JP2001091730A - クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法 - Google Patents
クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法Info
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- JP2001091730A JP2001091730A JP27249299A JP27249299A JP2001091730A JP 2001091730 A JP2001091730 A JP 2001091730A JP 27249299 A JP27249299 A JP 27249299A JP 27249299 A JP27249299 A JP 27249299A JP 2001091730 A JP2001091730 A JP 2001091730A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】不良のクロム遮光層を有するカラーフィルター
より、クロム遮光層の付いた状態で、再使用可能なガラ
ス基板を得る方法を提供する。［解決手段］クロム遮光
層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の（Ａ）
〜（Ｃ）の工程を含む方法により処理することを特徴と
する、クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基
板の再生方法。 （Ａ）塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の混合液
にカラーフィルターを浸 漬する工程 （Ｂ）硫酸に（Ａ）の処理を行ったカラーフィルターを
浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
より、クロム遮光層の付いた状態で、再使用可能なガラ
ス基板を得る方法を提供する。［解決手段］クロム遮光
層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の（Ａ）
〜（Ｃ）の工程を含む方法により処理することを特徴と
する、クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基
板の再生方法。 （Ａ）塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の混合液
にカラーフィルターを浸 漬する工程 （Ｂ）硫酸に（Ａ）の処理を行ったカラーフィルターを
浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はクロム遮光層を有す
るカラーフィルターガラス基板の再生方法に関するもの
である。更に詳しくは、本発明はノート型パソコン、ワ
ークステーションやカーナビゲーション等のディスプレ
ーや液晶テレビ等の各種のカラー液晶表示装置に用いら
れるクロム遮光層を有するカラーフィルターの不良品よ
りガラス基板を再生する方法に関する。
るカラーフィルターガラス基板の再生方法に関するもの
である。更に詳しくは、本発明はノート型パソコン、ワ
ークステーションやカーナビゲーション等のディスプレ
ーや液晶テレビ等の各種のカラー液晶表示装置に用いら
れるクロム遮光層を有するカラーフィルターの不良品よ
りガラス基板を再生する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カラーレジスト及び遮光膜としてクロム
及びクロム化合物を用いる顔料分散法カラーフィルター
は、ガラス基板上にまずクロム遮光層をパターニング
し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーレジストを
順次パターニング、焼成を行った後、必要によりオーバ
ーコート層を成膜し、最後にインジウム錫酸化物（ＩＴ
Ｏ）層を成膜することにより作成される。
及びクロム化合物を用いる顔料分散法カラーフィルター
は、ガラス基板上にまずクロム遮光層をパターニング
