JP2001100021A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents
カラーフィルタの製造方法Info
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- JP2001100021A JP2001100021A JP27614599A JP27614599A JP2001100021A JP 2001100021 A JP2001100021 A JP 2001100021A JP 27614599 A JP27614599 A JP 27614599A JP 27614599 A JP27614599 A JP 27614599A JP 2001100021 A JP2001100021 A JP 2001100021A
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- JP
- Japan
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- color filter
- substrate
- ozone
- resist
- glass substrate
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- Pending
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- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶表示装置用の顔料分散方式カラーフィルタ
の製造工程において、着色レジストをガラス基板上にス
ピンコートしてパターン形成した後、レジストが基板周
辺部に残渣として残り、これが洗浄工程において溶けだ
し、着色パターン部にシミ・汚れ不良等を発生させる問
題がある。この基板周辺のレジスト残渣を無くしたカラ
ーフィルタの製造方法を提供すること。 【解決手段】カラーフィルタ基板の少なくとも対向する
２辺の周辺部に、数百から数万ｐｐｍの範囲のオゾンガ
スと、露光量１〜１００Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、
基板の四辺周辺に存在するレジスト膜を減少もしくは除
去する工程を含むこと。
の製造工程において、着色レジストをガラス基板上にス
ピンコートしてパターン形成した後、レジストが基板周
辺部に残渣として残り、これが洗浄工程において溶けだ
し、着色パターン部にシミ・汚れ不良等を発生させる問
題がある。この基板周辺のレジスト残渣を無くしたカラ
ーフィルタの製造方法を提供すること。 【解決手段】カラーフィルタ基板の少なくとも対向する
２辺の周辺部に、数百から数万ｐｐｍの範囲のオゾンガ
スと、露光量１〜１００Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、
基板の四辺周辺に存在するレジスト膜を減少もしくは除
去する工程を含むこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置用カ
ラーフィルタのうち、顔料分散方式のカラーフィルタの
製造方法に関する。
ラーフィルタのうち、顔料分散方式のカラーフィルタの
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置用の顔料分散方式カラーフ
ィルタの製造工程は、一般に、感光性樹脂に顔料や染料
などの着色剤を分散混入した着色レジストをガラス基板
上に均一厚さに塗布・乾燥し、このレジスト膜に対して
所望形状のパターン露光を施し、現像して露光部を残存
させ、ポストベークを施す操作を、必要色数だけ繰り返
すことにより行われる。
ィルタの製造工程は、一般に、感光性樹脂に顔料や染料
などの着色剤を分散混入した着色レジストをガラス基板
上に均一厚さに塗布・乾燥し、このレジスト膜に対して
所望形状のパターン露光を施し、現像して露光部を残存
させ、ポストベークを施す操作を、必要色数だけ繰り返
すことにより行われる。
【０００３】ここで、着色レジストをガラス基板上に全
面塗布する際、通常スピンコートにて塗布を行うため、
基板周辺の塗布面には着色レジストが厚く形成される。
この基板周辺部のレジストは非パターン部であるため、
現像を経た後は本来除去されるはずの部分であるが、基
板周辺部、とりわけ四隅のコーナー部は現像を経た後も
残りやすい。
面塗布する際、通常スピンコートにて塗布を行うため、
基板周辺の塗布面には着色レジストが厚く形成される。
この基板周辺部のレジストは非パターン部であるため、
現像を経た後は本来除去されるはずの部分であるが、基
板周辺部、とりわけ四隅のコーナー部は現像を経た後も
残りやすい。
【０００４】この不要なレジスト残りが洗浄工程（特に
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）ベーパー洗浄）にお
