JP2001125019A - 光走査装置 - Google Patents

光走査装置

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JP2001125019A
JP2001125019A JP30189899A JP30189899A JP2001125019A JP 2001125019 A JP2001125019 A JP 2001125019A JP 30189899 A JP30189899 A JP 30189899A JP 30189899 A JP30189899 A JP 30189899A JP 2001125019 A JP2001125019 A JP 2001125019A
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laser
laser beam
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laser light
laser beams
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Migaku Amada
天田  琢
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 各レーザ光源装置から出射されたレーザビー
ムの回転多面鏡に対する入射角度を互いに異ならせて、
各レーザビームの検知信号出力を時間的に分離すること
により、各レーザ光源装置のレーザビームごとの同期検
知信号を得ることができると共に、光学的レイアウトの
自由度を増大させ、装置の小型化を図ることができる光
走査装置を得る。 【解決手段】 複数(n≧2;整数)のレーザビームを
出射する複数(m≧2;整数)のレーザ光源装置10、
20から出射されたレーザビームを共通の偏向手段31
により被走査面を偏向走査する光走査装置において、同
一のレーザ光源装置から出射された複数のレーザビーム
は、偏向手段31の偏向反射面31a付近にて互いに交
差し、異なるレーザ光源装置から出射し共通の偏向手段
31に入射する複数のレーザビームの入射角度を偏向走
査面内で互いに異ならせている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の感光体上を
光走査して、同一転写紙に多重転写することができる光
走査装置に関するものであり、特に、カラーレーザプリ
ンタやデジタル複写機等に適用可能な光走査装置に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】従来から複数の感光体上を光走査して、
同一転写材上に多重転写するようにした光走査装置が提
案されている。ここで、従来のフルカラー画像形成装置
における光走査装置の概略を説明する。図6及び図7に
示すように、4色のカラー現像剤の一つであるK(ブラ
ック)に対応したレーザ光源装置50Kの半導体レーザ
から出射されたレーザビーム51Kは、カップリングレ
ンズ52Kを透過することによってカップリングされ、
線像結像素子としてのシリンダレンズ53Kを透過する
ことによって、回転多面鏡100の偏向反射面に副走査
方向に略結像した線像として形成される。そして時計方
向に回転する回転多面鏡100によって偏向走査され、
第1走査レンズ101および第2走査レンズ54Kを透
過し、折り返しミラー56Kを介して感光体ドラム55
Kの被走査面上をビームスポットとして等速走査する。
また、第1走査レンズ101を透過したレーザビーム5
1Kの一部は、同期ミラー60Kによって折り曲げられ
て同期検知センサ61Kに入射する。この同期検知セン
サ61Kは、レーザビーム51Kの主走査方向の書き込
みタイミングを決定するものである。
【0003】上記第1走査レンズ101と第2走査レン
ズ54Kの組み合わせでfθ機能を有していて、これに
よって回転多面鏡100による等角速度的な偏向ビーム
が感光体ドラム55Kの被走査面上で等速的に光走査さ
れる。また、レーザ光源装置50Kから感光体ドラム5
5Kまでの光学系配置を「ステーションK」と呼ぶこと
にする。
【0004】また、4色のカラー現像剤の一つであるY
(イエロー)に対応したレーザ光源装置50Yの半導体
レーザから出射されたレーザビーム51Yは、カップリ
ングレンズ52Yを透過することによってカップリング
され、線像結像素子としてのシリンダレンズ53Yを透
過することによって、回転多面鏡100の偏向反射面に
副走査方向に略結像した線像として形成される。そして
回転多面鏡100によって偏向走査され、第1走査レン
