JP2001124532A - 試料検査装置及び試料検査方法 - Google Patents
試料検査装置及び試料検査方法Info
- Publication number
- JP2001124532A JP2001124532A JP30252999A JP30252999A JP2001124532A JP 2001124532 A JP2001124532 A JP 2001124532A JP 30252999 A JP30252999 A JP 30252999A JP 30252999 A JP30252999 A JP 30252999A JP 2001124532 A JP2001124532 A JP 2001124532A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- interference fringe
- light
- interference
- reflected
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 装置構成を複雑とせずに、試料の表面形状及
び厚さむらを精度良く検査でき、測定光を透過する試料
であっても、その表面形状を精度良く検査ができる。 【解決手段】 測定光源からの可干渉光を試料に投光す
ることで、参照面と試料表面での反射光により形成され
る第１干渉縞と、試料裏面と試料表面での反射光により
形成される第２干渉縞を共にスクリーンに投影し、スク
リーンに投影された第１干渉縞または第２干渉縞の片方
を実質的に除去した後、残った干渉縞像に基づいて試料
の形状を検査する。
び厚さむらを精度良く検査でき、測定光を透過する試料
であっても、その表面形状を精度良く検査ができる。 【解決手段】 測定光源からの可干渉光を試料に投光す
ることで、参照面と試料表面での反射光により形成され
る第１干渉縞と、試料裏面と試料表面での反射光により
形成される第２干渉縞を共にスクリーンに投影し、スク
リーンに投影された第１干渉縞または第２干渉縞の片方
を実質的に除去した後、残った干渉縞像に基づいて試料
の形状を検査する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、試料に投光された
可干渉光により形成される干渉縞に基づいて試料の形状
を検査する試料検査装置及び試料検査方法に関する。
可干渉光により形成される干渉縞に基づいて試料の形状
を検査する試料検査装置及び試料検査方法に関する。
【０００２】
【従来技術】半導体ウェハ等の試料に対して可干渉光の
測定光を投光し、試料表面と参照面で反射する反射光に
より生じる干渉縞を撮像した画像に基づいて試料の表面
形状を検査する試料検査装置が知られている。このよう
な装置では、平坦な基準平面を持つ載置台に試料裏面を
密着させることで試料の裏面形状を平坦にして表面形状
（平坦度）を計測している。
測定光を投光し、試料表面と参照面で反射する反射光に
より生じる干渉縞を撮像した画像に基づいて試料の表面
形状を検査する試料検査装置が知られている。このよう
な装置では、平坦な基準平面を持つ載置台に試料裏面を
密着させることで試料の裏面形状を平坦にして表面形状
（平坦度）を計測している。
【０００３】また、試料を透過する特性を有する測定光
を投光し、試料の表面と裏面での反射光により干渉縞を
形成させ、この干渉縞を検査することで厚さむらを検査
する装置も提案されている。
を投光し、試料の表面と裏面での反射光により干渉縞を
形成させ、この干渉縞を検査することで厚さむらを検査
する装置も提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前者の
装置の場合、試料の裏面を載置台に吸着させて検査を行
うと、試料自体が持つ反りや情報が修正された状態での
検査となるため、厚み変動を伴わない自然な反り状態を
含む表面形状を得ることができなかった。
装置の場合、試料の裏面を載置台に吸着させて検査を行
うと、試料自体が持つ反りや情報が修正された状態での
検査となるため、厚み変動を伴わない自然な反り状態を
含む表面形状を得ることができなかった。
【０００５】自然な反り状態を含む表面形状の検査をす
るためには、試料の裏面を載置台に吸着せずに試料表面
の形状を検査し、さらに後者の試料の表面と裏面での反
射光による干渉縞に基づいて厚さむら情報を得る検査を
組み合わせることで可能となるが、これを別々の検査装
置で行うと、検査に手間が掛かり、検査者の負担とな
る。
るためには、試料の裏面を載置台に吸着せずに試料表面
の形状を検査し、さらに後者の試料の表面と裏面での反
射光による干渉縞に基づいて厚さむら情報を得る検査を
組み合わせることで可能となるが、これを別々の検査装
置で行うと、検査に手間が掛かり、検査者の負担とな
る。
【０００６】両者の検査を一つの装置で行う場合、試料
を透過する特性を有する光を使用すると、参照面と試料
表面で形成される干渉縞と、試料の表裏面で形成される
干渉縞の両方が現われるので、他方の干渉縞がノイズと
して影響し、精度の高い検査を行うことを困難とする。
これを避ける方法としては、表面形状の検査では試料を
透過しない光を使用し、厚さむら検査では試料を透過す
る光を使用すると共に、両者の検査光路を分離すること
が考えられるが、この方法は構成が複雑になり、装置が
大型化してしまう。
を透過する特性を有する光を使用すると、参照面と試料
表面で形成される干渉縞と、試料の表裏面で形成される
干渉縞の両方が現われるので、他方の干渉縞がノイズと
して影響し、精度の高い検査を行うことを困難とする。
これを避ける方法としては、表面形状の検査では試料を
透過しない光を使用し、厚さむら検査では試料を透過す
る光を使用すると共に、両者の検査光路を分離すること
が考えられるが、この方法は構成が複雑になり、装置が
大型化してしまう。
【０００７】また、前者の装置では測定光を透過する試
料の表面形状を高い精度で検査することは困難であっ
た。例えば、Ｈｅ-Ｎｅレーザ等の可視光により半導体
ウエハの表面形状を検査する装置を使用し、ガラスディ
スクの表面形状を検査しようとすると、ガラスディスク
の表面と裏面で干渉縞が生じるので、これがノイズとな
って精度の良い検査が困難となる。
料の表面形状を高い精度で検査することは困難であっ
た。例えば、Ｈｅ-Ｎｅレーザ等の可視光により半導体
ウエハの表面形状を検査する装置を使用し、ガラスディ
スクの表面形状を検査しようとすると、ガラスディスク
の表面と裏面で干渉縞が生じるので、これがノイズとな
って精度の良い検査が困難となる。
【０００８】本発明は上記従来技術を鑑み、装置構成を
複雑とせずに、試料の表面形状及び厚さむらを精度良く
検査することができる試料検査装置及び試料検査方法を
提供することを技術課題とする。
複雑とせずに、試料の表面形状及び厚さむらを精度良く
検査することができる試料検査装置及び試料検査方法を
提供することを技術課題とする。
【０００９】また、測定光を透過する試料であっても、
その表面形状を精度良く検査することができる試料検査
装置及び試料検査方法を提供することを技術課題とす
る。
その表面形状を精度良く検査することができる試料検査
装置及び試料検査方法を提供することを技術課題とす
