JP2001089268A - 釉薬付アルミナ部材 - Google Patents
釉薬付アルミナ部材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 過酷な使用条件であっても破壊等の不具合が
生じない釉薬付アルミナ部材を提供すること。 【解決手段】 板状に突出する鍔１１を有するアルミナ
容器３の表面に、ガラス釉薬５を焼き付けた釉薬付アル
ミナ容器１であって、第１の鍔１１ａの根元におけるア
ルミナ容器３のＲ寸法を１、同じ第１の鍔１１ａの根元
におけるガラス釉薬５のＲ寸法を２の割合とした場合
に、アルミナ容器３にかかる応力を基準値１．００とし
たとき、応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬５の厚みを規制した釉薬付アルミナ容器１。
生じない釉薬付アルミナ部材を提供すること。 【解決手段】 板状に突出する鍔１１を有するアルミナ
容器３の表面に、ガラス釉薬５を焼き付けた釉薬付アル
ミナ容器１であって、第１の鍔１１ａの根元におけるア
ルミナ容器３のＲ寸法を１、同じ第１の鍔１１ａの根元
におけるガラス釉薬５のＲ寸法を２の割合とした場合
に、アルミナ容器３にかかる応力を基準値１．００とし
たとき、応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬５の厚みを規制した釉薬付アルミナ容器１。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば真空スイッ
チ容器、サイリスタ整流器容器、電子管容器等に使用さ
れる釉薬付アルミナ部材に関するものである。
チ容器、サイリスタ整流器容器、電子管容器等に使用さ
れる釉薬付アルミナ部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、例えばシリコン整流器などの
半導体を絶縁及び気密的に収容するために、セラミック
製の容器が使用されている。この容器は、例えばアルミ
ナ製の筒状体の外表面に、電気を流れ難くする沿面絶縁
距離を確保する目的で（即ち絶縁性を高める目的で）、
鍔状の凸部や波状のコルゲーション（以下単に鍔と記
す）を設けたものである。
半導体を絶縁及び気密的に収容するために、セラミック
製の容器が使用されている。この容器は、例えばアルミ
ナ製の筒状体の外表面に、電気を流れ難くする沿面絶縁
距離を確保する目的で（即ち絶縁性を高める目的で）、
鍔状の凸部や波状のコルゲーション（以下単に鍔と記
す）を設けたものである。
【０００３】また、上述したセラミック製の容器の表面
には、汚れ防止のために、通常、ガラス質の釉薬（ガラ
ス釉薬）が焼き付けられている。
には、汚れ防止のために、通常、ガラス質の釉薬（ガラ
ス釉薬）が焼き付けられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図３に
示す様に、セラミック製の容器Ｐ１から突出する鍔Ｐ２
のＲ状の根元部分Ｐ３には、ガラス釉薬Ｐ４を塗布する
際に、ガラス釉薬Ｐ４が溜り易いので、ガラス釉薬Ｐ４
の層の厚みが大きくなってしまう。
示す様に、セラミック製の容器Ｐ１から突出する鍔Ｐ２
のＲ状の根元部分Ｐ３には、ガラス釉薬Ｐ４を塗布する
際に、ガラス釉薬Ｐ４が溜り易いので、ガラス釉薬Ｐ４
の層の厚みが大きくなってしまう。
【０００５】しかも、例えば容器Ｐ１の材料であるアル
ミナの熱膨張係数は、７．５〜８．０×１０-6／℃であ
り、それに対して、ガラス釉薬Ｐ４の熱膨張係数は、約
５．０〜×１０-6／℃とかなり小さい。そのため、ガラ
ス釉薬Ｐ４の焼付け後には、鍔Ｐ２の根元部分Ｐ３には
大きな残留応力がかかり、使用条件によっては、容器Ｐ
１が、鍔Ｐ２の根元部分Ｐ３を起点にして破壊する可能
性があるという問題があった。
ミナの熱膨張係数は、７．５〜８．０×１０-6／℃であ
り、それに対して、ガラス釉薬Ｐ４の熱膨張係数は、約
５．０〜×１０-6／℃とかなり小さい。そのため、ガラ
ス釉薬Ｐ４の焼付け後には、鍔Ｐ２の根元部分Ｐ３には
大きな残留応力がかかり、使用条件によっては、容器Ｐ
１が、鍔Ｐ２の根元部分Ｐ３を起点にして破壊する可能
