JP2001066415A

JP2001066415A - カラーフィルタとその製造方法、該カラーフィルタを用いた液晶素子

Info

Publication number: JP2001066415A
Application number: JP24266899A
Authority: JP
Inventors: Hideaki Takao; 英昭高尾; Shoji Shiba; 昭二芝
Original assignee: Canon Inc
Current assignee: Canon Inc
Priority date: 1999-08-30
Filing date: 1999-08-30
Publication date: 2001-03-16

Abstract

(57)【要約】【課題】表面の平坦性に優れたカラーフィルタを簡易
な工程で作製する。【解決手段】透明基板１上に、加熱溶融硬化型樹脂組
成物からなるインク受容層３を形成し、インクジェット
方式によりインク８を付与して被着色部６を着色した
後、熱処理を施し、インク受容層を軟化、溶融状態を経
て硬化させ、着色部９を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、カラーテレビ、パ
ーソナルコンピュータ、パチンコ遊技台等に使用される
液晶素子の構成部材であるカラーフィルタとその製造方
法に関し、さらには該カラーフィルタを用いてなる液晶
素子に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピュータの発達、
特に携帯用パーソナルコンピュータの発達に伴い、カラ
ー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しか
しながら、さらなる普及のためには、特にコスト的に比
重の高いカラーフィルタのコストダウンに対する要求が
高まっている。

【０００３】従来、カラーフィルタの製造方法として
は、透明基板上に、ゼラチン、カゼイン、グリュー或い
はポリビニルアルコール等の親水性高分子からなる媒染
層を設けた後、該媒染層を染料色素にて染色してカラー
フィルタの着色部を形成する染色法や、顔料等の着色剤
が透明樹脂中に分散されている感光性着色樹脂を用いて
均一層を形成し、該感光性着色樹脂層をフォトリソグラ
フィーによりパターニングして着色部を形成する顔料分
散法等が知られている。

【０００４】しかしながら、上記染色法は、各色毎に媒
染層の媒染処理を行うという複雑な工程を必要とするた
め、生産性、歩留等の点で問題があり、特に生産コスト
的に不利である。また、顔料分散法の場合には、高価な
感光性着色樹脂をスピンコート法により基板上に塗布
し、感光性着色樹脂層を形成しているために、感光性着
色樹脂の利用効率が非常に悪く、生産コスト的に不利で
ある。

【０００５】これに対し、より簡便な工程で生産コスト
的に有利な方法として、インクジェット方式を用いたカ
ラーフィルタの製造方法が、特開昭５９−７５２０５号
公報、特開昭６３−２３５９０１号公報、特開平１−２
１７３０２号公報等に示されている。

【０００６】これらのインクジェット方式によるカラー
フィルタの製造方法では、透明基板上に塗布形成したイ
ンク受容層にインクジェット記録装置よりインクを付与
して浸透させ、着色部を形成する方法がとられている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記非
着色部を形成したインク受容層にインクジェット方式に
よりインクを付与して着色した場合、付与するインク量
によっては、平坦なインク受容層がインクを吸収して膨
潤し、凸形状に膨らむといった現象が生じる。

【０００８】近年、液晶素子においては、大画面化や高
精細化の方向に進み、より高い表示性能を得るために
は、セルギャップの均一性に大きく影響を及ぼすカラー
フィルタの平坦均一化が強く望まれている。

【０００９】このような要求に対し、より平坦性に優れ
たカラーフィルタを得るためには、一般的には平坦能力
の高い保護層を用いる方法等が実施されているが、カラ
ーフィルタの形状依存性が高く、また、各着色部間段差
の影響を大きく受け、且つカラーフィルタの低コスト化
の要求に対して厚膜の保護層を形成できない等の数々の
課題を有していた。

【００１０】インクジェット方式によるカラーフィルタ
においても、凸形状に膨潤した着色部を平坦化するため
には、信頼性を始め、諸特性に優れ、且つ平坦性に優れ
た保護層を選定しなければならず、場合によっては厚膜
化が必要であり、カラーフィルタの低コスト化に大きく
影響を及ぼすものであった。