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
に、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とす
る。
【００１１】（１） 測定光源からの可干渉光を試料に
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と、前記参照面と試
料表面での反射光により形成される第１干渉縞，及び試
料内部を透過した後に試料裏面で反射される反射光と試
料表面で反射される反射光とにより形成される第２干渉
縞を共に投影可能とするスクリーンと、該スクリーンに
投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前記スクリー
ンに投影される前記第１干渉縞を実質的に除去する第１
干渉縞除去手段と、前記スクリーンに投影される前記第
２干渉縞を実質的に除去する第２干渉縞除去手段と、前
記第１干渉縞除去手段により残った第２干渉縞画像及び
前記第２干渉縞除去手段によって残った第１干渉縞画像
に基づいてそれぞれ試料の形状を検査する検査手段と、
を備えることを特徴とする。
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と、前記参照面と試
料表面での反射光により形成される第１干渉縞，及び試
料内部を透過した後に試料裏面で反射される反射光と試
料表面で反射される反射光とにより形成される第２干渉
縞を共に投影可能とするスクリーンと、該スクリーンに
投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前記スクリー
ンに投影される前記第１干渉縞を実質的に除去する第１
干渉縞除去手段と、前記スクリーンに投影される前記第
２干渉縞を実質的に除去する第２干渉縞除去手段と、前
記第１干渉縞除去手段により残った第２干渉縞画像及び
前記第２干渉縞除去手段によって残った第１干渉縞画像
に基づいてそれぞれ試料の形状を検査する検査手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１２】（２） （１）の試料検査装置において、
前記可干渉光は試料に対して斜め方向から投光され、前
記第１干渉縞除去手段は前記試料を可干渉光の投光光軸
に対して試料表面上で直交する軸線方向に傾斜させる傾
斜手段を有し、該傾斜手段によって第１干渉縞の縞密度
を前記撮像手段のに対して相対的に小さくすることによ
り第１干渉縞を実質的に除去することを特徴とする。
前記可干渉光は試料に対して斜め方向から投光され、前
記第１干渉縞除去手段は前記試料を可干渉光の投光光軸
に対して試料表面上で直交する軸線方向に傾斜させる傾
斜手段を有し、該傾斜手段によって第１干渉縞の縞密度
を前記撮像手段のに対して相対的に小さくすることによ
り第１干渉縞を実質的に除去することを特徴とする。
【００１３】（３） （１）の試料検査装置において、
前記第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の
光量を調整する光量調整手段を有し、該光量調整手段に
より可干渉光を減光し，試料裏面からの反射光を減衰さ
せることで前記第２干渉縞を実質的に除去することを特
徴とする。
前記第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の
光量を調整する光量調整手段を有し、該光量調整手段に
より可干渉光を減光し，試料裏面からの反射光を減衰さ
せることで前記第２干渉縞を実質的に除去することを特
徴とする。
【００１４】（４） （１）の試料検査装置において、
前記第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の
干渉性を調節する調節手段を備え、該調節手段により可
干渉光の干渉性を低下させることで前記第２干渉縞を実
質的に除去することを特徴とする。
前記第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の
干渉性を調節する調節手段を備え、該調節手段により可
干渉光の干渉性を低下させることで前記第２干渉縞を実
質的に除去することを特徴とする。
【００１５】（５） （１）の試料検査装置は、測定光
源からの可干渉光を前記参照面を通して前記試料表面に
斜め方向から入射させる斜入射干渉計であることを特徴
とする。
源からの可干渉光を前記参照面を通して前記試料表面に
斜め方向から入射させる斜入射干渉計であることを特徴
とする。
【００１６】（６） 測定光源からの可干渉光を試料に
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に光学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参
照面と試料表面での反射光により形成される第１干渉
縞，及び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される
反射光と試料表面で反射される反射光とにより形成され
る第２干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該ス
クリーンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前
記スクリーンに投影される前記第１干渉縞を実質的に除
去する第１干渉縞除去手段と、該第１干渉縞除去手段に
より残った第２干渉縞画像に基づいて試料の形状を検査
する検査手段と、を備えることを特徴とする。
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に光学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参
照面と試料表面での反射光により形成される第１干渉
縞，及び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される
反射光と試料表面で反射される反射光とにより形成され
る第２干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該ス
クリーンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前
記スクリーンに投影される前記第１干渉縞を実質的に除
去する第１干渉縞除去手段と、該第１干渉縞除去手段に
より残った第２干渉縞画像に基づいて試料の形状を検査
する検査手段と、を備えることを特徴とする。
【００１７】（７） 測定光源からの可干渉光を試料に
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に光学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参
照面と試料表面での反射光により形成される第１干渉
縞，及び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される
反射光と試料表面で反射される反射光とにより形成され
