JP2001080921A - ガラスあるいはガラスセラミックスを精製する装置及び方法 - Google Patents
ガラスあるいはガラスセラミックスを精製する装置及び方法Info
- Publication number
- JP2001080921A JP2001080921A JP2000249518A JP2000249518A JP2001080921A JP 2001080921 A JP2001080921 A JP 2001080921A JP 2000249518 A JP2000249518 A JP 2000249518A JP 2000249518 A JP2000249518 A JP 2000249518A JP 2001080921 A JP2001080921 A JP 2001080921A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- purification
- refining
- glass
- skull
- melt
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/18—Stirring devices; Homogenisation
- C03B5/183—Stirring devices; Homogenisation using thermal means, e.g. for creating convection currents
- C03B5/185—Electric means
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/02—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating
- C03B5/021—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture in electric furnaces, e.g. by dielectric heating by induction heating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B5/00—Melting in furnaces; Furnaces so far as specially adapted for glass manufacture
- C03B5/16—Special features of the melting process; Auxiliary means specially adapted for glass-melting furnaces
- C03B5/225—Refining
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/062—Glass compositions containing silica with less than 40% silica by weight
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/089—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron
- C03C3/091—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing boron containing aluminium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/12—Silica-free oxide glass compositions
- C03C3/23—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron
- C03C3/247—Silica-free oxide glass compositions containing halogen and at least one oxide, e.g. oxide of boron containing fluorine and phosphorus
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2211/00—Heating processes for glass melting in glass melting furnaces
- C03B2211/70—Skull melting, i.e. melting or refining in cooled wall crucibles or within solidified glass crust, e.g. in continuous walled vessels
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2211/00—Heating processes for glass melting in glass melting furnaces
- C03B2211/70—Skull melting, i.e. melting or refining in cooled wall crucibles or within solidified glass crust, e.g. in continuous walled vessels
- C03B2211/71—Skull melting, i.e. melting or refining in cooled wall crucibles or within solidified glass crust, e.g. in continuous walled vessels within segmented wall vessels where the molten glass solidifies between and seals the gaps between wall segments
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ガラスあるいはガラスセラミックスを精製す
る装置及び方法を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、この装置は溶融装置
と、その溶融装置の出口端部に接続された少なくとも２
個の精製装置とを具備し、その精製装置の少なくとも１
個が、スカル原理に従って、一部として冷却剤接続体を
構成する複数の金属管から、そして高周波エネルギ−を
溶融装置の内容物に誘導結合するための高周波装置から
作られる。
る装置及び方法を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、この装置は溶融装置
と、その溶融装置の出口端部に接続された少なくとも２
個の精製装置とを具備し、その精製装置の少なくとも１
個が、スカル原理に従って、一部として冷却剤接続体を
構成する複数の金属管から、そして高周波エネルギ−を
溶融装置の内容物に誘導結合するための高周波装置から
作られる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガラスあるいはガ
ラスセラミックスを精製する（ガラス製造技術では、
「ロイテルン」＝「ｔｏ ｐｌａｉｎ」＝「気泡及び／
又は他の欠陥を除去すること」、すなわち「ロイテル
ン」は、精製、洗浄、純化も可能である）装置及び方法
に関する。
ラスセラミックスを精製する（ガラス製造技術では、
「ロイテルン」＝「ｔｏ ｐｌａｉｎ」＝「気泡及び／
又は他の欠陥を除去すること」、すなわち「ロイテル
ン」は、精製、洗浄、純化も可能である）装置及び方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】溶融装置（建浴槽、連続ガラス溶融炉）
は融点範囲と、精製範囲と、持続及び均質化範囲を有す
るガラスの連続精製のために操作される。ガラス溶融物
の実際の脱ガスは、通常、精製ゾ−ンで発生する。酸化
還元反応あるいは蒸発効果が生じると、それが気泡の生
成や、その気泡の膨張につながる。精製ゾ−ンの温度
は、気泡が溶融物の表面まで迅速に上昇でき、その溶融
物に気泡が無くなるように、できるだけ高温になるよう
に選択される。それで、典型的な端部（溶融装置、建浴
槽）は、概して耐熱性セラミックスあるいは白金あるい
は白金合金からなる壁材料のために、１６５０℃の精製
範囲内の最大許容温度に制限される。ガラスを溶融ある
いは精製できる無数の装置が知られている。例えばＥＰ
０，５２８，０２５Ｂ１を参照。その装置は所謂冷却る
つぼ壁付きスカルるつぼに関連している。このるつぼ壁
は、相互間隔を示し、冷媒が流れる垂直金属管のクラウ
ンから作られる。このるつぼには誘導コイルが巻かれ、
このコイルにより高周波エネルギ−をるつぼ内容物に連
結することができる。このようにして、るつぼ内容物を
３０００℃迄に達する極端な高温に上げることができ
る。
は融点範囲と、精製範囲と、持続及び均質化範囲を有す
るガラスの連続精製のために操作される。ガラス溶融物
の実際の脱ガスは、通常、精製ゾ−ンで発生する。酸化
還元反応あるいは蒸発効果が生じると、それが気泡の生
成や、その気泡の膨張につながる。精製ゾ−ンの温度
は、気泡が溶融物の表面まで迅速に上昇でき、その溶融
物に気泡が無くなるように、できるだけ高温になるよう
に選択される。それで、典型的な端部（溶融装置、建浴
槽）は、概して耐熱性セラミックスあるいは白金あるい
は白金合金からなる壁材料のために、１６５０℃の精製
範囲内の最大許容温度に制限される。ガラスを溶融ある
いは精製できる無数の装置が知られている。例えばＥＰ
０，５２８，０２５Ｂ１を参照。その装置は所謂冷却る
つぼ壁付きスカルるつぼに関連している。このるつぼ壁
は、相互間隔を示し、冷媒が流れる垂直金属管のクラウ
ンから作られる。このるつぼには誘導コイルが巻かれ、
このコイルにより高周波エネルギ−をるつぼ内容物に連
結することができる。このようにして、るつぼ内容物を
３０００℃迄に達する極端な高温に上げることができ
る。
【０００３】精製プロセスは特に高温を必要とする。溶
融温度が上昇するにつれて気泡の上昇率（速度）が明ら
かに増大することが試験で分かった。従って、高温精製
は、精製時間を劇的に短縮するか、大きな精製用気泡を
生成するための精製手段（剤）の添加を排除する可能性
を生み出す。むしろ高い（より高い）精製温度が高融点
ガラスの場合には特に望ましいだろう。
融温度が上昇するにつれて気泡の上昇率（速度）が明ら
かに増大することが試験で分かった。従って、高温精製
は、精製時間を劇的に短縮するか、大きな精製用気泡を
生成するための精製手段（剤）の添加を排除する可能性
を生み出す。むしろ高い（より高い）精製温度が高融点
ガラスの場合には特に望ましいだろう。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、精製プロセ
スが強化されるように、冒頭で説明したタイプに応じて
装置と方法をさらに開発する課題を有している。
スが強化されるように、冒頭で説明したタイプに応じて
装置と方法をさらに開発する課題を有している。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この課題は独立クレーム
の特徴により解決される。この発明は以下の点を認識し
た。すなわち、この精製プロセスが１個の装置で行なわ
れるのでなく、連続して（直列で）接続された少なくと
も２個の装置で行なわれれば、かなり有効になるように
設計することができる。また、ガラスの品質は、ガラス
溶融物が第一精製装置で非常に高温まで加熱され、その
後、冷却されるばかりでなく、むしろ第二装置で再加熱
され、それから冷却されれば明らかに改善される。ま
た、２個の精製ゾーンを連続して接続することにより、
そこで生じている二つの精製プロセスが違った条件で生
じる可能性と、それにより別の精製手段を別の場所で使
用する可能性もある。精製装置は立設スカルるつぼある
いは溝（流路）とすることができる。この立設スカルる
つぼは、溝と併用することもできる。この溝はスカルる
つぼの要領で同様に設計することができる。この溝はい
ずれの場合でも冷媒に接続される金属管のクラウンから
作られる。精製装置は、いずれの場合でもＨＦコイル巻
線で完全に囲まれる。その溝の冷却金属管が水平に走っ
ていれば、ＨＦコイルの巻線は、るつぼ軸が水平に走る
ようにその冷却金属管の周囲に配置されることになる。
しかしながら、冷却金属管が立設して配置されると、Ｈ
Ｆコイルの巻線は、るつぼ中心軸が略垂直に走るように
冷却金属管の周囲に配置される。本発明を後に説明する
図面に従って詳細に説明する。
の特徴により解決される。この発明は以下の点を認識し
た。すなわち、この精製プロセスが１個の装置で行なわ
れるのでなく、連続して（直列で）接続された少なくと
も２個の装置で行なわれれば、かなり有効になるように
設計することができる。また、ガラスの品質は、ガラス
溶融物が第一精製装置で非常に高温まで加熱され、その
後、冷却されるばかりでなく、むしろ第二装置で再加熱
され、それから冷却されれば明らかに改善される。ま
た、２個の精製ゾーンを連続して接続することにより、
そこで生じている二つの精製プロセスが違った条件で生
じる可能性と、それにより別の精製手段を別の場所で使
用する可能性もある。精製装置は立設スカルるつぼある
いは溝（流路）とすることができる。この立設スカルる
つぼは、溝と併用することもできる。この溝はスカルる
つぼの要領で同様に設計することができる。この溝はい
ずれの場合でも冷媒に接続される金属管のクラウンから
作られる。精製装置は、いずれの場合でもＨＦコイル巻
線で完全に囲まれる。その溝の冷却金属管が水平に走っ
ていれば、ＨＦコイルの巻線は、るつぼ軸が水平に走る
ようにその冷却金属管の周囲に配置されることになる。
しかしながら、冷却金属管が立設して配置されると、Ｈ
Ｆコイルの巻線は、るつぼ中心軸が略垂直に走るように
冷却金属管の周囲に配置される。本発明を後に説明する
図面に従って詳細に説明する。
【０００６】
【発明の実施の形態】４つの事例の全てにおいて、溶融
装置１がセラミック材料から成る壁で仕切られた端部
（建浴槽）である。接続管２は溶融装置１と産出側に接
続された精製装置３との間の導電接続を構成している。
明かなように、接続管２は溶融装置１のその底部から出
て、第一精製装置３の底部に入り込む。その第一精製装