【００１１】本発明の目的は、上記問題点を解決し、簡
単な工程で表示品位の高いカラーフィルタを提供するこ
とにあり、特に、インクジェット方式を用い、混色や色
濃度分布が無く、表面平坦性に優れたカラーフィルタを
提供し、該カラーフィルタを用いて、表示品位の高い液
晶素子をより安価に提供することにある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明のカラーフィルタ
の製造方法は、透明基板上に着色部を有するカラーフィ
ルタの製造方法であって、透明基板上に加熱溶融硬化型
樹脂組成物からなるインク受容層を形成する工程と、上
記インク受容層にインクを付与して着色する工程と、着
色されたインク受容層に加熱処理を施して該インク受容
層を溶融、硬化させて着色部を形成する工程と、を少な
くとも有することを特徴とする。

【００１３】また、本発明のカラーフィルタは、透明基
板上に、加熱溶融硬化型樹脂組成物を着色、硬化してな
る着色部を有することを特徴とする。

【００１４】さらに、本発明の液晶素子は、一対の基板
間に液晶を狭持してなり、一方の基板が上記本発明のカ
ラーフィルタを用いて構成されていることを特徴とす
る。

【００１５】本発明のカラーフィルタの製造方法におい
ては、加熱溶融硬化型樹脂を用いて着色部を形成してい
るため、着色後に膨潤した形状を、加熱硬化処理の過程
で自動的に平坦化することができる。よって、本発明の
カラーフィルタは平坦性に優れ、厚膜の保護層を用いな
くても、該カラーフィルタを用いて表示性能に優れた液
晶素子を構成することが可能である。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１に本発明のカラーフィルタの
製造方法の一実施形態の工程図を示す。本実施形態は、
インク受容層を感光性樹脂組成物で形成し、予めパター
ン露光することによって隣接する着色部間に非着色部を
形成することによって、混色防止を図る形態である。

【００１７】図１中、１は透明基板、２はブラックマト
リクス、３はインク受容層、４はフォトマスク、５は非
着色部、６は被着色部、７はインクジェットヘッド、８
はインク、９は着色部、１０は保護層である。尚、図１
の（ａ）〜（ｆ）は以下の工程（ａ）〜（ｆ）にそれぞ
れ対応する断面模式図である。

【００１８】工程（ａ）透明基板１上に必要に応じてブラックマトリクス２を形
成し、インク受容層３を形成する。透明基板１として
は、通常ガラス基板が用いられるが、カラーフィルタと
しての透明性や機械的強度等必要な特性を備えていれ
ば、プラスチック板等適宜用いることができる。

【００１９】また、本発明においては、液晶素子上での
コントラストを向上させたり、隣接する着色部９相互の
混色を隠して色再現性を向上させるために、少なくとも
隣接する異なる色の着色部９間を包含する領域に遮光
層、即ちブラックマトリクス２や或いはブラックストラ
イプを設けることが好ましい。

【００２０】上記遮光層の形成材料としては、Ｃｒ、Ａ
ｌ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｎｉ等の金属や金属酸化物及びこれら
の金属からなる種々の合金を挙げることができる。ま
た、これらの金属を用いてメタル遮光層を形成する方法
としては、真空成膜法やメッキ法が挙げられる。本発明
においては、メタル遮光層は０．１〜２μｍ程度の膜厚
で設けることが好ましい。さらに、メタル遮光層を所望
のパターンに形成する場合のパターニングに関しては、
通常のフォトレジストを用いたフォトリソグラフィによ
って、パターニングやエッチング処理を施せばよい。ま
た、メタル遮光層のパターン幅は画素間遮光の観点か
ら、少なくとも、隣接着色部間幅と同等以上とすること
が好ましい。

