JP3430293B2 - 処理液の濃度制御方法およびその装置 - Google Patents
処理液の濃度制御方法およびその装置Info
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Description
エッチング液などの処理液の濃度制御方法およびその装
置に関する。
示装置の薄膜トランジスタパネルを製造する場合、スパ
ッタ法により成膜されたアルミニウム膜をフォトリソグ
ラフィ法により所定のパターンに加工することにより、
ゲート電極、ドレイン電極、ソース電極などを形成する
ことがある。このような場合、アルミニウムのエッチン
グ液として、一般的に、リン酸、硝酸、酢酸、水からな
る混酸を用いている。
るが、アルミニウムのエッチング中に発生する水素ガス
がエッチングを妨げるため、水素ガス気泡を離脱する必
要がある。この場合、硝酸はエッチング液の粘度を下げ
る効果があり、硝酸を混合することによって粘度が低く
なるため、水素ガス気泡の離脱が容易になる。しかし、
この混酸の各成分の蒸気圧がそれぞれ異なるため、その
組成が経時的に変化し、特に、硝酸の濃度が低下してエ
ッチング液の粘度が上がると、エッチング特性が不安定
となってしまう。そこで、この混酸中の硝酸の濃度を定
期的に測定し、この硝酸濃度が設定濃度よりも低くなっ
たとき、硝酸を補給し、これにより粘度を下げてエッチ
ング特性を安定化させ、エッチング液の寿命を延ばして
いる。
度制御装置の一例の概略構成図を示したものである。処
理液タンク1内には、アルミニウムのエッチング液とし
て、リン酸、硝酸、酢酸、水からなる混酸(酸と水との
重量比は1:10、以下、処理液という。)2が収容さ
れている。処理液タンク1内には配管3の一端部が配置
されている。配管3には第1のポンプ4が介在されてい
る。配管3の他端部は硝酸タンク5内に配置されてい
る。硝酸タンク5内には硝酸6が収容されている。
置されている。配管7の他端部は第1の三方バルブ8の
第1ポートに接続されている。第1の三方バルブ8の
第2ポートは排出管9に接続されている。第1の三方
バルブ8の第3ポートは配管10を介してインジェク
ションバルブ11の第1ポートに接続されている。イ
ンジェクションバルブ11の第2ポートと第5ポート
との間には処理液定量サンプリング用ループ12が設
けられている。インジェクションバルブ11の第6ポー
トは配管13を介して処理液用シリンジ14に接続さ
れている。
は配管15を介して第2の三方バルブ16の第1ポー
トに接続されている。第2の三方バルブ16の第2ポ
ートは純水供給管17に接続されている。第2の三方
バルブ16の第3ポートは配管18を介して純水用シ
リンジ19に接続されている。
は配管20を介して中間タンク21の上部に接続され
ている。中間タンク21内には配管22の一端部が配置
されている。配管22の他端部は石英セル23の上部に
接続されている。石英セル23の下部には排出管24が
接続されている。排出管24には第2のポンプ25が介
在されている。
なっている。すなわち、石英セル23の左側には220
nmバンドパスフィルタ26および光源27がこの順で
配置されている。石英セル23の右側にはフォトダイオ
ード28が配置されている。そして、光源27から出た
光のうち波長220nmの光が220nmバンドパスフ
ィルタ26および石英セル23を透過し、この透過光が
フォトダイオード28に入射される。フォトダイオード
28は、入射光量に応じた検出信号を制御部(図示せ
ず)に送出する。制御部は、この検出信号に基づいて後
述する演算などを行うほかに、ポンプ4、25、三方バ
ルブ8、16、インジェクションバルブ11、シリンジ
14、19、光源27の各駆動を制御するようになって
いる。
明する。まず、第2の三方バルブ16の第2ポートと
第3ポートとが接続された状態において、純水用シリ
ンジ19が吸引駆動すると、純水供給管17を介して純
水が純水用シリンジ19内に吸引される。次に、第2の
三方バルブ16の第1ポートと第3ポートとが接続