置３はスカルるつぼの様に設計される。この装置はここ
では詳細に図示していない垂直、液冷金属管のクラウン
により作られる。その金属管のクラウンは、高周波装置
の巻線３．１によって囲まれている。上記のような接続
管２の配置は、図１及び図２による実施形態では以下の
利点となる。すなわち、溶融物は溶融装置１の底部で比
較的低温である。スカルるつぼ３の底部にその溶融物が
入った後、その溶融物はＨＦ装置３．１で加熱され、上
昇する。その後、溶融物はその上部で非常に高温となる
ので、溶融物の低粘度のために気泡が破け、出る可能性
がある。
装置１がセラミック材料から成る壁で仕切られた端部
（建浴槽）である。接続管２は溶融装置１と産出側に接
続された精製装置３との間の導電接続を構成している。
明かなように、接続管２は溶融装置１のその底部から出
て、第一精製装置３の底部に入り込む。その第一精製装
置３はスカルるつぼの様に設計される。この装置はここ
では詳細に図示していない垂直、液冷金属管のクラウン
により作られる。その金属管のクラウンは、高周波装置
の巻線３．１によって囲まれている。上記のような接続
管２の配置は、図１及び図２による実施形態では以下の
利点となる。すなわち、溶融物は溶融装置１の底部で比
較的低温である。スカルるつぼ３の底部にその溶融物が
入った後、その溶融物はＨＦ装置３．１で加熱され、上
昇する。その後、溶融物はその上部で非常に高温となる
ので、溶融物の低粘度のために気泡が破け、出る可能性
がある。
【０００７】図１による実施形態では、溝４の形態の第
二精製装置が第一精製装置３の産出側に接続されてい
る。このように横たわっている（水平）精製装置４が立
設の精製装置に続いている。溝４がまたスカルるつぼの
様に設計されている。従って、その溝４は形状が円形に
できる水平に走る金属管のクラウンから構成される。こ
の金属管のクラウンは、またＨＦコイルの巻線４．１で
囲まれる。そのため、コイル巻線の巻線軸も水平に走
る。スカルるつぼ３からスカル溝４へ溶融物を移す方法
はここでは図示しない。この溶融物はスカル溝４の上端
縁部を超えて、例えばダムを超えて流れるか、スカル溝
４の下端縁部を超えて、例えば接続管を通して同様に流
れることが可能である。気泡の形態の酸素（所謂、酸素
泡立て）を２個の精製装置３、４の間（矢印５を参照の
こと）に導入することになる可能性がある。また、上記
の代わり、あるいは、それに付加する形で活性精製剤を
導入する（矢印６を参照のこと）ことになる可能性があ
る。
二精製装置が第一精製装置３の産出側に接続されてい
る。このように横たわっている（水平）精製装置４が立
設の精製装置に続いている。溝４がまたスカルるつぼの
様に設計されている。従って、その溝４は形状が円形に
できる水平に走る金属管のクラウンから構成される。こ
の金属管のクラウンは、またＨＦコイルの巻線４．１で
囲まれる。そのため、コイル巻線の巻線軸も水平に走
る。スカルるつぼ３からスカル溝４へ溶融物を移す方法
はここでは図示しない。この溶融物はスカル溝４の上端
縁部を超えて、例えばダムを超えて流れるか、スカル溝
４の下端縁部を超えて、例えば接続管を通して同様に流
れることが可能である。気泡の形態の酸素（所謂、酸素
泡立て）を２個の精製装置３、４の間（矢印５を参照の
こと）に導入することになる可能性がある。また、上記
の代わり、あるいは、それに付加する形で活性精製剤を
導入する（矢印６を参照のこと）ことになる可能性があ
る。
【０００８】スカル溝４には冷却溝７が続く。冷却溝７
には攪拌器８．１と排出管８．２を備えた状態調節装置
８が続く。図１の装置でのプロセスは以下再度詳細に説
明する。そこで第一精製装置３を「ポット」（ドイツ語
「Ｔｏｐｆ」＝装置、るつぼ、但し、これらの概念を上
では別のドイツ語で表現した）と呼び、第二精製装置４
は「溝」と呼ぶ。ポットの温度範囲でのガスの最大放出
を伴う適宜選択された酸化還元あるいは蒸発精製剤によ
る化学精製と、物理精製効果との併用により、高温で低
粘度に基づいて気泡の高速上昇や高伝達が行なわれるこ
とになる。ガラスの本来の物理精製は同等の温度で溝内
で起き、その物理精製が強力な伝達と低い浴深さの組み
合わせによりここでは特に有効である。同等の精製温度
をポットと溝で使用すると、第一精製ステップの最後
に、気泡がＨＦ精製前より小さい約１／１０００にな
る。他の脱ガス処理が第二精製室で（を介して）生じ、
その脱ガス処理は、第一ゾーンによる精製剤の消耗によ
り約１／１０ないし１／１００だけに気泡数を減少させ
るが、高融点温度と低粘度で重要な役割を果たす物理精
製を積極的効果としてなお含んでいる。
には攪拌器８．１と排出管８．２を備えた状態調節装置
８が続く。図１の装置でのプロセスは以下再度詳細に説
明する。そこで第一精製装置３を「ポット」（ドイツ語
「Ｔｏｐｆ」＝装置、るつぼ、但し、これらの概念を上
では別のドイツ語で表現した）と呼び、第二精製装置４
は「溝」と呼ぶ。ポットの温度範囲でのガスの最大放出
を伴う適宜選択された酸化還元あるいは蒸発精製剤によ
る化学精製と、物理精製効果との併用により、高温で低
粘度に基づいて気泡の高速上昇や高伝達が行なわれるこ
とになる。ガラスの本来の物理精製は同等の温度で溝内
で起き、その物理精製が強力な伝達と低い浴深さの組み
合わせによりここでは特に有効である。同等の精製温度
をポットと溝で使用すると、第一精製ステップの最後
に、気泡がＨＦ精製前より小さい約１／１０００にな
る。他の脱ガス処理が第二精製室で（を介して）生じ、
その脱ガス処理は、第一ゾーンによる精製剤の消耗によ
り約１／１０ないし１／１００だけに気泡数を減少させ
るが、高融点温度と低粘度で重要な役割を果たす物理精
製を積極的効果としてなお含んでいる。
【０００９】この二重配置の精製効果が、第一のの精製
剤がポットで温度Ｔ（１）で活性化し、第二の精製剤が
溝で、Ｔ（１）がＴ（２）より低いＴ（２）の温度で活
性化される２種類の違った精製剤の添加によりさらに増
大する。このための実施例がアルミノ珪酸塩ガラスへの
酸化錫と酸化チタンの添加である。酸化錫の最適な精製
温度は約１８００ないし１９００℃である。この温度範
囲では酸化チタン（ＴｉＯ２）からのガス放出はまだな
い。酸化チタンは２０００ないし２１００℃で精製す
る。精製温度が１８５０℃までの第一精製部分で、そし
て２１００℃までの第二精製部分で調節されれば、化学
精製と物理精製に関して直列に接続された両方の精製個
別装置（ユニット）を最適な方法で利用することができ
る。
剤がポットで温度Ｔ（１）で活性化し、第二の精製剤が
溝で、Ｔ（１）がＴ（２）より低いＴ（２）の温度で活
性化される２種類の違った精製剤の添加によりさらに増
大する。このための実施例がアルミノ珪酸塩ガラスへの
酸化錫と酸化チタンの添加である。酸化錫の最適な精製
温度は約１８００ないし１９００℃である。この温度範
囲では酸化チタン（ＴｉＯ２）からのガス放出はまだな
い。酸化チタンは２０００ないし２１００℃で精製す
る。精製温度が１８５０℃までの第一精製部分で、そし
て２１００℃までの第二精製部分で調節されれば、化学
精製と物理精製に関して直列に接続された両方の精製個
別装置（ユニット）を最適な方法で利用することができ
る。
【００１０】溶融るつぼ、あるいはその溶融るつぼの複
数の部分が精製反応に好適な温度レベルにあり、それで