いて溶けだし、着色パターン部にシミ・汚れ不良等を発
生させてしまうことが多い。
イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）ベーパー洗浄）にお
いて溶けだし、着色パターン部にシミ・汚れ不良等を発
生させてしまうことが多い。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の事情に
鑑み、カラーフィルタ製品において不良となる、基板周
辺のレジスト残渣を無くしたカラーフィルタの製造方法
を提供することを目的とする。
鑑み、カラーフィルタ製品において不良となる、基板周
辺のレジスト残渣を無くしたカラーフィルタの製造方法
を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、矩形の液晶表
示装置用カラーフィルタ基板の少なくとも対向する２辺
の周辺部に、数百から数万ｐｐｍの範囲のオゾンガス
と、露光量１〜１００Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、基
板の四辺周辺に存在するレジスト膜を減少もしくは除去
する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造
方法である。
示装置用カラーフィルタ基板の少なくとも対向する２辺
の周辺部に、数百から数万ｐｐｍの範囲のオゾンガス
と、露光量１〜１００Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射し、基
板の四辺周辺に存在するレジスト膜を減少もしくは除去
する工程を含むことを特徴とするカラーフィルタの製造
方法である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、以下に図
面を参照しながら説明する。まず、ガラス基板上に金属
クロムの単層薄膜または金属クロムと酸化クロムの積層
薄膜が形成された膜付き基板を、従来法を用いてフォト
リソグラフィーによりパターニングして、ブラックマト
リクスを形成する。
面を参照しながら説明する。まず、ガラス基板上に金属
クロムの単層薄膜または金属クロムと酸化クロムの積層
薄膜が形成された膜付き基板を、従来法を用いてフォト
リソグラフィーによりパターニングして、ブラックマト
リクスを形成する。
【０００８】次いで例えば富士ハントエレクトロニクス
テクノロジー社製顔料分散フォトレジスト、商品名「Ｃ
Ｒ−２０００」「ＣＧ−２０００」「ＣＢ−２０００」
を用いて、フォトリソグラフィーにより透明着色層３の
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色をパターニングす
ることにより、カラーフィルタを完成する。
テクノロジー社製顔料分散フォトレジスト、商品名「Ｃ
Ｒ−２０００」「ＣＧ−２０００」「ＣＢ−２０００」
を用いて、フォトリソグラフィーにより透明着色層３の
Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の各色をパターニングす
ることにより、カラーフィルタを完成する。
【０００９】ここで顔料分散フォトレジストの塗布条件
は回転数１０００ｍｉｎ-1、１０秒間、膜厚は１．２μ
ｍ程度、プレベーク温度は７０℃、２０分、マスク露光
量は１２０ｍＪ／ｃｍ2、現像は上記レジストの専用現
像液を用い、ポストベークは２３０℃、６０分の条件で
ある。
は回転数１０００ｍｉｎ-1、１０秒間、膜厚は１．２μ
ｍ程度、プレベーク温度は７０℃、２０分、マスク露光
量は１２０ｍＪ／ｃｍ2、現像は上記レジストの専用現
像液を用い、ポストベークは２３０℃、６０分の条件で
ある。
【００１０】本発明では、上記透明着色層（以下カラー
フィルタパターンという）の形成工程のうち、フォトレ
ジストの塗布後から、ポストベークの前までのいずれか
の工程で、オゾンガスと紫外線照射により基板周辺部の
レジスト残渣を取り除くための処理機（以下オゾン・紫
外線処理機という）を設ける。
フィルタパターンという）の形成工程のうち、フォトレ
ジストの塗布後から、ポストベークの前までのいずれか
の工程で、オゾンガスと紫外線照射により基板周辺部の
レジスト残渣を取り除くための処理機（以下オゾン・紫
外線処理機という）を設ける。
【００１１】図１は本発明に用いるオゾン・紫外線処理
機３の、ガラス基板１に対する基本的な配置を示した図
である。オゾン処理用配管を伴ったオゾン・紫外線処理
機３は、ガラス基板１の２辺の周縁部に沿って、かつカ
ラーフィルタパターン２部は処理されないような範囲に
配置される。
機３の、ガラス基板１に対する基本的な配置を示した図
である。オゾン処理用配管を伴ったオゾン・紫外線処理
機３は、ガラス基板１の２辺の周縁部に沿って、かつカ
ラーフィルタパターン２部は処理されないような範囲に
配置される。
【００１２】図２は、実際の処理における状態を横方向
から見た図である。オゾン・紫外線処理機３をガラス基
板１にごく近接させる一方、ガラス基板１とオゾン・紫
