JP2001073138A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
- Publication number
- JP2001073138A JP2001073138A JP25313899A JP25313899A JP2001073138A JP 2001073138 A JP2001073138 A JP 2001073138A JP 25313899 A JP25313899 A JP 25313899A JP 25313899 A JP25313899 A JP 25313899A JP 2001073138 A JP2001073138 A JP 2001073138A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cassette
- substrate
- chamber
- door
- closed
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板の扱いを容易にして落下の危険を防止
し、かつカセットをカセットチャンバに格納する作業の
容易化を図る。 【解決手段】 カセットチャンバ２１の側壁部２２には
扉部２３がヒンジ２６によって９０°回転可能に設けら
れ、手前側に倒して開いた状態として水平になった扉部
２３の内面に、基板が収納されたカセット１２をセット
し、その後、扉部２３を矢印Ａとは反対方向に回転させ
て閉じると、カセット１２が９０°回転させられた状態
でカセットチャンバ２１内に格納される。そのため、カ
セット１２を扉部２３の内面にセットするときは、基板
が垂直になるようにすれば、扉部２３が閉じられたとき
基板は水平になって搬送機構により搬送可能な状態とな
る。
し、かつカセットをカセットチャンバに格納する作業の
容易化を図る。 【解決手段】 カセットチャンバ２１の側壁部２２には
扉部２３がヒンジ２６によって９０°回転可能に設けら
れ、手前側に倒して開いた状態として水平になった扉部
２３の内面に、基板が収納されたカセット１２をセット
し、その後、扉部２３を矢印Ａとは反対方向に回転させ
て閉じると、カセット１２が９０°回転させられた状態
でカセットチャンバ２１内に格納される。そのため、カ
セット１２を扉部２３の内面にセットするときは、基板
が垂直になるようにすれば、扉部２３が閉じられたとき
基板は水平になって搬送機構により搬送可能な状態とな
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、基板表面をエッ
チングしたり、スパッタリングあるいはプラズマＣＶＤ
によって成膜したりする基板処理装置に関し、とくに、
磁気ディスク基板や光磁気ディスク基板等のディスク基
板を製造するのに好適な基板処理装置に関する。
チングしたり、スパッタリングあるいはプラズマＣＶＤ
によって成膜したりする基板処理装置に関し、とくに、
磁気ディスク基板や光磁気ディスク基板等のディスク基
板を製造するのに好適な基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク記録装置の記録媒体であ
る磁気ディスク基板は、通常、ガラスやアルミニウム等
のディスク基板の表面の表面をエッチング（クリーニン
グ）した後、クロム等の下地層（配向層）、コバルト等
の磁性層を順次成膜し、さらにその上に保護膜を設けて
作られる。また、光磁気ディスク基板は、プラスチック
のディスク基板の表面をエッチングによってクリーニン
グした後、ＳｉＮ層、磁性層（反射層）を順次設け、さ
らにＳｉＮ層を設けた後最後に保護層を成膜して作られ
る。通常、磁性層等はスパッタリングにより成膜し、保
護層はプラズマＣＶＤによって成膜する。
る磁気ディスク基板は、通常、ガラスやアルミニウム等
のディスク基板の表面の表面をエッチング（クリーニン
グ）した後、クロム等の下地層（配向層）、コバルト等
の磁性層を順次成膜し、さらにその上に保護膜を設けて
作られる。また、光磁気ディスク基板は、プラスチック
のディスク基板の表面をエッチングによってクリーニン
グした後、ＳｉＮ層、磁性層（反射層）を順次設け、さ
らにＳｉＮ層を設けた後最後に保護層を成膜して作られ
る。通常、磁性層等はスパッタリングにより成膜し、保
護層はプラズマＣＶＤによって成膜する。
【０００３】従来、基板に対するこれらの処理は、一貫
工程として行われている。すなわち、エッチング、スパ