溶融装置１がカスケード精製の第一段階とすでに考えら
れれば、基本的には精製効果は低粘度のガラスの場合、
溶融装置１ですでに発生するだろう。しかし、この装置
は好適でなく、２種類以上の真の精製個別装置付き装置
は以下の理由により溶融るつぼから離された。すなわ
ち、流れの状態（バッチ装入（固体混合物チャージ）、
ガラス排出（ドレイン））により、ガラス塊の動きが気
泡の上昇運動に対して作用し、そして上昇する気泡を再
三下げる。さらに、この場合、気泡は低温バッチ面の突
き抜けが必要で、それは通常うまくゆかず、またあるい
は、溶融精製（クリーンで、清浄化され、精製される）
するのにしばらく時間がかかり、それが高い処理量に反
し、従って不経済である。高粘度のガラスの場合、浴深
さが高粘度のガラスの気泡が上昇するのにはあまりにも
深く、そのため低上昇速度となるため、良好な精製はい
ずれの場合でも期待することができない。
数の部分が精製反応に好適な温度レベルにあり、それで
溶融装置１がカスケード精製の第一段階とすでに考えら
れれば、基本的には精製効果は低粘度のガラスの場合、
溶融装置１ですでに発生するだろう。しかし、この装置
は好適でなく、２種類以上の真の精製個別装置付き装置
は以下の理由により溶融るつぼから離された。すなわ
ち、流れの状態（バッチ装入（固体混合物チャージ）、
ガラス排出（ドレイン））により、ガラス塊の動きが気
泡の上昇運動に対して作用し、そして上昇する気泡を再
三下げる。さらに、この場合、気泡は低温バッチ面の突
き抜けが必要で、それは通常うまくゆかず、またあるい
は、溶融精製（クリーンで、清浄化され、精製される）
するのにしばらく時間がかかり、それが高い処理量に反
し、従って不経済である。高粘度のガラスの場合、浴深
さが高粘度のガラスの気泡が上昇するのにはあまりにも
深く、そのため低上昇速度となるため、良好な精製はい
ずれの場合でも期待することができない。
【００１１】二重るつぼ方式での精製の改善は、溶融物
が第二精製段階に入る前に還元された精製剤を高原子価
に酸化することによっても行なわれる。この改善は例え
ば酸素中での泡立てで行なうことが可能である。高い原
子価への酸化時にガラス溶融物の温度が第二精製段階に
再度上昇する前に、より低い温度に下がれば有利であ
る。さらに第二精製段階の開始前に活性精製剤を溶融物
中に供給することによっても可能である。この場合、第
二精製段階において第一精製段階の場合と同じ気泡の減
少が見られる。すなわち、気泡の数が、同じ率で２回減
少されると、これは例えば、１つの精製部分で１／１０
３の倍率での減少では、気泡数の総減少が１／１０６を
意味する。図２に係る装置では、第二精製装置４もまた
スカルるつぼである。ここでも酸素泡立ての可能性−矢
印５、あるいは活性精製剤の添加‐矢印６、の可能性が
ある。冷却溝がここでも備えられ、さらに、攪拌器８．
１と排出管８．２付き状態調節装置も備えられている。
が第二精製段階に入る前に還元された精製剤を高原子価
に酸化することによっても行なわれる。この改善は例え
ば酸素中での泡立てで行なうことが可能である。高い原
子価への酸化時にガラス溶融物の温度が第二精製段階に
再度上昇する前に、より低い温度に下がれば有利であ
る。さらに第二精製段階の開始前に活性精製剤を溶融物
中に供給することによっても可能である。この場合、第
二精製段階において第一精製段階の場合と同じ気泡の減
少が見られる。すなわち、気泡の数が、同じ率で２回減
少されると、これは例えば、１つの精製部分で１／１０
３の倍率での減少では、気泡数の総減少が１／１０６を
意味する。図２に係る装置では、第二精製装置４もまた
スカルるつぼである。ここでも酸素泡立ての可能性−矢
印５、あるいは活性精製剤の添加‐矢印６、の可能性が
ある。冷却溝がここでも備えられ、さらに、攪拌器８．
１と排出管８．２付き状態調節装置も備えられている。
【００１２】図３は興味ある変形装置を示している。図
では溶融装置１に同じスカル設計の第二精製溝３ばかり
でなくスカル設計付き第一精製溝４が続いている。他の
個別装置は図１と図２に係る装置と略同様である。活性
精製剤の供給は、図１ないし図３で示したように、高含
有量の活性精製剤を備えた適切なガラスがその場で製造
され直接供給されるるつぼによって行なわれる。勿論、
ガラスは、先ず、るつぼの代わりに溶融物内の同じ場所
に吊るすことが可能な棒、あるいは、他の適切な形態で
注入し、そして連続的に供給することができる。精製用
ガラスにかけられる要件は以下の通りである。
では溶融装置１に同じスカル設計の第二精製溝３ばかり
でなくスカル設計付き第一精製溝４が続いている。他の
個別装置は図１と図２に係る装置と略同様である。活性
精製剤の供給は、図１ないし図３で示したように、高含
有量の活性精製剤を備えた適切なガラスがその場で製造
され直接供給されるるつぼによって行なわれる。勿論、
ガラスは、先ず、るつぼの代わりに溶融物内の同じ場所
に吊るすことが可能な棒、あるいは、他の適切な形態で
注入し、そして連続的に供給することができる。精製用
ガラスにかけられる要件は以下の通りである。
【００１３】＊精製用ガラスに存在する活性精製剤は、
酸化還元精製剤（Ａｓ２Ｏ５、Ｓｂ ２Ｏ５、ＳｎＯ２、
ＴｉＯ２及びその他）あるいは蒸発精製剤（ＮａＣｌ、
ＢａＣｌ２、ＺｎＯ及びその他）でよい。＊精製用ガラ
スは、精製されるガラスにも含有されているか、または
その中で問題を起こさない成分を含有していてもよい。
１：２０ないし１：１００の希釈率で精製用ガラスが、
精製されるガラスに供給されるために、完成品の特性に
それ程影響を与えない濃度で完成品内に存在しようか
ら、少数の成分が絶対的に許容されうることになる。＊
精製用ガラスは、射出温度で精製されるガラスと混和さ
れる必要がある。＊高温は一般に精製剤の好ましくない
早期消耗を招くために、精製用ガラスが低温で溶ける必
要がある。これは、とりわけ、高い比率のアルカリ酸化
物、酸化硼素あるいは弗素でもたらされる。特にアルカ
リ酸化物は、ＡｓとＳｂの場合、高原子価酸化状態を安
定化させる他の利点があり、弗素は蒸発精製の他の利点
がある。
酸化還元精製剤（Ａｓ２Ｏ５、Ｓｂ ２Ｏ５、ＳｎＯ２、
ＴｉＯ２及びその他）あるいは蒸発精製剤（ＮａＣｌ、
ＢａＣｌ２、ＺｎＯ及びその他）でよい。＊精製用ガラ
スは、精製されるガラスにも含有されているか、または
その中で問題を起こさない成分を含有していてもよい。
１：２０ないし１：１００の希釈率で精製用ガラスが、
精製されるガラスに供給されるために、完成品の特性に
それ程影響を与えない濃度で完成品内に存在しようか
ら、少数の成分が絶対的に許容されうることになる。＊
精製用ガラスは、射出温度で精製されるガラスと混和さ
れる必要がある。＊高温は一般に精製剤の好ましくない
早期消耗を招くために、精製用ガラスが低温で溶ける必
要がある。これは、とりわけ、高い比率のアルカリ酸化
物、酸化硼素あるいは弗素でもたらされる。特にアルカ
リ酸化物は、ＡｓとＳｂの場合、高原子価酸化状態を安
定化させる他の利点があり、弗素は蒸発精製の他の利点
がある。
【００１４】この種のガラスの実施例を以下に示す。 実施例１： Ｂ２Ｏ３ ６．６％ Ａｌ２Ｏ３ ５．５％ ＣａＯ ２７％ ＢａＯ ２３．０％ Ｋ２Ｏ １％ Ａｓ２Ｏ３ ２３．４％ Ｆ２‐Ｏ １３．５％ 必要ならＡｓをＳｂに代えることができる。しかしなが