【００２１】尚、必要に応じては、上記のような金属系
の遮光層パターンではなく、種々の樹脂に遮光材料を分
散させた遮光樹脂を用い、フォトリソグラフィ法によっ
てパターニングしたブラックマトリクスを用いても良
い。

【００２２】本発明において、インク受容層３を形成す
る材料としては、インク吸収性を有した加熱溶融硬化型
樹脂組成物である。即ち、インク８と化学的親和性を有
する化学構造を持つと共に、加熱処理により、軟化、溶
融状態をとり、その後加熱硬化反応が進むものを用い
る。特に、１００℃〜１５０℃で軟化、溶融状態をと
り、１５０℃〜２３０℃で硬化反応が進むような性質を
持つ組成物が好適である。

【００２３】このような組成物としては、例えば非感光
性のアクリル系樹脂をベースにした共重合体が好ましく
用いられるが、この他に、通常のアクリル系樹脂、ポリ
アミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、エポキシ系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、シリコーン系樹脂等の樹脂や、ゼラ
チン、カゼイン、グリュー等の天然物及びポリビニルア
ルコール系樹脂等が用いられる。また、これらの樹脂の
うちの任意のものを共重合或いはブレンドしたものが用
いられる。

【００２４】また、インク受容層３に非着色部５を形成
する場合には、ＵＶ光やＤｅｅｐ−ＵＶ光の照射による
光化学反応で選択的にインク吸収性を有する被着色部６
とインク吸収性が被着色部よりも低い（好ましくは、無
い）非着色部５を形成することができる、感光性樹脂組
成物を用いる。このような感光性樹脂組成物としては、
上記各樹脂に感光性を付与したものが挙げられる。

【００２５】特に、諸特性に優れた加熱溶融硬化型樹脂
の一例としては、下記一般式（１）で示される繰り返し
単位を有するアクリルポリマー成分、酸無水物、及び多
官能エポキシ化合物からなる組成物が挙げられ、インク
吸収性を持つ成分と共重合或いはブレンドすることによ
り一体化した組成物が好ましく用いられる。

【００２６】

【化１】（但し、ＲはＨまたはＣＨ₃）

【００２７】上記アクリルポリマー成分としては、上記
一般式（１）で示される繰り返し単位を形成するモノマ
ー成分として、グリシジルアクリレートまたはグリシジ
ルメタクリレート、或いはその両方を用い、必要に応じ
てアクリル酸、メタクリル酸エステル、或いはビニル基
を有する芳香族系化合物等を共重合したものであっても
良い。

【００２８】上記アクリルポリマー成分に他の共重合成
分を含める場合には、上記一般式（１）で示される構造
がモル比で３０％以上含まれていることが望ましい。ま
た、分子量としては、加熱処理での溶融状態による平坦
化を促進させるため、ある程度低い分子量が好ましく、
具体的には、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均
分子量で１０００〜５０００程度が望ましい。

【００２９】また、上記酸無水物としては、脂肪族系、
脂環式系及び芳香族系の酸無水物が挙げられるが、諸特
性の観点から特に芳香族系酸無水物が好ましい。具体的
には、例えば無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水
ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸等が
挙げられる。該酸無水物は、上記アクリルポリマー成分
に対し、重量比率で５〜１００％の範囲で用いられる。

【００３０】また、上記多官能エポキシ化合物は、主に
樹脂組成物の粘性の低下に重要で、具体的には、グリシ
ジルエステルエポキシ化合物、グリシジルエーテルエポ
キシ化合物、グリシジルアミンエポキシ化合物、フッ化
エポキシ化合物、ヒダントインエポキシ化合物、或い
は、シクロヘキセンオキサイド基やトリシクロデセンオ
キサイド基を有する脂環式エポキシ化合物等が挙げられ
るが、特に、グリシジルエステルエポキシ化合物や、フ
ッ化エポキシ化合物、ヒダントインエポキシ化合物が好
ましい。当該多官能エポキシ化合物は、アクリルポリマ
ー成分に対し、重量比率で１〜５０％の範囲で用いられ
る。