ッタリング、プラズマＣＶＤの各処理を行う真空チャン
バを並べて、一つの基板をこれら各真空チャンバに順次
送ることにより、一貫工程として行う。そのため、真空
中で基板を搬送する機構（通常ロボットアームで基板を
把持して搬送する）が設けられる。そして、複数の基板
をカセットに収納した上で、この一貫処理装置に格納
し、ロボットアームにより基板を一枚ずつ引き出して、
これらの処理を受けさせるようにしている。各処理自体
は同時並行的に行われる。エッチングの終わった基板は
スパッタ用チャンバに送られ、スパッタにより磁性層の
成膜の終わった基板はプラズマＣＶＤ用チャンバに送ら
れ、空になったエッチング用チャンバには新たな基板が
送られるということが同時に行われて、これらの３枚の
基板の各々についての各処理が同時に行われる。
工程として行われている。すなわち、エッチング、スパ
ッタリング、プラズマＣＶＤの各処理を行う真空チャン
バを並べて、一つの基板をこれら各真空チャンバに順次
送ることにより、一貫工程として行う。そのため、真空
中で基板を搬送する機構（通常ロボットアームで基板を
把持して搬送する）が設けられる。そして、複数の基板
をカセットに収納した上で、この一貫処理装置に格納
し、ロボットアームにより基板を一枚ずつ引き出して、
これらの処理を受けさせるようにしている。各処理自体
は同時並行的に行われる。エッチングの終わった基板は
スパッタ用チャンバに送られ、スパッタにより磁性層の
成膜の終わった基板はプラズマＣＶＤ用チャンバに送ら
れ、空になったエッチング用チャンバには新たな基板が
送られるということが同時に行われて、これらの３枚の
基板の各々についての各処理が同時に行われる。
【０００４】そのため、基板をカセットに収納すると
き、従来では、図５に示すように、基板１１を把持具１
３で水平に保持しながらカセット１２に挿入する。これ
により、複数の基板１１は水平となってカセット１２に
収納された状態となる。そこで、このカセット１２をそ
のまま、図６に示すように、カセットチャンバ内のカセ
ットホルダ部２９にセットすることになる。
き、従来では、図５に示すように、基板１１を把持具１
３で水平に保持しながらカセット１２に挿入する。これ
により、複数の基板１１は水平となってカセット１２に
収納された状態となる。そこで、このカセット１２をそ
のまま、図６に示すように、カセットチャンバ内のカセ
ットホルダ部２９にセットすることになる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、基板は
通常大型（直径２０ｃｍほど）であって重く、これを水
平に把持してカセットに挿入する（図５）のでは、作業
は難しく、基板を落下させてしまう危険性が高い、とい
う問題がある。また、図６のようにカセット１２をカセ
ットチャンバ内のカセットホルダ部２９に置く必要があ
り、カセットチャンバの容積を大きくしないと、このカ
セット１２をカセットホルダ部２９に置く作業がやり難
い問題があり、さらにカセット１２をカセットホルダ部
２９に置いたときに基板１１の位置がずれたりするとい
う問題もある。
通常大型（直径２０ｃｍほど）であって重く、これを水
平に把持してカセットに挿入する（図５）のでは、作業
は難しく、基板を落下させてしまう危険性が高い、とい
う問題がある。また、図６のようにカセット１２をカセ
ットチャンバ内のカセットホルダ部２９に置く必要があ
り、カセットチャンバの容積を大きくしないと、このカ
セット１２をカセットホルダ部２９に置く作業がやり難
い問題があり、さらにカセット１２をカセットホルダ部
２９に置いたときに基板１１の位置がずれたりするとい
う問題もある。
【０００６】この発明は、上記に鑑み、基板をカセット
に収納する作業の容易化、およびカセットをカセットチ
ャンバに格納する作業の合理化を図るようにした、基板
処理装置を提供することを目的とする。
に収納する作業の容易化、およびカセットをカセットチ
ャンバに格納する作業の合理化を図るようにした、基板
処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、この発明による基板処理装置においては、基板を処
理する処理室と、基板が収納されたカセットを格納して
おくカセット室と、基板をカセット室と処理室との間で
搬送する搬送機構が設けられた搬送室と、カセット室の
側壁部に、垂直面内で９０°回転可能に設けられ、手前
側に倒すようにして開き、上側に持ち上げるようにして