され、またインジェクションバルブ11の第3ポート
と第4ポートとが接続された状態において、純水用シ
リンジ19が排出駆動すると、純水用シリンジ19内か
ら純水が中間タンク21内に供給される。次に、第2の
ポンプ25が一定時間駆動すると、中間タンク21内か
ら純水が石英セル23内に供給される。
た光のうち波長220nmの光が220nmバンドパス
フィルタ26、石英セル23および石英セル23内の純
水を透過し、この透過光がフォトダイオード28に入射
される。この場合、波長220nmの光を透過させてい
るので、石英セル23内の純水中の硝酸の濃度(この場
合、0であるが)に応じた透過光がフォトダイオード2
8に入射される。すると、フォトダイオード28はこの
入射光量に応じた検出信号を制御部に送出する。制御部
は、この検出信号に基づいて、このときのつまり純水の
透過率を算出し、この純水透過率算出値を一時的に記憶
する。次に、第2のポンプ25が一定時間駆動すると、
石英セル23内の純水および中間タンク21内に残って
いる純水が排出管24を介して排出される。
と第3ポートとが接続され、またインジェクションバ
ルブ11の第1ポートと第2ポートとが接続されて
いるとともに第5ポートと第6ポートとが接続され
た状態において、処理液用シリンジ14が吸引駆動する
と、処理液タンク1内から処理液2が処理液定量サンプ
リング用ループ12内および処理液用シリンジ14内に
吸引される。
と第3ポートとが接続された状態において、純水用
シリンジ19が吸引駆動すると、純水供給管17を介し
て純水が純水用シリンジ19内に吸引される。次に、第
2の三方バルブ16の第1ポートと第3ポートとが
接続され、またインジェクションバルブ11の第2ポー
トと第3ポートとが接続されているとともに第4ポ
ートと第5ポートとが接続された状態において、純
水用シリンジ19が排出駆動すると、純水用シリンジ1
9内から純水が処理液定量サンプリング用ループ12内
の処理液2と共に中間タンク21内に供給される。この
状態では、中間タンク21内には一定量(20μl)の
処理液2を一定量(200ml)の純水で(10000
倍に)希釈してなる希釈処理液が収容されている。次
に、第2のポンプ25が一定時間駆動すると、中間タン
ク21内から希釈処理液が石英セル23内に供給され
る。
た光のうち波長220nmの光が220nmバンドパス
フィルタ26、石英セル23および石英セル23内の希
釈処理液を透過し、この透過光がフォトダイオード28
に入射される。この場合も、波長220nmの光を透過
させているので、石英セル23内の希釈処理液中の硝酸
の濃度に応じた透過光がフォトダイオード28に入射さ
れる。すると、フォトダイオード28はこの入射光量に
応じた検出信号を制御部に送出する。制御部は、この検
出信号に基づいて、このときのつまり希釈処理液の透過
率を算出し、この希釈処理液透過率算出値を一時的に記
憶する。
ると、石英セル23内の希釈処理液および中間タンク2
1内に残っている希釈処理液が排出管24を介して排出
される。また、インジェクションバルブ11の第1ポー
トと第6ポートとが接続された状態において、処理
液用シリンジ14が排出駆動すると、処理液用シリンジ
14内の処理液2が排出管9を介して排出される。
透過率算出値(基準値)および希釈処理液透過率算出値
に基づいて、処理液タンク1内の処理液2中の硝酸の濃
度を算出し、この硝酸濃度が設定濃度よりも低いか否か
を判断する。低いと判断した場合には、第1のポンプ4
を所定時間駆動させ、硝酸タンク5内の硝酸6を処理液
タンク1内に補給する。
濃度制御装置では、第2のポンプ25の一定時間の駆動
により、中間タンク21内から希釈処理液を石英セル2
3内に供給するとき、その間の配管22内の空気を巻き
込みながら供給されるので、石英セル23内に希釈処理
液と気泡とがどうしても混在してしまう。そして、この
気泡が石英セル23の内壁面に付着すると、透過光量が
低下し、硝酸濃度を正確に測定することができないとい
う問題があった。この発明の課題は、石英セルなどから
