JP2001076994A - 薬液供給装置及び薬液供給方法 - Google Patents
薬液供給装置及び薬液供給方法Info
- Publication number
- JP2001076994A JP2001076994A JP24742999A JP24742999A JP2001076994A JP 2001076994 A JP2001076994 A JP 2001076994A JP 24742999 A JP24742999 A JP 24742999A JP 24742999 A JP24742999 A JP 24742999A JP 2001076994 A JP2001076994 A JP 2001076994A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pump
- chemical
- chemicals
- chemical solution
- discharge operation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ポンプの吐出動作時に実際に薬液が吐出され
ないときはこのことを迅速に検出して、薬液処理不良が
発生するのを確実に防止することにより、薬液処理の信
頼性を向上させることができる薬液供給装置及び薬液供
給方法を提供する。 【解決手段】 薬液処理用の薬液１３が貯蔵される薬液
貯蔵槽１４と、薬液貯蔵槽１４からの薬液１３を薬液処
理部の半導体ウェーハ７に送るための配管８と、薬液貯
蔵槽１４から吸入した薬液１３を配管８に吐出すると共
に、この吐出動作時にＯＮ信号を出力するポンプ１２
と、ポンプ１２の吐出側に接続された配管８の接続端部
の近傍に設けられポンプ１２の吐出動作時に配管８内の
薬液１３を検出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号
を出力する薬液検出センサー１８と、ポンプ１２及び薬
液検出センサー１８の各々から出力されたＯＮ信号に基
づいてポンプ１２の動作を制御する制御手段１６とを備
えた薬液供給装置。
ないときはこのことを迅速に検出して、薬液処理不良が
発生するのを確実に防止することにより、薬液処理の信
頼性を向上させることができる薬液供給装置及び薬液供
給方法を提供する。 【解決手段】 薬液処理用の薬液１３が貯蔵される薬液
貯蔵槽１４と、薬液貯蔵槽１４からの薬液１３を薬液処
理部の半導体ウェーハ７に送るための配管８と、薬液貯
蔵槽１４から吸入した薬液１３を配管８に吐出すると共
に、この吐出動作時にＯＮ信号を出力するポンプ１２
と、ポンプ１２の吐出側に接続された配管８の接続端部
の近傍に設けられポンプ１２の吐出動作時に配管８内の
薬液１３を検出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号
を出力する薬液検出センサー１８と、ポンプ１２及び薬
液検出センサー１８の各々から出力されたＯＮ信号に基
づいてポンプ１２の動作を制御する制御手段１６とを備
えた薬液供給装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウェ
ーハ等の基板の薬液処理部に薬液を供給するための薬液
供給装置及び薬液供給方法に関するものである。
ーハ等の基板の薬液処理部に薬液を供給するための薬液
供給装置及び薬液供給方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の薬液供給装置としては、例えば、
図３に示すような薬液供給装置がある。同図において、
回転ホルダー５に保持されて回転する半導体ウェーハ７
は、配管８の先端部のノズル１０から滴下して供給され
るレジストや現像液等の薬液により、その表面に各種の
処理が行われるようになっている。配管８の後端部はポ
ンプ１２の吐出側に接続されており、ポンプ１２の吸入
側は配管９を介して薬液を貯蔵する薬液貯蔵槽１４に接
続されている。
図３に示すような薬液供給装置がある。同図において、
回転ホルダー５に保持されて回転する半導体ウェーハ７
は、配管８の先端部のノズル１０から滴下して供給され
るレジストや現像液等の薬液により、その表面に各種の
処理が行われるようになっている。配管８の後端部はポ
ンプ１２の吐出側に接続されており、ポンプ１２の吸入
側は配管９を介して薬液を貯蔵する薬液貯蔵槽１４に接
続されている。
【０００３】また、ポンプ１２は薬液を吐出する動作の
度に、その出力ポート１２ａ（図４参照）からＣＰＵ回
路１６（制御手段）に信号を出力し、この信号に基づい