性があるという問題があった。
【０００６】本発明は上記の問題点を鑑みて提案された
ものであり、過酷な使用条件であっても破壊等の不具合
が生じない釉薬付アルミナ部材を提供することを目的と
している。
ものであり、過酷な使用条件であっても破壊等の不具合
が生じない釉薬付アルミナ部材を提供することを目的と
している。
【０００７】
【課題を解決するための手段】（１）前記目的を達成す
るための請求項１の発明は、板状に突出する鍔を有する
アルミナ部材の表面に、ガラス釉薬を焼き付けた釉薬付
アルミナ部材であって、前記鍔の根元におけるアルミナ
部材のＲ寸法を１、同じ鍔の根元におけるガラス釉薬の
Ｒ寸法を２の割合とした場合に、前記セラミック部材に
かかる応力を基準値１．００としたとき、前記応力が前
記基準値に対して１．８以下となるように前記ガラス釉
薬の厚みを規制したことを特徴とする釉薬付アルミナ部
材を要旨とする。
るための請求項１の発明は、板状に突出する鍔を有する
アルミナ部材の表面に、ガラス釉薬を焼き付けた釉薬付
アルミナ部材であって、前記鍔の根元におけるアルミナ
部材のＲ寸法を１、同じ鍔の根元におけるガラス釉薬の
Ｒ寸法を２の割合とした場合に、前記セラミック部材に
かかる応力を基準値１．００としたとき、前記応力が前
記基準値に対して１．８以下となるように前記ガラス釉
薬の厚みを規制したことを特徴とする釉薬付アルミナ部
材を要旨とする。
【０００８】上述した様に、アルミナの熱膨張係数とガ
ラス釉薬の熱膨張係数とにはかなり差があるので、釉薬
焼付け後の冷却の際に、応力がかかって鍔の根元が割れ
易いが、本発明では、前記応力を基準値に対して１．８
以下となるように、ガラス釉薬の厚みを設定しているの
で、即ちアルミナ部材のＲ寸法とガラス釉薬のＲ寸法を
調節してガラス釉薬の厚みを規定しているので、アルミ
ナ部材の割れの発生を防止できる。
ラス釉薬の熱膨張係数とにはかなり差があるので、釉薬
焼付け後の冷却の際に、応力がかかって鍔の根元が割れ
易いが、本発明では、前記応力を基準値に対して１．８
以下となるように、ガラス釉薬の厚みを設定しているの
で、即ちアルミナ部材のＲ寸法とガラス釉薬のＲ寸法を
調節してガラス釉薬の厚みを規定しているので、アルミ
ナ部材の割れの発生を防止できる。
【０００９】（２）請求項２の発明は、前記応力が前記
基準値に対して１．５以下となるように前記ガラス釉薬
の厚みを規制したことを特徴とする前記請求項１に記載
の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
基準値に対して１．５以下となるように前記ガラス釉薬
の厚みを規制したことを特徴とする前記請求項１に記載
の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
【００１０】特に、前記応力が基準値に対して１．５以
下となるようにガラス釉薬の厚みを規制すると、アルミ
ナ部材の割れの防止効果が大きく、一層好適である。 （３）請求項３の発明は、前記アルミナ部材において、
その鍔の根元の周囲の縦断面形状が略Ｌ字状であること
を特徴とする前記請求項１又は２に記載の釉薬付アルミ
ナ部材を要旨とする。
下となるようにガラス釉薬の厚みを規制すると、アルミ
ナ部材の割れの防止効果が大きく、一層好適である。 （３）請求項３の発明は、前記アルミナ部材において、
その鍔の根元の周囲の縦断面形状が略Ｌ字状であること
を特徴とする前記請求項１又は２に記載の釉薬付アルミ
ナ部材を要旨とする。
【００１１】本発明は、鍔の突出する形状を例示したも
のであり、例えば筒状体の外表面から鍔が垂直に突出し
ている場合には、その縦断面が略Ｌ字状となる。この様
な場合には、前記冷却時に鍔の根元部分に割れが発生し
易いが、上述した様にガラス釉薬の厚みを規定すること
により、その割れを防止することができる。
のであり、例えば筒状体の外表面から鍔が垂直に突出し
ている場合には、その縦断面が略Ｌ字状となる。この様
な場合には、前記冷却時に鍔の根元部分に割れが発生し
易いが、上述した様にガラス釉薬の厚みを規定すること
により、その割れを防止することができる。
【００１２】（４）請求項４の発明は、前記アルミナ部