し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のカラーレジストを
順次パターニング、焼成を行った後、必要によりオーバ
ーコート層を成膜し、最後にインジウム錫酸化物（ＩＴ
Ｏ）層を成膜することにより作成される。
【０００３】最近、液晶表示装置は生産性向上の観点か
らガラス基板が大型化し、数個のカラーフィルターを形
成したガラス基板と、同じ数の画素電極パターンを形成
したガラス基板を、液晶を介して重ね合わせることによ
り作成されるようになった。このため例えば６面取りで
はカラーフィルターの不良率が以前の１面取りに比較し
６倍になるように大幅に歩留まりが低下し、大量の不良
カラーフィルターができてしまう。
らガラス基板が大型化し、数個のカラーフィルターを形
成したガラス基板と、同じ数の画素電極パターンを形成
したガラス基板を、液晶を介して重ね合わせることによ
り作成されるようになった。このため例えば６面取りで
はカラーフィルターの不良率が以前の１面取りに比較し
６倍になるように大幅に歩留まりが低下し、大量の不良
カラーフィルターができてしまう。
【０００４】カラーフィルター製造の歩留まり向上の手
段としては、製品の不良原因になっている、ゴミ等の異
物の混入による欠陥、ピンポールや欠け等による欠陥、
ガラス基板の平坦性不良による欠陥などを改良してカラ
ーフィルター製造の歩留まりを向上させることが考えら
れる。しかし、これらの欠陥を完全に排除することは困
難であり、また製造工程を厳重に管理してこれらの原因
を完全に排除することは工業的に有利とはいえない。
段としては、製品の不良原因になっている、ゴミ等の異
物の混入による欠陥、ピンポールや欠け等による欠陥、
ガラス基板の平坦性不良による欠陥などを改良してカラ
ーフィルター製造の歩留まりを向上させることが考えら
れる。しかし、これらの欠陥を完全に排除することは困
難であり、また製造工程を厳重に管理してこれらの原因
を完全に排除することは工業的に有利とはいえない。
【０００５】また、カラーフィルターの低コスト化の手
段として、カラーフィルターの不良基板からカラーフィ
ルター層を剥離してカラーフィルター用基板を再生する
方法がある。例えば、ＩＴＯ層をあらかじめ、塩酸酸性
水溶液で剥離処理したあと、カラーフィルター層を水酸
化ナトリウムなどの水溶液を剥離剤として用いるアルカ
リ処理法などがある。しかし、塩酸酸性水溶液やアルカ
リ処理法では、カラーフィルター層の剥離に長時間を要
し、またカラーフィルター層の剥離とともにガラス基板
などの他の素材を侵すなどの問題があった。また、アミ
ルアルコール等の有機溶媒や高純度の硫酸を高温下で処
理し、カラーフィルター層の剥離を行う方法も知られて
いる。しかし、有機溶媒での処理や高純度の硫酸を高温
下で処理した場合、剥離能力が低かったり、直ぐに、カ
ラーフィルター層の溶解度が低下し、カラーフィルター
層の剥離は充分でない。
段として、カラーフィルターの不良基板からカラーフィ
ルター層を剥離してカラーフィルター用基板を再生する
方法がある。例えば、ＩＴＯ層をあらかじめ、塩酸酸性
水溶液で剥離処理したあと、カラーフィルター層を水酸
化ナトリウムなどの水溶液を剥離剤として用いるアルカ
リ処理法などがある。しかし、塩酸酸性水溶液やアルカ
リ処理法では、カラーフィルター層の剥離に長時間を要
し、またカラーフィルター層の剥離とともにガラス基板
などの他の素材を侵すなどの問題があった。また、アミ
ルアルコール等の有機溶媒や高純度の硫酸を高温下で処
理し、カラーフィルター層の剥離を行う方法も知られて
いる。しかし、有機溶媒での処理や高純度の硫酸を高温
下で処理した場合、剥離能力が低かったり、直ぐに、カ
ラーフィルター層の溶解度が低下し、カラーフィルター
層の剥離は充分でない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記の通り発生した不
良カラーフィルターは従来の技術では再使用することが
できなかった。このため、多量の高価なガラス基板がカ
ラーレジストやクロム遮光膜等を形成した状態で廃棄さ
れており、環境衛生上の観点からも経済性の観点からも
問題があった。すなわち本発明は、カラーフィルターの
不良基板から、ガラス基板などの他の素材を侵すことな
く、クロム遮光層を残したカラーフィルター用ガラス基