てＣＰＵ回路１６はポンプ１２の吐出動作を確認したら
再びポンプ１２の吐出動作を駆動し、所定の枚数の半導
体ウェーハ７についての薬液処理が終了したら、ＣＰＵ
回路１６はそれ以降のポンプ１２の吐出動作を駆動する
のを停止するようになっている。
度に、その出力ポート１２ａ（図４参照）からＣＰＵ回
路１６（制御手段）に信号を出力し、この信号に基づい
てＣＰＵ回路１６はポンプ１２の吐出動作を確認したら
再びポンプ１２の吐出動作を駆動し、所定の枚数の半導
体ウェーハ７についての薬液処理が終了したら、ＣＰＵ
回路１６はそれ以降のポンプ１２の吐出動作を駆動する
のを停止するようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポンプ
１２からのＣＰＵ回路１６への信号は、ポンプ１２が単
に吐出動作をしただけで出力されるようになっているの
で、ポンプ１２の吐出動作がありさえすれば、実際には
配管８内に薬液が吐出されない場合、例えば図４に示す
ように、吐出側（ＯＵＴ側）の配管８内に気泡１１が混
入したような場合であっても信号が出力される。
１２からのＣＰＵ回路１６への信号は、ポンプ１２が単
に吐出動作をしただけで出力されるようになっているの
で、ポンプ１２の吐出動作がありさえすれば、実際には
配管８内に薬液が吐出されない場合、例えば図４に示す
ように、吐出側（ＯＵＴ側）の配管８内に気泡１１が混
入したような場合であっても信号が出力される。
【０００５】このため、ＣＰＵ回路１６は信号を入力し
たので配管８内に気泡１１が混入してないものと誤判断
して、薬液１３が吐出されていないことを検出できずに
ポンプ１２の吐出動作を繰り返し駆動する。この状態が
続くと、大量の半導体ウェーハ７について薬液処理不良
が発生するおそれがあるという問題があった。
たので配管８内に気泡１１が混入してないものと誤判断
して、薬液１３が吐出されていないことを検出できずに
ポンプ１２の吐出動作を繰り返し駆動する。この状態が
続くと、大量の半導体ウェーハ７について薬液処理不良
が発生するおそれがあるという問題があった。
【０００６】そこで本発明は、上記問題点に鑑みて、ポ
ンプの吐出動作時に実際に薬液が吐出されないときはこ
のことを迅速に検出して、薬液処理不良が発生するのを
確実に防止することにより、薬液処理の信頼性を向上さ
せることができる薬液供給装置及び薬液供給方法を提供
することを課題とするものである。
ンプの吐出動作時に実際に薬液が吐出されないときはこ
のことを迅速に検出して、薬液処理不良が発生するのを
確実に防止することにより、薬液処理の信頼性を向上さ
せることができる薬液供給装置及び薬液供給方法を提供
することを課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明による薬液供給装置は、薬液処理用の薬液が
貯蔵される薬液貯蔵槽と、前記薬液貯蔵槽からの薬液を
薬液処理部に送るための配管と、前記薬液貯蔵槽から吸
入した薬液を前記薬液処理部側の前記配管に吐出すると
共に、この吐出動作時にＯＮ信号を出力するポンプと、
前記ポンプの吐出側に接続された前記配管の接続端部の
近傍に設けられポンプの吐出動作時に配管内の薬液を検
出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号を出力する薬
液検出センサーと、前記ポンプから出力された信号及び
前記薬液検出センサーから出力された信号に基づいてポ
ンプの動作を制御する制御手段とを備えた構成としたも
のである。
に、本発明による薬液供給装置は、薬液処理用の薬液が
貯蔵される薬液貯蔵槽と、前記薬液貯蔵槽からの薬液を
薬液処理部に送るための配管と、前記薬液貯蔵槽から吸
入した薬液を前記薬液処理部側の前記配管に吐出すると
共に、この吐出動作時にＯＮ信号を出力するポンプと、
前記ポンプの吐出側に接続された前記配管の接続端部の
近傍に設けられポンプの吐出動作時に配管内の薬液を検
出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号を出力する薬
液検出センサーと、前記ポンプから出力された信号及び
前記薬液検出センサーから出力された信号に基づいてポ
ンプの動作を制御する制御手段とを備えた構成としたも
のである。
【０００８】このような構成の薬液供給装置によれば、
ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配管内の薬液
を検出したときは以降のポンプの吐出動作を駆動するこ