【００３１】尚、インク受容層３と透明基板１との接着
性を向上させる必要がある場合には、透明基板１上に予
めシランカップリング剤等を薄く塗布しておくか、或い
は、インク受容層３中にシランカップリング剤等を少量
添加したものを用いることが好ましい。このようにすれ
ば、インク受容層３と透明基板１との接着性を向上させ
ることができる。

【００３２】インク受容層３は、上記に例示したような
形成材料をスピンコート法、ロールコート法、印刷法等
により塗布、乾燥させて形成することができる。本発明
に係るインク受容層３の厚さは、０．１〜３．０μｍが
好ましく、特に好ましくは０．５〜２．０μｍである。

【００３３】工程（ｂ）フォトマスク４を用いて、インク受容層３をパターン露
光し、ホットプレート上でＰＥＢ（ポスト・エクスポー
ジャー・ベーク）処理して非着色部５を形成する。本実
施形態では露光によりインク吸収性を消失するタイプに
ついて示した。露光によりインク吸収性を発現するタイ
プの場合には、逆のパターンで露光すればよい。また、
後述するインク８付与時に隣接する被着色部６同士での
混色を防止するために、非着色部５が撥インク性を発現
するような成分をインク受容層３に付与しておいても良
い。

【００３４】さらに、非着色部５の幅はブラックマトリ
クス２よりも狭くなるように露光することが、着色部９
の外周近傍に発生する白抜けを防止する上で好ましい。

【００３５】工程（ｃ）着色すべき領域に所定の着色パターンに沿って、Ｒ
（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）のインク８を付与する。本
実施形態においては、インクジェットヘッド７により、
被着色部６にインクを付与する。

【００３６】本発明において用いられるインク８には、
有機顔料、無機顔料、染料等のうち所望の分光特性を得
られるものを適宜選択して、単独或いは混合して用いる
ことができる。また、該インク８の付与手段としては、
本実施形態に示したインクジェット方式が、１工程で複
数色のインクの付与が可能であるため好ましい。インク
ジェット方式においては、水溶性のインクが好ましく用
いられる。即ち、染料等の各種の着色剤を必要に応じて
添加剤と共に、水や有機溶剤等の溶媒に溶解或いは分散
させたインクが好ましく用いられる。

【００３７】本発明に好ましく用いられるインクジェッ
ト方式としては、エネルギー発生素子として電気熱変換
体を用いたバブルジェットタイプ、或いは圧電素子を用
いたピエゾジェットタイプ等が使用可能であり、着色面
積及び着色パターンは任意に設定することができる。

【００３８】工程（ｄ）必要に応じてインクを５０℃前後の低温で乾燥させる。
インク８を吸収した被着色部６は通常、膨潤して凸形状
の表面状態を有する。

【００３９】工程（ｅ）インク受容層全体の加熱溶融硬化処理を行う。処理温度
は用いた素材により異なり、適宜設定する。当該処理に
より、先ず樹脂の軟化、溶融状態をとり、着色された被
着色部６の凸形状の表面状態が平坦化される。次いで、
さらなる温度上昇と共に熱硬化反応が加速され、平坦化
された状態で熱硬化が進行し、平坦な表面を有する着色
部９が形成され、本発明のカラーフィルタが得られる。

【００４０】工程（ｆ）上記のようにして形成された本発明のカラーフィルタに
は、カラーフィルタがより優れた平坦性を要求される場
合や、各種の過激な環境条件から有効に保護するため
に、必要に応じて保護層１０を設けることが好ましい。

【００４１】本発明に用いられる保護層１０の材料とし
ては、例えば、アクリル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポ
リイミド系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネー
ト系樹脂及びシリコーン系樹脂等の透明樹脂素材や、Ｓ
ｉＮ₄、ＳｉＯ₂、ＳｉＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅等の無機
化合物が挙げられる。保護層１０を設ける方法として
は、スピンコート、ロールコート、印刷等の塗布法、或
いは蒸着法が挙げられる。また、保護層１０の厚みは、
０．１〜２．０μｍ程度とすることが好ましい。