板を再生する方法を提供することを目的とする。
良カラーフィルターは従来の技術では再使用することが
できなかった。このため、多量の高価なガラス基板がカ
ラーレジストやクロム遮光膜等を形成した状態で廃棄さ
れており、環境衛生上の観点からも経済性の観点からも
問題があった。すなわち本発明は、カラーフィルターの
不良基板から、ガラス基板などの他の素材を侵すことな
く、クロム遮光層を残したカラーフィルター用ガラス基
板を再生する方法を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記課題を
解決すべく鋭意検討の結果、以下に示す特定処理を施す
ことにより、前記目的を達成しうることを見出し本発明
に至った。
解決すべく鋭意検討の結果、以下に示す特定処理を施す
ことにより、前記目的を達成しうることを見出し本発明
に至った。
【０００８】即ち本発明のうち、一の発明は、クロム遮
光層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の
（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含む方法により処理することを
特徴とする、クロム遮光層を有するカラーフィルター用
ガラスの再生方法に係るものである。 （Ａ）塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の混合液
にカラーフィルターを浸漬する工程 （Ｂ）硫酸に（Ａ）の処理を行ったカラーフィルターを
浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
光層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の
（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含む方法により処理することを
特徴とする、クロム遮光層を有するカラーフィルター用
ガラスの再生方法に係るものである。 （Ａ）塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の混合液
にカラーフィルターを浸漬する工程 （Ｂ）硫酸に（Ａ）の処理を行ったカラーフィルターを
浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
【０００９】また、本発明のうち、他の発明は、クロム
層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の（Ｂ）
〜（Ｃ）工程を含む方法により処理することを特徴とす
る、クロム遮光層を有するカラーフィルター用ガラス基
板の再生方法に係わる。 （Ｂ）硫酸にカラーフィルター基板を浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
層を有するカラーフィルターの不良品を、以下の（Ｂ）
〜（Ｃ）工程を含む方法により処理することを特徴とす
る、クロム遮光層を有するカラーフィルター用ガラス基
板の再生方法に係わる。 （Ｂ）硫酸にカラーフィルター基板を浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に用いられるカラーフィル
ターの不良品とは、ガラス基板上にクロム遮光層を形成
し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の画素を形成し作成
したカラーフィルターであって、画素に欠け等の欠陥が
見られるもの、画素間の分離が悪く色の滲みの見られる
もの、オーバーコート層の成膜不良により平坦性が不十
分で光により干渉縞の見えるもの、クロム遮光膜とＲ、
Ｇ、Ｂが位置ずれをおこしているもの、ＩＴＯが所定の
範囲の抵抗値を満たしていないものや製造工程でゴミの
混入によるもの等の不良品である。但しガラス基板その
ものに傷や欠陥があるものは含まないため、不良原因を
調べ、ガラス基板そのものに原因があるもの、クロム遮
光層に異常があるものは排除する。一方クロム遮光層が
正常な場合にはクロム遮光層をそのまま用いる方がカラ
ーフィルター作成において有利なため、クロム遮光層を
残したガラス基板を再生する。