材は、筒状体の外周面に、その外周面を一周するように
前記鍔を立設したことを特徴とする前記請求項１〜３の
いずれかに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
材は、筒状体の外周面に、その外周面を一周するように
前記鍔を立設したことを特徴とする前記請求項１〜３の
いずれかに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
【００１３】本発明は、アルミナ部材の形状を例示した
ものである。ここでは、筒状体の外周面に環状に鍔を設
けてあるので、軸方向における沿面絶縁距離を大きくす
ることができる。尚、鍔を複数個並列して設けることに
より、沿面絶縁距離を一層大きくすることができる。
ものである。ここでは、筒状体の外周面に環状に鍔を設
けてあるので、軸方向における沿面絶縁距離を大きくす
ることができる。尚、鍔を複数個並列して設けることに
より、沿面絶縁距離を一層大きくすることができる。
【００１４】（５）請求項５の発明は、前記アルミナ部
材は、Ａｌ2Ｏ3を８５重量％以上含むことを特徴とする
前記請求項１〜４のいずれかに記載の釉薬付アルミナ部
材を要旨とする。本発明は、アルミナ部材の組成を例示
したものである。ここで、Ａｌ2Ｏ3を８５重量％以上含
む場合には、十分な強度と高い絶縁性を確保することが
できる。
材は、Ａｌ2Ｏ3を８５重量％以上含むことを特徴とする
前記請求項１〜４のいずれかに記載の釉薬付アルミナ部
材を要旨とする。本発明は、アルミナ部材の組成を例示
したものである。ここで、Ａｌ2Ｏ3を８５重量％以上含
む場合には、十分な強度と高い絶縁性を確保することが
できる。
【００１５】（６）請求項６の発明は、前記ガラス釉薬
は、ＳｉＯ2；６０〜８０重量％、Ａｌ2Ｏ3；１０〜２
０重量％、Ｋ2Ｏ；４〜１０重量％を含むとともに、残
部に、Ｎａ2Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｆ2Ｏ3のうち少なく
とも１種を含むことを特徴とする前記請求項１〜５のい
ずれかに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
は、ＳｉＯ2；６０〜８０重量％、Ａｌ2Ｏ3；１０〜２
０重量％、Ｋ2Ｏ；４〜１０重量％を含むとともに、残
部に、Ｎａ2Ｏ、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ｆ2Ｏ3のうち少なく
とも１種を含むことを特徴とする前記請求項１〜５のい
ずれかに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
【００１６】本発明は、ガラス釉薬の組成を例示したも
のである。ここで、上述した組成とすると、アルミナ部
材の表面に、滑らかなガラス面を容易に形成することが
できる。 （７）請求項７の発明は、前記釉薬付アルミナ部材は、
半導体素子を収容する容器であり、該容器の外周面に環
状には、沿面絶縁距離を大きくするための前記鍔が設け
られていることを特徴とする前記請求項１〜６のいずれ
かに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
のである。ここで、上述した組成とすると、アルミナ部
材の表面に、滑らかなガラス面を容易に形成することが
できる。 （７）請求項７の発明は、前記釉薬付アルミナ部材は、
半導体素子を収容する容器であり、該容器の外周面に環
状には、沿面絶縁距離を大きくするための前記鍔が設け
られていることを特徴とする前記請求項１〜６のいずれ
かに記載の釉薬付アルミナ部材を要旨とする。
【００１７】本発明は、釉薬付アルミナ部材の用途を例
示したものである。ここでは、釉薬付アルミナ部材は、
例えばサイリスタを絶縁及び気密的に内蔵する容器に使
用される。また、容器の外周面に鍔を設けることによ
り、沿面絶縁距離が増加するので、絶縁性を高めること
ができる。
示したものである。ここでは、釉薬付アルミナ部材は、
例えばサイリスタを絶縁及び気密的に内蔵する容器に使
用される。また、容器の外周面に鍔を設けることによ