とができ、ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配
管内の薬液を検出しなかったときは以降のポンプの吐出
動作の駆動を停止するよう制御手段がポンプの吐出動作
を制御するようにしたため、ポンプの吐出動作時に実際
に薬液が吐出されないときはこのことを迅速に検出し
て、薬液処理不良が発生するのを確実に防止することに
より、薬液処理の信頼性を向上させることができる。
ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配管内の薬液
を検出したときは以降のポンプの吐出動作を駆動するこ
とができ、ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配
管内の薬液を検出しなかったときは以降のポンプの吐出
動作の駆動を停止するよう制御手段がポンプの吐出動作
を制御するようにしたため、ポンプの吐出動作時に実際
に薬液が吐出されないときはこのことを迅速に検出し
て、薬液処理不良が発生するのを確実に防止することに
より、薬液処理の信頼性を向上させることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面に基づいて具体的に説明する。図１，図２は、
本発明による薬液供給装置及び薬液供給方法の第１の実
施の形態について説明するために参照する図である。
て、図面に基づいて具体的に説明する。図１，図２は、
本発明による薬液供給装置及び薬液供給方法の第１の実
施の形態について説明するために参照する図である。
【００１０】図１に示す、本発明の第１の実施の形態に
係る薬液供給装置において、回転ホルダー５に保持され
て回転する半導体ウェーハ７は、配管８の先端部のノズ
ル１０から滴下して供給されるレジストや現像液等の薬
液により、その表面に各種の処理が行われるようになっ
ている。
係る薬液供給装置において、回転ホルダー５に保持され
て回転する半導体ウェーハ７は、配管８の先端部のノズ
ル１０から滴下して供給されるレジストや現像液等の薬
液により、その表面に各種の処理が行われるようになっ
ている。
【００１１】配管８の後端部はポンプ１２の吐出側に接
続されており、ポンプ１２の吸入側は配管９を介して薬
液を貯蔵する薬液貯蔵槽１４に接続されている。配管８
はテフロンチューブにより形成されるが、絶縁性を有す
る材料であればどのような材料を用いてもよい。
続されており、ポンプ１２の吸入側は配管９を介して薬
液を貯蔵する薬液貯蔵槽１４に接続されている。配管８
はテフロンチューブにより形成されるが、絶縁性を有す
る材料であればどのような材料を用いてもよい。
【００１２】また、ポンプ１２は薬液を吐出する動作の
度に、出力ポート１２ａ（図２参照）からＣＰＵ回路１
６（制御手段）にＨ（Ｈｉｇｈ）信号Ｓ１（ＯＮ信号）
を出力するようになっている。配管８のポンプ１２との
接続端部の近傍には静電容量センサー１８（薬液検出セ
ンサー）が設けられており、この静電容量センサー１８
は配管８内の薬液を、その静電容量を測定演算すること
により検出するものである。
度に、出力ポート１２ａ（図２参照）からＣＰＵ回路１
６（制御手段）にＨ（Ｈｉｇｈ）信号Ｓ１（ＯＮ信号）
を出力するようになっている。配管８のポンプ１２との
接続端部の近傍には静電容量センサー１８（薬液検出セ
ンサー）が設けられており、この静電容量センサー１８
は配管８内の薬液を、その静電容量を測定演算すること
により検出するものである。
【００１３】そして静電容量センサー１８は、ポンプ１
２が薬液を吐出する動作時に同期して、或はその直後に
配管８内の薬液の有無を検出するようになっていて、配
管８内に薬液が有ることを検出したときはＣＰＵ回路１
６にＨ信号Ｓ２（ＯＮ信号）を出力し、配管８内に薬液
を検出しなかったときはＬ（Ｌｏｗ）信号を出力するよ
うになっている。
２が薬液を吐出する動作時に同期して、或はその直後に
配管８内の薬液の有無を検出するようになっていて、配
管８内に薬液が有ることを検出したときはＣＰＵ回路１
６にＨ信号Ｓ２（ＯＮ信号）を出力し、配管８内に薬液
を検出しなかったときはＬ（Ｌｏｗ）信号を出力するよ
うになっている。
【００１４】このような構成の薬液供給装置の動作につ
いて、以下に説明する。ポンプ１２がＣＰＵ回路１６に
よりその吐出動作を駆動されるように制御されて、薬液
貯蔵槽１４内の薬液を配管９を通って吸入して配管８内
に所定量吐出することにより、それまで配管８内に先に
入っていた薬液が所定量ノズル１０から押し出されて、
半導体ウェーハ７の上に薬液が所定量滴下することによ