る第２干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該ス
クリーンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前
記スクリーンに投影される前記第２干渉縞を実質的に除
去する第２干渉縞除去手段と、該第２干渉縞除去手段に
よって残った第１干渉縞画像に基づいて試料の形状を検
査する検査手段と、を備えることを特徴とする。
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査装置において、試料表面
に光学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参
照面と試料表面での反射光により形成される第１干渉
縞，及び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される
反射光と試料表面で反射される反射光とにより形成され
る第２干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該ス
クリーンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前
記スクリーンに投影される前記第２干渉縞を実質的に除
去する第２干渉縞除去手段と、該第２干渉縞除去手段に
よって残った第１干渉縞画像に基づいて試料の形状を検
査する検査手段と、を備えることを特徴とする。
【００１８】（８） 測定光源からの可干渉光を試料に
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反射
光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過し
た後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射さ
れる反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干
渉縞を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、前
記第１干渉縞及び第２干渉縞の内，第２干渉縞を実質的
に除去する第２干渉縞除去ステップと、前記第１干渉縞
除去ステップにより残った第２干渉縞画像及び前記第２
干渉縞除去ステップによって残った第１干渉縞画像に基
づいてそれぞれ試料の形状を検査する検査ステップと、
を備えることを特徴とする。
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反射
光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過し
た後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射さ
れる反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干
渉縞を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、前
記第１干渉縞及び第２干渉縞の内，第２干渉縞を実質的
に除去する第２干渉縞除去ステップと、前記第１干渉縞
除去ステップにより残った第２干渉縞画像及び前記第２
干渉縞除去ステップによって残った第１干渉縞画像に基
づいてそれぞれ試料の形状を検査する検査ステップと、
を備えることを特徴とする。
【００１９】（９） 測定光源からの可干渉光を試料に
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反射
光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過し
た後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射さ
れる反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干
渉縞を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、該
ステップにより残った第２干渉縞画像に基づいて試料の
形状を検査する検査ステップと、を備えることを特徴と
する。
投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基
づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表面
に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反射
光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過し
た後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射さ
れる反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干
渉縞を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、該
ステップにより残った第２干渉縞画像に基づいて試料の
形状を検査する検査ステップと、を備えることを特徴と
する。
【００２０】（１０） 測定光源からの可干渉光を試料
に投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に
基づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表
面に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反
射光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過
した後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射
される反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第２
干渉縞を実質的に除去する第２干渉縞除去ステップと、
該ステップによって残った第１干渉縞画像に基づいて試
料の形状を検査する検査ステップと、を備えることを特
徴とする。
に投光し，試料からの反射光により形成される干渉縞に
基づいて試料を検査する試料検査方法において、試料表
面に対向する位置に配置された参照面と試料表面での反
射光により形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過
した後に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射
される反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第２
干渉縞を実質的に除去する第２干渉縞除去ステップと、
該ステップによって残った第１干渉縞画像に基づいて試
料の形状を検査する検査ステップと、を備えることを特