ターの不良品とは、ガラス基板上にクロム遮光層を形成
し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の画素を形成し作成
したカラーフィルターであって、画素に欠け等の欠陥が
見られるもの、画素間の分離が悪く色の滲みの見られる
もの、オーバーコート層の成膜不良により平坦性が不十
分で光により干渉縞の見えるもの、クロム遮光膜とＲ、
Ｇ、Ｂが位置ずれをおこしているもの、ＩＴＯが所定の
範囲の抵抗値を満たしていないものや製造工程でゴミの
混入によるもの等の不良品である。但しガラス基板その
ものに傷や欠陥があるものは含まないため、不良原因を
調べ、ガラス基板そのものに原因があるもの、クロム遮
光層に異常があるものは排除する。一方クロム遮光層が
正常な場合にはクロム遮光層をそのまま用いる方がカラ
ーフィルター作成において有利なため、クロム遮光層を
残したガラス基板を再生する。
【００１１】まず、請求項１の再生方法について説明す
る。
る。
【００１２】カラーフィルターの最上層にはインジウム
錫化合物（ＩＴＯ）層が成膜されているので、不良カラ
ーフィルターを塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸
の混合液に浸漬し、ＩＴＯ層を除去する。
錫化合物（ＩＴＯ）層が成膜されているので、不良カラ
ーフィルターを塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸
の混合液に浸漬し、ＩＴＯ層を除去する。
【００１３】塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の
混合液とは塩化第二鉄の濃度が５〜４０重量％であり、
硝酸の濃度が０〜６０重量％の水溶液であり、ＩＴＯの
エッチングに用いられる。
混合液とは塩化第二鉄の濃度が５〜４０重量％であり、
硝酸の濃度が０〜６０重量％の水溶液であり、ＩＴＯの
エッチングに用いられる。
【００１４】浸漬時の温度は０℃から用いる水溶液の沸
点の範囲であるが、あまり低温では浸漬時間が長くなり
すぎるため、またあまり高温では硝酸蒸気が多量に発生
し安全上好ましくないため、室温〜８５℃で浸漬するの
が好ましい。浸漬時間は塩化第二鉄水溶液の溶質の濃度
や浸漬温度によって完全にＩＴＯ膜が除去されるように
設定すればよい。通常の条件は数分〜数時間が一般的で
ある。
点の範囲であるが、あまり低温では浸漬時間が長くなり
すぎるため、またあまり高温では硝酸蒸気が多量に発生
し安全上好ましくないため、室温〜８５℃で浸漬するの
が好ましい。浸漬時間は塩化第二鉄水溶液の溶質の濃度
や浸漬温度によって完全にＩＴＯ膜が除去されるように
設定すればよい。通常の条件は数分〜数時間が一般的で
ある。
【００１５】前記のようにしてＩＴＯ膜が除去された不
良カラーフィルターは、次にカラーレジスト層（及びオ
ーバーコート層）の除去がおこなわれる。カラーレジス
ト（及びオーバーコート層）は一般的にはアクリル系樹
脂やポリイミド系樹脂であるので、単に成膜しただけの
ものであれば硫酸により除去が可能である。しかしカラ
ーフィルターとして用いる時には、成膜された後加熱処
理が行われることが一般的であるので、硫酸に浸漬した
後、ブラシ洗浄を行って、カラーレジスト層（及びオー
バーコート層）の除去を行う。なお硫酸の浸漬の前に水
洗を行ってもよい。水洗することにより塩化第二鉄水溶
液等の硫酸中への混入を防ぎ、これらの液の寿命が長く
なりより好ましい。本工程で用いる硫酸としては、濃度
が６０重量％以上である。除去性能や価格を考慮すると
特に好ましくは７０〜９８重量％である。６０重量％以
下では浸漬時間が長くなり、工業的見地からは好ましく
ない。
良カラーフィルターは、次にカラーレジスト層（及びオ
ーバーコート層）の除去がおこなわれる。カラーレジス
ト（及びオーバーコート層）は一般的にはアクリル系樹
脂やポリイミド系樹脂であるので、単に成膜しただけの
ものであれば硫酸により除去が可能である。しかしカラ
ーフィルターとして用いる時には、成膜された後加熱処
理が行われることが一般的であるので、硫酸に浸漬した
後、ブラシ洗浄を行って、カラーレジスト層（及びオー
バーコート層）の除去を行う。なお硫酸の浸漬の前に水