り、回転ホルダー５により回転する半導体ウェーハ７の
表面について所定の薬液処理をするようになっている。
いて、以下に説明する。ポンプ１２がＣＰＵ回路１６に
よりその吐出動作を駆動されるように制御されて、薬液
貯蔵槽１４内の薬液を配管９を通って吸入して配管８内
に所定量吐出することにより、それまで配管８内に先に
入っていた薬液が所定量ノズル１０から押し出されて、
半導体ウェーハ７の上に薬液が所定量滴下することによ
り、回転ホルダー５により回転する半導体ウェーハ７の
表面について所定の薬液処理をするようになっている。
【００１５】ポンプ１２は配管８内に薬液を吐出する際
に、出力ポート１２ａからＣＰＵ回路１６にＨ信号Ｓ１
を出力する。静電容量センサー１８は、ポンプ１２が薬
液を吐出する際に、或はその直後に配管８内に薬液が有
るか否かを検出し、配管８内に薬液が有ることを検出し
たときはＣＰＵ回路１６にＨ信号Ｓ２を出力する。この
ことによりＣＰＵ回路１６は、ポンプ１２及び静電容量
センサー１８の各々からのＨ信号Ｓ１，Ｓ２の有無に基
づいて、ポンプ１２の吐出側の配管８内の薬液１３の有
無を監視している。
に、出力ポート１２ａからＣＰＵ回路１６にＨ信号Ｓ１
を出力する。静電容量センサー１８は、ポンプ１２が薬
液を吐出する際に、或はその直後に配管８内に薬液が有
るか否かを検出し、配管８内に薬液が有ることを検出し
たときはＣＰＵ回路１６にＨ信号Ｓ２を出力する。この
ことによりＣＰＵ回路１６は、ポンプ１２及び静電容量
センサー１８の各々からのＨ信号Ｓ１，Ｓ２の有無に基
づいて、ポンプ１２の吐出側の配管８内の薬液１３の有
無を監視している。
【００１６】ＣＰＵ回路１６は、ポンプ１２及び静電容
量センサー１８の両方からＨ信号を入力したときはポン
プ１２の吐出動作を再び駆動することができるが、ポン
プ１２だけからＨ信号Ｓ１を入力して静電容量センサー
１８からはＨ信号Ｓ２を入力しないときは、図２に示す
ように、配管８内に気泡１１が混入したものと判別し
て、以降のポンプ１２の吐出動作を駆動することを停止
する。
量センサー１８の両方からＨ信号を入力したときはポン
プ１２の吐出動作を再び駆動することができるが、ポン
プ１２だけからＨ信号Ｓ１を入力して静電容量センサー
１８からはＨ信号Ｓ２を入力しないときは、図２に示す
ように、配管８内に気泡１１が混入したものと判別し
て、以降のポンプ１２の吐出動作を駆動することを停止
する。
【００１７】そして、その気泡１１を配管８内から除去
して薬液１３のみを充填するよう修復対策をとった後
に、ポンプ１２及び静電容量センサー１８の両方からの
Ｈ信号を入力したときは、ＣＰＵ回路１６は再びポンプ
１２の吐出動作を駆動することができるようになってい
る。
して薬液１３のみを充填するよう修復対策をとった後
に、ポンプ１２及び静電容量センサー１８の両方からの
Ｈ信号を入力したときは、ＣＰＵ回路１６は再びポンプ
１２の吐出動作を駆動することができるようになってい
る。
【００１８】このように動作する薬液供給装置によれ
ば、ポンプ１２の吐出動作時に静電容量センサー１８が
配管８内の薬液１３を検出したときは以降のポンプ１２
の吐出動作を駆動することができ、ポンプ１２の吐出動
作時に薬液検出センサー１８が配管８内の薬液１３を検
出しなかったときは以降のポンプ１２の吐出動作の駆動
を停止するよう、制御手段がポンプ１２の吐出動作を制
御するようにしたため、ポンプ１２の吐出動作時に実際
に薬液１３が吐出されないときはこのことを迅速に検出
して、薬液処理不良の半導体ウェーハ７が発生するのを
確実に防止することにより、薬液処理の信頼性を向上さ
せることができる。
ば、ポンプ１２の吐出動作時に静電容量センサー１８が
配管８内の薬液１３を検出したときは以降のポンプ１２
の吐出動作を駆動することができ、ポンプ１２の吐出動
作時に薬液検出センサー１８が配管８内の薬液１３を検
出しなかったときは以降のポンプ１２の吐出動作の駆動
を停止するよう、制御手段がポンプ１２の吐出動作を制
御するようにしたため、ポンプ１２の吐出動作時に実際
に薬液１３が吐出されないときはこのことを迅速に検出
して、薬液処理不良の半導体ウェーハ７が発生するのを
確実に防止することにより、薬液処理の信頼性を向上さ
せることができる。
【００１９】なお、前記実施の形態においては薬液検出
センサーとして静電容量センサー１８を用いた場合につ
いて説明したが、静電容量センサー１８以外の、例えば
光学センサー等の、薬液を検出できるものであれば他の
どのような種類のセンサーを用いてもよい。但し、薬液
が光に対して反応するレジストの場合は、光学センサー