なる透明セルの内壁面に気泡が付着しないようにするこ
とである。
は、処理液タンク内の混合液からなる処理液またはこの
処理液を純水で希釈してなる処理液を測定用セル内に供
給し、前記測定用セル内にその一方の側から気体を供給
して、前記測定用セル内の処理液をすべて前記測定用セ
ルの他方の側から仮排出し、しかる後、前記測定用セル
内の気体をすべて排出するとともに、仮排出された処理
液を前記測定用セル内に戻し、この戻された処理液の濃
度を直接的または間接的に測定し、この濃度が設定濃度
よりも低いとき前記処理液タンク内に所定の液を補給す
るようにしたものである。請求項2に記載の発明は、請
求項1に記載の発明において、前記処理液がアルミニウ
ムのエッチング液であることを特徴とするものである。
請求項3に記載の発明は、請求項2に記載の発明におい
て、前記エッチング液がリン酸、硝酸、酢酸、水からな
る混酸であることを特徴とするものである。請求項4に
記載の発明は、請求項3に記載の発明において、前記所
定の液が硝酸であることを特徴とするものである。請求
項5に記載の発明は、請求項1〜4のいずれかに記載の
発明において、前記気体が空気であることを特徴とする
ものである。請求項6に記載の発明は、処理液タンク内
の混合液からなる処理液またはこの処理液を純水で希釈
してなる処理液を測定用セル内に供給し、前記測定用セ
ル内の処理液中の所定の液の濃度を直接的または間接的
に測定し、この濃度が設定濃度よりも低いとき前記処理
液タンク内に所定の液を補給するようにした処理液の濃
度制御装置において、前記測定用セル内にその一方の側
から気体を供給し、且つ、吸引する気体供給吸引手段を
備え、前記測定用セル内に処理液を供給した後、前記気
体供給吸引手段から前記測定用セル内にその一方の側か
ら気体を供給することにより、前記測定用セル内の処理
液をすべて前記測定用セルの他方の側から仮排出し、し
かる後、前記測定用セル内の気体をすべて排出するとと
もに、仮排出された処理液を前記透明セル内に戻し、こ
の戻された処理液の濃度を測定するようにしたものであ
る。請求項7に記載の発明は、請求項6に記載の発明に
おいて、前記処理液がアルミニウムのエッチング液であ
ることを特徴とするものである。請求項8に記載の発明
は、請求項7に記載の発明において、前記エッチング液
がリン酸、硝酸、酢酸、水からなる混酸であることを特
徴とするものである。請求項9に記載の発明は、請求項
8に記載の発明において、前記所定の液が硝酸であるこ
とを特徴とするものである。請求項10に記載の発明
は、請求項6に記載の発明において、前記気体が空気で
あることを特徴とするものである。そして、この発明に
よれば、測定用セル内に供給された処理液を、測定用セ
ル内にその一方の側から気体を供給することにより、測
定用セルの他方の側から仮排出し、しかる後、測定用セ
ルの内の気体をすべて排出するとともに、仮排出された
処理液を測定用セル内に戻し、この戻された処理液の濃
度を直接的または間接的に測定しているので、測定用セ
ル内に戻された処理液中に気泡が混在しないようにする
ことができ、したがって測定用セルの内壁面に気泡が付
着しないようにすることができる。
けるエッチング液の濃度制御装置の一例の概略構成図を
示したものである。処理液タンク31内には、アルミニ
ウムのエッチング液として、リン酸、硝酸、酢酸、水か
らなる混酸(酸と水との重量比は1:10、以下、処理
液という。)32が収容されている。処理液タンク31
内には配管33の一端部が配置されている。配管33に
は第1のポンプ34が介在されている。配管33の他端
部は硝酸タンク35内に配置されている。硝酸タンク3
5内には硝酸36が収容されている。
が配置されている。配管37の他端部は第1の三方バル
ブ38の第1ポートに接続されている。第1の三方バ
ルブ38の第2ポートは排出管39に接続されてい
る。第1の三方バルブ38の第3ポートは配管40を
介してインジェクションバルブ41の第1ポートに接
続されている。インジェクションバルブ41の第2ポー