洗を行ってもよい。水洗することにより塩化第二鉄水溶
液等の硫酸中への混入を防ぎ、これらの液の寿命が長く
なりより好ましい。本工程で用いる硫酸としては、濃度
が６０重量％以上である。除去性能や価格を考慮すると
特に好ましくは７０〜９８重量％である。６０重量％以
下では浸漬時間が長くなり、工業的見地からは好ましく
ない。
【００１６】浸漬温度は常温以上であれば特に制限はな
いが、浸漬時間を短くする為加熱して使用してもかまわ
ない。浸漬時間は用いる液の濃度、除去すべきカラーレ
ジスト（及びオーバーコート）の種類、浸漬温度及び次
のブラシ洗浄条件により異なり、前記条件の組み合わせ
を考慮して、用いる液への浸漬とブラシ洗浄により完全
にカラーレジスト層（及びオーバーコート層）が除去で
きるように選択すれば良い。
いが、浸漬時間を短くする為加熱して使用してもかまわ
ない。浸漬時間は用いる液の濃度、除去すべきカラーレ
ジスト（及びオーバーコート）の種類、浸漬温度及び次
のブラシ洗浄条件により異なり、前記条件の組み合わせ
を考慮して、用いる液への浸漬とブラシ洗浄により完全
にカラーレジスト層（及びオーバーコート層）が除去で
きるように選択すれば良い。
【００１７】本発明では、カラーフィルターの不良基板
を、前記剥離剤に接触させて、カラーフィルター用ガラ
ス基板よりＩＴＯ膜及び／又はカラーレジスト層（及び
オーバーコート層）を剥離することによりクロム遮光層
を残したガラス基板の再生を行う。カラーフィルター用
剥離剤に浸漬する方法は特に制限されないが、例えばカ
ラーフィルターの不良基板を所定のカセット等に収納し
て、浸漬することもできる。浸漬とともに揺動、剥離液
の循環、バブリング等をすることもできる。
を、前記剥離剤に接触させて、カラーフィルター用ガラ
ス基板よりＩＴＯ膜及び／又はカラーレジスト層（及び
オーバーコート層）を剥離することによりクロム遮光層
を残したガラス基板の再生を行う。カラーフィルター用
剥離剤に浸漬する方法は特に制限されないが、例えばカ
ラーフィルターの不良基板を所定のカセット等に収納し
て、浸漬することもできる。浸漬とともに揺動、剥離液
の循環、バブリング等をすることもできる。
【００１８】ブラシ洗浄では、液晶表示装置（ＬＣＤ）
や大規模集積回路（ＬＳＩ）及びカラーフィルターの製
造工程で用いられるブラシのついた洗浄機等を用いるこ
とができる。また、人が手で洗浄してもかまわない。
ブラシ洗浄で用いられるブラシはスポンジブラシ、毛ブ
ラシ、紙製ウエス、布、タワシ、ゴム板等ガラス基板に
傷を付けないものならば特に限定しない。また、ブラシ
洗浄時に前記剥離剤や水を基板に注いたり、洗浄液中で
実施するとブラシ洗浄効果が向上し好ましい。またブラ
シ洗浄の前に水洗し剥離剤を除去した後ブラシ洗浄して
もかまわない。
や大規模集積回路（ＬＳＩ）及びカラーフィルターの製
造工程で用いられるブラシのついた洗浄機等を用いるこ
とができる。また、人が手で洗浄してもかまわない。
ブラシ洗浄で用いられるブラシはスポンジブラシ、毛ブ
ラシ、紙製ウエス、布、タワシ、ゴム板等ガラス基板に
傷を付けないものならば特に限定しない。また、ブラシ
洗浄時に前記剥離剤や水を基板に注いたり、洗浄液中で
実施するとブラシ洗浄効果が向上し好ましい。またブラ
シ洗浄の前に水洗し剥離剤を除去した後ブラシ洗浄して
もかまわない。
【００１９】このあと水等で洗浄し、更に乾燥すること
によりクロム遮光層付きのガラス基板が再生される。
によりクロム遮光層付きのガラス基板が再生される。
【００２０】このようにして得られたクロム遮光膜付き
ガラス基板は、カラーフィルター作成ラインのカラーレ
ジスト塗布工程から使用され、カラーフィルターの作成
に供される。
ガラス基板は、カラーフィルター作成ラインのカラーレ
ジスト塗布工程から使用され、カラーフィルターの作成
に供される。
【００２１】次に、請求項２の再生方法について述べ
る。 カラーフィルターの最上層にはインジウム錫化合
物層（ＩＴＯ膜）、その下にカラーレジスト層（及びオ
ーバーコート層）が成膜されている不良カラーフィルタ
ーを硫酸に浸漬した後、ブラシ洗浄を行って、ＩＴＯ層
とカラーレジスト層（及びオーバーコート層）を同時に
除去する。 本工程で用いる硫酸としては、濃度が６０
〜９５重量％である。除去性能を考慮すると特に好まし