徴とする。
【００２１】
【発明の実施の形態】本発明について一実施形態を挙
げ、図面に基づいて以下に説明する。図１は実施形態で
ある試料検査装置の要部概略図である。本装置は斜入射
干渉計を使用している。
げ、図面に基づいて以下に説明する。図１は実施形態で
ある試料検査装置の要部概略図である。本装置は斜入射
干渉計を使用している。
【００２２】測定光源１から出射される可干渉光は、そ
の一部が試料６を透過する特性（波長）を有しており、
例えば、半導体ウェハの場合は赤外光を発する半導体レ
ーザが利用でき、ガラスディスクの場合は可視光を発す
るＨｅ-Ｎｅレーザが利用できる。測定光源１より出射
した光はエキスパンダレンズ２を通過した後、コリメー
タレンズ３により平行光束にされ、ロータリープリズム
４を介してプリズム５に入射する。ロータリープリズム
４は制御部１１により駆動制御され、ロータリープリズ
ム４の駆動により測定光の試料６への入射角（投光角
度）が変更される。試料６は載置台１３に吸着保持され
るのではなく、試料６の端部が数箇所で保持されるよう
に載置される。
の一部が試料６を透過する特性（波長）を有しており、
例えば、半導体ウェハの場合は赤外光を発する半導体レ
ーザが利用でき、ガラスディスクの場合は可視光を発す
るＨｅ-Ｎｅレーザが利用できる。測定光源１より出射
した光はエキスパンダレンズ２を通過した後、コリメー
タレンズ３により平行光束にされ、ロータリープリズム
４を介してプリズム５に入射する。ロータリープリズム
４は制御部１１により駆動制御され、ロータリープリズ
ム４の駆動により測定光の試料６への入射角（投光角
度）が変更される。試料６は載置台１３に吸着保持され
るのではなく、試料６の端部が数箇所で保持されるよう
に載置される。
【００２３】プリズム５に入射した測定光の一部は参照
面５ａで反射され、その他の光は参照面５ａを透過す
る。参照面５ａを透過した光の一部は試料表面６ａで反
射し、残りの光は試料表面６ａを透過して試料裏面６ｂ
に至って反射する。スクリーン７には、参照面５ａと試
料表面６ａでの反射光による干渉縞ＩＳと、試料表面６
ａと試料裏面６ｂでの反射光による干渉縞ＩＴが形成さ
れる（図２参照）。参照面５ａと試料裏面６ｂでの反射
光による干渉縞は、それぞれの反射光強度に大きな差が
あるため、スクリーン７上では観察されない。
面５ａで反射され、その他の光は参照面５ａを透過す
る。参照面５ａを透過した光の一部は試料表面６ａで反
射し、残りの光は試料表面６ａを透過して試料裏面６ｂ
に至って反射する。スクリーン７には、参照面５ａと試
料表面６ａでの反射光による干渉縞ＩＳと、試料表面６
ａと試料裏面６ｂでの反射光による干渉縞ＩＴが形成さ
れる（図２参照）。参照面５ａと試料裏面６ｂでの反射
光による干渉縞は、それぞれの反射光強度に大きな差が
あるため、スクリーン７上では観察されない。
【００２４】スクリーン７上に形成された干渉縞像は撮
像レンズ８によりＣＣＤカメラ９の撮像面に結像し、撮
像される。ＣＣＤカメラ９で撮像された干渉縞像は解析
装置１０に送信され、モニタ１４に表示される。解析装
置１０では干渉縞を基に表面形状や厚さむらを得るため
の演算解析等が行われ、干渉縞像や各種情報はメモリ１
５に記憶される。１７は試料６を載置する載置台１３の
傾斜角度を変更する駆動装置であり、１２は測定感度の
変更スイッチや駆動装置１７への駆動指令を行うスイッ
チ等を持つ入力部である。
像レンズ８によりＣＣＤカメラ９の撮像面に結像し、撮
像される。ＣＣＤカメラ９で撮像された干渉縞像は解析
装置１０に送信され、モニタ１４に表示される。解析装
置１０では干渉縞を基に表面形状や厚さむらを得るため
の演算解析等が行われ、干渉縞像や各種情報はメモリ１
５に記憶される。１７は試料６を載置する載置台１３の
傾斜角度を変更する駆動装置であり、１２は測定感度の
変更スイッチや駆動装置１７への駆動指令を行うスイッ
チ等を持つ入力部である。
【００２５】以上のような構成を備える試料検査装置に
おいて、以下にその動作を説明する。図３は検査動作の
フローチャート図である。
おいて、以下にその動作を説明する。図３は検査動作の
フローチャート図である。
【００２６】検査者は載置台１３に試料６を配置して検
査を開始する。試料６は載置台１３に吸着保持されるの
ではなく、試料６の端部が数箇所で保持されるため、自
然な反り状態を含む表面形状の平坦度を検査することが
できる。制御部１１が光源１を発光させると、スクリー
ン７上には２つの干渉縞ＩＳ，ＩＴが投影され、ＣＣＤ
カメラ９で撮像した画像はモニタ１４に表示される。
査を開始する。試料６は載置台１３に吸着保持されるの
ではなく、試料６の端部が数箇所で保持されるため、自
然な反り状態を含む表面形状の平坦度を検査することが
できる。制御部１１が光源１を発光させると、スクリー
ン７上には２つの干渉縞ＩＳ，ＩＴが投影され、ＣＣＤ
カメラ９で撮像した画像はモニタ１４に表示される。
【００２７】図２に示す２つの干渉縞像は、参照面５ａ
と試料表面６ａによる干渉縞ＩＳと、試料表面６ａと裏
面６ｂによる干渉縞ＩＴであり、検査者はモニタ１４に
表示される干渉縞ＩＳ，ＩＴを基に試料形状を検査す
る。また、解析装置１０はそれぞれの干渉縞ＩＳ，ＩＴ
を基に表面形状及び厚さむらを定量的に演算解析し、測
定する。以下、表面形状検査と厚さむら検査について、
各々説明する。
と試料表面６ａによる干渉縞ＩＳと、試料表面６ａと裏
面６ｂによる干渉縞ＩＴであり、検査者はモニタ１４に
表示される干渉縞ＩＳ，ＩＴを基に試料形状を検査す
る。また、解析装置１０はそれぞれの干渉縞ＩＳ，ＩＴ
を基に表面形状及び厚さむらを定量的に演算解析し、測
定する。以下、表面形状検査と厚さむら検査について、
各々説明する。
【００２８】＜表面形状検査＞表面形状検査では参照面
５ａと試料表面６ａでの反射光による干渉縞ＩＳを利用
する。この際、試料表面６ａと裏面６ｂでの反射光によ
る干渉縞ＩＴはノイズとなるため、精度の良い表面形状
を得るためには、干渉縞ＩＴの影響を取り除く、あるい
は小さくすることが必要となる。
５ａと試料表面６ａでの反射光による干渉縞ＩＳを利用
する。この際、試料表面６ａと裏面６ｂでの反射光によ
る干渉縞ＩＴはノイズとなるため、精度の良い表面形状
を得るためには、干渉縞ＩＴの影響を取り除く、あるい
は小さくすることが必要となる。
【００２９】この方法としては、光源１の光量を調節す
ることで、干渉縞ＩＴの影響を減少させることができ
る。具体的には図４の参照光の反射状況を説明する図に
示すように、試料表面６ａを通過した光が試料６内で吸
収されるか、あるいは試料裏面６ｂで反射した光が試料
表面６ａを透過するまでの間に試料６内で吸収される程
度の光量まで弱くする。光量の調節は検査者が手動によ
り行うことができるが、干渉縞ＩＴの明るさ（輝度）情
報を検出し、予め設定した閾値以下になるように制御部
１１が光源１の光量を自動的に調節するようにすること
も可能である。
ることで、干渉縞ＩＴの影響を減少させることができ
る。具体的には図４の参照光の反射状況を説明する図に
示すように、試料表面６ａを通過した光が試料６内で吸
収されるか、あるいは試料裏面６ｂで反射した光が試料
表面６ａを透過するまでの間に試料６内で吸収される程