のように光を薬液に当てて検出する方法は好ましくない
ので、この場合は光学センサー以外のセンサーを用いる
必要がある。
センサーとして静電容量センサー１８を用いた場合につ
いて説明したが、静電容量センサー１８以外の、例えば
光学センサー等の、薬液を検出できるものであれば他の
どのような種類のセンサーを用いてもよい。但し、薬液
が光に対して反応するレジストの場合は、光学センサー
のように光を薬液に当てて検出する方法は好ましくない
ので、この場合は光学センサー以外のセンサーを用いる
必要がある。
【００２０】また、前記実施の形態においては、配管８
内の薬液１３を検出したときに静電容量センサー１８は
ＣＰＵ回路１６にＯＮ信号としてのＨ信号を出力し、薬
液１３を検出しないときにＬ信号を出力する場合につい
て説明したが、これとは逆に、配管８内の薬液を検出し
たときに静電容量センサー１８はＣＰＵ回路１６にＯＮ
信号としてＬ信号を出力し、薬液を検出しないときには
Ｈ信号を出力するようにしてもよい。
内の薬液１３を検出したときに静電容量センサー１８は
ＣＰＵ回路１６にＯＮ信号としてのＨ信号を出力し、薬
液１３を検出しないときにＬ信号を出力する場合につい
て説明したが、これとは逆に、配管８内の薬液を検出し
たときに静電容量センサー１８はＣＰＵ回路１６にＯＮ
信号としてＬ信号を出力し、薬液を検出しないときには
Ｈ信号を出力するようにしてもよい。
【００２１】この場合はＣＰＵ回路１６は、ポンプ１２
からＯＮ信号としてのＨ信号が入力すると共に、静電容
量センサー１８からＯＮ信号としてのＬ信号が入力した
場合に、以降のポンプ１２の吐出動作を駆動することが
できるが、ポンプ１２及び静電容量センサー１８の両方
からＨ信号が入力した場合には、ＣＰＵ回路１６は以降
のポンプ１２の吐出動作の駆動を停止することにより、
前記第１の実施の形態と同様の効果を得ることができ
る。
からＯＮ信号としてのＨ信号が入力すると共に、静電容
量センサー１８からＯＮ信号としてのＬ信号が入力した
場合に、以降のポンプ１２の吐出動作を駆動することが
できるが、ポンプ１２及び静電容量センサー１８の両方
からＨ信号が入力した場合には、ＣＰＵ回路１６は以降
のポンプ１２の吐出動作の駆動を停止することにより、
前記第１の実施の形態と同様の効果を得ることができ
る。
【００２２】また、前記実施の形態においては半導体ウ
ェーハの薬液処理をする場合について説明したが、本発
明は半導体ウェーハ以外の，例えばＬＣＤ（液晶ディス
プレー）等の他の基板について薬液処理をする場合にも
適用することができる。
ェーハの薬液処理をする場合について説明したが、本発
明は半導体ウェーハ以外の，例えばＬＣＤ（液晶ディス
プレー）等の他の基板について薬液処理をする場合にも
適用することができる。
【００２３】また、前記実施の形態においては配管８内
に気泡１１が混入したことにより薬液１３が検出できな
い場合について説明したが、気泡１１以外に、ゴミ等の
他の異物が混入したことにより薬液１３が検出できない
場合についても本発明は適用することができる。
に気泡１１が混入したことにより薬液１３が検出できな
い場合について説明したが、気泡１１以外に、ゴミ等の
他の異物が混入したことにより薬液１３が検出できない
場合についても本発明は適用することができる。
【００２４】以上、本発明の実施の形態について具体的
に述べてきたが、本発明は上記の実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の技術的思想に基づいて、その
他にも各種の変更が可能なものである。
に述べてきたが、本発明は上記の実施の形態に限定され
るものではなく、本発明の技術的思想に基づいて、その
他にも各種の変更が可能なものである。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配管内の薬液
を検出したときは以降のポンプの吐出動作を駆動するこ
とができ、ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配
管内の薬液を検出しなかったときは以降のポンプの吐出
動作の駆動を停止するよう制御手段がポンプの吐出動作
を制御するようにしたため、ポンプの吐出動作時に実際
に薬液が吐出されないときはこのことを迅速に検出し
て、薬液処理不良が大量に発生するのを確実に防止する
ことにより、薬液処理の信頼性を向上させることができ
る。
ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配管内の薬液
