オゾン分解を促進
させ、ヒドロキシラジカル（ＯＨラジカル）を発生させ
ている。

【００２３】ここで、水中におけるオゾン（Ｏ₃ ）と紫
外線照射との反応は、下記「化１」に示すものとなり、
発生した強力なヒドロキシラジカル（ＯＨラジカル）の
酸化分解作用により難分解物質の有害物質を分解処理す
るようにしている。

【００２４】 Ｏ₃ ＋ＵＶ→Ｏ₂ ＋Ｏ，Ｏ＋Ｈ₂ Ｏ→２・ＯＨ …(1)

【００２５】本発明で分解処理する難分解物質として
は、ダイオキシン類やＰＣＢ類に代表される有害な塩素
化芳香族化合物、高縮合度芳香族炭化水素等の埋立地浸
出水や産業廃水等の廃水からの有害物質をいうが、本発
明のヒドロキシラジカルで分解できる埋立地浸出水や産
業廃水等やシュレッダーダスト処理物からの廃水や洗煙
廃水等の廃水１１中の有害物質（又は環境ホルモン）で
あればこれらに限定されるものではない。

【００２６】ここで、前記ダイオキシン類とは、ポリ塩
化ジベンゾ−ｐ−ダイオキシン類（ＰＣＤＤｓ）及びポ
リ塩化ジベンゾフラン類（ＰＣＤＦｓ）の総称であり、
塩素系化合物とある種の有機塩素化合物の燃焼時に微量
発生するといわれ、化学的に無色の結晶である。塩素の
数によって一塩化物から八塩化物まであり、異性体には
ＰＣＤＤｓで７５種類、ＰＣＤＦｓで１３５種類におよ
び、これらのうち、特に四塩化ジベンゾ−ｐ−ダイオキ
シン（Ｔ₄ ＣＤＤ）は、最も強い毒性を有するものとし
て知られている。なお、有害な塩素化芳香族化合物とし
ては、ダイオキシン類の他にその前駆体となる種々の有
機塩素化合物（例えば、フェノール，ベンゼン等の芳香
族化合物（例えばクロルベンゼン類，クロロフェノール
及びクロロトルエン等）、塩素化アルキル化合物等）が
含まれており、処理水として放流するには廃水中から除
去する必要があり、本発明により分解できる。

【００２７】また、ＰＣＢ類（ポリ塩化ビフェニル類）
はビフェニルに塩素原子が数個付加した化合物の総称で
あり、塩素の置換数、置換位置により異性体があるが、
２，６−ジクロロビフェニル、２，2'−ジクロロビフェ
ニル、２，３，５−トリクロロビフェニル等が代表的な
ものであり、毒性が強く、焼却した場合にはダイオキシ
ン類が発生するおそれがあるものとして知られており、
処理水として放流するには廃水中から除去する必要があ
り、本発明により分解できる。

【００２８】このような有害物質処理装置を使用した有
害物質処理方法を図１を用いて次に説明する。

【００２９】先ず、第１の処理槽１４内においてｐＨを
６〜７とし、廃水１１中にヒドロキシラジカルを発生さ
せ、酸化分解を行い、第２の処理槽１７おいてｐＨを７
〜９とし、第１の処理がなされた廃水１１中にヒドロキ
シラジカルを発生させ、酸化分解が行われ、処理水１８
として放流される。

【００３０】すなわち、第１の処理槽１４では単にオゾ
ン（Ｏ₃ ）酸化のみで簡単に分解される有害物質を分解
しているが、一方の第２の処理槽１７ではｐＨを７〜９
としているので、ヒドロキシラジカルが発生し易くな
り、自己分解による強力なヒドロキシラジカルの作用に
より、第１の処理槽１４内のオゾン（Ｏ₃ ）酸化で分解
されなかった難分解有害物質を酸化分解させている。ま
た、このように、二段階処理で分解処理しているので、
オゾンのみで簡単に分解できるものは第１の処理槽１４
内において処理できるので、第２の処理槽１７にかかる
負荷が軽減されることとなる。

【００３１】なお、処理槽に導入する前に、廃水中にＦ
ｅイオンやＣｕイオン等を供給し、これらイオンの作用
によりヒドロキシラジカルの分解反応を促進させること
もできる。すなわち、前記イオンを供給すると「・Ｏ
Ｈ」が大幅に生成し分解促進効果が向上するからであ
る。