度の光量まで弱くする。光量の調節は検査者が手動によ
り行うことができるが、干渉縞ＩＴの明るさ（輝度）情
報を検出し、予め設定した閾値以下になるように制御部
１１が光源１の光量を自動的に調節するようにすること
も可能である。
【００３０】これにより、試料裏面６ｂからの反射光は
試料表面６ａでの反射光と干渉を起こすことなく試料６
に吸収され、スクリーン７上に干渉縞ＩＴは形成されな
くなる。一方、干渉縞ＩＴに対して干渉縞ＩＳのコント
ラストは遥かに高いため、光源１の光量を落としても参
照面５ａと試料表面６ａの反射光による干渉縞ＩＳのみ
がＣＣＤカメラ９に撮像される。
試料表面６ａでの反射光と干渉を起こすことなく試料６
に吸収され、スクリーン７上に干渉縞ＩＴは形成されな
くなる。一方、干渉縞ＩＴに対して干渉縞ＩＳのコント
ラストは遥かに高いため、光源１の光量を落としても参
照面５ａと試料表面６ａの反射光による干渉縞ＩＳのみ
がＣＣＤカメラ９に撮像される。
【００３１】また、試料６に投光される可干渉光の干渉
性を低下させることでも裏面反射を除去することが可能
である。例えば、測定光源１に半導体レーザ光源を用い
る。半導体レーザ光源は通常１つのピーク波長を有して
いるが、温度が変化するとピーク波長が移行する特性が
ある。図５に示すように、通常１つのピーク波長λ１を
有する参照光が（図５（ａ）参照）、温度変化によって
波長λ１が弱まり、波長λ２が強くなり始める。一旦、
２つの波長λ１，λ２の強度がほぼ等しくなった後（図
５（ｂ）参照）、ピーク波長λ２を有するようになるモ
ードジャンプが生じる。（図５（ｃ）参照）。
性を低下させることでも裏面反射を除去することが可能
である。例えば、測定光源１に半導体レーザ光源を用い
る。半導体レーザ光源は通常１つのピーク波長を有して
いるが、温度が変化するとピーク波長が移行する特性が
ある。図５に示すように、通常１つのピーク波長λ１を
有する参照光が（図５（ａ）参照）、温度変化によって
波長λ１が弱まり、波長λ２が強くなり始める。一旦、
２つの波長λ１，λ２の強度がほぼ等しくなった後（図
５（ｂ）参照）、ピーク波長λ２を有するようになるモ
ードジャンプが生じる。（図５（ｃ）参照）。
【００３２】裏面反射を除去する際には、図５（ｂ）に
示す２つの波長λ１，λ２がほぼ同じ強度を有する状態
の参照光を利用する。ほぼ同じ強度を有する２つの波長
λ１，λ２によるレーザ光の干渉性は弱まるため、干渉
強度（コントラスト）が低い干渉縞ＩＴは除され、参照
面と試料表面での干渉縞ＩＳが残るようになる。
示す２つの波長λ１，λ２がほぼ同じ強度を有する状態
の参照光を利用する。ほぼ同じ強度を有する２つの波長
λ１，λ２によるレーザ光の干渉性は弱まるため、干渉
強度（コントラスト）が低い干渉縞ＩＴは除され、参照
面と試料表面での干渉縞ＩＳが残るようになる。
【００３３】図６は、光源１を半導体レーザ光源とし、
参照光の一部をビームスプリッタ３０で分割し、センサ
３１で波長スペクトルを検出しながら、半導体レーザ光
源への供給電力により温度を調節し、２つの波長強度が
ほぼ等しい参照光を投光することで、裏面反射による干
渉縞ＩＴを除去する例である。
参照光の一部をビームスプリッタ３０で分割し、センサ
３１で波長スペクトルを検出しながら、半導体レーザ光
源への供給電力により温度を調節し、２つの波長強度が
ほぼ等しい参照光を投光することで、裏面反射による干
渉縞ＩＴを除去する例である。
【００３４】なお、試料６に投光される可干渉光の干渉
性を低下させる手段としては、上記の他、図１における
レンズ２とレンズ３の間にスリガラス板を配置した構成
でも可能である。レンズ２の焦点をスリガラス板の拡散
面からずらすことによって、点光源を見かけ上広げてレ
ーザ光の干渉性を低下させるように調整できる。
性を低下させる手段としては、上記の他、図１における
レンズ２とレンズ３の間にスリガラス板を配置した構成
でも可能である。レンズ２の焦点をスリガラス板の拡散
面からずらすことによって、点光源を見かけ上広げてレ
ーザ光の干渉性を低下させるように調整できる。
【００３５】以上のように、干渉縞ＩＴを除去又は減衰
させることができれば、ＣＣＤカメラ９には表面形状情
報が含まれた干渉縞ＩＳだけが撮像されるので、干渉縞
ＩＳを基に公知の位相シフト法により試料表面形状を定
量的に算出することができる。表面形状を得るための位
相シフト法では、図示なきピエゾ素子を制御部１１で駆
動制御してプリズム５、又は載置台１３を微妙に移動さ
せ、参照面５ａと試料表面６ａとの距離を変化させる。
この距離変化に応じて位相の異なる干渉縞像が形成され
るので、位相の異なる複数の干渉縞像をＣＣＤカメラ９
で撮像し、メモリ１５に記憶する。解析装置１０では記
憶された複数の干渉縞像を基に位相シフト法により試料
表面形状を算出する。解析装置１０により得られた試料
表面形状データは鳥瞰図や各種情報としてモニタ１４に
表示される。
させることができれば、ＣＣＤカメラ９には表面形状情
報が含まれた干渉縞ＩＳだけが撮像されるので、干渉縞
ＩＳを基に公知の位相シフト法により試料表面形状を定
量的に算出することができる。表面形状を得るための位
相シフト法では、図示なきピエゾ素子を制御部１１で駆
動制御してプリズム５、又は載置台１３を微妙に移動さ
せ、参照面５ａと試料表面６ａとの距離を変化させる。
この距離変化に応じて位相の異なる干渉縞像が形成され
るので、位相の異なる複数の干渉縞像をＣＣＤカメラ９
で撮像し、メモリ１５に記憶する。解析装置１０では記
憶された複数の干渉縞像を基に位相シフト法により試料
表面形状を算出する。解析装置１０により得られた試料
表面形状データは鳥瞰図や各種情報としてモニタ１４に
表示される。
【００３６】＜厚さむら検査＞厚さむら検査について説
明する。厚さむら検査では試料表面６ａと試料裏面６ｂ
での反射光による干渉縞ＩＴを利用する。厚さむら検査
の場合には、参照面５ａと試料表面６ａでの反射光によ
る干渉縞ＩＳはノイズとなるため、厚さむらを精度良く
検査する上で干渉縞ＩＳを取り除く、あるいは減衰させ
てやる必要がある。
明する。厚さむら検査では試料表面６ａと試料裏面６ｂ
での反射光による干渉縞ＩＴを利用する。厚さむら検査
の場合には、参照面５ａと試料表面６ａでの反射光によ
る干渉縞ＩＳはノイズとなるため、厚さむらを精度良く
検査する上で干渉縞ＩＳを取り除く、あるいは減衰させ
てやる必要がある。
【００３７】検査者は干渉縞ＩＳを除去するために、入
力部１２を操作して試料６が配置された載置台１３を参
照面５ａに対して傾斜するように駆動する。その傾斜方
向は、図７に示すように、試料表面６ａに斜め方向から
投光される測定光の光軸Ｌ１に対して試料表面上で直交
する軸線Ｌ２方向である矢印Ａ方向に傾斜させる。これ
により、測定光の入射角度をほとんど変えることなく試
料表面６ａと参照面５ａとの平行度を変更することがで
きる。なお、載置台１３の傾斜駆動は制御部１１の制御
により駆動装置１７によって行われるが、回転ノブの操
作等によって手動調整する構成でも良い。
力部１２を操作して試料６が配置された載置台１３を参
照面５ａに対して傾斜するように駆動する。その傾斜方
向は、図７に示すように、試料表面６ａに斜め方向から
投光される測定光の光軸Ｌ１に対して試料表面上で直交