り、沿面絶縁距離が増加するので、絶縁性を高めること
ができる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の釉薬付アルミナ部
材の実施の形態の例（実施例）を、図面を参照して説明
する。 （実施例）ここでは、釉薬付アルミナ部材として、サイ
リスタ整流器用の容器を例に挙げる。尚、図１はサイリ
スタ整流器用の容器の縦断面図、図２はその一部を拡大
して示し縦断面図である。
材の実施の形態の例（実施例）を、図面を参照して説明
する。 （実施例）ここでは、釉薬付アルミナ部材として、サイ
リスタ整流器用の容器を例に挙げる。尚、図１はサイリ
スタ整流器用の容器の縦断面図、図２はその一部を拡大
して示し縦断面図である。
【００１９】ａ）図１及び図２に示す様に、本実施例の
サイリスタ整流器用の容器（以下単に釉薬付アルミナ容
器とも記す）１は、基体となるアルミナ製の容器（以下
単にアルミナ容器とも記す）３の表面を、ガラス釉薬５
で覆ったものであり、アルミナ容器３は、筒状体７と、
筒状体７の外周面９に一体に設けられた３枚の鍔１１
ａ，１１ｂ，１１ｃ（１１と総称する）とからなる。
サイリスタ整流器用の容器（以下単に釉薬付アルミナ容
器とも記す）１は、基体となるアルミナ製の容器（以下
単にアルミナ容器とも記す）３の表面を、ガラス釉薬５
で覆ったものであり、アルミナ容器３は、筒状体７と、
筒状体７の外周面９に一体に設けられた３枚の鍔１１
ａ，１１ｂ，１１ｃ（１１と総称する）とからなる。
【００２０】前記アルミナ容器３は、主成分がアルミナ
の部材であり、その組成は、例えばＡｌ2Ｏ3；９２重量
％、ＳｉＯ2；５．８重量％、ＭｇＯ；１．１重量％、
ＣａＯ；１．１重量％からなる。一方、ガラス釉薬５
は、ＳｉＯ2；７７重量％、Ａｌ2Ｏ3；１３重量％、Ｋ2
Ｏ；５重量％、Ｎａ2Ｏ3；１．３重量％、ＣａＯ；３．
０重量％、Ｆｅ2Ｏ3；０．１重量％からなる。
の部材であり、その組成は、例えばＡｌ2Ｏ3；９２重量
％、ＳｉＯ2；５．８重量％、ＭｇＯ；１．１重量％、
ＣａＯ；１．１重量％からなる。一方、ガラス釉薬５
は、ＳｉＯ2；７７重量％、Ａｌ2Ｏ3；１３重量％、Ｋ2
Ｏ；５重量％、Ｎａ2Ｏ3；１．３重量％、ＣａＯ；３．
０重量％、Ｆｅ2Ｏ3；０．１重量％からなる。
【００２１】また、前記筒状体７は、内径φ１５８ｍ
ｍ、外径φ１７０ｍｍ、高さ３０ｍｍ、壁の厚み６ｍｍ
の筒状体である。前記鍔１１は、筒状体７の外周面９か
ら、高さ８ｍｍ、厚み２ｍｍ、鍔１１同士の間隔２．２
ｍｍにて、垂直に突出した突起であり、筒状体７の外周
面９を一周するように環状に設けられている。従って、
筒状体７と第１の鍔１１ａ（図の上方）とは、軸方向の
縦断面が略Ｌ字状となっている。
ｍ、外径φ１７０ｍｍ、高さ３０ｍｍ、壁の厚み６ｍｍ
の筒状体である。前記鍔１１は、筒状体７の外周面９か
ら、高さ８ｍｍ、厚み２ｍｍ、鍔１１同士の間隔２．２
ｍｍにて、垂直に突出した突起であり、筒状体７の外周
面９を一周するように環状に設けられている。従って、
筒状体７と第１の鍔１１ａ（図の上方）とは、軸方向の
縦断面が略Ｌ字状となっている。
【００２２】また、第１の鍔１１ａの根元部分は、Ｒ寸
法（Ｒ１＝１ｍｍ）の隅の丸み（鍔Ｒ部）が形成されて
おり、更にその根元部分を覆うガラス釉薬１１により、
Ｒ寸法（Ｒ２＝２．５ｍｍ）の隅の丸み（釉薬Ｒ部）が
形成されている。尚、筒状体７の外表面９の平坦部にお
けるガラス釉薬５の厚みｔ1は、約０．３ｍｍであり、
鍔１１の（鍔Ｒ部Ｒ１を除く）平均的なガラス釉薬５の
厚みｔ2は、約０．２ｍｍである。
法（Ｒ１＝１ｍｍ）の隅の丸み（鍔Ｒ部）が形成されて
おり、更にその根元部分を覆うガラス釉薬１１により、
Ｒ寸法（Ｒ２＝２．５ｍｍ）の隅の丸み（釉薬Ｒ部）が
形成されている。尚、筒状体７の外表面９の平坦部にお
けるガラス釉薬５の厚みｔ1は、約０．３ｍｍであり、
鍔１１の（鍔Ｒ部Ｒ１を除く）平均的なガラス釉薬５の
厚みｔ2は、約０．２ｍｍである。
【００２３】つまり、この構成により、本実施例の釉薬
付セラミック容器１では、第１の鍔１１ａの根元におけ
るアルミナ容器３のＲ寸法を１、同じ第１の鍔１１の根
元におけるガラス釉薬５のＲ寸法を２の割合とした場合