【００３２】 Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ＋Ｆｅ²⁺→・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｏ₂ ＋Ｆｅ³⁺ …(2) Ｏ₃ ＋Ｈ₂ Ｏ＋Ｃｕ⁺ →・ＯＨ＋ＯＨ^- ＋Ｏ₂ ＋Ｃｕ²⁺ …(3)

【００３３】［第２の実施の形態］本発明の第２の実施
の形態を図２を用いて説明する。本実施の形態にかかる
有害物質処理装置は、予めＳＳ成分を分離除去した廃水
３１にオゾン（Ｏ₃ ）を溶解するオゾン溶解槽３２と、
該オゾンが溶解された廃水を弱酸性〜中性域でオゾン・
紫外線分解処理する第１の処理槽３６と、第１の処理槽
で処理された廃水を中性〜アルカリ性域でオゾン・紫外
線分解処理する第２の処理槽４１とからなる工程を経る
によって分解処理されている。

【００３４】上記オゾン溶解槽３２には、外部に設けた
オゾン発生機３４からオゾン含有気泡３３を廃水３１内
に導入する散気管３５が底部に設けられており、溶解槽
３２の下方からオゾン含有気泡３３を導入し、廃水３１
中にオゾンを予め溶解させている。

【００３５】上記第１の処理槽３６は、上記オゾン溶解
槽３２でオゾンが溶解された廃水３１中に、ｐＨ調整剤
３７を添加してｐＨを弱酸性域から中性域に調整すると
共に、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカ
ル発生手段である紫外線ランプ３８を備えたものであ
る。この第１の処理槽３６は鉛直方向に設けられた隔壁
３９により内部が２室３６Ａ，３６Ｂに二分割されてお
り、上記オゾン溶解槽３３側の第１室３６Ａの底部には
外部からのオゾン含有気泡３３を導入する散気管４０が
設けられている。他方の第２室３６Ｂには、その中央部
に紫外線ランプ３８が鉛直方向に配されており、両室は
隔壁３９の上下部分において連通しており、第１室３６
Ａの底部から発生するオゾン含有気泡３３が下方から上
方に向かって吹出すいわゆるエアーリフト効果により形
成された循環流Ｌにより、第１室３６Ａと第２室３６Ｂ
と交互に被処理物である廃水３１が循環され、処理効率
が向上することとなる。この結果、第１室３６Ａではオ
ゾンの溶解が効率よく行われると共に、第２室３６Ｂで
はオゾンが溶解された廃水３１に紫外線ランプ３８を照
射することでヒドロキシラジカルを発生させることがで
き、易分解性有機物の酸化分解が促進される。この際、
第１室３６Ａと第２室３６Ｂとを分離させているので、
紫外線ランプ３６からの紫外線の照射を阻害する気泡が
直接接触することが回避され、第１の実施の形態と比べ
て紫外線照射の効率が向上することとなる。

【００３６】すなわち、図１に示す第１の実施の形態に
かかる処理装置では、散気管２２から発生した気泡２３
により紫外線の散乱が引き起こされ、高活性のヒドロキ
シラジカルの発生が妨げられてしまう場合があるが、第
２の実施の形態のように、隔壁３９を用いてオゾン溶解
室である第１室３６Ａとヒドロキシラジカル発生室であ
る第２室３６Ｂとを分離することで、このようなことは
解消される。