する軸線Ｌ２方向である矢印Ａ方向に傾斜させる。これ
により、測定光の入射角度をほとんど変えることなく試
料表面６ａと参照面５ａとの平行度を変更することがで
きる。なお、載置台１３の傾斜駆動は制御部１１の制御
により駆動装置１７によって行われるが、回転ノブの操
作等によって手動調整する構成でも良い。
【００３８】試料６を傾斜させると干渉縞ＩＳの濃淡の
間隔が密になり、干渉縞の数が多く形成される。さらに
試料６の傾斜を大きくしていくと、干渉縞密度が順次密
になり、干渉縞の間隔がＣＣＤカメラ９の解像度（分解
能）を越えると、ＣＣＤカメラ９では干渉縞ＩＳが撮像
されなくなる。このように干渉縞ＩＳの間隔をＣＣＤカ
メラ９の解像度以下にすることで干渉縞ＩＳを実質的に
除去することができる。また、試料６は測定光の光軸に
対して試料表面上で直交する軸線方向に傾斜させている
ので、測定光の入射角は変更せず、傾斜による干渉縞Ｉ
Ｔへの影響（測定感度の影響）は殆どない。これによ
り、干渉縞ＩＳのみが除去され、干渉縞ＩＴのみがＣＣ
Ｄカメラ９に撮像される。
間隔が密になり、干渉縞の数が多く形成される。さらに
試料６の傾斜を大きくしていくと、干渉縞密度が順次密
になり、干渉縞の間隔がＣＣＤカメラ９の解像度（分解
能）を越えると、ＣＣＤカメラ９では干渉縞ＩＳが撮像
されなくなる。このように干渉縞ＩＳの間隔をＣＣＤカ
メラ９の解像度以下にすることで干渉縞ＩＳを実質的に
除去することができる。また、試料６は測定光の光軸に
対して試料表面上で直交する軸線方向に傾斜させている
ので、測定光の入射角は変更せず、傾斜による干渉縞Ｉ
Ｔへの影響（測定感度の影響）は殆どない。これによ
り、干渉縞ＩＳのみが除去され、干渉縞ＩＴのみがＣＣ
Ｄカメラ９に撮像される。
【００３９】以上のように、干渉縞ＩＳのみを除去する
ことで、検査者はモニタ１４に映出される干渉縞ＩＴを
基に精度良く検査を行うことができ、また、解析装置１
０では干渉縞ＩＴを基に位相シフト法等を用いて演算解
析することで、厚さむらを定量的に算出することができ
る。
ことで、検査者はモニタ１４に映出される干渉縞ＩＴを
基に精度良く検査を行うことができ、また、解析装置１
０では干渉縞ＩＴを基に位相シフト法等を用いて演算解
析することで、厚さむらを定量的に算出することができ
る。
【００４０】なお、干渉縞像ＩＴに対して位相シフト法
により演算解析する場合、干渉縞ＩＳのように干渉を起
こす２つの反射面の距離を変更することができないた
め、本実施形態ではロータリープリズム４を回転駆動し
て入射角を変更させることにより干渉縞を位相シフトさ
せ、複数の干渉縞を基に厚さむら情報を定量的に算出す
る。例えば、４ステップの位相シフト法では、試料へ投
光される測定光の角度変化は、スクリーン７上に形成さ
れる干渉縞がπ／２分の位相だけ移動するように制御す
る。このようにして干渉縞の位相をπ／２分ずつ変化さ
せた４枚の干渉縞画像を順次撮像し、これをメモリ１５
に記憶する。解析装置１０はメモリ１５に記憶した４枚
の干渉縞画像から位相シフト法によって試料６の厚さむ
らの形状を解析する。
により演算解析する場合、干渉縞ＩＳのように干渉を起
こす２つの反射面の距離を変更することができないた
め、本実施形態ではロータリープリズム４を回転駆動し
て入射角を変更させることにより干渉縞を位相シフトさ
せ、複数の干渉縞を基に厚さむら情報を定量的に算出す
る。例えば、４ステップの位相シフト法では、試料へ投
光される測定光の角度変化は、スクリーン７上に形成さ
れる干渉縞がπ／２分の位相だけ移動するように制御す
る。このようにして干渉縞の位相をπ／２分ずつ変化さ
せた４枚の干渉縞画像を順次撮像し、これをメモリ１５
に記憶する。解析装置１０はメモリ１５に記憶した４枚
の干渉縞画像から位相シフト法によって試料６の厚さむ
らの形状を解析する。
【００４１】また、解析装置１０は定量的に算出した試
料表面形状と厚さむら情報を基に、試料全体を三次元形
状表示することが可能であり、検査者はモニタ１４に表
示される検査試料の情報を基に容易に検査を行うことが
できる。
料表面形状と厚さむら情報を基に、試料全体を三次元形
状表示することが可能であり、検査者はモニタ１４に表
示される検査試料の情報を基に容易に検査を行うことが
できる。
【００４２】以上、１つの試料の表面形状と厚さむらの
両方を検査する場合について説明したが、これに限らず
本発明は次のように適用することができる。すなわち、
半導体ウエハの表面形状を検査するために、測定光源１
としてＨｅ-Ｎｅレーザ等の可視光を使用した装置にお
いて、可視光を透過するガラスディスクの表面形状を検
査したい場合、前述した方法により光源１の光量を弱く
したり、または測定光の干渉性を低下させる。これによ
り、可視光を透過するガラスディスクであっても、その
表面と裏面での反射光による干渉縞の影響を取り除くこ
とができ、ガラスディスクの表面形状の検査が可能とな
る。
両方を検査する場合について説明したが、これに限らず
本発明は次のように適用することができる。すなわち、
半導体ウエハの表面形状を検査するために、測定光源１
としてＨｅ-Ｎｅレーザ等の可視光を使用した装置にお
いて、可視光を透過するガラスディスクの表面形状を検
査したい場合、前述した方法により光源１の光量を弱く
したり、または測定光の干渉性を低下させる。これによ
り、可視光を透過するガラスディスクであっても、その
表面と裏面での反射光による干渉縞の影響を取り除くこ
とができ、ガラスディスクの表面形状の検査が可能とな
る。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、装
置構成を複雑とせずに、試料の自然な反り状態のままの
表面形状、厚さむらを検査することができる。また、測
定光を透過する試料であっても、ノイズとなる干渉縞を
実質的に除去することで、表面形状を精度良く検査する
ことができる。
置構成を複雑とせずに、試料の自然な反り状態のままの
表面形状、厚さむらを検査することができる。また、測
定光を透過する試料であっても、ノイズとなる干渉縞を
実質的に除去することで、表面形状を精度良く検査する
ことができる。
【図１】実施形態である試料検査装置の要部概略図であ
る。
る。
【図２】スクリーン上に投影される干渉縞の説明図であ
る。
る。
【図３】検査動作のフローチャート図である。
【図４】参照光の反射状況を説明する図である。
【図５】半導体レーザ光源の温度変化による出射光の波
長変化の説明図である。
長変化の説明図である。
【図６】裏面反射による干渉縞ＩＴを除去する場合の変
容例の要部概略図である。
容例の要部概略図である。
【図７】干渉縞ＩＳを除去する場合の試料（載置台）の
傾斜方向を説明する図である。
傾斜方向を説明する図である。
１ 光源 ５ プリズム ５ａ 参照基準面 ６ 試料 ６ａ 試料表面 ６ｂ 試料裏面 ９ ＣＣＤカメラ １０ 解析装置 １１ 制御部 １３ 載置台 １５ メモリ １７ 駆動装置
Claims (10)
- 【請求項１】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査装置において、試料表面に対
向する位置に配置された参照面と、前記参照面と試料表