外線処理機３は、これら全体を覆う減圧チャンバー４の
内部で気密状態にされ、吸引排気により減圧された状態
で処理される。オゾン雰囲気の濃度は数十から数万ｐｐ
ｍとし、紫外線を５〜１００ｍＷの露光量で照射する。
なお、使用するＵＶランプは、低・中出力（５０〜２０
０Ｗ）、高出力（５００〜５０００Ｗ）のいずれでも良
い。
から見た図である。オゾン・紫外線処理機３をガラス基
板１にごく近接させる一方、ガラス基板１とオゾン・紫
外線処理機３は、これら全体を覆う減圧チャンバー４の
内部で気密状態にされ、吸引排気により減圧された状態
で処理される。オゾン雰囲気の濃度は数十から数万ｐｐ
ｍとし、紫外線を５〜１００ｍＷの露光量で照射する。
なお、使用するＵＶランプは、低・中出力（５０〜２０
０Ｗ）、高出力（５００〜５０００Ｗ）のいずれでも良
い。
【００１３】図３及び図４は、カラーフィルタ製造工程
のインライン処理装置のうち、本発明のオゾン・紫外線
処理機３付近の流れを示した図である。
のインライン処理装置のうち、本発明のオゾン・紫外線
処理機３付近の流れを示した図である。
【００１４】図３は、ガラス基板１の２辺の端面を一度
に処理する、上述の図１に示した形態のものを用いる場
合を示している。
に処理する、上述の図１に示した形態のものを用いる場
合を示している。
【００１５】図３において、ガラス基板１は、スライド
テーブル５上に載置され、スライドテーブル５ごと移動
して第一のオゾン・紫外線処理機３の下で停止する。こ
の位置で、図示はしていないが図２の如く減圧チャンバ
ー４内で減圧気密化された状態で、オゾン雰囲気下の紫
外線処理が為される。これによりガラス基板１の２辺の
周縁部に残っていたレジスト残渣が分解される。
テーブル５上に載置され、スライドテーブル５ごと移動
して第一のオゾン・紫外線処理機３の下で停止する。こ
の位置で、図示はしていないが図２の如く減圧チャンバ
ー４内で減圧気密化された状態で、オゾン雰囲気下の紫
外線処理が為される。これによりガラス基板１の２辺の
周縁部に残っていたレジスト残渣が分解される。
【００１６】上記の処理ではガラス基板１のうち対向す
る１組の２辺の幅に合わせた、図３中のａ1に示す幅に
オゾン・紫外線処理機３が調整されていた。
る１組の２辺の幅に合わせた、図３中のａ1に示す幅に
オゾン・紫外線処理機３が調整されていた。
【００１７】続いてスライドテーブル５が移動し、回転
装置部でガラス基板１は９０°回転された後、第二のオ
ゾン・紫外線処理機３に移動する。ここではガラス基板
１のうち未処理の別の２辺の幅に合わせた、図３中のｂ
1に示す幅に調整されたオゾン・紫外線処理機３によ
り、同様のオゾン雰囲気下の紫外線処理が為される。
装置部でガラス基板１は９０°回転された後、第二のオ
ゾン・紫外線処理機３に移動する。ここではガラス基板
１のうち未処理の別の２辺の幅に合わせた、図３中のｂ
1に示す幅に調整されたオゾン・紫外線処理機３によ
り、同様のオゾン雰囲気下の紫外線処理が為される。
【００１８】以上のように、オゾン・紫外線処理機３の
設置幅ａ1、ｂ1は可変とすることができるので、基板サ
イズの変化にも容易に対応することができる。
設置幅ａ1、ｂ1は可変とすることができるので、基板サ
イズの変化にも容易に対応することができる。
【００１９】図４は、上述のような、ガラス基板１のう
ち２辺の周縁部を一度に処理するのではなく、４辺の周
縁部を一度に処理可能な枠状オゾン・紫外線処理機３ａ
を用いる場合を示した図である。この場合、紫外線処理
は１度で行うことができる。その半面、ガラス基板１の
サイズにより枠状オゾン・紫外線処理機３ａの交換が必
要だという欠点もある。
ち２辺の周縁部を一度に処理するのではなく、４辺の周
縁部を一度に処理可能な枠状オゾン・紫外線処理機３ａ
を用いる場合を示した図である。この場合、紫外線処理
は１度で行うことができる。その半面、ガラス基板１の
サイズにより枠状オゾン・紫外線処理機３ａの交換が必
要だという欠点もある。
【００２０】
【発明の効果】本発明のオゾン・紫外線処理機を、カラ
ーフィルタの製造工程のうちフォトレジストの塗布後か
らポストベークの前までのいずれかの工程で用いること
により、ガラス基板周辺の着色レジスト残渣を無くすこ
とができる。本発明のオゾン・紫外線処理は、ガラス基
板周縁部のみに紫外線照射を行い、かつドライプロセス
（薬液処理を用いない）のため、フィルタパターン部へ
の悪影響が無い。基板端の側面も処理される。
ーフィルタの製造工程のうちフォトレジストの塗布後か
らポストベークの前までのいずれかの工程で用いること
により、ガラス基板周辺の着色レジスト残渣を無くすこ
とができる。本発明のオゾン・紫外線処理は、ガラス基
板周縁部のみに紫外線照射を行い、かつドライプロセス
（薬液処理を用いない）のため、フィルタパターン部へ
の悪影響が無い。基板端の側面も処理される。
【００２１】また、基板の２辺を一度に処理する形のオ
ゾン・紫外線処理機を用いれば、基板サイズの変化にも
容易に対応できるうえ、基板の２辺の周縁部の幅いっぱ
いの処理を２回行うため、基板のコーナー部（四隅）は