【００３７】上記第２の処理槽４１は、上記第１の処理
槽３６で易分解性有機物の酸化分解を行った後の廃水３
１を処理するもので、該処理廃水３１中にｐＨ調整剤４
２を添加してｐＨを中性域からアルカリ性域に調整する
と共に、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジ
カル発生手段である紫外線ランプ４３を備えたものであ
る。この第２の処理槽４１は鉛直方向に設けられた隔壁
４４により例えば１：３の割合で２室４１Ａ，４１Ｂに
二分割されており、上記第１処理槽３４側の第１室４１
Ａの底部には外部からのオゾン含有気泡３３を導入する
散気管４５が設けられている。他方の第２室４１Ｂに
は、その中央部に紫外線ランプ４３が鉛直方向に配され
ており、両室は隔壁４４の上下部分において連通してお
り、第１室４１Ａの底部から発生する気泡３３が底部か
ら上方に吹出すいわゆるエアーリフト効果により形成さ
れた循環流Ｌにより、被処理物である廃水３１が第１室
４１Ａと第２室４１Ｂとで循環され、処理効率が向上す
ることとなる。また、本実施の形態では第２の処理槽４
１の紫外線ランプ４３の近傍に沿って表面に光触媒を担
持させたガラス板４６が挿入されており、ダイオキシン
類等の難分解性有機物の分解の促進を更に図るようにし
ている。この結果、第１室４１Ａではオゾンの溶解が効
率よく行われると共に、第２室４１Ｂではオゾンが溶解
された廃水３１に紫外線ランプ４３を照射することでヒ
ドロキシラジカルを発生させることができ、ダイオキシ
ン類の分解が促進される。この際、第１室４１Ａと第２
室４１Ｂとを分離させているので、紫外線ランプ４３か
らの紫外線の照射を阻害する気泡が直接接触することが
回避されることとなると共に第２室４１Ｂにおいては光
触媒を担持したガラス板４６を配置しているので、分解
効率を更に促進している。酸化分解された処理水４７は
無害化されているので、外部へ放流することができる。

【００３８】ここで、光触媒としては、特に限定される
ものではないが、例えばチタン（Ｔｉ）等を用いること
ができる。第２の処理槽４１の第２室４１Ｂに配置され
るガラス板に担持する光触媒として、例えば酸化チタン
を用いた場合には、酸化チタン表面上で以下に示す反応
が生じるので、ヒドロキシラジカルが発生し、オゾン及
び紫外線照射の処理の場合よりも多量のヒドロキシラジ
カルにより、廃水中の難分解有機物の処理が可能とな
る。

【００３９】＊電荷分離 ＴｉＯ₂ ＋ｈν（<390nm）→ｅ^- ＋ｈ⁺ …(1) ＊酸化サイトの反応 ｈ⁺ ＋ＯＨ^- →・ＯＨ …(2) ｈ⁺ ＋Ｈ₂ Ｏ→・ＯＨ＋Ｈ⁺ …(3) ＊還元サイトの反応 ｅ^- ＋Ｏ₂ →・Ｏ₂ ^- …(4) ・Ｏ₂ ^- ＋Ｈ⁺ →Ｈ₂ Ｏ・ …(5) Ｈ₂ Ｏ・・ＨＯ₂ →Ｈ₂ Ｏ₂ ＋Ｏ₂ …(6)

【００４０】［第３の実施の形態］本発明の第３の実施
の形態を図３を用いて説明する。第３の実施の形態にか
かる装置は、図２に示す第２の処理装置４１のＵＶラン
プ近傍に配されるガラス板の配置を交互に配置して、被
処理水である廃水の整流化を図ったものである。なお、
第１槽のオゾン溶解槽３２及び第２槽の第１処理槽３６
の基本構造は図２と同様であるので、図３においては省
略する。本実施の形態にかかる有害物質処理装置は、第
２の実施の形態の第２処理装置４１において、図３に示
すように、表面に光触媒を担持させたガラス板５１の複
数の配置を上下方向から交互に設け、循環流Ｌ₁ からＵ
Ｖランプ４３へ向かって流れる第２処理槽４１内での廃
水３１の流れＬ₂ の整流化を図っている。これにより、
処理廃水３１がガラス板５１の表面の光触媒と接触する
時間が長くなり、第２の実施の形態にくらべて、更にダ
イオキシン類等の難分解性有機物の分解の促進を図るよ
うにしている。

【００４１】

【発明の効果】以上述べたように、［請求項１］の発明
によれば、廃水等の被処理水中のｐＨを弱酸性域から中
性とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水中の有害
物質を分解処理すると共に、ｐＨを中性域から弱アルカ
リ性域とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水中の
難分解物質を分解処理するので、中性域でオゾン酸化に
よる分解を積極的に行い、ｐＨを中性域から弱アルカリ
性域にすることでヒドロキシラジカルの発生を増加さ
せ、自己分解による強力なヒドロキシラジカルの作用に
より、オゾン（Ｏ₃ ）で分解されなかった有害物質を酸
化している。

