JP2001105643A - サーマルヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

サーマルヘッドおよびその製造方法

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JP2001105643A
JP2001105643A JP29212299A JP29212299A JP2001105643A JP 2001105643 A JP2001105643 A JP 2001105643A JP 29212299 A JP29212299 A JP 29212299A JP 29212299 A JP29212299 A JP 29212299A JP 2001105643 A JP2001105643 A JP 2001105643A
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Japan
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platen
thermal head
heating resistor
heat
curvature
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JP29212299A
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English (en)
Inventor
Koichi Yamada
孝一 山田
Hiroyuki Furuyama
浩之 古山
Katsumune Hayashi
克宗 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba TEC Corp
Original Assignee
Toshiba TEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 印字ムラの発生を防止し、印字品質の向上を
図ることができるサーマルヘッドおよびその製造方法を
提供する。 【解決手段】 保護層9の発熱抵抗素子8上を被覆する
位置をプラテン12の曲率以下の曲率を有する凹形状の
湾曲面11にし、プラテン12の外周面の発熱抵抗素子
8に対する圧接状態を向上させる。これにより、例えば
プラテン12により搬送される感熱紙13は発熱抵抗素
子8からの熱を均一に受け易くなるので、印字ムラの発
生を防止し、印字品質を向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、サーマルヘッドお
よびその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、熱印字記録方式としては、感熱
紙を用いるもの、インクリボンを用いて普通紙にインク
を熱転写するもの、昇華性染料を用いてインク蒸気によ
り記録するものなど種々のものが存する。このような熱
印字記録方式においては、サーマルヘッドが用いられて
いる。
【0003】サーマルヘッドの従来例としては、図3に
示すものが知られている。図3に示すように、サーマル
ヘッド100には、アルミナ等のセラミックスからなる
絶縁性を有する基板101の上部に蓄熱層であるグレー
ズ層102が形成されている。このグレーズ層102上
には、共通電極103及び個別電極104と、共通電極
103と個別電極104との間に位置する発熱抵抗素子
105とが形成されている。これらの共通電極103と
個別電極104と発熱抵抗素子105とは、スパッタリ
ング法により発熱抵抗体層106と電極層107とを成
膜した後、フォトリソグラフィによって所定形状にパタ
ーニングされることにより、形成される。
【0004】また、共通電極103と個別電極104と
発熱抵抗素子105との上には、耐酸化用、耐摩耗用の
保護層108がスパッタリング法により一様に成膜され
ている。なお、発熱抵抗素子105上に位置する保護層
108は、その成膜工程により、凹形状に形成される凹
部109とされている。
【0005】このような構造のサーマルヘッド100の
発熱抵抗素子105に対向する位置には、プラテンロー
ラ110が軸支されており、このプラテンローラ110
と凹部109との間に記録媒体(ここでは、感熱紙とす
る。)111等の搬送路が形成される。
【0006】以上により、印刷データに応じて共通電極
103と個別電極104との間に位置する発熱抵抗素子
105を局所的に発熱させるとともに、印刷データに応
じてプラテンローラ110を回転させて感熱紙111を
押圧しながら搬送することにより、感熱紙111に画像
印刷を行うことができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におい
ては印刷画像の高解像度化が要望されており、ドット再
現性を良くするためにグレーズ層102が小さくなって
きている。そのため、発熱抵抗素子105上に位置する
保護層108に形成される凹部109も同様に小さくな