を検出したときは以降のポンプの吐出動作を駆動するこ
とができ、ポンプの吐出動作時に薬液検出センサーが配
管内の薬液を検出しなかったときは以降のポンプの吐出
動作の駆動を停止するよう制御手段がポンプの吐出動作
を制御するようにしたため、ポンプの吐出動作時に実際
に薬液が吐出されないときはこのことを迅速に検出し
て、薬液処理不良が大量に発生するのを確実に防止する
ことにより、薬液処理の信頼性を向上させることができ
る。
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る薬液供給装置
の構成を示すブロック図である。
の構成を示すブロック図である。
【図２】図１の薬液供給装置のポンプ１２及び静電容量
センサー１８の動作を説明するための要部拡大図であ
る。
センサー１８の動作を説明するための要部拡大図であ
る。
【図３】従来の薬液供給装置の構成を示すブロック図で
ある。
ある。
【図４】図３の薬液供給装置のポンプ１２の動作を説明
するための要部拡大図である。
するための要部拡大図である。
５…回転ホルダー、７…半導体ウェーハ、８，９…配
管、１０…ノズル、１１…気泡、１２…ポンプ、１２ａ
…出力ポート、１３…薬液、１４…薬液貯蔵槽、１６…
ＣＰＵ回路、１８…静電容量センサー
管、１０…ノズル、１１…気泡、１２…ポンプ、１２ａ
…出力ポート、１３…薬液、１４…薬液貯蔵槽、１６…
ＣＰＵ回路、１８…静電容量センサー
Claims (2)
- 【請求項１】 薬液処理用の薬液が貯蔵される薬液貯蔵
槽と、 前記薬液貯蔵槽からの薬液を薬液処理部に送るための配
管と、 前記薬液貯蔵槽から吸入した薬液を前記薬液処理部側の
前記配管に吐出すると共に、この吐出動作時にＯＮ信号
を出力するポンプと、 前記ポンプの吐出側に接続された前記配管の接続端部の
近傍に設けられポンプの吐出動作時に配管内の薬液を検
出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号を出力する薬
液検出センサーと、 前記ポンプ及び前記薬液検出センサーの各々から出力さ
れたＯＮ信号に基づいてポンプの動作を制御する制御手
段とを備えたことを特徴とする薬液供給装置。 - 【請求項２】 薬液処理用の薬液が貯蔵される薬液貯蔵
槽と、 前記薬液貯蔵槽からの薬液を薬液処理部に送るための配
管と、 前記薬液貯蔵槽から吸入した薬液を前記薬液処理部側の
前記配管に吐出すると共に、この吐出動作時にＯＮ信号
を出力するポンプと、 前記ポンプの吐出側に接続された前記配管の接続端部の
近傍に設けられポンプの吐出動作時に配管内の薬液を検
出すると共に、この検出動作時にＯＮ信号を出力する薬
液検出センサーと、 前記ポンプ及び前記薬液検出センサーの各々から出力さ
れたＯＮ信号に基づいてポンプの動作を制御する制御手
段とを備えた薬液供給装置を用いて、 前記ポンプの吐出動作時に前記薬液検出センサーが前記
配管内の薬液を検出したときは以降のポンプの吐出動作
を駆動することができ、 前記ポンプの吐出動作時に前記薬液検出センサーが前記
配管内の薬液を検出しなかったときは以降のポンプの吐
出動作の駆動を停止するよう前記制御手段が前記ポンプ
の吐出動作を制御するようにしたことを特徴とする薬液
供給方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24742999A JP2001076994A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24742999A JP2001076994A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001076994A true JP2001076994A (ja) | 2001-03-23 |
Family
ID=17163318
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24742999A Pending JP2001076994A (ja) | 1999-09-01 | 1999-09-01 | 薬液供給装置及び薬液供給方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001076994A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011176118A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