【００４２】［請求項２］の発明によれば、請求項１に
おいて、オゾンの溶解とヒドロキシラジカルの発生とを
分離して行うので、オゾン含有気泡に阻害されずに効率
良くヒドロキシラジカルが発生され、有害物質の分解が
促進される。

【００４３】［請求項３］の発明によれば、請求項１に
おいて、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、
オゾンに紫外線を照射するか、オゾンと過酸化水素とを
併用して紫外線を照射するか、過酸化水素に紫外線を照
射する方法のいずれかであるので、効率良くヒドロキシ
ラジカルが発生され、有害物質の分解が促進される。

【００４４】［請求項４］の発明によれば、請求項３に
おいて、前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、
光触媒に紫外線を吸収させるので、ヒドロキシラジカル
の発生量が増大され、有害物質の分解が更に促進され
る。

【００４５】［請求項５］の発明によれば、請求項１に
おいて、前記オゾン発生の流れにより、被処理水の循環
流を形成し、オゾン溶解水を紫外線照射手段の近傍で且
つ気泡量を抑えつつ紫外線を照射するので、効率よく廃
水を処理することができる。

【００４６】［請求項６］の発明によれば、請求項１に
おいて、前記廃水中の難分解物質がダイオキシン類，ポ
リ塩化ビフェニル類，クロルベンゼン類，クロロフェノ
ール及びクロロトルエンから選ばれる少なくとも一種が
完全に分解される。

【００４７】［請求項７］の発明によれば、廃水中のｐ
Ｈを弱酸性域から中性域に調整し、ヒドロキシラジカル
を発生するヒドロキシラジカル発生手段を有する第１の
処理槽と、廃水中のｐＨを中性域から弱アルカリ性域に
調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジ
カル発生手段を有する第２の処理槽とを備えてなるの
で、第１の処理槽で中性域でオゾン酸化による分解を積
極的に行い、第２の処理槽でｐＨを中性域から弱アルカ
リ性域にすることでヒドロキシラジカルの発生を増加さ
せ、自己分解による強力なヒドロキシラジカルの作用に
より、オゾン（Ｏ ₃ ）で分解されなかった有害物質を酸
化している。

【００４８】［請求項８］の発明によれば、請求項７に
おいて、第１の処理槽のｐＨが６〜７であり、第２の処
理槽のｐＨが７〜９であるので、第１の処理槽でｐＨが
６〜７の中性域でオゾン酸化による分解を積極的に行
い、第２の処理槽でｐＨ７〜９の中性域から弱アルカリ
性域にすることでヒドロキシラジカルの発生を増加さ
せ、自己分解による強力なヒドロキシラジカルの作用に
より、オゾン（Ｏ₃ ）で分解されなかった有害物質を酸
化している。

【００４９】［請求項９］の発明によれば、請求項７に
おいて、第１の処理槽の前流側に廃水にオゾンを溶解さ
せるオゾン溶解槽を備えたので、廃水中のオゾンの含有
量を増大させることができる。

【００５０】［請求項１０］の発明によれば、請求項７
において、第２の処理槽のヒドロキシラジカル発生手段
の近傍に光触媒を担持した部材を配するので、ヒドロキ
シラジカルの発生量が増大する。

【００５１】［請求項１１］の発明によれば、請求項１
０において、第２の処理槽の光触媒を担持した部材が被
処理水を整流化するように配してなるので、処理廃水が
光触媒に接する時間が長くなり、分解効率が向上する。

【００５２】［請求項１２］の発明によれば、請求項１
１において、第２の処理槽の光触媒を担持した部材が複
数配されてなり、被処理水が上昇流と下降流とを繰り返
すことで整流化するので、処理廃水が光触媒に接する時
間が長くなり、分解効率が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による有害物質処理装置の第１の実施の
形態の概略構成図である。