ってきている。
【0008】ところが、従来はプラテンローラ110に
よって押圧されながら搬送される感熱紙111は凹部1
09に入り込んで発熱抵抗素子105からの熱を受ける
が、凹部109が小さくなるに従って、感熱紙111は
凹部109に入り込みにくくなる。特に、感熱紙111
がチケット等の厚紙である場合には顕著である。
【0009】このように感熱紙111が発熱抵抗素子1
05からの熱を受けにくくなった場合には、印字ムラが
発生し、印字品質が低下するという問題がある。
【0010】本発明の目的は、印字ムラの発生を防止
し、印字品質の向上を図ることができるサーマルヘッド
およびその製造方法を提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
基板の表面上に順次積層形成された蓄熱層と発熱抵抗素
子と電極とを被覆する保護層を有し、前記発熱抵抗素子
をプラテンに対向させて備えられるサーマルヘッドにお
いて、前記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置
を前記プラテンの曲率以下の曲率を有する凹形状の湾曲
面にした。
【0012】したがって、湾曲面の曲率はプラテンの曲
率に比べて同一または小さくなることから、プラテンの
外周面の発熱抵抗素子に対する圧接状態を向上させるこ
とが可能になる。
【0013】請求項2記載の発明は、基板の表面上に順
次積層形成された蓄熱層と発熱抵抗素子と電極とを被覆
する保護層を有し、前記発熱抵抗素子をプラテンに対向
させて備えられるサーマルヘッドの製造方法において、
前記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置を研磨
して前記プラテンの曲率以下の曲率を有する凹形状に凹
ませる。
【0014】したがって、湾曲面の曲率はプラテンの曲
率に比べて同一または小さくなることから、プラテンの
外周面の発熱抵抗素子に対する圧接状態を向上させるこ
とが可能になる。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態を図1およ
び図2に基づいて説明する。本実施の形態のサーマルヘ
ッドは発熱抵抗素子をライン状に配設したライン型のサ
ーマルヘッドに適用されている。
【0016】ここで、図1はサーマルヘッド1の製造工
程について模式的に示す断面図である。まず、図1
(a)に示すように、例えばスクリーン印刷法によっ
て、アルミナ等のセラミックスで形成された絶縁性を有
する基板2の上部に蓄熱層であるグレーズ層3を形成す
る。スクリーン印刷はスクリーン印刷用のマスク(図示
せず)を基板2上の所定の位置に設置することにより行
われるが、この位置合わせは、既存のマスク設置用の装
置によって行われる。なお、本実施の形態のグレーズ層
3は、後述する用紙搬送方向A(図2参照)に平行な断
面形状が略半円形とされている。したがって、サーマル
ヘッド1は、例えば用紙幅方向に沿った略半円柱形状に
形成される。
【0017】次いで、図1(b)に示すように、例えば
スパッタリング法によって、基板2とグレーズ層3との
上部に発熱抵抗体層4を成膜する。この発熱抵抗体層4
は、例えばBaRuO3等からなっている。
【0018】続いて、図1(c)に示すように、例えば
スパッタリング法によって、発熱抵抗体層4の上部に電
極層5を成膜する。この電極層5は、例えばAl等から
なっている。
【0019】その後、図1(d)に示すように、成膜さ
れた発熱抵抗体層4と電極層5とに対してフォトリソグ
ラフィによるパターニングを行い、共通電極6と、個別
電極7と、共通電極6と個別電極7との間に位置する発
熱抵抗素子8とを形成する。
【0020】次いで、図1(e)に示すように、例えば
スパッタリング法によって、共通電極6と個別電極7と
発熱抵抗素子8との上部に保護層9を形成する。なお、
発熱抵抗素子8上に位置する保護層9は、その成膜工程
により凹形状に形成され、凹部10とされている。
【0021】最後に、図1(f)に示すように、後述す
るプラテンローラ12(図2参照)と略同一な曲率を有
する砥石等の研磨部材(図示せず)によって保護層9の
凹部10付近を研磨することによって、プラテンローラ
12と略同一な曲率を有して凹形状に湾曲した湾曲面1
1を保護層9に形成する。この湾曲面11の表面は、非
常に滑らかな面とされている。以上の工程により、サー
マルヘッド1が製造されることになる。
【0022】ここで、図2はサーマルヘッド1にプラテ
ンローラ12を押し付けた状態を示す縦断側面図であ
る。図2に示すように、サーマルヘッド1の発熱抵抗素
子8に対向する位置にはプラテンローラ12が軸支され
ている。このプラテンローラ12とサーマルヘッド1の
湾曲面11との間には、記録媒体(ここでは、感熱紙と
する。)13の搬送路が形成され、印刷データに応じて
共通電極6と個別電極7との間に位置する発熱抵抗素子
8を局所的に発熱させるとともに、印刷データに応じて
プラテンローラ12を回転させて感熱紙13を押圧しな