立てて閉じる開閉扉部と、該扉部の内面下部に取り付け
られた昇降装置とが備えられることが特徴となってい
る。
め、この発明による基板処理装置においては、基板を処
理する処理室と、基板が収納されたカセットを格納して
おくカセット室と、基板をカセット室と処理室との間で
搬送する搬送機構が設けられた搬送室と、カセット室の
側壁部に、垂直面内で９０°回転可能に設けられ、手前
側に倒すようにして開き、上側に持ち上げるようにして
立てて閉じる開閉扉部と、該扉部の内面下部に取り付け
られた昇降装置とが備えられることが特徴となってい
る。
【０００８】カセット室の側壁部には開閉扉部が設けら
れている。この開閉扉部は、垂直面内で９０°回転可能
に保持されており、手前側に倒せば開いた状態とするこ
とができ、上側に持ち上げるようにして立てれば閉じた
状態にすることができる。そこで、開いた状態では扉部
が水平状態となっていて、その内面が上向きになってい
て、そこに、基板が収納されたカセットをセットするこ
とができる。こうしてカセットのセットが終わったと
き、扉部を上側に持ち上げるようにして立てて閉じれ
ば、扉部およびカセットは、セットされた状態から９０
°回転した状態となる。そのため、開いた状態の扉部上
面にカセットをセットするときは、カセットをそのなか
の基板が垂直になっているような方向でこれを行えば、
閉じたとき９０°回転して基板が水平な状態になる。そ
して、このとき昇降装置によって基板はカセットごと昇
降させられ、搬送機構と位置合わせさせられる。基板は
水平に保持され、かつ搬送機構に対して位置合わせさせ
られるので、搬送機構によって容易に搬送される。カセ
ットを扉部上面に置くとき、カセット内部の基板が垂直
な方向となっているため、この状態のカセットに対して
基板を垂直方向から挿入することによって基板をカセッ
トに収納することができる。このように垂直方向から基
板を挿入することができるので、その作業は容易なもの
となる。また、開いた扉部の上面にカセットをセットし
た後、その扉部を上に持ち上げて９０°回転させて立て
れば扉部は閉じられ、しかも基板は水平な状態となるた
め、カセットのカセット室への格納作業が合理化されて
容易なものとなる。
れている。この開閉扉部は、垂直面内で９０°回転可能
に保持されており、手前側に倒せば開いた状態とするこ
とができ、上側に持ち上げるようにして立てれば閉じた
状態にすることができる。そこで、開いた状態では扉部
が水平状態となっていて、その内面が上向きになってい
て、そこに、基板が収納されたカセットをセットするこ
とができる。こうしてカセットのセットが終わったと
き、扉部を上側に持ち上げるようにして立てて閉じれ
ば、扉部およびカセットは、セットされた状態から９０
°回転した状態となる。そのため、開いた状態の扉部上
面にカセットをセットするときは、カセットをそのなか
の基板が垂直になっているような方向でこれを行えば、
閉じたとき９０°回転して基板が水平な状態になる。そ
して、このとき昇降装置によって基板はカセットごと昇
降させられ、搬送機構と位置合わせさせられる。基板は
水平に保持され、かつ搬送機構に対して位置合わせさせ
られるので、搬送機構によって容易に搬送される。カセ
ットを扉部上面に置くとき、カセット内部の基板が垂直
な方向となっているため、この状態のカセットに対して
基板を垂直方向から挿入することによって基板をカセッ
トに収納することができる。このように垂直方向から基
板を挿入することができるので、その作業は容易なもの
となる。また、開いた扉部の上面にカセットをセットし
た後、その扉部を上に持ち上げて９０°回転させて立て
れば扉部は閉じられ、しかも基板は水平な状態となるた
め、カセットのカセット室への格納作業が合理化されて
容易なものとなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】つぎに、この発明の実施の形態に
ついて図面を参照しながら詳細に説明する。図１に示す
ように、カセットチャンバ２１の側壁部２２には開閉で
きる扉部２３が設けられている。この扉部は、側壁部２
２に設けたヒンジ２６によって垂直面内で９０°回転可
能に保持されている。つまり、矢印Ａに示すように手前
側に倒せば開いた状態とすることができ、図２に示すよ
うに、矢印Ｃ方向（矢印Ａとは反対方向）に回転させ
て、扉部２３を上側に持ち上げるようにして立てれば閉
じた状態にすることができる。
ついて図面を参照しながら詳細に説明する。図１に示す