ら、必要ならば他の成分を再調整しなければならない。
ら、必要ならば他の成分を再調整しなければならない。
【００１５】実施例２（個々の酸化物の濃度が変化する
同じ系からのガラスの幾つかがここでは整理されてい
る。示された範囲は、具体的な種類の組成からのもので
あり、何ら基本的な制約を示すものではない。）： ＳｉＯ２ ４５〜５４％ Ｂ２Ｏ３ １４〜２０％ Ａｌ２Ｏ３ １〜３％ ＺｎＯ ０〜５％ Ｎａ２Ｏ ０〜３％ Ｋ２Ｏ ５〜１３％ Ｓｂ２Ｏ３ １９〜２２％
同じ系からのガラスの幾つかがここでは整理されてい
る。示された範囲は、具体的な種類の組成からのもので
あり、何ら基本的な制約を示すものではない。）： ＳｉＯ２ ４５〜５４％ Ｂ２Ｏ３ １４〜２０％ Ａｌ２Ｏ３ １〜３％ ＺｎＯ ０〜５％ Ｎａ２Ｏ ０〜３％ Ｋ２Ｏ ５〜１３％ Ｓｂ２Ｏ３ １９〜２２％
【００１６】実施例３： ＳｉＯ２ １〜３％ Ｂ２Ｏ３ ０〜３％ ＢａＯ ３６〜３８％ Ｌａ２Ｏ３ ０〜２％ ＺｒＯ２ ４〜８％ ＴｉＯ２ ５０〜５４％ 引用されたガラスは、単なる典型的な実施形態と理解さ
れよう。他の複数のガラスも、この方法に何ら基本的な
変更を加えることなく引用されたガラスの代わりに使用
できると考えられる。ガラス品質がそう要求すれば、一
連のいずれか望ましい数の精製るつぼが考えられ、望ま
れる程の多くの良好なガラス品質の調整がこのように可
能である。他の全ての精製段階が品質の改良を行なうだ
けでなく、それに伴う費用がかかるため、ここでは最適
要因は費用効果率である。しかし、いづれの要求特性も
精製カスケ−ドの考え方で調節することができる。
れよう。他の複数のガラスも、この方法に何ら基本的な
変更を加えることなく引用されたガラスの代わりに使用
できると考えられる。ガラス品質がそう要求すれば、一
連のいずれか望ましい数の精製るつぼが考えられ、望ま
れる程の多くの良好なガラス品質の調整がこのように可
能である。他の全ての精製段階が品質の改良を行なうだ
けでなく、それに伴う費用がかかるため、ここでは最適
要因は費用効果率である。しかし、いづれの要求特性も
精製カスケ−ドの考え方で調節することができる。
【００１７】上記全ての場合では、精製個別装置壁が、
１０ｋＨｚないし５ＭＨｚの周波数範囲の電磁線に対し
て通過性であるような性質を有する液冷金属管、あるい
は空冷セラミック部品から作られる。精製ゾーンは高周
波エネルギーを溶融物に照射することにより加熱され
る。この種のガラスと個別装置（集成装置）の大きさに
よれば、適切な周波数範囲が１０ｋＨｚないし５ＭＨｚ
の範囲にある。５０ないし６００リットルの精製体積で
試験したガラスに対しては、１００ｋＨｚないし１ＭＨ
ｚの周波数範囲が好ましい範囲であることが分かった。
１０ｋＨｚないし５ＭＨｚの周波数範囲の電磁線に対し
て通過性であるような性質を有する液冷金属管、あるい
は空冷セラミック部品から作られる。精製ゾーンは高周
波エネルギーを溶融物に照射することにより加熱され
る。この種のガラスと個別装置（集成装置）の大きさに
よれば、適切な周波数範囲が１０ｋＨｚないし５ＭＨｚ
の範囲にある。５０ないし６００リットルの精製体積で
試験したガラスに対しては、１００ｋＨｚないし１ＭＨ
ｚの周波数範囲が好ましい範囲であることが分かった。
【００１８】図４の実施態様は溶融装置１を再度示して
いる。精製溝３が溶融装置１に接続されている。精製溝
はＨＦコイルの巻線３．１で囲まれている。この実施形
態の独特の特徴は、溶融装置に配置されたバッチ（固形
混合物）がブリッジ壁１０で保持されることである。
いる。精製溝３が溶融装置１に接続されている。精製溝
はＨＦコイルの巻線３．１で囲まれている。この実施形
態の独特の特徴は、溶融装置に配置されたバッチ（固形
混合物）がブリッジ壁１０で保持されることである。
【図１】溶融装置、立設精製るつぼ１及び精製溝２を備
えた装置を示す図である。
えた装置を示す図である。
【図２】溶融装置と２個の立設精製るつぼを備えた装置
を示す図である。
を示す図である。
【図３】溶融装置と２本の精製溝を備えた装置を示す図
である。
である。
【図４】溶融装置とそれに接続された精製溝を備えた装
置を示す図である
置を示す図である
１…溶融装置、２…接続ライン、３…精製装置、４…
溝、７…冷却溝、８…状態調節装置、８．１…攪拌器、
８．２…排出管。
溝、７…冷却溝、８…状態調節装置、８．１…攪拌器、
８．２…排出管。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ヒルデガルト レーマー ドイツ、61184 カルベン、ハイデガッセ ９ (72)発明者 ウーヴェ コルベルク ドイツ、55252 マインツ−カステル フ レッサー ヴェーク １ (72)発明者 シュテファン シュミット ドイツ、55271 シュタデッケン−エルシ ャイム モーツァルトシュトラーセ 35
Claims (14)
- 【請求項１】 溶融装置（１）と、 前記溶融装置（１）の出口端部に接続された少なくとも
２個の精製装置（３，４）とを具備し、 前記精製装置の少なくとも１個が、スカル原理に従っ
て、冷却剤接続体を含む複数の金属管から、および高周
波エネルギ−を前記溶融装置の内容物に誘導結合するた
めの高周波装置から作られることを特徴とするガラスと
ガラスセラミックスを精製する装置。 - 【請求項２】 前記精製装置（３，４）の少なくとも１
個が立設スカルるつぼであることを特徴とする請求項１
に記載の装置。 - 【請求項３】 前記溶融装置（１）とそれに続く精製装
置（３）との間の接続管（２）は、前記それに続く精製
装置（３）の底部に入り込むことを特徴とする請求項１
に記載の装置。 - 【請求項４】 連続する２個の精製装置（３，４）間の
接続管が、上流精製装置（３）の上部に接続され、次の
上流精製装置（４）の底部に入り込むことを特徴とする
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項５】 前記精製装置（３，４）の少なくとも１
個は、横たわる（水平）溝として設計されることを特徴
とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の装置。 - 【請求項６】 スカル溝（３，４）として設計された前
記精製装置の少なくとも１個の高周波コイルの巻線
（３．１，４．１）は、水平巻線軸を有することを特徴
とする請求項５に記載の装置。 - 【請求項７】 物質を先ずメルトダウンし、 精製が二段階以上からなる精製カスケードで行なわれ、
その精製は、高周波エネルギーで照射することにより溶
融物を誘導加熱を用いてスカル原理に従ってこれらの段
階の少なくとも一段階で生じることを特徴とするガラス
あるいはガラスセラミックスの精製方法。 - 【請求項８】 前記精製は、１６００℃ないし２８００
℃の範囲、好ましくは１８００℃ないし２４００℃の範
囲の温度で、個々の精製装置で生じることを特徴とする
請求項７に記載の方法。 - 【請求項９】 前記精製は、溶融物が下から上方に流れ
るスカルるつぼで生じることを特徴とする請求項７ある
いは８に記載の方法。 - 【請求項１０】 前記精製はスカル原理に従って第一精
製段階で実施され、溶融物が下から上方に流れ、次に、