ズ101および第2走査レンズ54Yを透過し、折り返
しミラー56Y、57Yを介して感光体ドラム55Yの
被走査面上をビームスポットとして等速走査する。ま
た、第1走査レンズ101を透過したレーザビーム51
Yの一部は、同期ミラー60Yによって折り曲げられて
同期検知センサ61Yに入射する。この同期検知センサ
61Yは、レーザビーム51Yの主走査方向の書き込み
タイミングを決定するものである。
【0005】上記第1走査レンズ101と第2走査レン
ズ54Yの組み合わせでfθ機能を有していて、これに
よって回転多面鏡100による等角速度的な偏向ビーム
が感光体ドラム55Yの被走査面上で等速的に光走査さ
れる。また、レーザ光源装置50Yから感光体ドラム5
5Yまでの光学系配置を「ステーションY」と呼ぶこと
にする。
【0006】上記「ステーションK」と「ステーション
Y」とを総称して「ステーション群A」と呼ぶことにす
る。回転多面鏡100が回転すると、上記「ステーショ
ン群A」に配置された感光体ドラム55K、55Yの被
走査面上は、図6において上から下に向かってそれぞれ
走査される。
【0007】また、4色のカラー現像剤の一つであるM
(マゼンタ)に対応したレーザ光源装置50Mの半導体
レーザから出射されたレーザビーム51Mは、カップリ
ングレンズ52Mを透過することによってカップリング
され、線像結像素子としてのシリンダレンズ53Mを透
過することによって、回転多面鏡100の偏向反射面に
副走査方向に略結像した線像として形成される。そして
回転多面鏡100によって偏向走査され、第1走査レン
ズ102および第2走査レンズ54Mを透過し、折り返
しミラー56M、57Mを介して感光体ドラム55Mの
被走査面上をビームスポットとして等速走査する。ま
た、第1走査レンズ102を透過したレーザビーム51
Mの一部は、同期ミラー60Mによって折り曲げられて
同期検知センサ61Mに入射する。この同期検知センサ
61Mは、レーザビーム51Mの主走査方向の書き込み
タイミングを決定するものである。
【0008】上記第1走査レンズ102と第2走査レン
ズ54Mの組み合わせでfθ機能を有していて、これに
よって回転多面鏡100による等角速度的な偏向ビーム
が感光体ドラム55Mの被走査面上で等速的に光走査さ
れる。また、レーザ光源装置50Mから感光体ドラム5
5Mまでの光学系配置を「ステーションM」と呼ぶこと
にする。
【0009】また、4色のカラー現像剤の一つであるC
(シアン)に対応したレーザ光源装置50Cの半導体レ
ーザから出射されたレーザビーム51Cは、カップリン
グレンズ52Cを透過することによってカップリングさ
れ、線像結像素子としてのシリンダレンズ53Cを透過
することによって、回転多面鏡100の偏向反射面に副
走査方向に略結像した線像として形成される。そして回
転多面鏡100によって偏向走査され、第1走査レンズ
102および第2走査レンズ54Cを透過し、折り返し
ミラー56Cを介して感光体ドラム55Cの被走査面上
をビームスポットとして等速走査する。また、第1走査
レンズ102を透過したレーザビーム51Cの一部は、
同期ミラー60Cによって折り曲げられて同期検知セン
サ61Cに入射する。この同期検知センサ61Cは、レ
ーザビーム51Cの主走査方向の書き込みタイミングを
決定するものである。
【0010】上記第1走査レンズ102と第2走査レン
ズ54Cの組み合わせでfθ機能を有していて、これに
よって回転多面鏡100による等角速度的な偏向ビーム
が感光体ドラム55Cの被走査面上で等速的に光走査さ
れる。また、レーザ光源装置50Cから感光体ドラム5
5Cまでの光学系配置を「ステーションC」と呼ぶこと
にする。
【0011】上記「ステーションM」と「ステーション
C」とを総称して「ステーション群B」と呼ぶことにす
る。回転多面鏡100が回転すると、上記「ステーショ
ン群B」に配置された感光体ドラム55M、55Cの被
走査面上は、図6において下から上に向かってそれぞれ
走査される。
【0012】なお、上記ミラー56K、56Y、56
M、56C、57Y、57Mおよび同期ミラー60K、
60Y、60M、60Cは、結像性能や、主走査倍率な
どの光学性能を変化させることなく、各レーザ光源装置
から出射されたレーザビームの光路を折り曲げるように
なっている。
【0013】図6および図7に示すように、第1走査レ
ンズは回転多面鏡100を中心に対向配置されるように
二つ設けられていて、一方の第1走査レンズ101(図
6において右側)で、「ステーション群A」に配置され
た感光体ドラム55K、55Yの被走査面上を光走査す
るレーザビームを透過し、他方の第1走査レンズ102