トと第5ポートとの間には処理液定量サンプリング
用ループ42が設けられている。インジェクションバル
ブ41の第6ポートは配管43を介して処理液用シリ
ンジ44に接続されている。
は配管45を介して第2の三方バルブ46の第1ポー
トに接続されている。第2の三方バルブ46の第2ポ
ートは純水供給管47に接続されている。第2の三方
バルブ46の第3ポートは配管48を介して純水用シ
リンジ49に接続されている。
は配管50を介して中間タンク51の上部に接続され
ている。中間タンク51内には配管52の一端部が配置
されている。配管52の他端部は第3の三方バルブ53
の第1ポートに接続されている。第3の三方バルブ5
3の第2ポートは配管54を介して空気用シリンジ5
5に接続されている。第3の三方バルブ53の第3ポー
トは配管56を介して石英セル57の上部に接続され
ている。石英セル57の下部は配管58を介して第4の
三方バルブ59の第1ポートに接続されている。第4
の三方バルブ59の第2ポートは空気供給管60に接
続されている。第4の三方バルブ59の第3ポートに
は排出管61が接続されている。排出管61には第2の
ポンプ62が介在されている。
なっている。すなわち、石英セル57の左側には220
nmバンドパスフィルタ63および光源64がこの順で
配置されている。石英セル57の右側にはフォトダイオ
ード65が配置されている。そして、光源64から出た
光のうち波長220nmの光が220nmバンドパスフ
ィルタ63および石英セル57を透過し、この透過光が
フォトダイオード65に入射される。フォトダイオード
65は、入射光量に応じた検出信号を制御部(図示せ
ず)に送出する。制御部は、この検出信号に基づいて後
述する演算などを行うほかに、ポンプ34、62、三方
バルブ38、46、53、59、インジェクションバル
ブ41、シリンジ44、49、55、光源64の各駆動
を制御するようになっている。
明する。まず、第2の三方バルブ46の第2ポートと
第3ポートとが接続された状態において、純水用シリ
ンジ49が吸引駆動すると、純水供給管47を介して純
水が純水用シリンジ49内に吸引される。次に、第2の
三方バルブ46の第1ポートと第3ポートとが接続
され、またインジェクションバルブ41の第3ポート
と第4ポートとが接続された状態において、純水用シ
リンジ49が排出駆動すると、純水用シリンジ49内か
ら純水が中間タンク51内に供給される。次に、第3の
三方バルブ53の第1ポートと第3ポートとが接続
され、また第4の三方バルブ59の第1ポートと第3
ポートとが接続された状態において、第2のポンプ6
2が一定時間駆動すると、中間タンク51内から純水が
石英セル57内に供給される。
た光のうち波長220nmの光が220nmバンドパス
フィルタ63、石英セル57および石英セル57内の純
水を透過し、この透過光がフォトダイオード65に入射
される。この場合、波長220nmの光を透過させてい
るので、石英セル57内の純水中の硝酸の濃度(この場
合、0であるが)に応じた透過光がフォトダイオード6
5に入射される。すると、フォトダイオード65はこの
入射光量に応じた検出信号を制御部に送出する。制御部
は、この検出信号に基づいて、このときのつまり純水の
透過率を算出し、この純水透過率算出値を一時的に記憶
する。次に、第2のポンプ62が一定時間駆動すると、
石英セル57内の純水および中間タンク51内に残って
いる純水が排出管61を介して排出される。
と第3ポートとが接続され、また第4の三方バルブ
59の第1ポートと第2ポートとが接続された状態
において、空気用シリンジ55が吸引駆動すると、空気
供給管60を介して空気が石英セル57内および空気用
シリンジ55内に吸引される。
と第3ポートとが接続され、またインジェクション
バルブ41の第1ポートと第2ポートとが接続され
ているとともに第5ポートと第6ポートとが接続さ
れた状態において、処理液用シリンジ44が吸引駆動す
ると、処理液タンク31内から処理液32が処理液定量