に、アルミナ容器３にかかる応力を基準値１．００とし
たとき、応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬５の厚みが規制されている。
付セラミック容器１では、第１の鍔１１ａの根元におけ
るアルミナ容器３のＲ寸法を１、同じ第１の鍔１１の根
元におけるガラス釉薬５のＲ寸法を２の割合とした場合
に、アルミナ容器３にかかる応力を基準値１．００とし
たとき、応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬５の厚みが規制されている。
【００２４】ｂ）次に、前記釉薬付セラミック容器１の
製造方法を説明する。まず、前記組成となるように、主
成分のアルミナ粉、アルミナ粉以外の副成分の粉体、バ
インダーを、粉砕、調合し、スプレードライにて粉末と
する。次に、このスプレードライ粉末をラバープレスに
て成形し、その外側を切削して、筒状体から鍔が突出し
た成形体を作製する。
製造方法を説明する。まず、前記組成となるように、主
成分のアルミナ粉、アルミナ粉以外の副成分の粉体、バ
インダーを、粉砕、調合し、スプレードライにて粉末と
する。次に、このスプレードライ粉末をラバープレスに
て成形し、その外側を切削して、筒状体から鍔が突出し
た成形体を作製する。
【００２５】次に、この成形体を焼成し、筒状体７及び
鍔１１からなるアルミナ容器３を作製する。また、これ
とは別に、前記組成となるように、ガラス釉薬の材料を
細かく粉砕して、水に溶かしておく。
鍔１１からなるアルミナ容器３を作製する。また、これ
とは別に、前記組成となるように、ガラス釉薬の材料を
細かく粉砕して、水に溶かしておく。
【００２６】そして、この水に溶かしたガラス釉薬成分
を、前記焼成したアルミナ容器３の表面に吹き付け塗布
する。ここで、ガラス釉薬５の厚み、特に、第１の鍔１
１ａの根元部分におけるガラス釉薬の厚み（従って釉薬
Ｒ部のＲ寸法）の調節は、塗り重ねる回数等により行な
う。
を、前記焼成したアルミナ容器３の表面に吹き付け塗布
する。ここで、ガラス釉薬５の厚み、特に、第１の鍔１
１ａの根元部分におけるガラス釉薬の厚み（従って釉薬
Ｒ部のＲ寸法）の調節は、塗り重ねる回数等により行な
う。
【００２７】その後、大気中にて、１４００℃で、ガラ
ス釉薬５の焼付けを行ない、釉薬付ガラス容器１を完成
する。 ｃ）次に、上述したようにして製造される釉薬付ガラス
容器１の効果を確認するために行った実験例について説
明する。
ス釉薬５の焼付けを行ない、釉薬付ガラス容器１を完成
する。 ｃ）次に、上述したようにして製造される釉薬付ガラス
容器１の効果を確認するために行った実験例について説
明する。
【００２８】最初の実験は、下記条件による応力解析
（線形ＦＥＭ応力解析）、即ちコンピュータによるモデ
ル実験である。 １．入力条件；全体の温度を２００℃から０℃に降下
（荷重条件；２００℃降温） モデラー；MSC/ARIES ソルバー、プリポスト；MSC/PATRAN、ADWANCED FEA ２．使用する材料の物性値；下記表１参照 ３．モデル；軸対称のアルミナ容器 そして、本実験例では、上記条件のもとで、Ｒ１、Ｒ
２、ｔ1、ｔ2を、下記表２の値に設定して、応力比を求
めた。
（線形ＦＥＭ応力解析）、即ちコンピュータによるモデ
ル実験である。 １．入力条件；全体の温度を２００℃から０℃に降下
（荷重条件；２００℃降温） モデラー；MSC/ARIES ソルバー、プリポスト；MSC/PATRAN、ADWANCED FEA ２．使用する材料の物性値；下記表１参照 ３．モデル；軸対称のアルミナ容器 そして、本実験例では、上記条件のもとで、Ｒ１、Ｒ
２、ｔ1、ｔ2を、下記表２の値に設定して、応力比を求
めた。
【００２９】尚、Ｒ１：第１の鍔１１ａの根元部分のＲ
寸法 Ｒ２：第１の鍔１１ａの根元部分を覆うガラス釉薬１１
のＲ寸法 ｔ1：筒状体７の外表面９の平坦部におけるガラス釉薬
５の厚み ｔ2：鍔１１の（鍔Ｒ部Ｒ１を除く）平均的なガラス釉
薬５の厚み 次に、前記モデル実験における釉薬付アルミナ容器を
実際に製造し、その実体に対して、２００℃降下の実験