ように、カセットチャンバ２１の側壁部２２には開閉で
きる扉部２３が設けられている。この扉部は、側壁部２
２に設けたヒンジ２６によって垂直面内で９０°回転可
能に保持されている。つまり、矢印Ａに示すように手前
側に倒せば開いた状態とすることができ、図２に示すよ
うに、矢印Ｃ方向（矢印Ａとは反対方向）に回転させ
て、扉部２３を上側に持ち上げるようにして立てれば閉
じた状態にすることができる。
【００１０】この扉部２３は図１、図２に示すようにＬ
字形になっており、その壁部内に昇降装置２４が内蔵さ
れている。この昇降装置２４は、その爪２５を昇降させ
るものである。爪２５はカセット１２の底面（図２、図
１では側面）に嵌合するようになっており、この爪２５
が動くことによってカセット１２を上昇または下降させ
ることができる。昇降装置２４はたとえばボルト・ナッ
ト機構などにより構成することができる。すなわち、ボ
ルトをモーターで回転させて、このボルトに螺合してい
るナットを直線移動させることとして、このナットに固
定された爪２５を昇降させる。
字形になっており、その壁部内に昇降装置２４が内蔵さ
れている。この昇降装置２４は、その爪２５を昇降させ
るものである。爪２５はカセット１２の底面（図２、図
１では側面）に嵌合するようになっており、この爪２５
が動くことによってカセット１２を上昇または下降させ
ることができる。昇降装置２４はたとえばボルト・ナッ
ト機構などにより構成することができる。すなわち、ボ
ルトをモーターで回転させて、このボルトに螺合してい
るナットを直線移動させることとして、このナットに固
定された爪２５を昇降させる。
【００１１】まず、図１の矢印Ａに示すように扉部２３
を倒して開ける。このとき、扉部２３は水平になってい
てその内面は上方を向いている。この内面上にカセット
１２を置く。カセット１２を手で保持するなどして矢印
Ｂ方向に移動させ、カセット１２の側面（図１では左側
面）が爪２５を押すようにする。すると爪２５はいった
ん傾いた後、バネで戻り、カセット１２の側面に設けら
れた引っ掛かり孔にかみ合って嵌合する。この爪２５と
カセット１２の側面との引っ掛かり結合関係およびその
ための具体的な構成は種々に考えられ、詳しい説明は省
略する。
を倒して開ける。このとき、扉部２３は水平になってい
てその内面は上方を向いている。この内面上にカセット
１２を置く。カセット１２を手で保持するなどして矢印
Ｂ方向に移動させ、カセット１２の側面（図１では左側
面）が爪２５を押すようにする。すると爪２５はいった
ん傾いた後、バネで戻り、カセット１２の側面に設けら
れた引っ掛かり孔にかみ合って嵌合する。この爪２５と
カセット１２の側面との引っ掛かり結合関係およびその
ための具体的な構成は種々に考えられ、詳しい説明は省
略する。
【００１２】つぎに図２に示すように、扉部２３が自動
的に矢印Ｃ方向に回転し扉部２３が閉じられる。この状
態では、カセット１２は扉部２３とともに９０°回転し
た状態となる。このとき、昇降装置２４の爪２５が矢印
Ｄのように上昇してきて、カセット１２が上昇させられ
る。これにより図示しないロボットアームなどの搬送機
構との高さ合わせがなされ、カセット１２内の基板１１
が取り出し可能となる。上記のように扉部２３を回転さ
せて閉じるとき、いわば、縦のものが横になるため、開
いた扉部２３上にカセット１２をセットするときに基板
１１が縦になっていれば、閉じたときに基板１１は横
（水平）になり、搬送機構によってカセット１２から取
り出したりすることができる状態となる。
的に矢印Ｃ方向に回転し扉部２３が閉じられる。この状
態では、カセット１２は扉部２３とともに９０°回転し
た状態となる。このとき、昇降装置２４の爪２５が矢印
Ｄのように上昇してきて、カセット１２が上昇させられ
る。これにより図示しないロボットアームなどの搬送機
構との高さ合わせがなされ、カセット１２内の基板１１
が取り出し可能となる。上記のように扉部２３を回転さ
せて閉じるとき、いわば、縦のものが横になるため、開
いた扉部２３上にカセット１２をセットするときに基板
１１が縦になっていれば、閉じたときに基板１１は横
（水平）になり、搬送機構によってカセット１２から取
り出したりすることができる状態となる。
【００１３】このことは、カセット１２をカセットチャ
ンバ２１に格納するときに、カセット１２を横にした状
態つまりカセット１２内の基板１１が縦になっている状
態で、このカセット１２を取り扱うことができることを