面での反射光により形成される第１干渉縞，及び試料内
部を透過した後に試料裏面で反射される反射光と試料表
面で反射される反射光とにより形成される第２干渉縞を
共に投影可能とするスクリーンと、該スクリーンに投影
された干渉縞を撮像する撮像手段と、前記スクリーンに
投影される前記第１干渉縞を実質的に除去する第１干渉
縞除去手段と、前記スクリーンに投影される前記第２干
渉縞を実質的に除去する第２干渉縞除去手段と、前記第
１干渉縞除去手段により残った第２干渉縞画像及び前記
第２干渉縞除去手段によって残った第１干渉縞画像に基
づいてそれぞれ試料の形状を検査する検査手段と、を備
えることを特徴とする試料検査装置。 - 【請求項２】 請求項１の試料検査装置において、前記
可干渉光は試料に対して斜め方向から投光され、前記第
１干渉縞除去手段は前記試料を可干渉光の投光光軸に対
して試料表面上で直交する軸線方向に傾斜させる傾斜手
段を有し、該傾斜手段によって第１干渉縞の縞密度を前
記撮像手段のに対して相対的に小さくすることにより第
１干渉縞を実質的に除去することを特徴とする試料検査
装置。 - 【請求項３】 請求項１の試料検査装置において、前記
第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の光量
を調整する光量調整手段を有し、該光量調整手段により
可干渉光を減光し，試料裏面からの反射光を減衰させる
ことで前記第２干渉縞を実質的に除去することを特徴と
する試料検査装置。 - 【請求項４】 請求項１の試料検査装置において、前記
第２干渉縞除去手段は試料に投光される可干渉光の干渉
性を調節する調節手段を備え、該調節手段により可干渉
光の干渉性を低下させることで前記第２干渉縞を実質的
に除去することを特徴とする試料検査装置。 - 【請求項５】 請求項１の試料検査装置は、測定光源か
らの可干渉光を前記参照面を通して前記試料表面に斜め
方向から入射させる斜入射干渉計であることを特徴とす
る試料検査装置。 - 【請求項６】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査装置において、試料表面に光
学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参照面
と試料表面での反射光により形成される第１干渉縞，及
び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される反射光
と試料表面で反射される反射光とにより形成される第２
干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該スクリー
ンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前記スク
リーンに投影される前記第１干渉縞を実質的に除去する
第１干渉縞除去手段と、該第１干渉縞除去手段により残
った第２干渉縞画像に基づいて試料の形状を検査する検
査手段と、を備えることを特徴とする試料検査装置。 - 【請求項７】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査装置において、試料表面に光
学的に対向する位置に配置された参照面と、前記参照面
と試料表面での反射光により形成される第１干渉縞，及
び試料内部を透過した後に試料裏面で反射される反射光
と試料表面で反射される反射光とにより形成される第２
干渉縞を共に投影可能とするスクリーンと、該スクリー
ンに投影された干渉縞を撮像する撮像手段と、前記スク
リーンに投影される前記第２干渉縞を実質的に除去する
第２干渉縞除去手段と、該第２干渉縞除去手段によって
残った第１干渉縞画像に基づいて試料の形状を検査する
検査手段と、を備えることを特徴とする試料検査装置。 - 【請求項８】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査方法において、試料表面に対
向する位置に配置された参照面と試料表面での反射光に
より形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過した後
に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射される
反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干渉縞
を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、前記第
１干渉縞及び第２干渉縞の内，第２干渉縞を実質的に除
去する第２干渉縞除去ステップと、前記第１干渉縞除去
ステップにより残った第２干渉縞画像及び前記第２干渉
縞除去ステップによって残った第１干渉縞画像に基づい
てそれぞれ試料の形状を検査する検査ステップと、を備
えることを特徴とする試料検査方法。 - 【請求項９】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査方法において、試料表面に対
向する位置に配置された参照面と試料表面での反射光に
より形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過した後
に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射される
反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第１干渉縞
を実質的に除去する第１干渉縞除去ステップと、該ステ
ップにより残った第２干渉縞画像に基づいて試料の形状
を検査する検査ステップと、を備えることを特徴とする
試料検査方法。 - 【請求項１０】 測定光源からの可干渉光を試料に投光
し，試料からの反射光により形成される干渉縞に基づい
て試料を検査する試料検査方法において、試料表面に対
向する位置に配置された参照面と試料表面での反射光に
より形成される第１干渉縞，及び試料内部を透過した後
に試料裏面で反射される反射光と試料表面で反射される
反射光とにより形成される第２干渉縞の内，第２干渉縞
を実質的に除去する第２干渉縞除去ステップと、該ステ
ップによって残った第１干渉縞画像に基づいて試料の形
状を検査する検査ステップと、を備えることを特徴とす
る試料検査方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30252999A JP4255586B2 (ja) | 1999-10-25 | 1999-10-25 | 試料検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30252999A JP4255586B2 (ja) | 1999-10-25 | 1999-10-25 | 試料検査装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001124532A true JP2001124532A (ja) | 2001-05-11 |
| JP2001124532A5 JP2001124532A5 (ja) | 2006-11-30 |