を行なって、鍔の根元部分におけるワレ等の発生を有無
を調べた。その結果を、同じく下記表２に記す。
寸法 Ｒ２：第１の鍔１１ａの根元部分を覆うガラス釉薬１１
のＲ寸法 ｔ1：筒状体７の外表面９の平坦部におけるガラス釉薬
５の厚み ｔ2：鍔１１の（鍔Ｒ部Ｒ１を除く）平均的なガラス釉
薬５の厚み 次に、前記モデル実験における釉薬付アルミナ容器を
実際に製造し、その実体に対して、２００℃降下の実験
を行なって、鍔の根元部分におけるワレ等の発生を有無
を調べた。その結果を、同じく下記表２に記す。
【００３０】
【表１】
【００３１】
【表２】 この表２からも明かなように、本発明の範囲の試料No.
１〜７は、応力比が１．８以下であるので、第１の鍔の
根元部分に割れが発生することなく好適であった。特
に、応力比が１．５以下のもの（試料No.１〜３，７）
は、アルミナ部材にかかる絶対応力値が十分小さくなる
ので、一層好適である。
１〜７は、応力比が１．８以下であるので、第１の鍔の
根元部分に割れが発生することなく好適であった。特
に、応力比が１．５以下のもの（試料No.１〜３，７）
は、アルミナ部材にかかる絶対応力値が十分小さくなる
ので、一層好適である。
【００３２】それに対して、応力比が１．８を上回る比
較例（試料No.８〜１１）では、第１の鍔の根元部分に
ワレが発生するので、好ましくない。尚、本発明は前記
実施例になんら限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうること
はいうまでもない。
較例（試料No.８〜１１）では、第１の鍔の根元部分に
ワレが発生するので、好ましくない。尚、本発明は前記
実施例になんら限定されるものではなく、本発明の要旨
を逸脱しない範囲において種々の態様で実施しうること
はいうまでもない。
【００３３】
【発明の効果】以上詳述した様に、本発明では、鍔の根
元におけるアルミナ部材のＲ寸法を１、同じ鍔の根元に
おけるガラス釉薬のＲ寸法を２の割合とした場合に、セ
ラミック部材にかかる応力を基準値１．００としたと
き、その応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬の厚みを規制しているので、鍔の根元部分の
ワレの発生を防止することができる。
元におけるアルミナ部材のＲ寸法を１、同じ鍔の根元に
おけるガラス釉薬のＲ寸法を２の割合とした場合に、セ
ラミック部材にかかる応力を基準値１．００としたと
き、その応力が基準値に対して１．８以下となるように
ガラス釉薬の厚みを規制しているので、鍔の根元部分の
ワレの発生を防止することができる。
【００３４】つまり、本発明によって、鍔の根元部分の
残留応力を低減することにより、移送時や使用時等の過
酷な条件においても、釉薬付アルミナ部材は破壊するこ
となく、正常な機能を維持することができる。
残留応力を低減することにより、移送時や使用時等の過
酷な条件においても、釉薬付アルミナ部材は破壊するこ
となく、正常な機能を維持することができる。
【図１】 実施例の釉薬付アルミナ容器を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】 実施例の釉薬付アルミナ容器の要部を拡大し
て示す断面図である。
て示す断面図である。
【図３】 従来技術の説明図である。
１…釉薬付アルミナ容器 ３…アルミナ容器 ５…ガラス釉薬 ７…筒状体 １１ａ，１１ｂ，１１ｃ，１１…鍔
Claims (7)
- 【請求項１】 板状に突出する鍔を有するアルミナ部材
の表面に、ガラス釉薬を焼き付けた釉薬付アルミナ部材
であって、 前記鍔の根元におけるアルミナ部材のＲ寸法を１、同じ
鍔の根元におけるガラス釉薬のＲ寸法を２の割合とした
場合に、前記セラミック部材にかかる応力を基準値１．
００としたとき、前記応力が前記基準値に対して１．８
以下となるように前記ガラス釉薬の厚みを規制したこと
を特徴とする釉薬付アルミナ部材。 - 【請求項２】 前記応力が前記基準値に対して１．５以
下となるように前記ガラス釉薬の厚みを規制したことを
特徴とする前記請求項１に記載の釉薬付アルミナ部材。 - 【請求項３】 前記アルミナ部材において、その鍔の根