意味する。そのため、基板１１をカセット１２に収納さ
せるときには、図３に示すように、基板１１を把持具１
３で縦に（垂直に）保持して垂直方向に挿入させること
ができる。これにより、基板１１が大型で重いものであ
っても、扱いが容易になって、落下させたりする危険性
が減少させられる。
ンバ２１に格納するときに、カセット１２を横にした状
態つまりカセット１２内の基板１１が縦になっている状
態で、このカセット１２を取り扱うことができることを
意味する。そのため、基板１１をカセット１２に収納さ
せるときには、図３に示すように、基板１１を把持具１
３で縦に（垂直に）保持して垂直方向に挿入させること
ができる。これにより、基板１１が大型で重いものであ
っても、扱いが容易になって、落下させたりする危険性
が減少させられる。
【００１４】カセットチャンバ（ＣＣ室）２１は、図４
に示すようにトランスファチャンバ（ＴＣ室）３１に連
結されており、トランスファチャンバ３１はエッチング
チャンバ（ＥＣ室）３２、スパッタチャンバ（ＳＣ室）
３３およびプロセスチャンバ（ＰＣ室）３４に連結され
ている。これらチャンバの連結体は、全体として、磁気
ディスク基板の一貫製造装置を形成している。すなわ
ち、カセット１２が上記のようにしてカセットチャンバ
２１に格納されると、排気されて真空とされ、トランス
ファチャンバ３１との間の隔壁が後退して連通した状態
となる。トランスファチャンバ３１、エッチングチャン
バ３２、スパッタチャンバ３３およびプロセスチャンバ
３４はあらかじめ真空状態とされており、真空のなかで
基板１１の搬送がなされる。
に示すようにトランスファチャンバ（ＴＣ室）３１に連
結されており、トランスファチャンバ３１はエッチング
チャンバ（ＥＣ室）３２、スパッタチャンバ（ＳＣ室）
３３およびプロセスチャンバ（ＰＣ室）３４に連結され
ている。これらチャンバの連結体は、全体として、磁気
ディスク基板の一貫製造装置を形成している。すなわ
ち、カセット１２が上記のようにしてカセットチャンバ
２１に格納されると、排気されて真空とされ、トランス
ファチャンバ３１との間の隔壁が後退して連通した状態
となる。トランスファチャンバ３１、エッチングチャン
バ３２、スパッタチャンバ３３およびプロセスチャンバ
３４はあらかじめ真空状態とされており、真空のなかで
基板１１の搬送がなされる。
【００１５】トランスファチャンバ３１には、ロボット
アームおよびそれを駆動する駆動機構などの搬送機構が
納められており、上記のようにカセットチャンバ２１内
でカセット１２の高さ合わせが行われたときに、ロボッ
トアーム等が基板１１を把持して搬送する。基板１１は
まずエッチングチャンバ３２に送られて逆スパッタリン
グ法等によりエッチングされてその表面のクリーニング
が行われる。その後、スパッタチャンバ３３に送られて
スパッタリングにより磁性層等の成膜が行われ、さらに
その後、プロセスチャンバ３４に送られてプラズマＣＶ
Ｄによる保護層成膜が行われる。これが複数の基板１１
について同時並行的に行われ、効率性が高められる。
アームおよびそれを駆動する駆動機構などの搬送機構が
納められており、上記のようにカセットチャンバ２１内
でカセット１２の高さ合わせが行われたときに、ロボッ
トアーム等が基板１１を把持して搬送する。基板１１は
まずエッチングチャンバ３２に送られて逆スパッタリン
グ法等によりエッチングされてその表面のクリーニング
が行われる。その後、スパッタチャンバ３３に送られて
スパッタリングにより磁性層等の成膜が行われ、さらに
その後、プロセスチャンバ３４に送られてプラズマＣＶ
Ｄによる保護層成膜が行われる。これが複数の基板１１
について同時並行的に行われ、効率性が高められる。
【００１６】なお、上の説明はこの発明の一つの実施形
態に関するものであり、この発明が上の説明の態様にの
み限定される趣旨ではないことはもちろんである。たと
えば、一貫処理装置は図４のような構成には限定されな
いし、搬送装置もロボットアームに限られるわけではな
い。
態に関するものであり、この発明が上の説明の態様にの
み限定される趣旨ではないことはもちろんである。たと
えば、一貫処理装置は図４のような構成には限定されな
いし、搬送装置もロボットアームに限られるわけではな
い。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の基板処
理装置によれば、不注意によって基板を落下させてしま
う事故が起こる確率を減少させることができるととも