サンプリング用ループ42内および処理液用シリンジ4
4内に吸引される。
と第3ポートとが接続された状態において、純水用
シリンジ49が吸引駆動すると、純水供給管47を介し
て純水が純水用シリンジ49内に吸引される。次に、第
2の三方バルブ46の第1ポートと第3ポートとが
接続され、またインジェクションバルブ41の第2ポー
トと第3ポートとが接続されているとともに第4ポ
ートと第5ポートとが接続された状態において、純
水用シリンジ49が排出駆動すると、純水用シリンジ4
9内から純水が処理液定量サンプリング用ループ42内
の処理液32と共に中間タンク51内に供給される。こ
の状態では、中間タンク51内には一定量(20μl)
の処理液32を一定量(200ml)の純水で(100
00倍に)希釈してなる希釈処理液が収容されている。
と第3ポートとが接続され、また第4の三方バルブ
59の第1ポートと第3ポートとが接続された状態
において、第2のポンプ62が一定時間駆動すると、中
間タンク51内から希釈処理液が石英セル57内に供給
される。このとき、希釈処理液が配管52内の空気を巻
き込んで石英セル57内に供給され、石英セル57の内
壁面に気泡が付着したとする。
と第3ポートとが接続され、また第4の三方バルブ
59の第1ポートと第3ポートとが接続された状態
において、空気用シリンジ55が排出駆動すると、空気
用シリンジ55内から空気が石英セル57内に供給さ
れ、石英セル57内の希釈処理液がすべて石英セル57
の下側から配管58内に仮排出される。したがって、石
英セル57内は空気で充満されるが、石英セル57内に
供給される空気が石英セル57の内壁面に付着されてい
る気泡を舐めることにより、気泡が弾けて供給された空
気中に吸収される。
と第3ポートとが接続され、また第4の三方バルブ
59の第1ポートと第3ポートとが接続された状態
において、空気用シリンジ55が吸引駆動すると、石英
セル57内の空気がすべて石英セル57の上側から排出
され、配管58内に仮排出された希釈処理液が石英セル
57内に戻される。この場合、配管58内に仮排出され
た希釈処理液が石英セル57内に戻されるだけであり、
石英セル57内の空気を巻き込むことはない。したがっ
て、石英セル57の内壁面に気泡が付着することもな
い。
た光のうち波長220nmの光が220nmバンドパス
フィルタ63、石英セル57および石英セル57内の希
釈処理液を透過し、この透過光がフォトダイオード65
に入射される。この場合も、波長220nmの光を透過
させているので、石英セル57内の希釈処理液中の硝酸
の濃度に応じた透過光がフォトダイオード65に入射さ
れる。すると、フォトダイオード65はこの入射光量に
応じた検出信号を制御部に送出する。制御部は、この検
出信号に基づいて、このときのつまり希釈処理液の透過
率を算出し、この希釈処理液透過率算出値を一時的に記
憶する。ここで、石英セル57の内壁面には気泡が付着
していないので、透過光量が低下することがなく、正確
に測定することができる。
と第3ポートとが接続され、また第4の三方バルブ
59の第1ポートと第3ポートとが接続された状態
において、第2のポンプ62が一定時間駆動すると、石
英セル57内の希釈処理液および中間タンク51内に残
っている希釈処理液が排出管61を介して排出される。
また、第1の三方バルブ38の第2ポートと第3ポー
トとが接続され、またインジェクションバルブ41の
第1ポートと第6ポートとが接続された状態におい
て、処理液用シリンジ44が排出駆動すると、処理液用
シリンジ44内の処理液32が排出管39を介して排出
される。
透過率算出値(基準値)および希釈処理液透過率算出値
に基づいて、処理液タンク31内の処理液32中の硝酸
の濃度を算出し、この硝酸濃度が設定濃度よりも低いか
否かを判断する。低いと判断した場合には、第1のポン
プ34を所定時間駆動させ、硝酸タンク35内の硝酸3
6を処理液タンク31内に補給する。この場合、上述の
如く、石英セル57の希釈処理液の透過率を正確に測定
することができるので、処理液タンク31内の処理液3