その溶融物が第二精製段階で高周波エネルギーで加熱さ
れた水平スカル精製溝を流れることを特徴とする請求項
７ないし９のいづれか１項に記載の方法。 - 【請求項１１】 前記溶融物は、２本の連続接続精製溝
を誘導されることを特徴とする請求項７あるいは８に記
載の方法。 - 【請求項１２】 酸化還元精製手段を高原子価に酸化
し、後続の精製段階のためにそれを（それらを）再活性
するために、酸素泡立てが個々の精製段階時あるいはそ
の間で行われることを特徴とする請求項７ないし１１の
いづれか１項に記載の方法。 - 【請求項１３】 活性精製手段が前記個々の精製段階時
あるいはその間で供給されることを特徴とする請求項７
ないし１２のいづれか１項に記載の方法。 - 【請求項１４】 ２種類の別の精製手段ＡとＢが溶融物
に供給され、 精製手段Ａが前記第一精製段階で活性化され、 精製手段Ｂが前記第二精製段階で活性化され、 Ａからの精製ガスの放出がＢの場合より低温度で生じ、 前記第一精製段階が、Ａからの精製ガスの最大放出の温
度範囲で行なわれ、 前記第二精製段階が、Ｂからの精製ガスの最大放出の温
度範囲で行なわれることを特徴とする請求項７ないし１
２のいづれか１項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19939773.2 | 1999-08-21 | ||
| DE19939773A DE19939773C2 (de) | 1999-08-21 | 1999-08-21 | Vorrichtung und Verfahren für das Läutern von Gläsern oder Glaskeramiken |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001080921A true JP2001080921A (ja) | 2001-03-27 |
Family
ID=7919209
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000249518A Pending JP2001080921A (ja) | 1999-08-21 | 2000-08-21 | ガラスあるいはガラスセラミックスを精製する装置及び方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6588234B1 (ja) |
| EP (1) | EP1078890B1 (ja) |
| JP (1) | JP2001080921A (ja) |
| DE (2) | DE19939773C2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008044838A (ja) * | 2006-08-12 | 2008-02-28 | Schott Ag | ガラス成分の化学的還元が回避可能なガラス製造方法及びシステム |
| KR101508050B1 (ko) | 2012-04-06 | 2015-04-07 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 유리판의 제조 방법 및 유리판의 제조 장치 |
| JP2015214477A (ja) * | 2007-04-03 | 2015-12-03 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス製造プロセスにおいてガス状含有物を減少させる方法 |
Families Citing this family (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10003948B4 (de) * | 2000-01-29 | 2006-03-23 | Schott Ag | Verfahren zum Erschmelzen, Läutern und Homogenisieren von Glasschmelzen |
| DE10041759A1 (de) * | 2000-08-25 | 2002-03-28 | Schott Glas | Vorrichtung zum Homogenisieren einer Glasschmelze |
| DE10041757C1 (de) | 2000-08-25 | 2002-02-21 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zum Läutern von Glas |
| DE10042771B4 (de) * | 2000-08-31 | 2004-02-12 | Schott Glas | Verfahren zur Steuerung und Einstellung des Redoxzustandes von Redox-Läutermitteln in einer Glasschmelze |
| DE10138109A1 (de) * | 2001-08-03 | 2002-09-12 | Schott Glas | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von optischen Gläsern |
| DE10138108B4 (de) * | 2001-08-03 | 2005-02-24 | Schott Ag | Verfahren zur Verminderung der Blasenbildung beim Herstellen von Gläsern |
| DE10244807B4 (de) | 2001-10-02 | 2011-07-14 | Schott Ag, 55122 | Verfahren und Vorrichtung zum schnellen Einschmelzen insbesondere hochreiner aggressiver und hochschmelzender Gläser |
| CN1278964C (zh) * | 2001-10-02 | 2006-10-11 | 肖特股份公司 | 用于使物质无沾染地熔化的装置和方法 |
| DE10237763B4 (de) * | 2002-08-17 | 2006-01-12 | Schott Ag | Verfahren zur Herstellung unlösbarer stoffschlüssiger Verbindungen von Bauteilen aus oxid-dispergierten-(ODS)-metallischen Werkstoffen durch Verschweißen und durch das Verfahren hergestellte Bauteile |
| DE10304973B4 (de) * | 2003-02-06 | 2006-08-17 | Schott Ag | Vorrichtungen, Regelvorrichtung und Regelverfahren für die Läuterung von Glas |
| DE10333298A1 (de) * | 2003-07-22 | 2005-07-21 | Schott Ag | Läuterverfahren, Läutermittel und -vorrichtung für Glasschmelzen |