くは硫酸濃度は７０〜９０重量％である。硫酸濃度が６
０重量％以下ではカラーレジスト層（及びオーバーコー
ト層）の剥離が充分でなく、硫酸濃度が９５重量％以上
ではＩＴＯ層の剥離が充分でない。
る。 カラーフィルターの最上層にはインジウム錫化合
物層（ＩＴＯ膜）、その下にカラーレジスト層（及びオ
ーバーコート層）が成膜されている不良カラーフィルタ
ーを硫酸に浸漬した後、ブラシ洗浄を行って、ＩＴＯ層
とカラーレジスト層（及びオーバーコート層）を同時に
除去する。 本工程で用いる硫酸としては、濃度が６０
〜９５重量％である。除去性能を考慮すると特に好まし
くは硫酸濃度は７０〜９０重量％である。硫酸濃度が６
０重量％以下ではカラーレジスト層（及びオーバーコー
ト層）の剥離が充分でなく、硫酸濃度が９５重量％以上
ではＩＴＯ層の剥離が充分でない。
【００２２】浸漬の方法、浸漬温度、浸漬時間及びブラ
シ洗浄工程以降は総て請求項１と同じ方法で処理を行う
ことができる。
シ洗浄工程以降は総て請求項１と同じ方法で処理を行う
ことができる。
【００２３】
【発明の効果】本発明によれば、カラーフィルターの不
良基板から、ガラス基板などの他の素材を侵すことな
く、ＩＴＯ層及びカラーレジスト層（及びオーバーコー
ト層）を効率良く剥離できる。再生したクロム遮光層を
有するカラーフィルター用基板は、再度カラーフィルタ
ー製造に供することができるため、カラーフィルター製
造のコスト低下に寄与する。
良基板から、ガラス基板などの他の素材を侵すことな
く、ＩＴＯ層及びカラーレジスト層（及びオーバーコー
ト層）を効率良く剥離できる。再生したクロム遮光層を
有するカラーフィルター用基板は、再度カラーフィルタ
ー製造に供することができるため、カラーフィルター製
造のコスト低下に寄与する。
【００２４】
【実施例】以下、実施例をあげて、本発明を更に詳しく
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。なお、各例の％は重量基準である。
説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるも
のではない。なお、各例の％は重量基準である。
【００２５】実施例-1 カラーフィルター不良品より、ガラス基板及びクロム遮
光層に問題のないものを選んだ。該不良品を先ず３８％
塩化第二鉄水溶液に３０℃で１時間浸漬し、その後水洗
を行った。次に９８％硫酸に３０℃で１時間浸漬した。
浸漬後２５℃の水の中に浸し硫酸を洗い流した後、ポリ
ウレタン製スポンジブラシで２５℃の水をかけながらブ
ラッシングを行った。その後２５℃の水で洗浄を行った
後１００℃で１時間乾燥し、クロム遮光層付きのガラス
基板を得た。再生したガラス基板を目視及び光学顕微鏡
でカラーフィルター用ガラス基板のＩＴＯ膜及びカラー
レジスト層（及びオーバーコート層）の剥離の状態を観
察した。又、表面粗さ計（（株）日本真空製）を用いて
ガラス及びクロム遮光層部分のエッチングの度合いを測
定したが、ガラス及びクロム遮光層に傷や欠け等の欠陥
は認められなかった。
光層に問題のないものを選んだ。該不良品を先ず３８％
塩化第二鉄水溶液に３０℃で１時間浸漬し、その後水洗
を行った。次に９８％硫酸に３０℃で１時間浸漬した。
浸漬後２５℃の水の中に浸し硫酸を洗い流した後、ポリ
ウレタン製スポンジブラシで２５℃の水をかけながらブ
ラッシングを行った。その後２５℃の水で洗浄を行った
後１００℃で１時間乾燥し、クロム遮光層付きのガラス
基板を得た。再生したガラス基板を目視及び光学顕微鏡
でカラーフィルター用ガラス基板のＩＴＯ膜及びカラー
レジスト層（及びオーバーコート層）の剥離の状態を観
察した。又、表面粗さ計（（株）日本真空製）を用いて
ガラス及びクロム遮光層部分のエッチングの度合いを測
定したが、ガラス及びクロム遮光層に傷や欠け等の欠陥
は認められなかった。
【００２６】実施例２〜６及び比較例１〜１１ 実施例１において、剥離剤の組成比又は剥離剤成分、処
理温度をそれぞれ表１に示すように変化させた他は実施
例１と同様に処理を行った。評価結果を表１に示す。
理温度をそれぞれ表１に示すように変化させた他は実施
例１と同様に処理を行った。評価結果を表１に示す。
【００２７】ＩＴＯ剥離性、レジスト剥離性 カラーフィルター用ガラス基板のＩＴＯ層及びカラーレ