元の周囲の縦断面形状が略Ｌ字状であることを特徴とす
る前記請求項１又は２に記載の釉薬付アルミナ部材。 - 【請求項４】 前記アルミナ部材は、筒状体の外周面
に、その外周面を一周するように前記鍔を立設したこと
を特徴とする前記請求項１〜３のいずれかに記載の釉薬
付アルミナ部材。 - 【請求項５】 前記アルミナ部材は、Ａｌ2Ｏ3を８５重
量％以上含むことを特徴とする前記請求項１〜４のいず
れかに記載の釉薬付アルミナ部材。 - 【請求項６】 前記ガラス釉薬は、ＳｉＯ2；６０〜８
０重量％、Ａｌ2Ｏ3；１０〜２０重量％、Ｋ2Ｏ；４〜
１０重量％を含むとともに、残部に、Ｎａ2Ｏ、Ｍｇ
Ｏ、ＣａＯ、Ｆ2Ｏ3のうち少なくとも１種を含むことを
特徴とする前記請求項１〜５のいずれかに記載の釉薬付
アルミナ部材。 - 【請求項７】 前記釉薬付アルミナ部材は、半導体素子
を収容する容器であり、該容器の外周面に環状には、沿
面絶縁距離を大きくするための前記鍔が設けられている
ことを特徴とする前記請求項１〜６のいずれかに記載の
釉薬付アルミナ部材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27049699A JP2001089268A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | 釉薬付アルミナ部材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27049699A JP2001089268A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | 釉薬付アルミナ部材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001089268A true JP2001089268A (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=17487093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27049699A Pending JP2001089268A (ja) | 1999-09-24 | 1999-09-24 | 釉薬付アルミナ部材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001089268A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011121839A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 釉薬層付きセラミック絶縁体 |
-
1999
- 1999-09-24 JP JP27049699A patent/JP2001089268A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011121839A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 釉薬層付きセラミック絶縁体 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050517 |
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| A521 | Written amendment |
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| A911 | Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20060808 |
|
| A912 | Removal of reconsideration by examiner before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20060915 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091106 |