| DE10333869B4 (de) * | 2003-07-24 | 2008-07-03 | Schott Ag | Verfahren zum Auslegen einer Anlage zum Schmelzen und/oder Läutern von Glas |
| DE102006003521B4 (de) | 2006-01-24 | 2012-11-29 | Schott Ag | Vorrichtung und Verfahren zum kontinuierlichen Läutern von Gläsern mit hohen Reinheitsanforderungen |
| DE102006003535A1 (de) * | 2006-01-24 | 2007-08-02 | Schott Ag | Verfahren zur Temperaturbeeinflussung einer Schmelze |
| CN103113022B (zh) * | 2008-02-26 | 2016-09-28 | 康宁股份有限公司 | 用于硅酸盐玻璃的澄清剂 |
| JP2011513183A (ja) * | 2008-03-03 | 2011-04-28 | サン−ゴバン グラス フランス | ガラスの製造方法 |
| US20150107306A1 (en) * | 2013-10-18 | 2015-04-23 | Corning Incorporated | Apparatus and methods for producing glass ribbon |
| US10858275B2 (en) | 2016-06-16 | 2020-12-08 | Usb I, Llc | Apparatus and process for producing fiber from igneous rock |
| US11370686B2 (en) * | 2019-10-01 | 2022-06-28 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Fining submerged combustion glass |
| US11912608B2 (en) | 2019-10-01 | 2024-02-27 | Owens-Brockway Glass Container Inc. | Glass manufacturing |
| DE102020106050A1 (de) * | 2020-03-05 | 2021-09-09 | Schott Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Schmelzen und Läutern von Glas, Glaskeramik oder insbesondere von zu Glaskeramik keramisierbarem Glas sowie verfahrensgemäß hergestelltes Glas oder Glaskeramik |
Family Cites Families (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE234853C (ja) | ||||
| US2465283A (en) * | 1946-06-17 | 1949-03-22 | Glass Fibers Inc | Melting and drawing furnace |
| FR1101090A (fr) * | 1953-06-11 | 1955-09-27 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen | Affinage du verre |
| US3244495A (en) * | 1962-07-02 | 1966-04-05 | Bausch & Lomb | Regulated flow glass melting furnace |
| NL6402629A (ja) * | 1964-03-13 | 1965-09-14 | ||
| DE2403476B2 (de) * | 1974-01-25 | 1977-11-24 | Sorg Gmbh & Co Kg, 8771 Pflochsbach | Verfahren zum faerben eines glasstromes und glasfaerbezelle zur durchfuehrung des verfahrens |
| GB1488376A (en) * | 1974-08-06 | 1977-10-12 | Standard Telephones Cables Ltd | Glass |
| US3951635A (en) * | 1974-11-29 | 1976-04-20 | Owens-Illinois, Inc. | Method for rapidly melting and refining glass |
| US4195982A (en) * | 1978-12-26 | 1980-04-01 | Western Electric Company, Incorporated | Method for extruding articles |
| JPS5795834A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-14 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Manufacture of glass by high frequency induction heating |
| FR2531062A2 (fr) * | 1981-11-06 | 1984-02-03 | Saphymo Stel | Dispositif de fusion par induction directe de substances dielectriques du genre verres ou emaux |
| US4504302A (en) * | 1982-05-24 | 1985-03-12 | Carman Justice N | Homogenizing apparatus glass making furnace and method of homogenizing glass |
| DD234853A1 (de) * | 1984-11-23 | 1986-04-16 | Wissenschaftlich Tech Betrieb | Direkt elektrisch beheiztes glasfuehrendes auslaufrohr fuer speiser |
| US4726831A (en) * | 1987-01-12 | 1988-02-23 | Corning Glass Works | Molten glass delivery and conditioning system |
| US4780121A (en) * | 1987-04-03 | 1988-10-25 | Ppg Industries, Inc. | Method for rapid induction heating of molten glass or the like |