ジスト層の剥離の度合いを以下の判断基準に基づき顕微
鏡（約５０倍）で目視判定した。 ◎：良好に剥離できる。 △：若干残存する。 ×：かなり残存する。
ジスト層の剥離の度合いを以下の判断基準に基づき顕微
鏡（約５０倍）で目視判定した。 ◎：良好に剥離できる。 △：若干残存する。 ×：かなり残存する。
【００２８】クロム遮光層、ガラス基板の状態 カラーフィルター用ガラス基板のクロム遮光層及びガラ
ス部のエッチングの度合いを、表面粗さ計（（株）日本
真空製）を用いて測定し、以下の判断基準により評価し
た。 クロム遮光層 ◎：クロム遮光層エッチング量１０オームストロング以
下 △：クロム遮光層エッチング量１０〜１００オームスト
ロング ×：クロム遮光層エッチング量１００オームストロング
以上 ガラス部 ◎：ガラスエッチング量１０オームストロング以下 △：ガラスエッチング量１０〜１００オームストロング ×：ガラスエッチング量１００オームストロング以上
ス部のエッチングの度合いを、表面粗さ計（（株）日本
真空製）を用いて測定し、以下の判断基準により評価し
た。 クロム遮光層 ◎：クロム遮光層エッチング量１０オームストロング以
下 △：クロム遮光層エッチング量１０〜１００オームスト
ロング ×：クロム遮光層エッチング量１００オームストロング
以上 ガラス部 ◎：ガラスエッチング量１０オームストロング以下 △：ガラスエッチング量１０〜１００オームストロング ×：ガラスエッチング量１００オームストロング以上
【００２９】
【表１】
【００３０】実施例-７ カラーフィルター不良品より、ガラス基板及びクロム遮
光層に問題のないものを選んだ。該不良品を直接９０％
硫酸に３０℃で１時間浸積した。浸積後２５℃の水の中
に浸し硫酸を洗い流した後、ポリウレタン製スポンジブ
ラシで２５℃の水をかけながらブラッシングを行った。
その後２５℃の水で洗浄を行った後１００℃で１時間乾
燥し、クロム遮光層付きのガラス基板を得た。再生した
ガラス基板を目視、光学顕微鏡でカラーフィルター用ガ
ラス基板のＩＴＯ膜及びカラーレジスト層（及びオーバ
ーコート層）の剥離の状態を観察した。又、表面粗さ計
（（株）日本真空製）を用いてガラス及びクロム遮光層
部分のエッチングの度合いを測定したが、ガラス及びク
ロム遮光層に傷や欠け等の欠陥は認められなかった。
光層に問題のないものを選んだ。該不良品を直接９０％
硫酸に３０℃で１時間浸積した。浸積後２５℃の水の中
に浸し硫酸を洗い流した後、ポリウレタン製スポンジブ
ラシで２５℃の水をかけながらブラッシングを行った。
その後２５℃の水で洗浄を行った後１００℃で１時間乾
燥し、クロム遮光層付きのガラス基板を得た。再生した
ガラス基板を目視、光学顕微鏡でカラーフィルター用ガ
ラス基板のＩＴＯ膜及びカラーレジスト層（及びオーバ
ーコート層）の剥離の状態を観察した。又、表面粗さ計
（（株）日本真空製）を用いてガラス及びクロム遮光層
部分のエッチングの度合いを測定したが、ガラス及びク
ロム遮光層に傷や欠け等の欠陥は認められなかった。
【００３１】 実施例８〜１０及び比較例１２〜１５ 実施例７において、剥離剤の組成比、処理温度をそれぞ
れ表２に示すように変化させた他は実施例７と同様に処
理を行った。評価結果を表２に示す。
れ表２に示すように変化させた他は実施例７と同様に処
理を行った。評価結果を表２に示す。
【００３２】
【表２】
【図１】クロム遮光層の付いたカラーフィルターの断面
図
図
１ ガラス基板 ２ クロム遮光層（ブラックマトリックス） ３ カラーフィルター層（カラーレジスト膜） ４ （オーバーコート層） ５ インジウム錫化合物層（ＩＴＯ膜）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐々木宗生 滋賀県栗太郡栗東町上砥山232 滋賀県工 業技術総合センター内 Ｆターム(参考） 2H048 BA11 BB01 BB14 BB24 BB37 BB44 2H091 FA02Y FA34Y FB08 FC21 FC24 LA09
Claims (5)
- 【請求項１】クロム遮光層を有するカラーフィルターの
不良品を、以下（Ａ）〜（Ｃ）の工程を含む方法により
処理することを特徴とする、クロム遮光層を有するカラ