がら用紙搬送方向Aに向けて搬送することにより、感熱
紙13に画像印刷を行うことができる。
【0023】この際、湾曲面11とプラテンローラ12
との間に入り込んでプラテンローラ12によって押圧さ
れながら搬送される感熱紙13は発熱抵抗素子8からの
熱を受けることになるが、湾曲面11とプラテンローラ
12とは略同一な曲率を有していることから、感熱紙1
3は湾曲面11に密着しながら搬送されることにより、
発熱抵抗素子8のプラテンローラ12の外周面への圧接
状態を向上させることができる。これにより、感熱紙1
3が発熱抵抗素子8からの熱を均一に受け易くなり、印
字ムラが発生しにくくなるので、印字品質の向上が図ら
れる。
【0024】なお、本実施の形態においては、湾曲面1
1とプラテンローラ12とは略同一な曲率を有するもの
としたが、これに限るものではなく、湾曲面11の曲率
がプラテンローラ12の曲率以下であれば良い。
【0025】また、本実施の形態においては、グレーズ
層3は用紙搬送方向Aに平行な断面形状が略半円形であ
るものとしたが、これに限るものではなく、例えばスパ
ッタリング法等によって基板2上に均一の厚さに成膜さ
れて形成されたグレーズ層であっても良い。
【0026】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、基板の表
面上に順次積層形成された蓄熱層と発熱抵抗素子と電極
とを被覆する保護層を有し、前記発熱抵抗素子をプラテ
ンに対向させて備えられるサーマルヘッドにおいて、前
記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置を前記プ
ラテンの曲率以下の曲率を有する凹形状の湾曲面にし、
プラテンの外周面の発熱抵抗素子に対する圧接状態を向
上させることにより、例えばプラテンにより搬送される
感熱紙は発熱抵抗素子からの熱を均一に受け易くなるの
で、印字ムラの発生を防止し、印字品質を向上させるこ
とができる。
【0027】請求項2記載の発明によれば、基板の表面
上に順次積層形成された蓄熱層と発熱抵抗素子と電極と
を被覆する保護層を有し、前記発熱抵抗素子をプラテン
に対向させて備えられるサーマルヘッドの製造方法にお
いて、前記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置
を研磨して前記プラテンの曲率以下の曲率を有する凹形
状に凹ませ、プラテンの外周面の発熱抵抗素子に対する
圧接状態を向上させることにより、例えばプラテンによ
り搬送される感熱紙は発熱抵抗素子からの熱を均一に受
け易くなるので、印字ムラの発生を防止し、印字品質を
向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の一形態のサーマルヘッドの製造
工程について模式的に示す断面図である。
【図2】サーマルヘッドにプラテンローラを押し付けた
状態を示す縦断側面図である。
【図3】従来のサーマルヘッドにプラテンを押し付けた
状態を示す縦断側面図である。
【符号の説明】
1 サーマルヘッド 2 基板 3 蓄熱層 6,7 電極 8 発熱抵抗素子 9 保護層 11 凹形状の湾曲面 12 プラテン
フロントページの続き (72)発明者 林 克宗 静岡県田方郡大仁町大仁570番地 東芝テ ック株式会社大仁事業所内 Fターム(参考) 2C065 GA01 GC02 JF01 JF04 JF21 JH08 JH11 JH15

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板の表面上に順次積層形成された蓄熱
    層と発熱抵抗素子と電極とを被覆する保護層を有し、前
    記発熱抵抗素子をプラテンに対向させて備えられるサー
    マルヘッドにおいて、 前記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置を前記
    プラテンの曲率以下の曲率を有する凹形状の湾曲面にし
    たことを特徴とするサーマルヘッド。
  2. 【請求項2】 基板の表面上に順次積層形成された蓄熱
    層と発熱抵抗素子と電極とを被覆する保護層を有し、前
    記発熱抵抗素子をプラテンに対向させて備えられるサー
    マルヘッドの製造方法において、 前記保護層の前記発熱抵抗素子上を被覆する位置を研磨
    して前記プラテンの曲率以下の曲率を有する凹形状に凹
    ませることを特徴とするサーマルヘッドの製造方法。
JP29212299A 1999-10-14 1999-10-14 サーマルヘッドおよびその製造方法 Pending JP2001105643A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100880174B1 (ko) * 2001-04-04 2009-02-06 토소가부시키가이샤 Ito 스퍼터링 타겟

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