2中の硝酸の濃度を正確に測定することができる。
ば、測定用セル内に戻された処理液中に気泡が混在しな
いようにすることができるので、測定用セルの内壁面に
気泡が付着しないようにすることができ、ひいては透過
光量が低下せず、処理液中の所定の液の濃度を正確に測
定することができる。
濃度制御装置の概略構成図。
略構成図。
Claims (10)
- 【請求項1】 処理液タンク内の混合液からなる処理液
またはこの処理液を純水で希釈してなる処理液を測定用
セル内に供給し、前記測定用セル内にその一方の側から
気体を供給して、前記測定用セル内の処理液をすべて前
記測定用セルの他方の側から仮排出し、しかる後、前記
測定用セル内の気体をすべて排出するとともに、仮排出
された処理液を前記測定用セル内に戻し、この戻された
処理液の濃度を直接的または間接的に測定し、この濃度
が設定濃度よりも低いとき前記処理液タンク内に所定の
液を補給することを特徴とする処理液の濃度制御方法。 - 【請求項2】 請求項1に記載の発明において、前記処
理液はアルミニウムのエッチング液であることを特徴と
する処理液の濃度制御方法。 - 【請求項3】 請求項2に記載の発明において、前記エ
ッチング液はリン酸、硝酸、酢酸、水からなる混酸であ
ることを特徴とする処理液の濃度制御方法。 - 【請求項4】 請求項3に記載の発明において、前記所
定の液は硝酸であることを特徴とする処理液の濃度制御
方法。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の発明に
おいて、前記気体は空気であることを特徴とする処理液
の濃度制御方法。 - 【請求項6】 処理液タンク内の混合液からなる処理液
またはこの処理液を純水で希釈してなる処理液を測定用
セル内に供給し、前記測定用セル内の処理液中の所定の
液の濃度を直接的または間接的に測定し、この濃度が設
定濃度よりも低いとき前記処理液タンク内に所定の液を
補給するようにした処理液の濃度制御装置において、前
記測定用セル内にその一方の側から気体を供給し、且
つ、吸引する気体供給吸引手段を備え、前記測定用セル
内に処理液を供給した後、前記気体供給吸引手段から前
記測定用セル内にその一方の側から気体を供給すること
により、前記測定用セル内の処理液をすべて前記測定用
セルの他方の側から仮排出し、しかる後、前記測定用セ
ル内の気体をすべて排出するとともに、仮排出された処
理液を前記透明セル内に戻し、この戻された処理液の濃
度を測定するようにしたことを特徴とする処理液の濃度
制御装置。 - 【請求項7】 請求項6に記載の発明において、前記処
理液はアルミニウムのエッチング液であることを特徴と
する処理液の濃度制御装置。 - 【請求項8】 請求項7に記載の発明において、前記エ
ッチング液はリン酸、硝酸、酢酸、水からなる混酸であ
ることを特徴とする処理液の濃度制御装置。 - 【請求項9】 請求項8に記載の発明において、前記所
定の液は硝酸であることを特徴とする処理液の濃度制御
装置。 - 【請求項10】 請求項6に記載の発明において、前
記気体は空気であることを特徴とする処理液の濃度制御
装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000396589A JP3430293B2 (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 処理液の濃度制御方法およびその装置 |
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JP2000396589A JP3430293B2 (ja) | 2000-12-27 | 2000-12-27 | 処理液の濃度制御方法およびその装置 |
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---|---|
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