ーフィルターガラス基板の再生方法。 （Ａ）塩化第二鉄水溶液又は塩化第二鉄と硝酸の混合液
にカラーフィルターを浸漬する工程 （Ｂ）硫酸に（Ａ）の処理を行ったカラーフィルターを
浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィルターをブ
ラシ洗浄する工程 - 【請求項２】クロム遮光層を有するカラーフィルターの
不良品を、以下（Ｂ）〜（Ｃ）の工程を含む方法により
処理することを特徴とする、クロム遮光層を有するカラ
ーフィルターガラス基板の再生方法。 （Ｂ）硫酸にカラーフィルターを浸漬する工程 （Ｃ）上記（Ｂ）の処理を行ったカラーフィターをブラ
シ洗浄する工程 - 【請求項３】 請求項１の（Ａ）工程で用いられる塩化
鉄水溶液が塩化鉄濃度が５〜４０重量％、硝酸濃度が０
〜６０重量％である、クロム遮光層を有するカラーフィ
ルターガラス基板の再生方法。 - 【請求項４】 請求項１の（Ｂ）工程で用いられる硫酸
が濃度が６０重量％以上である、クロム遮光層を有する
カラーフィルターガラス基板の再生方法。 - 【請求項５】 請求項２の（Ｂ）工程で用いられる硫酸
が濃度が６０重量％〜９５重量％である、クロム遮光層
を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27249299A JP2001091730A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法 |
| TW89104862A TW546265B (en) | 1999-09-27 | 2000-05-12 | Recycle manufacturing in glass substrate of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27249299A JP2001091730A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001091730A true JP2001091730A (ja) | 2001-04-06 |
Family
ID=17514679
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27249299A Pending JP2001091730A (ja) | 1999-09-27 | 1999-09-27 | クロム遮光層を有するカラーフィルターガラス基板の再生方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001091730A (ja) |
| TW (1) | TW546265B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002341130A (ja) * | 2001-05-21 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
-
1999
- 1999-09-27 JP JP27249299A patent/JP2001091730A/ja active Pending
-
2000
- 2000-05-12 TW TW89104862A patent/TW546265B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002341130A (ja) * | 2001-05-21 | 2002-11-27 | Dainippon Printing Co Ltd | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
| JP4564683B2 (ja) * | 2001-05-21 | 2010-10-20 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂膜除去装置およびその方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW546265B (en) | 2003-08-11 |
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