(図6において左側)で、「ステーション群B」に配置
された感光体ドラム55M、55Cの被走査面上を光走
査するレーザビームを透過する。また、図示しない転写
材は、各感光体ドラム55C、55M、55Y、55K
の被走査面上に形成された画像が順次に転写され、これ
によって転写材上に多重画像が形成される。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】図6に示すフルカラー
画像形成装置における光走査装置は、各ステーションご
とに同期検知センサが設けられているが、従来のフルカ
ラー画像形成装置における光走査装置においては、ステ
ーション群ごとに同期検知センサを設けているものがあ
る。すなわち、「ステーション群A」における「ステー
ションK」のレーザビーム51Kと「ステーションY」
のレーザビーム51Yの主走査方向の書き込みタイミン
グを一つの同期検知センサで決定し、「ステーション群
B」における「ステーションM」のレーザビーム51M
と「ステーションC」のレーザビーム51Cの主走査方
向の書き込みタイミングを他の一つの同期検知センサで
決定するものがある。特開平10−148777号公報
記載のものがそれである。
【0015】このように、一つの同期検知センサで二つ
のステーションのレーザビームの主走査方向の書き込み
タイミングを決定させる場合には、各レーザ光源装置か
ら出射されたレーザビームの回転多面鏡に対する入射角
度を互いに異ならせることにより、各レーザビームの検
知信号出力を時間的に分離して、各レーザ光源装置のレ
ーザビームごとの同期検知信号を得ている。しかしなが
ら、上記特開平10−148777号公報記載のもの
は、偏向手段に対する2つのステーションのレーザビー
ムの出射角度が大きいため、装置全体が大きくなってし
まうという問題がある。
【0016】本発明は以上のような従来技術の問題点を
解消するためになされたものであり、各レーザ光源装置
から出射されたレーザビームの回転多面鏡に対する入射
角度を互いに異ならせて、各レーザビームの検知信号出
力を時間的に分離することにより、各レーザ光源装置の
レーザビームごとの同期検知信号を得ることができると
共に、光学的レイアウトの自由度を増大させ、装置の小
型化を図ることができる光走査装置を提供することを目
的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
複数(n≧2;整数)のレーザビームを出射する複数
(m≧2;整数)のレーザ光源装置から出射されたレー
ザビームを共通の偏向手段により被走査面を偏向走査す
る光走査装置において、同一のレーザ光源装置から出射
された複数のレーザビームは、偏向手段の偏向反射面付
近にて互いに交差し、異なるレーザ光源装置から出射し
共通の偏向手段に入射する複数のレーザビームの入射角
度を偏向走査面内で互いに異ならせることを特徴とす
る。
【0018】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、各レーザ光源装置から偏向手段までの光学
的距離を略一致させたことを特徴とする。
【0019】請求項3記載の発明は、請求項2記載の発
明において、同一のレーザ光源装置から出射された複数
のレーザビームが偏向手段の偏向反射面付近にて互いに
交差する角度をαとしたとき、複数(m≧2;整数)の
レーザ光源装置から出射し共通の偏向手段に入射する複
数(n≧2;整数)のレーザビームの入射角度を偏向走
査面内で角度α/m(n−1)だけ互いに異ならせるこ
とを特徴とする。
【0020】請求項4記載の発明は、請求項1、2、ま
たは3記載の発明において、レーザ光源装置から偏向手
段までの間に光路を折り曲げる光路折り曲げ手段を設け
たことを特徴とする。
【0021】請求項5記載の発明は、請求項1記載の発
明において、複数のレーザビームは一つの同期検知手段
に入射するようになっていて、複数のレーザビームの上
記同期検知手段に入射するタイミングをずらして各レー
ザビームごとに同期信号を得ることができることを特徴
とする。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
にかかる光走査装置の実施の形態について説明する。図
1には、タンデム式のフルカラー画像形成装置に用いら
れ、複数(n≧2;整数)のレーザビームを出射する複
数(m≧2;整数)のレーザ光源装置から出射されたレ
ーザビームを共通の偏向手段により被走査面を偏向走査
する光走査装置の、図において偏向手段の右側に配置さ
れた「ステーション群」のみの光学系配置を示してい
る。上記「ステーション群」は、二つの「ステーショ