【図２】本発明による有害物質処理装置の第２の実施の
形態の概略構成図である。

【図３】本発明による有害物質処理装置の第３の実施の
形態の概略構成図である。

【符号の説明】

１１ 廃水 １２ ｐＨ調整剤 １３ ヒドロキシラジカル発生手段 １４ 第１の処理槽 １５ ｐＨ調整剤 １６ ヒドロキシラジカル発生手段 １７ 第２の処理槽 １８ 処理水 ２１ オゾン発生機 ２２ 散気管 ２３ 気泡 ２４ 紫外線照射ランプ ３１ 廃水 ３２ オゾン溶解槽 ３３ オゾン含有気泡 ３４ オゾン発生機 ３５ 散気管 ３６ 第１の処理槽 ３７ ｐＨ調整剤 ３８ 紫外線ランプ ３９ 隔壁 ４０ 散気管 ４１ 第２の処理槽 ４２ ｐＨ調整剤 ４３ 紫外線ランプ ４４ 隔壁 ４５ 散気管 ４６ 光触媒を担持させたガラス板 ５１ 光触媒を担持させたガラス板 Ｌ₁ 循環流 Ｌ₂ 整流

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 仙波 範明 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社横浜研究所内 (72)発明者 浅野 昌道 神奈川県横浜市金沢区幸浦一丁目８番地１ 三菱重工業株式会社横浜研究所内 (72)発明者 橋爪 隆夫 神奈川県横浜市中区錦町12番地 三菱重工 業株式会社横浜製作所内 Ｆターム(参考） 4D037 AA11 AB14 BA18 BB05 CA11 CA12 CA14 4D038 AA08 AB14 BA02 BA04 BB07 BB16 BB20 4D050 AA12 AB19 BB02 BB09 BC06 BC09 BC10 BD02 BD03 BD04 BD06 CA13

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 廃水等の被処理水中のｐＨを弱酸性域か
   ら中性とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水中の
   有害物質を分解処理すると共に、ｐＨを中性域から弱ア
   ルカリ性域とし、ヒドロキシラジカル存在の下で該廃水
   等の被処理水中の難分解物質を分解処理することを特徴
   とする有害物質処理方法。
2. 【請求項２】 請求項１において、 オゾンの溶解とヒドロキシラジカルの発生とを分離して
   行うことを特徴とする有害物質処理方法。
3. 【請求項３】 請求項１において、 前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、オゾンに
   紫外線を照射するか、オゾンと過酸化水素とを併用して
   紫外線を照射するか、過酸化水素に紫外線を照射する方
   法のいずれかであることを特徴とする有害物質処理方
   法。
4. 【請求項４】 請求項３において、 前記ヒドロキシラジカルを発生させる方法が、光触媒に
   紫外線を吸収させることを特徴とする有害物質処理方
   法。
5. 【請求項５】 請求項１において、 前記オゾン発生の流れにより、被処理水の循環流を形成
   し、オゾン溶解水を紫外線照射手段の近傍で且つ気泡量
   を抑えつつ紫外線を照射することを特徴とする有害物質
   処理方法。
6. 【請求項６】 請求項１において、 前記被処理水中の難分解物質がダイオキシン類，ポリ塩
   化ビフェニル類，クロルベンゼン類，クロロフェノール
   及びクロロトルエンから選ばれる少なくとも一種である
   ことを特徴とする有害物質処理方法。
7. 【請求項７】 廃水等の被処理水中のｐＨを弱酸性域か
   ら中性域に調整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒド
   ロキシラジカル発生手段を有する第１の処理槽と、廃水
   等の被処理水中のｐＨを中性域から弱アルカリ性域に調
   整し、ヒドロキシラジカルを発生するヒドロキシラジカ
   ル発生手段を有する第２の処理槽とを備えてなることを
   特徴とする有害物質処理装置。
8. 【請求項８】 請求項７において、 第１の処理槽のｐＨが６〜７であり、第２の処理槽のｐ
   Ｈが７〜９であることを特徴とする有害物質処理装置。
9. 【請求項９】 請求項７において、 第１の処理槽の前流側に廃水等の被処理水にオゾンを溶
   解させるオゾン溶解槽を備えたことを特徴とする有害物
   質処理装置。
10. 【請求項１０】 請求項７において、 第２の処理槽のヒドロキシラジカル発生手段の近傍に光
    触媒を担持した部材を配することを特徴とする有害物質
    処理装置。
11. 【請求項１１】 請求項１０において、 第２の処理槽の光触媒を担持した部材が被処理水を整流
    化するように配してなることを特徴とする有害物質処理
    装置。
12. 【請求項１２】 請求項１１において、 第２の処理槽の光触媒を担持した部材が複数配されてな
    り、被処理水が上昇流と下降流とを繰り返すことで整流
    化するようにしてなることを特徴とする有害物質処理装
    置。