| EP0528025B1 (fr) * | 1991-03-05 | 1996-06-12 | Commissariat A L'energie Atomique | Four de fusion en continu de melanges d'oxydes par induction directe a haute frequence a temps d'affinage tres court et a faible consommation en energie |
| JP2767187B2 (ja) * | 1993-07-06 | 1998-06-18 | 動力炉・核燃料開発事業団 | ガラス溶融処理方法 |
| US5922097A (en) * | 1996-06-12 | 1999-07-13 | Praxair Technology, Inc. | Water enhanced fining process a method to reduce toxic emissions from glass melting furnaces |
| JP3861460B2 (ja) * | 1998-06-26 | 2006-12-20 | 旭硝子株式会社 | 溶融ガラスの減圧脱泡方法 |
-
1999
- 1999-08-21 DE DE19939773A patent/DE19939773C2/de not_active Expired - Lifetime
-
2000
- 2000-08-16 DE DE50011950T patent/DE50011950D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-16 EP EP00117617A patent/EP1078890B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-08-18 US US09/641,993 patent/US6588234B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-08-21 JP JP2000249518A patent/JP2001080921A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008044838A (ja) * | 2006-08-12 | 2008-02-28 | Schott Ag | ガラス成分の化学的還元が回避可能なガラス製造方法及びシステム |
| JP2015214477A (ja) * | 2007-04-03 | 2015-12-03 | コーニング インコーポレイテッド | ガラス製造プロセスにおいてガス状含有物を減少させる方法 |
| KR101508050B1 (ko) | 2012-04-06 | 2015-04-07 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 유리판의 제조 방법 및 유리판의 제조 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1078890A1 (de) | 2001-02-28 |
| DE19939773C2 (de) | 2003-06-18 |
| US6588234B1 (en) | 2003-07-08 |
| DE19939773A1 (de) | 2001-02-22 |
| DE50011950D1 (de) | 2006-02-02 |
| EP1078890B1 (de) | 2005-12-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001080921A (ja) | ガラスあるいはガラスセラミックスを精製する装置及び方法 | |
| KR920003938B1 (ko) | 유리의 용융, 정제와 균질화 방법 및 장치 | |
| JP5361157B2 (ja) | ガラス成分の化学的還元が回避可能なガラス製造方法及びシステム | |
| KR100744211B1 (ko) | 용해 유리를 정제하기 위한 방법 | |
| JP2007126296A (ja) | 光学ガラスの製造方法及び製造装置 | |
| TW527330B (en) | Process for producing aluminosilicate glasses | |
| US2512761A (en) | Electric glass furnace | |
| JP6010178B2 (ja) | ガラス溶融物からガラス製品を生産する方法および装置 | |
| JP2008105860A (ja) | ガラスの製造方法 | |
| JPS5837255B2 (ja) | ガラスを均質化し清澄する方法及び装置 | |
| JP7438285B2 (ja) | ガラス溶融物の表面上の気泡の寿命を減少させる方法 | |
| TW201711967A (zh) | 用於增進的均質性之玻璃熔融系統及方法 | |
| JP2005119959A5 (ja) | ||
| JP2001294428A (ja) | ガラス溶融物の酸素精製方法及び装置 | |
| TW201315700A (zh) | 玻璃熔融裝置，玻璃纖維製造裝置及玻璃纖維製造方法 | |
| US7137277B1 (en) | Method and device for producing colored glasses | |
| US3883340A (en) | Glass melting method | |
| JP2005053757A (ja) | ガラスの製造装置及び製造方法 | |
| EP2499101B1 (en) | Melting method and apparatus | |
| US3915684A (en) | Continuous change of glass composition in a glassmaking process | |
| JP4074568B2 (ja) | 光学ガラスの製造方法 | |
| JP2007126297A (ja) | 光学ガラスの製造方法及び製造装置 | |
| EP4063332A1 (en) | Method of making high quality glass products from high viscosity melts | |
| CN117735809A (zh) | 用于制造玻璃产品的方法和设备以及相应的玻璃产品 | |
| WO1983004245A1 (en) | Homogenizing apparatus and glass making furnace |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20050831 |
|
| RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20051024 |
|
| RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20060228 |