２度処理されることになり、とりわけレジスト残渣の生
じやすいコーナー部がより完全に処理される。
ゾン・紫外線処理機を用いれば、基板サイズの変化にも
容易に対応できるうえ、基板の２辺の周縁部の幅いっぱ
いの処理を２回行うため、基板のコーナー部（四隅）は
２度処理されることになり、とりわけレジスト残渣の生
じやすいコーナー部がより完全に処理される。
【００２２】
【図１】本発明に用いるオゾン・紫外線処理機の、ガラ
ス基板に対する基本的な配置を示した説明図である。
ス基板に対する基本的な配置を示した説明図である。
【図２】本発明に用いるオゾン・紫外線処理機周辺を横
方向から見た説明図である。
方向から見た説明図である。
【図３】本発明のカラーフィルタ製造工程のうち、オゾ
ン・紫外線処理機付近の一例を示した説明図である。
ン・紫外線処理機付近の一例を示した説明図である。
【図４】本発明のカラーフィルタ製造工程のうち、オゾ
ン・紫外線処理機付近の別の一例を示した説明図であ
る。
ン・紫外線処理機付近の別の一例を示した説明図であ
る。
１ ガラス基板 ２ カラーフィルタパターン ３ オゾン・紫外線処理機 ３ａ 枠状オゾン・紫外線処理機 ４ 減圧チャンバー ５ スライドテーブル
フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H048 BA43 BB14 BB42 5G435 AA17 BB12 CC12 GG12 KK07 KK10
Claims (1)
- 【請求項１】矩形の液晶表示装置用カラーフィルタ基板
の少なくとも対向する２辺の周辺部に、数百から数万ｐ
ｐｍの範囲のオゾンガスと、露光量１〜１００Ｊ／ｃｍ
2の紫外線を照射し、基板の四辺周辺に存在するレジス
ト膜を減少もしくは除去する工程を含むことを特徴とす
るカラーフィルタの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27614599A JP2001100021A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | カラーフィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27614599A JP2001100021A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | カラーフィルタの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001100021A true JP2001100021A (ja) | 2001-04-13 |
Family
ID=17565407
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27614599A Pending JP2001100021A (ja) | 1999-09-29 | 1999-09-29 | カラーフィルタの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001100021A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010182755A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| US8679732B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-03-25 | HGST Netherlands B.V. | Method for removing resist and for producing a magnetic recording medium, and systems thereof |
-
1999
- 1999-09-29 JP JP27614599A patent/JP2001100021A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010182755A (ja) * | 2009-02-03 | 2010-08-19 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| JP4696165B2 (ja) * | 2009-02-03 | 2011-06-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| US8679732B2 (en) | 2009-06-24 | 2014-03-25 | HGST Netherlands B.V. | Method for removing resist and for producing a magnetic recording medium, and systems thereof |
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