| JP4255586B2 JP4255586B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=17910072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30252999A Expired - Fee Related JP4255586B2 (ja) | 1999-10-25 | 1999-10-25 | 試料検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4255586B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7102762B2 (en) | 2003-07-31 | 2006-09-05 | Nidek Co., Ltd. | Surface inspection apparatus |
| JP2007248411A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
| WO2019131840A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-04 | 中国塗料株式会社 | 測定装置および測定方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107100846B (zh) | 2017-04-28 | 2020-05-26 | 上海海立新能源技术有限公司 | 一种车用涡旋压缩机 |
-
1999
- 1999-10-25 JP JP30252999A patent/JP4255586B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7102762B2 (en) | 2003-07-31 | 2006-09-05 | Nidek Co., Ltd. | Surface inspection apparatus |
| JP2007248411A (ja) * | 2006-03-20 | 2007-09-27 | Kobe Steel Ltd | 形状測定装置 |
| WO2019131840A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2019-07-04 | 中国塗料株式会社 | 測定装置および測定方法 |
| CN111417834A (zh) * | 2017-12-27 | 2020-07-14 | 中国涂料株式会社 | 测量装置及测量方法 |
| JPWO2019131840A1 (ja) * | 2017-12-27 | 2020-11-19 | 中国塗料株式会社 | 測定装置および測定方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4255586B2 (ja) | 2009-04-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP6328468B2 (ja) | 欠陥検査装置および検査方法 | |
| WO2015013439A1 (en) | Surface and subsurface detection sensor | |
| KR20100110321A (ko) | 검사 장치 및 검사 방법 | |
| TW201825864A (zh) | 用於圖案化半導體特徵之特徵化的掃描白光干涉測量系統 | |
| TW479127B (en) | Method and device for measuring thickness of test object | |
| JP4674382B1 (ja) | 検査装置及び欠陥検査方法 | |
| JP4427632B2 (ja) | 高精度三次元形状測定装置 | |
| JP2001021810A (ja) | 干渉顕微鏡 | |
| JPH1183457A (ja) | スペクトル干渉顕微鏡及び該顕微鏡を用いた表面形状測定方法 | |
| US20050206884A1 (en) | Reflectance surface analyzer | |
| JP4255586B2 (ja) | 試料検査装置 | |
| JP2003042734A (ja) | 表面形状測定方法及び表面形状測定装置 | |
| JP3533195B2 (ja) | 試料観察計測用可干渉ビーム装置 | |
| JP2004069585A (ja) | 平行度測定方法 | |
| KR20220142499A (ko) | 광학 계측 시스템 및 그 방법 | |
| JP2000065761A (ja) | 結晶歪み測定装置および結晶歪み測定方法 | |
| JP2000171228A (ja) | 斜入射干渉計 | |
| JP3939028B2 (ja) | 斜入射干渉計 | |
| JP4988577B2 (ja) | 鏡面域を有する基準面を備えた干渉系 | |
| JP5518187B2 (ja) | 変形計測方法 | |
| JP3441408B2 (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法 | |
| JP3908726B2 (ja) | 音響光学変調フィルターを用いた透明薄膜の３次元形状測定装置 | |
| JP2000105101A (ja) | 斜入射干渉計装置 | |
| JP3571161B2 (ja) | 試料検査装置及び試料検査方法 | |
| JPH07260420A (ja) | 斜入射干渉計 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061013 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061013 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080828 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080910 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081110 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090106 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090128 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120206 Year of fee payment: 3 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130206 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140206 Year of fee payment: 5 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |