JP2001098071A - ポリイミド樹脂 - Google Patents

ポリイミド樹脂

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JP2001098071A
JP2001098071A JP2000200862A JP2000200862A JP2001098071A JP 2001098071 A JP2001098071 A JP 2001098071A JP 2000200862 A JP2000200862 A JP 2000200862A JP 2000200862 A JP2000200862 A JP 2000200862A JP 2001098071 A JP2001098071 A JP 2001098071A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 有機溶媒に可溶で、溶液粘度が低く、加工性
の高いポリイミド樹脂の提供。 【解決手段】 下記一般式(1)、一般式(2)及び一
般式(3): 【化1】 [式中、Arは4価の有機基を表し、abN、cdN及
びefNは、同一又は相異なり、非置換のアミノ基、環
状アミド基又はC1-10−アルキル基、アリール基、トリ
メチルシリル基、鎖員2〜7の2価の炭化水素基、又は
1価もしくは2価のアシル基で置換されたアミノ基を表
し、また、同一繰り返し単位中のcdN及びefNは、
互いに連結して、次式(A): 【化2】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
る繰り返し単位を有することを特徴とするポリイミド樹
脂、並びに該ポリイミド樹脂の製造原料として有用な新
規化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子用層間
絶縁膜、半導体素子用保護膜、液晶表示用配向膜、多層
プリント配線基板用層間絶縁膜、電線被覆材料、保護膜
(塗料)、ガラス繊維又は炭素繊維複合材料等の用途に
使用される新規ポリイミド樹脂に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体素子の表面保護膜、層間絶
縁膜には、耐熱、電気特性、機械特性等に優れたポリイ
ミド樹脂が用いられているが、近年の半導体素子の高集
積化、樹脂パッケージの薄型化、小型化、はんだリフロ
ーによる表面実装への移行等により耐熱サイクル性、耐
熱ショック性等の著しい向上の要求があり、更に高性能
なポリイミド樹脂が必要とされるようになってきてい
る。これに加えて、半導体素子の実行速度を向上させる
ために、ポリイミド樹脂の低誘電率化が大きな要求とな
っている。
【0003】一方、ポリイミド樹脂の作業性を考慮する
と、この樹脂が有機溶媒に可溶で、しかもその溶液の粘
度が低いことが好ましい。しかしながら、従来のポリイ
ミド樹脂は有機溶媒に対する溶解性がないために、ポリ
イミドの前駆体であるポリアミド酸の段階で薄膜化し、
加熱処理することでポリイミド膜としており、工程が煩
雑であった。また、希少に知られている有機溶媒可溶な
ポリイミド樹脂もその溶解度は必ずしも大きくなく、溶
液の粘度も高いものであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来の
ポリイミド樹脂の問題点を解決するためになされたもの
である。即ち、本発明の目的は有機溶媒に可溶で、溶液
粘度が低く、加工性の高いポリイミド樹脂を提供するこ
とにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、以下の発明を
包含する。 (i)下記一般式(1)、一般式(2)及び一般式
(3):
【0006】
【化12】 [式中、Arは4価の有機基を表し、abN、cdN及
びefNは、同一又は相異なり、非置換のアミノ基、環
状アミド基又はC1-10−アルキル基、アリール基、トリ
メチルシリル基、鎖員2〜7の2価の炭化水素基、又は
1価もしくは2価のアシル基で置換されたアミノ基を表
し、また、同一繰り返し単位中のcdN及びefNは、
互いに連結して、次式(A):
【0007】
【化13】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
る繰り返し単位を有することを特徴とするポリイミド樹
脂。
【0008】(ii)一般式(2)で示される繰り返し単
位及び一般式(3)で示される繰り返し単位の個数の和
を、一般式(1)で示される繰り返し単位、一般式
(2)で示される繰り返し単位及び一般式(3)で示さ
れる繰り返し単位の個数の和で除した値である分岐度が
0.05〜0.95である前記(i)に記載のポリイミ
ド樹脂。
【0009】(iii) 有機溶媒に対する溶解度が有機溶媒
1L中に1gから1000gである前記(i)に記載の
ポリイミド樹脂。 (iv)有機溶媒がジメチルスルホキシド、N−メチル−
2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド及びジ
メチルホルムアミドからなる群から選ばれる少なくとも
1種である前記(iii) に記載のポリイミド樹脂。 (v)下記一般式(4):
【0010】
【化14】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表す。)で示される化合物を縮合して得られる前記
(i)〜(iv)のいずれかに記載のポリイミド樹脂。 (vi)下記一般式(4):
【0011】
【化15】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表す。)で示される化合物を縮合させることを特徴
とする前記(i)〜(iv)のいずれかに記載のポリイミ
ド樹脂の製造法。 (vii) 下記一般式(4):
【0012】
【化16】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表す。)で示される化合物。 (viii)下記一般式(5)、一般式(6)及び一般式
(7):
【0013】
【化17】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
(A):
【0014】
【化18】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
る繰り返し単位を有する化合物を製造原料として得られ
る前記(i)〜(iv)のいずれかに記載のポリイミド樹
脂。 (ix)下記一般式(5)、一般式(6)及び一般式
(7):
【0015】
【化19】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
(A):
【0016】
【化20】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
る繰り返し単位を有する化合物を加熱処理又は化学処理
することを特徴とする前記(i)〜(iv)のいずれかに
記載のポリイミド樹脂の製造法。 (x)下記一般式(5)、一般式(6)及び一般式
(7):
【0017】
【化21】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
(A):
【0018】
【化22】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
る繰り返し単位を有する化合物。
【0019】
【発明の実施の形態】本発明のポリイミド樹脂は、前記
一般式(1)、一般式(2)及び一般式(3)で示され
る繰り返し単位を有するものであり、分岐構造を持つこ
とを特徴とするものである。本発明のポリイミド樹脂
は、前記一般式(4)で示される化合物の縮合により容
易に製造することができる。更に、前記一般式(4)で
示される化合物が2〜10量体自己縮合して生成する分
岐状アミド酸エステルや分岐状イミド、例えば前記一般
式(5)、一般式(6)及び一般式(7)で示される繰
り返し単位を有する化合物を出発物として用いることも
できる。
【0020】本明細書において、C1-10−アルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル
基、tert−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基が挙げられる。アリール基とし
ては、例えば、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフ
チル基等の芳香族炭化水素基;フリル基、チエニル基、
ピロリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チ
アゾリル基、イソチアゾリル基、イミダゾリル基、ピラ
ゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル
基、ピラジニル基、キノリル基、イソキノリル基等の芳
香族複素環基が挙げられる。1価のアシル基としては、
例えばホルミル基、アセチル基、プロパノイル基、ブタ
ノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基等のC1-10
−脂肪族アシル基;ベンゾイル基、トルオイル基等の置
換又は非置換のアロイル基が挙げられる。
【0021】2価のアシル基としては、2価の置換又は
非置換の芳香族アシル基、例えばフタロイル基、ナフタ
レン−1,2−ジカルボニル基、ナフタレン−2,3−
ジカルボニル基;2価の置換又は非置換の脂環式アシル
基、例えばシクロヘキサン−1,2−ジカルボニル;2
価の置換又は非置換の脂肪族アシル基、例えばマロニル
基、スクシニル基、グルタリル基等が挙げられる。これ
らの2価のアシル基は、例えば前述したC1-10−アルキ
ル基、アリール基、トリメチルシリル基、アシル基の
他、前記C1-10−アルキル基に対応するC1-10−アルコ
キシ基、置換又は非置換のアリールオキシ基(例えば、
フェノキシ基、3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)
フェノキシ基、ハロゲン原子等から選ばれる1つ以上の
置換基で置換されていてもよい。
【0022】鎖員2〜7の2価の炭化水素基としては、
鎖員2〜7のアルキレン基(2価のアルキル基)、例え
ばエチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペ
ンタメチレン基、ヘキサメチレン基;鎖員2〜7の2価
の脂環式炭化水素基、例えば2,3−テトラメチレンテ
トラメチレン基;アリーレン基(2価のアリール基)、
例えば2,2´−ビフェニレン基;2価の芳香環含有炭
化水素基、例えばo−キシリレン基等が挙げられる。こ
れらの2価の炭化水素基は、例えば前述したC 1-10−ア
ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、アシル基
の他、前記C1- 10−アルキル基に対応するC1-10−アル
コキシ基、置換又は非置換のアリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基、3,5−ビス(4−ニトロフェノキ
シ)フェノキシ基、ハロゲン原子等から選ばれる1つ以
上の置換基で置換されていてもよい。
【0023】環状アミド基としては、例えば2−オキソ
−1−ピロリジニル基、2−オキソピペリジノ基が挙げ
られる。本発明のポリイミド樹脂の製造原料として用い
られる前記式(4)で示される化合物としては、例え
ば、以下に示すものが挙げられる。
【0024】
【化23】
【0025】
【化24】
【0026】
【化25】 [式中、R1 及びR2 は、同一又は相異なり、水素原子
又はトリメチルシリル基を表し、R3 及びR4 は、同一
又は相異なり、水素原子、C1-10−アルキル基、アリー
ル基又はトリメチルシリル基を表し、X、Y及びZは、
同一又は相異なり、直接結合又は連結基(例えば、O、
NR(ここで、Rは水素原子又は有機基(例えば、C
1-10−アルキル基、アリール基)を表す。)、S、S
O、SO2 、CO、又はC1-10−アルキレン基、フェニ
レン基、ビフェニレン基、テルフェニレン基、ナフチレ
ン基等の2価の有機基を表す。) を表す。]
【0027】前記式(1)〜(7)においてArで表さ
れる4価の有機基は、前記式(4)で示される化合物か
ら、置換基であるR1 HN、R2 HN、COOR3 及び
COOR4 を除いたものに相当するが、前記の具体例に
限定されるものではなく、また、結合位置も特に限定さ
れるものではない。
【0028】本発明のポリイミド樹脂の製造は、例え
ば、前記式(4)で示される製造原料を、溶液中で縮合
剤により自己縮合させることにより、前述した一般式
(5)、一般式(6)及び一般式(7)で示される繰り
返し単位を有する多分岐ポリアミド酸中間体を製造し、
このものを加熱するか、化学処理剤を作用させることに
より多分岐ポリイミド樹脂とすることにより行うことが
できる。
【0029】ここで用いる縮合剤としては、(2,3−
ジヒドロ−2−チオキソ−3−ベンズオキサゾリル)ホ
スホン酸ジフェニル(DBOP)、亜リン酸トリフェニ
ル−ピリジン等のポリアミドの製造が可能な縮合剤を使
用することができる。この製造法に使用できる溶媒は、
実質的に縮合反応を妨げなければ、制限されないが、
N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチル−2−ピロ
リドン等のアミド系溶媒、ベンゼン、アニソール、ジフ
ェニルエーテル、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、ピ
リジンのような芳香族系溶媒、クロロホルム、ジクロロ
メタン、1,2−ジクロロエタン、1,1,2,2−テ
トラクロロエタンのようなハロゲン系溶媒、テトラヒド
ロフラン、ジオキサン・ジグリムのようなエーテル系溶
媒等を例示することができる。特に、N,N−ジメチル
アセトアミドや、N−メチル−2−ピロリドン等のアミ
ド系溶媒を使用すると、高重合体のポリアミド酸中間体
を得ることができる。この縮合反応の反応温度は、通常
0〜150℃、好ましくは10〜100℃であり、反応
時間は、通常0.1〜10時間、好ましくは1〜5時間
である。
【0030】このようにして得られた一般式(5)、一
般式(6)及び一般式(7)で示される繰り返し単位を
有する多分岐ポリアミド酸中間体を加熱処理又は化学処
理することで本発明のポリイミド樹脂を製造することが
できる。加熱処理では、例えば、前記多分岐ポリアミド
酸中間体の重合溶液から直接流延してフィルムとし、5
0〜400℃に加熱して、本発明のポリイミド樹脂フィ
ルムを製造することができる。また、ポリアミド酸中間
体の形状にかかわらず、クレゾール、クロロベンゼン、
ジフェニルエーテル、ニトロベンゼン等の高沸点を有す
る溶媒中で50℃以上に加熱することでも、本発明のポ
リイミド樹脂を得ることができる。
【0031】化学処理においては、例えば、前記多分岐
ポリアミド酸中間体の重合溶液から直接流延してフィル
ムとし、無水酢酸、五酸化リン、ポリリン酸等の脱水作
用の強い試薬を作用させることにより本発明のポリイミ
ド樹脂フィルムを製造することができる。この時には、
ピリジン等の塩基が存在するとイミド化反応を促進する
ことができる。また、ポリアミド酸中間体の形状にかか
わらず、ベンゼン、トルエン、ジエチルエーテル、テト
ラヒドロフラン、クロロホルム等の、無水酢酸等の脱水
作用の強い試薬とは実質的に反応しない溶媒中で、無水
酢酸等の脱水作用の強い試薬を作用させることにより本
発明のポリイミド樹脂フィルムを製造することができ
る。このイミド化反応の反応温度は、通常0〜150
℃、好ましくは10〜80℃であり、反応時間は、通常
0.1〜48時間、好ましくは1〜24時間である。
【0032】本発明によれば、前記多分岐ポリアミド酸
中間体、並びに前記一般式(1)、一般式(2)及び一
般式(3)で示される繰り返し単位を有するポリイミド
樹脂の末端基としてアミノ基又はトリメチルシリル化ア
ミノ基が存在するが、これらをアルキル化(又はアリー
ル化)、アシル化、イミド化等の方法により化学修飾す
ることができる。
【0033】これらの化学修飾の方法としては、例え
ば、ヨウ化メチル、ヨウ化プロピル、ヨウ化ペンチル、
臭化オクチル等によるモノアルキル化;1,4−ジブロ
モブタン、1,5−ジブロモペンタン等による環化アル
キル化;アセチルクロリド、ペンタノイルクロリド、ヘ
プタノイルクロリド(エナンチルクロリド)、デカノイ
ルクロリド等によるアシル化;γ−ブチロラクトン等に
よるラクタム化;コハク酸無水物、グルタル酸無水物、
マレイン酸無水物、フタル酸無水物、3−メチルフタル
酸無水物、4−メチルフタル酸無水物等によるイミド化
が挙げられる。これらの化学修飾は、前記のイミド化反
応を行った後に行ってもよいが、多分岐ポリイミド樹脂
の不溶化が防げるという点で、前記の縮合剤による縮合
反応後に行うことが好ましい。
【0034】本発明のポリイミド樹脂の製造において、
前記式(4)で示される製造原料を単独で使用して多分
岐ポリイミド樹脂を製造するのみならず、従来用いられ
てきた直鎖状ポリイミドの製造原料と混合して使用する
こともできる。この時、製造の初期から前記式(4)で
示される製造原料と従来用いられてきた直鎖状ポリイミ
ドの製造原料とを混合して反応させることができる。ま
た、前記多分岐ポリアミド酸中間体と従来用いられてき
た直鎖状ポリイミドの製造原料とを混合して反応させる
ことができる。従来用いられてきた直鎖状ポリイミドの
製造原料とは、以下に示すテトラカルボン酸二無水物、
テトラカルボン酸ジエステル及びその酸塩化物、更に、
これらと反応するジアミン化合物である。
【0035】
【化26】 (式中、Rは水素原子、C1-10−アルキル基又はアリー
ル基を表す。) 本発明のポリイミド樹脂において、一般式(2)で示さ
れる繰り返し単位及び一般式(3)で示される繰り返し
単位の個数の和を、一般式(1)で示される繰り返し単
位、一般式(2)で示される繰り返し単位及び一般式
(3)で示される繰り返し単位の個数の和で除した値で
ある分岐度は、好ましくは0.05〜0.95、更に好
ましくは0.2〜0.9である。
【0036】本発明のポリイミド樹脂の有機溶媒に対す
る溶解度は、ジメチルスルホキシド、N−メチル−2−
ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチル
ホルムアミド等の有機溶媒1Lに対して、好ましくは1
gから1000g、更に好ましくは10gから100g
である。本発明のポリイミド樹脂の固有粘度
(ηinh)は、0.5g/dLのN−メチル−2−ピ
ロリドン中、30℃で、好ましくは0.01〜1.5d
L/g、更に好ましくは0.05〜0.7dL/gであ
る。
【0037】本発明のポリイミド樹脂の重量平均分子量
は、好ましくは1000〜500000、更に好ましく
は3000〜100000であり、重合度は、好ましく
は3〜2000、更に好ましくは10〜400である。
【0038】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定される
ものではない。 (1)試薬 ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチル−2−
ピロリドン(NMP)、ジメチルホルムアミド(DM
F)、ピリジン及びトリエチルアミンは水素化カルシウ
ム、ジクロロメタンは塩化カルシウム、無水酢酸はマグ
ネシウム、塩化アセチルは五塩化リンの存在下で、それ
ぞれ蒸留して用いた。その他の試薬は、市販品をそのま
ま反応に用いた。
【0039】(2)測定装置 赤外線吸収スペクトルは島津製作所FT/IR−810
0フーリエ変換赤外分光光度計により測定した。H−
NMRスペクトルは日本電子JNM−AL300(30
0MHz)NMRスペクトロメーターにより測定した。
熱重量分析及び示差走査熱量測定はセイコーインスツル
メンツTG/DTA6200及びDSC6200により
測定した。数平均分子量と重量平均分子量は光散乱検出
器(WyattTechnology Co. mini DAWN)及び示差屈折率検
出器(Shodex RI-71)を備え付けたゲル浸透クロマトグラ
フィー(GPC)測定により、絶対分子量又はポリスチ
レン換算で求めた(ポンプ:日本分光HPLC880P
U、カラム:ポリスチレン−ジビニルベンゼンカラムSh
odex KD 806M 2本とKD 802 1本、展開液 : 0.01m
ol/Lの臭化リチウムを溶解させたDMF)。dn/
dcはWyatt Technology Co. Optilab 903により690
nmのレーザー光を用いて測定した。
【0040】[実施例1]3,5−ビス(4−アミノフ
ェノキシ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカルボ
ン酸モノメチルエステルの合成(その1)(式1)
【0041】
【化27】
【0042】(1)ナトリウム−3,5−ジメトキシフ
ェノキシド 滴下漏斗、窒素導入管を備え付けた300ml三ッ口フ
ラスコ中に、窒素雰囲気下、ナトリウムメトキシド3.
479g(64.4mmol)を加えた後、氷浴下で、
メタノール40mlを滴下した。ナトリウムメトキシド
が完全に溶解した後、メタノール40mlに溶解させた
3,5−ジメトキシフェノール9.928g(64.4
mmol)を滴下した。滴下後、氷浴下で20分間、室
温下で1時間撹拌した後、エバポレーターで濃縮乾固し
た後、減圧下80℃で一晩乾燥させた。淡黄色粉末のナ
トリウム−3,5−ジメトキシフェノキシド 11.
287g(収率99%)を得た。
【0043】(2)4−(3,5−ジメトキシフェノキ
シ)フタロニトリル 窒素導入管を備え付けた1000mlナスフラスコ中
に、前記(1)で得られたナトリウム−3,5−ジメト
キシフェノキシド7.531g(42.8mmol)、
4−ニトロフタロニトリル7.401g(42.8mm
ol)、DMSO160mlを加え、窒素雰囲気下、室
温下で1時間反応させた後、反応溶液を5N塩酸600
mlに投入し、生成した沈殿物をろ別回収後、1.2N
塩酸で充分洗浄した。減圧下80℃で一晩乾燥後、黄色
粉末の4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタロニ
トリル 10.870g(収率91%、融点131−
135℃)を得た。
【0044】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図1、
H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図2に示
した。 元素分析値(C1612) 計算値 C:6
8.57,H:4.32,N:9.99. 実験値
C:68.40,H:4.53,N:10.01.
【0045】(3)4−(3,5−ジメトキシフェノキ
シ)フタル酸 窒素導入管、還流冷却管及び希塩酸トラップを備え付け
た500mlナスフラスコ中に、前記(2)で得られた
4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタロニトリル
10.000g(35.7mmol)、蒸留水50ml
に溶解させた水酸化カリウム15g(267.3mmo
l)及びエチレングリコール100mlを加えた後、3
時間加熱還流させた。放冷後、反応溶液を400mlの
蒸留水に投入した後、濃塩酸を酸性になるまで加えた。
生成した沈殿物をろ別回収後、1.2N塩酸で充分洗浄
した。減圧下室温で一晩乾燥後、淡黄色粉末の4−
(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタル酸 10.
527g(収率93%)を得た。
【0046】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図3、
H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図4に示
した。 元素分析値(C1614) 計算値 C:60.
38,H:4.43.実験値 C:60.09,H:
4.50.
【0047】(4)3,5−ビス(4−ニトロフェノキ
シ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸無
水物 (a)滴下漏斗、窒素導入管を備え付けた1000ml
ナスフラスコ中に、前記(3)で得られた4−(3,5
−ジメトキシフェノキシ)フタル酸16.960g(5
8.4mmol)、ジクロロメタン330mlを加えた
後、窒素雰囲気下、氷浴下で三臭化ホウ素75g(29
9mmol)を滴下した。滴下後、氷浴下で1時間、室
温下で20時間反応させた後、反応溶液を1500ml
の氷水に投入し、ジエチルエーテル2800mlを加え
抽出した。回収したジエチルエーテル抽出液を0.6N
塩酸3800mlで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱
水後、エバポレーターで濃縮乾固した。減圧下、室温で
一晩乾燥後、橙色で粘性のある生成物12.780gを
得た。
【0048】(b)窒素導入管、還流冷却管を備え付け
た500ml三ッ口フラスコ中に、窒素気流下、フッ化
セシウム40.690g(267.9mmol)を加
え、ヒートガンで乾燥させた後、前述で得られた橙色生
成物12.780g、4−フルオロニトロベンゼン1
0.10ml(95.9mmol)及びDMSO 19
0mlを加え、115℃で24時間反応させた後、反応
溶液を2000mlの氷水に投入した。生成した沈殿物
をろ別回収後、蒸留水で充分洗浄した。減圧下室温で一
晩乾燥後、淡黄色粉末の生成物25.020gを得た。
【0049】(c)窒素導入管、還流冷却管を備え付け
た500mlナスフラスコ中に、窒素雰囲気下、前述で
得られた淡黄色粉末生成物25.020g、無水酢酸2
0ml及び氷酢酸260mlを加え、2時間加熱還流さ
せた。還流開始20分後、反応系中に橙色の沈殿物が観
測された。放冷後、沈殿物をろ別回収し、無水酢酸と氷
酢酸で充分洗浄した。減圧下130℃で一晩乾燥後、淡
黄色粉末の3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフ
ェニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸無水物
16.132g(収率59%、融点202−207℃)
を得た。赤外線吸収スペクトル(KBr)を図5に示し
た。 元素分析値(C261410) 計算値 C:
60.71,H:2.74,N:5.45. 実験値
C:60.66,H:2.82,N:5.39.
【0050】(5)3,5−ビス(4−ニトロフェノキ
シ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モ
ノメチルエステル異性体混合物 窒素導入管を備え付けた200mlナスフラスコ中に、
前記(4)で得られた3,5−ビス(4−ニトロフェノ
キシ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸
無水物10.042g(19.5mmol)、及び特級
メタノール100mlに溶解させた水酸化カリウム1.
7g(30.3mmol)を加え、窒素雰囲気下、室温
で5時間反応させた。反応開始3時間後、均一な反応溶
液が得られた。反応終了後、反応溶液をろ過し、得られ
たろ液を0.6N塩酸1500mlに投入した。生成し
た沈殿物をろ別回収後、0.6N塩酸で充分洗浄し、減
圧下室温で一晩乾燥後、淡黄色粉末生成物を得た。これ
を前記と同濃度の水酸化カリウム−メタノール溶液に再
溶解させ、0.6N塩酸で再沈処理し、乾燥後、淡黄色
粉末の3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフェニ
ルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエス
テル異性体混合物 9.770g(収率92%)を得
た。H−NMRスペクトル解析から求めたパラ−:メ
タ−モノメチルエステル置換体の異性体混合比は21:
79であった。
【0051】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図6、
H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図7に示
した。 元素分析値(C271811) 計算値 C:
59.35,H:3.32,N:5.13. 実験値
C:58.80,H:3.32,N:5.02.
【0052】(6)3,5−ビス(4−アミノフェノキ
シ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モ
ノメチルエステル 90mlオートクレーブ中に、前記(5)で得られた
3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフェニルエー
テル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエステル異
性体混合物3.020g(5.5mmol)、10%パ
ラジウム活性炭0.3060g及び特級メタノール30
mlを加え、水素加圧下、室温で撹拌した。水素の吸収
量が飽和に達した後、8atmの水素雰囲気下で48時
間反応させた。反応終了後、セライトで処理し、得られ
たメタノール溶液をエバポレーターで濃縮乾固した後、
減圧下、45℃で100時間乾燥させ、茶褐色粉末の化
合物を得た。収量は2.308g(収率86%)であ
った。H−NMRスペクトル解析から求めたパラ−:
メタ−モノメチルエステル置換体の異性体混合比は2
1:79であった。
【0053】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図8、
H−NMRスペクトル(DMSO−d)を図9に示
した。 元素分析値(C2722) 計算値 C:6
6.66,H:4.56,N:5.76. 実験値
C:66.12,H:4.56,N:5.61.
【0054】[実施例2]ポリマーの合成(式2)
【化28】
【0055】窒素導入管を備え付けた50ml三ッ口フ
ラスコ中に、実施例1(6)で得られた化合物 0.
603g(1.24mmol)、(2,3−ジヒドロ−
2−チオキソ−3−ベンズオキサゾリル)ホスホン酸ジ
フェニル(DBOP)0.568g(1.48mmo
l)、トリエチルアミン0.17ml(1.24mmo
l)及びNMP3mlを加え、窒素気流下、室温で3時
間反応させた。反応終了後、反応溶液にNMP6mlを
加え希釈した後、0.1wt%の塩化リチウムを溶解さ
せたメタノール(0.1wt%LiCl/CHOH)
350mlに投入しポリマーを沈殿させた。ろ別回収
後、減圧下室温で一晩乾燥後、白色粉末のポリマー
得た。収量は0.504g(収率86%)であった。有
機溶媒に対する溶解性を表1に示す。赤外線吸収スペク
トル(KBr)を図10、窒素雰囲気下での熱重量分析
を図11に示した。
【0056】[実施例3]ポリマーの合成(式2) 実施例2で3時間重合させた後(式2の工程a)、滴下
漏斗を備え付け、氷浴下で、NMP6mlに溶解させた
塩化アセチル2.80ml(39.4mmol)を滴下
した。滴下後、氷浴下で30分間、室温下で3時間反応
させた。反応終了後、反応溶液にNMP20mlを加え
希釈した後、0.1wt%LiCl/CHOH200
0mlに投入しポリマーを沈殿させた。ろ別回収後、D
MFに再溶解させ、0.1wt%LiCl/CHOH
で再沈処理し、乾燥後、淡黄色粉末のポリマーを得
た。収量は0.506g(収率80%)であった。GP
C測定により求めた重量平均分子量(M)は7000
0で、分子量分布(M/M )は2.1であった(d
n/dcは0.152mL/g)。固有粘度
(ηin )は、0.5g/dLのNMP中、30℃で
0.23dL/gであった。有機溶媒に対する溶解性を
表1に示す。赤外線吸収スペクトル(KBr)を図1
2、H−NMRスペクトル(DMSO−d,100
℃)を図13、窒素雰囲気下での熱重量分析を図14に
示した。
【0057】[実施例4]ポリマーの合成(式2) 実施例2で得られたポリマー 0.104g(0.2
2mmol)をシャーレ上に置き、減圧下、300℃で
1時間加熱した。黄色粉末のポリマーを得た。収量は
0.095g(収率98%)であった。窒素雰囲気下で
10%熱重量減少温度(T10)は555℃であった。
有機溶媒に対する溶解性を表1に示す。赤外線吸収スペ
クトル(KBr)を図15、窒素雰囲気下での熱重量分
析を図16に示した。
【0058】[実施例5]ポリマー10の合成(式2) 窒素導入管、還流冷却管を備え付けた50ml三ッ口フ
ラスコ中に、実施例2で得られたポリマー 0.45
3g(0.96mmol)、無水酢酸1.10ml(1
1.70mmol)、ピリジン0.70ml(8.70
mmol)及びDMSO 7mlを加え、窒素気流下、
100℃で24時間反応させた。反応終了後、反応溶液
にDMSO 20mlを加え希釈した後、0.1wt%
LiCl/CHOH1800mlに投入しポリマーを
沈殿させた。ろ別回収後、DMFに再溶解させ、0.1
wt%LiCl/CHOHで再沈処理した後、熱0.
1wt%LiCl/CHOHで洗浄した。回収後、減
圧下80℃で一晩乾燥後、淡黄色粉末のポリマー10
得た。収量は0.398g(収率86%)であった。G
PC測定により求めたMは1880000で、M
は3.0であった(dn/dcは0.168 mL
/g)。ηinhは、0.5g/dLのNMP中、30
℃で0.29dL/gであった。窒素雰囲気下でT10
は470℃、ガラス転移温度(T)は193℃であっ
た。H−NMRスペクトル解析から求めた分岐度(D
B)は0.48であった。有機溶媒に対する溶解性を表
1に示す。また、室温下では200mg/mLの濃度に
おいても、NMPに可溶であり、100℃においては4
00mg/mLの濃度でも可溶であることがわかった。
【0059】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図1
7、H−NMRスペクトル(DMSO−d,100
℃)を図18、窒素雰囲気下での熱重量分析を図19に
示した。 元素分析値(C2818) 計算値 C:7
0.28,H:3.79,N:5.85. 実験値
C:67.74,H:3.53,N:5.55.
【0060】[実施例6]ポリマー11の合成(式2) 窒素導入管、還流冷却管を備え付けた50ml三ッ口フ
ラスコ中に、実施例3で得られたポリマー 0.15
0g(0.29mmol)、無水酢酸0.36ml
(3.90mmol)、ピリジン0.24ml(3.0
mmol)及びDMSO 3mlを加え、窒素気流下、
100℃で24時間反応させた。反応終了後、反応溶液
にDMSO 9mlを加え希釈した後、0.1wt%L
iCl/CH OH 800mlに投入しポリマーを沈
殿させた。ろ別回収後、DMFに再溶解させ、0.1w
t%LiCl/CHOHで再沈処理した後、熱0.1
wt%LiCl/CHOHで洗浄した。回収後、減圧
下80℃で一晩乾燥後、淡黄色粉末のポリマー11を得
た。収量は0.113g(収率80%)であった。GP
C測定により求めたMは37000で、M/M
1.6であった(dn/dcは0.168mL/g)。
ηinhは、0.5g/dLのNMP中、30℃で0.
16dL/gであった。窒素雰囲気下でT10は490
℃、Tは189℃であった。H−NMRスペクトル
解析から求めたDBは0.49であった。有機溶媒に対
する溶解性を表1に示す。また、室温下では200mg
/mLの濃度においても、NMPに可溶であり、100
℃においては400mg/mLの濃度でも可溶であるこ
とがわかった。
【0061】赤外線吸収スペクトル(KBr)を図2
0、H−NMRスペクトル(DMSO−d,100
℃)を図21、窒素雰囲気下での熱重量分析を図22に
示した。 元素分析値(C2818) 計算値 C:7
0.28,H:3.79,N:5.85. 実験値
C:68.24,H:3.60,N:5.66.
【0062】[参考例]
【化29】
【0063】式(3)に示すポリイミド12(M=7
7000、M/M=1.7(ポリスチレン換算)、
ηinh=0.34dL/g(0.5g/dLのNMP
中、30℃))のNMPに対する溶解性は室温下及び1
00℃において、170mg/mLの濃度までは可溶で
あったが、200mg/mLの濃度では一部溶解する程
度であった。
【0064】
【表1】
【0065】[実施例7]ポリマー13の合成(式4)
【化30】
【0066】窒素導入管を備え付けた50ml三ッ口フ
ラスコ中に、実施例1(6)で得られた化合物 0.
603g(1.24mmol)、(2,3−ジヒドロ−
2−チオキソ−3−ベンズオキサゾリル)ホスホン酸ジ
フェニル(DBOP)0.568g(1.48mmo
l)、トリエチルアミン0.17ml(1.24mmo
l)、NMP3mlを加え、窒素気流下、室温で3時間
反応させた。反応終了後、反応溶液を氷浴下に置き、ヘ
プタノイルクロリド(エナンチルクロリド)2.50m
l(16.15mmol)、NMP2mlを加え20分
間撹拌した。更に室温で3時間撹拌した後、NMP20
mlを加え希釈した反応溶液を、10vol%の12N
塩酸を含む1500mlのメタノール水溶液(50:5
0vol)(10vol%HCl/CHOH−H
O)に投入しポリマーを沈殿させた。ろ別回収後、D
MFに再溶解させ、10vol%HCl/CHOH−
Oで再沈処理し、減圧下室温で一晩乾燥後、白色粉
末のポリマー13を得た。収量は0.698g(収率9
7%)であった。GPC測定により求めた重量平均分子
量(M)はポリスチレン換算で100000で、分子
量分布(M/M)は3.0であった。固有粘度(η
inh)は、0.5g/dLのNMP中、30℃で0.
21dL/gであった。赤外線吸収スペクトル(KB
r)を図23、H−NMRスペクトル(DMSO−d
,100℃)を図24に示した。
【0067】[実施例8]ポリマー14の合成(式4) 実施例7に従い、実施例1(6)で得られた化合物
0.302g(0.62mmol)を3時間自己縮合さ
せた後、氷浴下で、4−メチルフタル酸無水物1.31
0g(8.08mmol)、NMP1mlを加え20分
間撹拌した。更に室温で3時間撹拌した後、NMP15
mlを加え希釈した反応溶液を、750mlの10vo
l%HCl/CHOH−HOに投入しポリマーを沈
殿させた。ろ別回収後、DMFに再溶解させ、10vo
l%HCl/CHOH−HOで再沈処理し、減圧下
室温で一晩乾燥後、白色粉末のポリマー14を得た。収
量は0.324g(収率83%)であった。固有粘度
(ηinh)は、0.5g/dLのNMP中、30℃で
0.18dL/gであった。赤外線吸収スペクトル(K
Br)を図25、H−NMRスペクトル(DMSO−
,100℃)を図26に示した。
【0068】[実施例9]ポリマー15の合成(式4) 実施例7に従い、実施例1(6)で得られた化合物
0.202g(0.42mmol)を3時間自己縮合さ
せた後、氷浴下で、実施例1(4)で得られた化合物
0.260g(0.51mmol)、NMP9mlを
加え20分間撹拌した。更に室温で3時間撹拌した後、
NMP5mlを加え希釈した反応溶液を、0.1wt%
の塩化リチウムを溶解させた1000mlのメタノール
溶液(0.1wt%LiCl/CHOH)に投入しポ
リマーを沈殿させた。ろ別回収後、DMFに再溶解さ
せ、0.1wt%LiCl/CHOHで再沈処理し、
減圧下室温で一晩乾燥後、淡黄色粉末のポリマー15
得た。収量は0.401g(収率98%)であった。固
有粘度(ηinh)は、0.5g/dLのNMP中、3
0℃で0.13dL/gであった。赤外線吸収スペクト
ル(KBr)を図27、H−NMRスペクトル(DM
SO−d,100℃)を図28に示した。
【0069】[実施例10]ポリマー16の合成(式
4) 窒素導入管、還流冷却管を備え付けた50ml三ッ口フ
ラスコ中に、実施例7で得られたポリマー13 0.4
50g、無水酢酸0.90ml、ピリジン0.55m
l、DMF9mlを加え、窒素気流下、100℃で24
時間反応させた。反応終了後、反応溶液にDMF20m
lを加え希釈した後、0.1wt%LiCl/CH
H1500mlに投入しポリマーを沈殿させた。ろ別回
収後、DMFに再溶解させ、0.1wt%LiCl/C
OHで再沈処理した後、熱0.1wt%LiCl/
CHOHで洗浄した。回収後、減圧下80℃で一晩乾
燥後、淡黄色粉末のポリマー16を得た。収量は0.3
38g(収率79%)であった。GPC測定により求め
たポリスチレン換算でのMは75000で、M/M
は2.6であった。ηinhは、0.5g/dLのN
MP中、30℃で0.19dL/gであった。窒素雰囲
気下でTは405℃、ガラス転移温度(T)は13
8℃であった。赤外線吸収スペクトル(KBr)を図2
9、H−NMRスペクトル(DMSO−d,100
℃)を図30に示した。
【0070】[実施例11]ポリマー17の合成(式
4) 実施例10に従い、実施例8で得られたポリマー14
0.205gの化学イミド化を行い、淡黄色粉末のポリ
マー17 0.169g(収率89%)を得た。GPC
測定により求めたポリスチレン換算でのMは9100
0で、M/M は2.6であった。ηinhは、0.
5g/dLのNMP中、30℃で0.13dL/gであ
った。窒素雰囲気下でTは455℃、Tは186℃
であった。赤外線吸収スペクトル(KBr)を図31、
H−NMRスペクトル(DMF−d,100℃)を
図32に示した。
【0071】[実施例12]ポリマー18の合成(式
4) 実施例10に従い、実施例9で得られたポリマー15
0.343gの化学イミド化を行い、淡黄色粉末のポリ
マー18 0.304g(収率93%)を得た。GPC
測定により求めたポリスチレン換算でのMは4200
0で、M/M は2.2であった。ηinhは、0.
5g/dLのNMP中、30℃で0.13dL/gであ
った。窒素雰囲気下でTは370℃、Tは168℃
であった。赤外線吸収スペクトル(KBr)を図33、
H−NMRスペクトル(DMSO−d,100℃)
を図34に示した。
【0072】[実施例13]3,5−ビス(4−アミノ
フェノキシ)ジフェニルエーテル−3´,4´−ジカル
ボン酸モノメチルエステルの合成(その2)(式5)
【0073】
【化31】
【0074】(1)3,5−ジヒドロキシフェニル−
3´,4´−ジシアノフェニルエーテル2´ 乾燥したフラスコ中で、1,3,5−ベンゼントリオー
ル(フロログルシノール)2.52g(20mmol)
と4−ニトロフタロニトリル2.786g(16mo
l)を50mlのDMFに溶解させ、炭酸カリウム8.
28g(60mol)を加えた。溶液を窒素雰囲気下、
室温で8時間加熱した後、1000mlの水に注ぎ込
み、生じる沈殿をろ別した。ろ液にpH3になるまで1
8%塩酸水溶液を加え、生じた沈殿をろ別した。得られ
た固体を水/メタノール=80/20(体積比)の混合
溶液から再結晶することで純品1.21gを得た。収率
は24%であった。NMRスペクトルを図35に、赤外
線吸収スペクトルを図38に示す。
【0075】(2)3,5−ジヒドロキシフェニル−3
´,4´−ジカルボキシフェニルエーテル2” 化合物2´ 0.5gと水酸化カリウム2.11gを5
mlの水中で4時間加熱還流した。室温に冷却後、溶液
にpH4になるまで18%塩酸水溶液を加え、エバポレ
ーターで水を留去し、得られたスラリー状残留物に20
mlのアセトンを加えた。生じた沈殿をろ別後、ろ液か
らアセトンを留去し、減圧下60℃で乾燥して黄色固体
0.46gを得た。収率は80%であった。NMRスペ
クトルを図36に、赤外線吸収スペクトルを図39に示
す。
【0076】(3)3,5−ビス(4−ニトロフェノキ
シ)ジフェニルエ−テル−3´,4´−ジカルボン酸
´ 化合物2” 0.1g(0.345mmol)、p−フ
ルオロニトロベンゼン0.0972g(0.069mm
ol)、炭酸カリウム0.27g(2mmol)を1.
5mlのDMFに溶解した。溶液を115℃で24時間
加熱撹拌し、溶液を100mlの1M塩酸水溶液に投入
して、生じた沈殿をろ別した。水洗し、減圧下80℃で
乾燥して黄色の固体0.16gを得た。収率は87%で
あった。NMRスペクトルを図37に、赤外線吸収スペ
クトルを図40に示す。以後、実施例(4)(c)〜
(6)と同様に処理することにより、3,5−ビス(4
−アミノフェノキシ)ジフェニルエーテル−3´,4´
−ジカルボン酸モノメチルエステルを製造することが
できる。
【0077】[試験例]ポリマーの溶解性試験 実施例7〜12で得られたポリマー1318の各種有
機溶媒に対する溶解性試験(50mg/mL)の結果を
表2に示した。
【0078】
【表2】
【0079】
【発明の効果】本発明によれば、有機溶媒に可溶で、溶
液粘度が低く、加工性の高いポリイミド樹脂を提供する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタロ
ニトリルの赤外線吸収スペクトルを示す図である。
【図2】4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタロ
ニトリルのH−NMRスペクトルを示す図である。
【図3】4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタル
酸の赤外線吸収スペクトルを示す図である。
【図4】4−(3,5−ジメトキシフェノキシ)フタル
酸のH−NMRスペクトルを示す図である。
【図5】3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフェ
ニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸無水物の赤外
線吸収スペクトルを示す図である。
【図6】3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフェ
ニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエ
ステル異性体混合物の赤外線吸収スペクトルを示す図で
ある。
【図7】3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフェ
ニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエ
ステル異性体混合物のH−NMRスペクトルを示す図
である。
【図8】3,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェ
ニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエ
ステルの赤外線吸収スペクトルを示す図である。
【図9】3,5−ビス(4−アミノフェノキシ)ジフェ
ニルエーテル−3´,4´−ジカルボン酸モノメチルエ
ステルのH−NMRスペクトルを示す図である。
【図10】ポリマーの赤外線吸収スペクトルを示す図
である。
【図11】ポリマーの熱重量分析の結果を示す図であ
る。
【図12】ポリマーの赤外線吸収スペクトルを示す図
である。
【図13】ポリマーH−NMRスペクトルを示す
図である。
【図14】ポリマーの熱重量分析の結果を示す図であ
る。
【図15】ポリマーの赤外線吸収スペクトルを示す図
である。
【図16】ポリマーの熱重量分析の結果を示す図であ
る。
【図17】ポリマー10の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図18】ポリマー10H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図19】ポリマー10の熱重量分析の結果を示す図で
ある。
【図20】ポリマー11の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図21】ポリマー11H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図22】ポリマー11の熱重量分析の結果を示す図で
ある。
【図23】ポリマー13の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図24】ポリマー13H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図25】ポリマー14の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図26】ポリマー14H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図27】ポリマー15の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図28】ポリマー15H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図29】ポリマー16の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図30】ポリマー16H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図31】ポリマー17の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図32】ポリマー17H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図33】ポリマー18の赤外線吸収スペクトルを示す
図である。
【図34】ポリマー18H−NMRスペクトルを示
す図である。
【図35】3,5−ジヒドロキシフェニル−3´,4´
−ジシアノフェニルエーテル2´H−NMRスペク
トルを示す図である。
【図36】3,5−ジヒドロキシフェニル−3´,4´
−ジカルボキシフェニルエーテル2”H−NMRス
ペクトルを示す図である。
【図37】3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフ
ェニルエ−テル−3´,4´−ジカルボン酸3´
−NMRスペクトルを示す図である。
【図38】3,5−ジヒドロキシフェニル−3´,4´
−ジシアノフェニルエーテル2´の赤外線吸収スペクト
ルを示す図である。
【図39】3,5−ジヒドロキシフェニル−3´,4´
−ジカルボキシフェニルエーテル2”の赤外線吸収スペ
クトルを示す図である。
【図40】3,5−ビス(4−ニトロフェノキシ)ジフ
ェニルエ−テル−3´,4´−ジカルボン酸3´の赤外
線吸収スペクトルを示す図である。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1)、一般式(2)及び一
    般式(3): 【化1】 [式中、Arは4価の有機基を表し、abN、cdN及
    びefNは、同一又は相異なり、非置換のアミノ基、環
    状アミド基又はC1-10−アルキル基、アリール基、トリ
    メチルシリル基、鎖員2〜7の2価の炭化水素基、又は
    1価もしくは2価のアシル基で置換されたアミノ基を表
    し、また、同一繰り返し単位中のcdN及びefNは、
    互いに連結して、次式(A): 【化2】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
    す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
    る繰り返し単位を有することを特徴とするポリイミド樹
    脂。
  2. 【請求項2】 一般式(2)で示される繰り返し単位及
    び一般式(3)で示される繰り返し単位の個数の和を、
    一般式(1)で示される繰り返し単位、一般式(2)で
    示される繰り返し単位及び一般式(3)で示される繰り
    返し単位の個数の和で除した値である分岐度が0.05
    〜0.95である請求項1記載のポリイミド樹脂。
  3. 【請求項3】 有機溶媒に対する溶解度が有機溶媒1L
    中に1gから1000gである請求項1記載のポリイミ
    ド樹脂。
  4. 【請求項4】 有機溶媒がジメチルスルホキシド、N−
    メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミ
    ド及びジメチルホルムアミドからなる群から選ばれる少
    なくとも1種である請求項3記載のポリイミド樹脂。
  5. 【請求項5】 下記一般式(4): 【化3】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
    同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
    表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表す。)で示される化合物を縮合して得られる請求
    項1〜4のいずれか1項に記載のポリイミド樹脂。
  6. 【請求項6】 下記一般式(4): 【化4】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
    同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
    表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表す。)で示される化合物を縮合させることを特徴
    とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリイミド
    樹脂の製造法。
  7. 【請求項7】 下記一般式(4): 【化5】 (式中、Arは4価の有機基を表し、R1 及びR2 は、
    同一又は相異なり、水素原子又はトリメチルシリル基を
    表し、R3 及びR4 は、同一又は相異なり、水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表す。)で示される化合物。
  8. 【請求項8】 下記一般式(5)、一般式(6)及び一
    般式(7): 【化6】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
    なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
    ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
    7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
    基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
    位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
    (A): 【化7】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
    す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
    る繰り返し単位を有する化合物を製造原料として得られ
    る請求項1〜4のいずれか1項に記載のポリイミド樹
    脂。
  9. 【請求項9】 下記一般式(5)、一般式(6)及び一
    般式(7): 【化8】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
    なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
    ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
    7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
    基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
    位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
    (A): 【化9】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
    す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
    る繰り返し単位を有する化合物を加熱処理又は化学処理
    することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記
    載のポリイミド樹脂の製造法。
  10. 【請求項10】 下記一般式(5)、一般式(6)及び
    一般式(7): 【化10】 [式中、Arは4価の有機基を表し、R3 は水素原子、
    1-10−アルキル基、アリール基又はトリメチルシリル
    基を表し、abN、cdN及びefNは、同一又は相異
    なり、非置換のアミノ基、環状アミド基又はC1-10−ア
    ルキル基、アリール基、トリメチルシリル基、鎖員2〜
    7の2価の炭化水素基、又は1価もしくは2価のアシル
    基で置換されたアミノ基を表し、また、同一繰り返し単
    位中のcdN及びefNは、互いに連結して、次式
    (A): 【化11】−NH−CE−NH− (A) (式中、CEは2価の炭化水素基又はアシル基を表
    す。)で示される2価の基を表してもよい。]で示され
    る繰り返し単位を有する化合物。
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