ン」から構成されている。
【0023】図1に示すように、符号10は、偏向手段
の右側に配置された「ステーション群」の一方の「ステ
ーション」(以下、「ステーションM」とする)のレー
ザ光源装置を示している。このレーザ光源装置10は、
二つの半導体レーザ11、12と、この半導体レーザ1
1、12から出射されたレーザビーム11a、12aを
カップリングするカップリングレンズ13、14とから
主に構成されていて、これらの半導体レーザ11、12
およびカップリングレンズ13、14は、ベース部材1
5によって保持されている。また、半導体レーザ11、
12は、レーザビーム11aとレーザビーム12aが、
偏向手段としての回転多面鏡31の偏向反射面31a付
近にて互いに交差するように、出射側が互いに寄り添う
ように傾斜してベース部材15に保持されている。
【0024】上記レーザ光源装置10の半導体レーザ1
1、12から出射されたレーザビーム11a、12a
は、カップリングレンズ13、14を透過することによ
ってカップリングされ、線像結像素子としてのシリンダ
レンズ30を透過することによって、回転多面鏡31の
偏向反射面31aに副走査方向に略結像した線像として
形成される。このとき、レーザビーム11aとレーザビ
ーム12aは、回転多面鏡31の偏向反射面31a付近
にて互いに交差する。そして、上記レーザビーム11
a、12aは、時計方向に回転する回転多面鏡31によ
ってそれぞれ偏向走査され、第1走査レンズ32および
第2走査レンズ16からなる走査レンズ系17を透過
し、図示しない折り返しミラーを介して感光体ドラム1
8の被走査面上をビームスポットとしてそれぞれ等速走
査する。また、第1走査レンズ32を透過したレーザビ
ーム11a、12aの一部は、同期検知手段としての同
期検知センサ33に入射する。この同期検知センサ33
は、レーザビーム11a、12aの主走査方向の書き込
みタイミングを決定するものである。
【0025】上記レーザビーム11a、12aは、回転
多面鏡31の偏向反射面31aから感光体ドラム18の
被走査面までの間の共役関係が全像高の範囲において略
同等となっているため、感光体ドラム18の被走査面上
における両レーザビームの光学特性の偏差を抑制するこ
とができ、2ビーム書き込みによる出力画像の品質を良
好に維持することができる。
【0026】次に、符号20は、偏向手段の右側に配置
された「ステーション群」の他方の「ステーション」
(以下、「ステーションN」とする)のレーザ光源装置
を示している。このレーザ光源装置20は、二つの半導
体レーザ21、22と、この半導体レーザ21、22か
ら出射されたレーザビーム21a、22aをカップリン
グするカップリングレンズ23、24とから主に構成さ
れていて、これらの半導体レーザ21、22およびカッ
プリングレンズ23、24は、ベース部材25によって
保持されている。また、半導体レーザ21、22は、レ
ーザビーム21aとレーザビーム22aが、回転多面鏡
31の偏向反射面31a付近にて互いに交差するよう
に、出射側が互いに寄り添うように傾斜してベース部材
25に保持されている。
【0027】上記レーザ光源装置20の半導体レーザ2
1、22から出射されたレーザビーム21a、22a
は、カップリングレンズ23、24を透過することによ
ってカップリングされ、線像結像素子としてのシリンダ
レンズ30を透過することによって、回転多面鏡31の
偏向反射面31aに副走査方向に略結像した線像として
形成される。このとき、レーザビーム21aとレーザビ
ーム22aは、回転多面鏡31の偏向反射面31a付近
にて互いに交差する。そして、上記レーザビーム21
a、22aは、時計方向に回転する回転多面鏡31によ
ってそれぞれ偏向走査され、第1走査レンズ32および
第2走査レンズ26からなる走査レンズ系27を透過
し、図示しない折り返しミラーを介して感光体ドラム2
8の被走査面上をビームスポットとしてそれぞれ等速走
査する。また、第1走査レンズ32を透過したレーザビ
ーム21a、22aの一部は、上記同期検知センサ33
に入射する。この同期検知センサ33は、上述のように
レーザビーム11a、12aの主走査方向の書き込みタ
イミングを決定するだけでなく、レーザビーム21a、
22aの主走査方向の書き込みタイミングを決定するも
のである。
【0028】上記レーザビーム21a、22aは、回転
多面鏡31の偏向反射面31aから感光体ドラム218
の被走査面までの間の共役関係が全像高の範囲において
略同等となっているため、感光体ドラム28の被走査面
上における両レーザビームの光学特性の偏差を抑制する
ことができ、2ビーム書き込みによる出力画像の品質を
良好に維持することができる。また、「ステーション
M」のレーザ光源装置10の半導体レーザ11、12か
ら出射されたレーザビーム11a、12aは、回転多面
鏡31の偏向反射面31aのほぼ同じ位置(交差位置)
で反射され、「ステーションN」のレーザ光源装置20
の半導体レーザ21、22から出射されたレーザビーム
21a、22aは、回転多面鏡31の偏向反射面31a
のほぼ同じ位置(交差位置)で反射されることにより、
両ステーション間の光学特性を同等とすることができ、
多重転写によるカラー画像の品質を良好に維持すること
ができる。
【0029】上述のように、「ステーションM」のレー
ザ光源装置10の半導体レーザ11、12から出射され
たレーザビーム11a、12aと、「ステーションN」
のレーザ光源装置20の半導体レーザ21、22から出
射されたレーザビーム21a、22aは、一つの同期検
知センサ33によって主走査方向の書き込みタイミング
が決定されている。回転多面鏡31により偏向反射され
た上記レーザビーム11a、12a、21a、22aを
同期検知センサ33に導くための同期光学系は、同期検
知センサ33の同期検知の精度を向上させるために、同
期検知センサ33上で少なくとも主走査方向に結像する
作用を有している。図1に示す例では、第1走査レンズ
32が同期光学系を兼ねていて、第1走査レンズ32の
長さ方向一端部による主走査方向の結像位置に同期検知
センサ33を配置することにより、同期検知センサ33
の同期検知の精度を向上させている。
【0030】従って、同期検知センサ33へ向かう上記
レーザビーム11a、12a、21a、22aは、第2
走査レンズ16あるいは第2走査レンズ26を透過しな
いため、副走査方向には結像されず、主走査方向に略結
像した線像となって同期検知センサ33に入射する。こ
の場合は、同期検知センサ33として2分割PD(位置
検出素子)などを用いることができる。また、同期検知
センサ33上における結像性能をより良好にさせるため
に、第1走査レンズ32と同期検知センサ33との間の
光路上にレンズやミラー等の別の光学素子を設けてもよ
いし、あるいは、主走査方向および副走査方向の両方向
に対してパワーを有する同期光学素子を設けてもよい。
【0031】ここで、「ステーションM」のレーザ光源
装置10の半導体レーザ11、12から出射されたレー
ザビーム11aと、回転多面鏡31により偏向反射され
たレーザビームの光軸34とがなす角度をφ1とし、
「ステーションN」のレーザ光源装置20の半導体レー
ザ21、22から出射されたレーザビーム21aと、上
記光軸34とがなす角度をφ2とする。φ1=φ2とし
た場合、レーザビーム11aとレーザビーム21aは略
同時に同期検知センサ33に入射し、また、レーザビー
ム12aとレーザビーム22aも略同時に同期検知セン
サ33に入射することになり、同期検知センサ33の同
期信号は、図2(a)に示すように、レーザビーム11
aとレーザビーム21aが時間的に同じになり、レーザ
ビーム12aとレーザビーム22aも時間的に同じにな
る。従って、レーザビーム11aの同期信号とレーザビ
ーム21aの同期信号、および、レーザビーム12aの
同期信号とレーザビーム22aの同期信号をそれぞれ時
間的に分離することができず、各レーザビームごとの同
期信号を得ることができない。
【0032】これに対し、図1に示すようにφ1≠φ2
とした場合、すなわち、レーザ光源装置10から出射し
回転多面鏡31に入射するレーザビーム11a(または
12a)の入射角度と、レーザ光源装置20から出射し
回転多面鏡31に入射するレーザビーム21a(または
22a)の入射角度とを偏向走査面内で互いに異ならせ
ることにより、4つのレーザビーム11a、12a、2
1a、22aの同期検知センサ33に入射するタイミン
グを互いにずらすことができ、図2(b)に示すように
各レーザビームの同期信号を時間的に分離して各レーザ
ビームごとに同期信号を得ることができる。また、二つ
のステーションに対して共通の同期検知センサ33を用
いることができるため、部品コストの低減を図ることが
できる。
【0033】また、図4に示すように、レーザ光源装置
10から回転多面鏡31までの光学的距離と、レーザ光
源装置20から回転多面鏡31までの光学的距離とを略
一致させると共に、レーザ光源装置20から回転多面鏡
31までの間に光路を折り曲げる光路折り曲げ手段とし
ての折り曲げミラー35を設けて、レーザ光源装置20
から回転多面鏡31までの間の光路を折り曲げるように
することができる。レーザ光源装置10から回転多面鏡
31までの光学的距離と、レーザ光源装置20から回転
多面鏡31までの光学的距離とを略一致させることによ
り、レーザ光源装置を構成している半導体レーザおよび
カップリングレンズ等の機械的配置をステーション間で
統一することができ、よって、各ステーションにおいて
共通のレーザ光源装置を使用することができ、部品コス
トを低減させることができる。また、レーザ光源装置2
0から回転多面鏡31までの間の光路を折り曲げミラー
35によって折り曲げることにより、レーザ光源装置1
0とレーザ光源装置20の位置的干渉を防止することが
できると共に、レーザ光源装置20から回転多面鏡31
までの光学的レイアウトの自由度を増大することがで
き、装置の小型化を図ることができる。
【0034】上述のように、レーザ光源装置10のレー
ザビーム11aとレーザビーム12aは、回転多面鏡3
1の偏向反射面31aのほぼ同じ位置(交差位置)で反
射され、「ステーションN」のレーザ光源装置20の半
導体レーザ21、22から出射されたレーザビーム21
a、22aは、回転多面鏡31の偏向反射面31aのほ
ぼ同じ位置(交差位置)で反射するようになっている。
ここで、図5に示すように、レーザ光源装置10のレー
ザビーム11aとレーザビーム12aとのなす角度、お
よびレーザ光源装置20のレーザビーム21aとレーザ
ビーム22aとのなす角度をそれぞれαとする。このと
き、レーザ光源装置10から出射し回転多面鏡31に入
射するレーザビーム11a(または12a)の入射角度
と、レーザ光源装置20から出射し回転多面鏡31に入
射するレーザビーム21a(または22a)の入射角度
とを偏向走査面内で互いに異ならせる角度をθ=α/2
とすることにより、図2(c)に示すように同期検知セ
ンサ33で得られる各レーザビームごとの同期信号を略
等間隔にすることができる。また、このようにすること
により、光学系を構成する様々な部品の形状誤差や組み
付け誤差が発生した場合でも、各レーザビームごとに独
立した同期信号を得るための余裕度を確保することがで
きる。
【0035】一般的には、m(m≧2;整数)個のレー
ザ光源装置からそれぞれn(n≧2;整数)本のレーザ
ビームが出射する場合には、θ=α/m(n−1)とす
ることにより、同期検知センサ33で得られる各レーザ
ビームごとの同期信号を略等間隔にすることができる。
図3には、3(=m)個のレーザ光源装置からそれぞれ
3(=n)本のレーザビームが出射する例を示してい
る。この場合は、θ=α/3(3−1)=α/6とな
る。
【0036】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、複数(n
≧2;整数)のレーザビームを出射する複数(m≧2;
整数)のレーザ光源装置から出射されたレーザビームを
共通の偏向手段により被走査面を偏向走査する光走査装
置において、同一のレーザ光源装置から出射された複数
のレーザビームは、偏向手段の偏向反射面付近にて互い
に交差し、異なるレーザ光源装置から出射し共通の偏向
手段に入射する複数のレーザビームの入射角度を偏向走
査面内で互いに異ならせるため、各レーザビームの同期
信号を時間的に分離して各レーザビームごとに同期信号
を得ることができる。また、二つのステーションに対し
て共通の同期検知手段を用いることができるため、部品
コストの低減を図ることができる。
【0037】請求項2記載の発明によれば、請求項1記
載の発明において、各レーザ光源装置から偏向手段まで
の光学的距離を略一致させたため、レーザ光源装置を構
成している半導体レーザおよびカップリングレンズ等の
機械的配置をステーション間で統一することができ、よ
って、各ステーションにおいて共通のレーザ光源装置を
使用することができ、部品コストを低減させることがで
きる。
【0038】請求項3記載の発明によれば、請求項2記
載の発明において、同一のレーザ光源装置から出射され
た複数のレーザビームが偏向手段の偏向反射面付近にて
互いに交差する角度をαとしたとき、複数(m≧2;整
数)のレーザ光源装置から出射し共通の偏向手段に入射
する複数(n≧2;整数)のレーザビームの入射角度を
偏向走査面内で角度α/m(n−1)だけ互いに異なら
せるため、各レーザビームごとの同期信号を略等間隔に
することができる。また、光学系を構成する様々な部品
の形状誤差や組み付け誤差が発生した場合でも、各レー
ザビームごとに独立した同期信号を得るための余裕度を
確保することができる。
【0039】請求項4記載の発明によれば、請求項1、
2、または3記載の発明において、レーザ光源装置から
偏向手段までの間に光路を折り曲げる光路折り曲げ手段
を設けたため、レーザ光源装置同士の位置的干渉を防止