| JP2011187891A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
| US10297474B2 (en) | 2013-02-19 | 2019-05-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical supplier, processing apparatus including the chemical supplier |
-
1999
- 1999-09-01 JP JP24742999A patent/JP2001076994A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011176118A (ja) * | 2010-02-24 | 2011-09-08 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
| JP2011187891A (ja) * | 2010-03-11 | 2011-09-22 | Tokyo Electron Ltd | 液処理装置、液処理方法、プログラムおよびプログラム記録媒体 |
| US10297474B2 (en) | 2013-02-19 | 2019-05-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Chemical supplier, processing apparatus including the chemical supplier |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5030767B2 (ja) | 基板処理装置、および基板処理装置の異常処理方法 | |
| JP3754322B2 (ja) | 塗布膜形成方法及びその装置 | |
| JP2004363292A (ja) | 液供給装置および基板処理装置 | |
| TWI644344B (zh) | Processing liquid supply device, substrate processing system, and processing liquid supply method | |
| CN110235226B (zh) | 基板处理装置以及基板处理方法 | |
| JP2001076994A (ja) | 薬液供給装置及び薬液供給方法 | |
| JP4172769B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP3401141B2 (ja) | 基板の現像処理方法および装置 | |
| JP2009218402A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP4957820B2 (ja) | 液処理装置、液処理方法及び記憶媒体 | |
| JP3032428B2 (ja) | 液体供給装置 | |
| JP3390314B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| US6557564B1 (en) | Method and apparatus for cleaning a thin disk | |
| JPH08145300A (ja) | 基板処理装置 | |
| KR100393289B1 (ko) | 포토레지스트 토출 감시장치 | |
| JP3673081B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| KR19990041379U (ko) | 포토레지스트 공급장치 | |
| JPH11176748A (ja) | 半導体装置製造設備のケミカル噴射装置及びその装置に使用される廃液槽 | |
| JP2007309890A (ja) | 分注装置 | |
| KR100233281B1 (ko) | 습식 웨이퍼 처리공정에서의 과처리 방지 방법 | |
| TW202112452A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| JP2001155990A (ja) | 液体供給装置及びそれを用いた基板処理装置 | |
| JP3283190B2 (ja) | レジスト処理装置及びレジスト処理方法 | |
| JP3430293B2 (ja) | 処理液の濃度制御方法およびその装置 | |
| JPH06267921A (ja) | 洗浄装置 |