に、カセットチャンバ内へのカセットの格納作業を容易
にすることができる。
理装置によれば、不注意によって基板を落下させてしま
う事故が起こる確率を減少させることができるととも
に、カセットチャンバ内へのカセットの格納作業を容易
にすることができる。
【図１】この発明の実施の形態を扉を開いた状態で示す
模式的な断面図。
模式的な断面図。
【図２】同実施の形態を扉を閉じた状態で示す模式的な
断面図。
断面図。
【図３】同実施形態において基板が挿入される状態のカ
セットを模式的に示す斜視図。
セットを模式的に示す斜視図。
【図４】同実施形態にかかる一貫処理装置を示すブロッ
ク図。
ク図。
【図５】従来例において基板が挿入される状態のカセッ
トを模式的に示す斜視図。
トを模式的に示す斜視図。
【図６】従来例においてセットされる状態のカセットを
示す模式的な断面図。
示す模式的な断面図。
【符号の説明】 １１ 基板 １２ カセット １３ 把持具 ２１ カセットチャンバ ２２ カセットチャンバ側壁部 ２３ カセットチャンバ扉部（カセットホルダ部） ２４ 昇降装置 ２５ 爪 ２６ ヒンジ ２９ 従来のカセットホルダ部 ３１ トランスファチャンバ ３２ エッチングチャンバ ３３ スパッタチャンバ ３４ プロセスチャンバ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ａ
Claims (1)
- 【請求項１】 基板を処理する処理室と、基板が収納さ
れたカセットを格納しておくカセット室と、基板をカセ
ット室と処理室との間で搬送する搬送機構が設けられた
搬送室と、カセット室の側壁部に、垂直面内で９０°回
転可能に設けられ、手前側に倒すようにして開き、上側
に持ち上げるようにして立てて閉じる開閉扉部と、該扉
部の内面下部に取り付けられた昇降装置とを備えること
を特徴とする基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25313899A JP2001073138A (ja) | 1999-09-07 | 1999-09-07 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25313899A JP2001073138A (ja) | 1999-09-07 | 1999-09-07 | 基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001073138A true JP2001073138A (ja) | 2001-03-21 |
Family
ID=17247049
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25313899A Pending JP2001073138A (ja) | 1999-09-07 | 1999-09-07 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001073138A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003536247A (ja) * | 2000-06-06 | 2003-12-02 | ブルックス オートメーション インコーポレイテッド | 材料搬送システム |
| JP2009302106A (ja) * | 2008-06-10 | 2009-12-24 | Tokyo Electron Ltd | チャンバ及び処理装置 |
| US20120091871A1 (en) * | 2010-10-18 | 2012-04-19 | Jusung Engineering Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and method of disassembling and assembling the same |
| CN115367464A (zh) * | 2022-10-25 | 2022-11-22 | 泉意光罩光电科技(济南)有限公司 | 一站式多功能光罩和基板转移设备和方法 |
-
1999
- 1999-09-07 JP JP25313899A patent/JP2001073138A/ja active Pending
Cited By (7)
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