することができると共に、レーザ光源装置から回転多面
鏡までの光学的レイアウトの自由度を増大することがで
き、装置の小型化を図ることができる。
【0040】請求項5記載の発明によれば、請求項1記
載の発明において、複数のレーザビームは一つの同期検
知手段に入射するようになっていて、複数のレーザビー
ムの上記同期検知手段に入射するタイミングをずらして
各レーザビームごとに同期信号を得ることができるた
め、各レーザビームの同期信号を時間的に分離して各レ
ーザビームごとに同期信号を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる光走査装置の実施の形態を示す
光学配置図である。
【図2】上記実施の形態に適用可能な同期検知手段を示
す検知信号を示すグラフである。
【図3】本発明にかかる光走査装置の別の実施の形態を
示す光学配置図である。
【図4】さらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図5】さらに別の実施の形態を示す光学配置図であ
る。
【図6】従来の光走査装置を示す平面図である。
【図7】従来のフルカラー画像形成装置における光走査
装置を示す光学配置図である。
【符号の説明】
10 レーザ光源装置 11 半導体レーザ 11a レーザビーム 12 半導体レーザ 12a レーザビーム 13 カップリングレンズ 14 カップリングレンズ 15 ベース部材 16 第2走査レンズ 17 走査レンズ系 18 感光体ドラム 20 レーザ光源装置 21 半導体レーザ 21a レーザビーム 22 半導体レーザ 22a レーザビーム 23 カップリングレンズ 24 カップリングレンズ 25 ベース部材 26 第2走査レンズ 27 走査レンズ系 28 感光体ドラム 30 シリンダレンズ 31 回転多面鏡 31a 偏向反射面 32 第1走査レンズ 33 同期検知センサ 35 折り曲げミラー

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数(n≧2;整数)のレーザビームを
    出射する複数(m≧2;整数)のレーザ光源装置から出
    射されたレーザビームを共通の偏向手段により被走査面
    を偏向走査する光走査装置において、 同一のレーザ光源装置から出射された複数のレーザビー
    ムは、偏向手段の偏向反射面付近にて互いに交差し、 異なるレーザ光源装置から出射し共通の偏向手段に入射
    する複数のレーザビームの入射角度を偏向走査面内で互
    いに異ならせることを特徴とする光走査装置。
  2. 【請求項2】 各レーザ光源装置から偏向手段までの光
    学的距離を略一致させたことを特徴とする請求項1記載
    の光走査装置。
  3. 【請求項3】 同一のレーザ光源装置から出射された複
    数のレーザビームが偏向手段の偏向反射面付近にて互い
    に交差する角度をαとしたとき、 複数(m≧2;整数)のレーザ光源装置から出射し共通
    の偏向手段に入射する複数(n≧2;整数)のレーザビ
    ームの入射角度を偏向走査面内で角度α/m(n−1)
    だけ互いに異ならせることを特徴とする請求項2記載の
    光走査装置。
  4. 【請求項4】 レーザ光源装置から偏向手段までの間に
    光路を折り曲げる光路折り曲げ手段を設けたことを特徴
    とする請求項1、2、または3記載の光走査装置。
  5. 【請求項5】 複数のレーザビームは一つの同期検知手
    段に入射するようになっていて、複数のレーザビームの
    上記同期検知手段に入射するタイミングをずらして各レ
    ーザビームごとに同期信号を得ることができることを特
    徴とする請求項1記載の光走査装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7652786B2 (en) 2003-02-17 2010-01-26 Seiko Epson Corporation Device adapted for adjustment of scan position of light beam

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US7990572B2 (en) 2003-02-17 2011-08-02 Seiko Epson Corporation Device adapted for adjustment of scan position of light beam
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