【００４２】次に、本発明の液晶素子の一例を図２に示
す。図２は、図１（ｆ）に示した本発明のカラーフィル
タを用いて構成した液晶素子の一例の断面模式図であ
る。図中、１１は共通電極、１２，２３は配向膜、２１
は対向基板、２２は画素電極、２４は液晶である。本液
晶素子は、画素毎にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を配置
したアクティブマトリクスタイプ（いわゆるＴＦＴ型）
の液晶素子の一例である。

【００４３】カラー表示の液晶素子は、一般的にカラー
フィルタ側基板１と対向基板２１を合わせ込み、液晶２
４を封入することにより形成される。対向基板２１の内
側に、ＴＦＴ（図示しない）と透明な画素電極２２がマ
トリクス状に形成される。また、透明基板１の内側に
は、画素電極２２に対向する位置に、Ｒ、Ｇ、Ｂが配列
するようにカラーフィルタの着色部９が設置され、その
上に共通電極１１が一面に形成される。ブラックマトリ
クス２は、通常カラーフィルタ側に形成されるが、ＢＭ
オンアレイタイプの液晶素子においては対向基板２１側
に形成される。さらに、両基板の面内には配向膜１２，
２３が形成されており、これらをラビング処理すること
により液晶分子を一定方向に配列させることができる。
これらの基板はスペーサー（図示しない）等を介して対
向配置され、シール材（図示しない）によって貼り合わ
され、その間隙に液晶２４が充填される。

【００４４】上記液晶素子は、透過型の場合には両基板
の外側に偏光板を設置し、一般的に蛍光灯と散乱板を組
み合わせたバックライトを用い、反射型の場合には透明
基板１の外側に偏光板を設置して、それぞれ液晶２４を
光の透過率を変化させる光シャッターとして機能させる
ことにより表示を行う。

【００４５】上記実施形態においては、ＴＦＴ型の液晶
素子について説明したが、本発明は単純マトリクス型等
他の駆動タイプの液晶素子にも好ましく適用される。ま
た、本発明の液晶素子は直視型でも投写型でも好適に用
いられる。

【００４６】また、本発明の液晶素子においては、本発
明のカラーフィルタを用いて構成されていれば、他の部
材については従来の液晶素子の技術を用いることがで
き、液晶としても一般的に用いられているＴＮ型液晶や
強誘電性液晶等いずれも用いることができる。

【００４７】

【実施例】（実施例１）予めパターン状に形成されたブ
ラックマトリクスを有するガラス基板（コーニング社製
「１７３７」）上に、インク受容層として、グリシジル
メタクリレートを成分として含有する、インク吸収性を
有する加熱溶融硬化型アクリル系樹脂組成物（多官能エ
ポキシ化合物として３，４−エポキシシクロヘキシルメ
チル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
トを、酸無水物として無水トリメリット酸を含む）を用
い、スピンコートによって１．０μｍの膜厚に塗布形成
した。この基板を５０℃にて１０分間プリベークした
後、所望のパターン形状を有するフォトマスクを用い、
インク受容層に対してＤｅｅｐ−ＵＶ光で６０ｍＪ／ｃ
ｍ²の露光を行った。

【００４８】次いで、上記基板を１１０℃のホットプレ
ート上で６０秒間放置し、ＰＥＢ（ポスト・エクスポー
ジャー・ベーク）処理を行った後、染料をベースにした
Ｒ、Ｇ、Ｂの各インクを、インクジェット方式の描画装
置にて、所定の未露光領域（被着色部）に付与した。

【００４９】次に、９０℃にて１０分間の乾燥を行った
後、２３０℃にて１時間のポストベーク処理（加熱溶融
硬化処理）を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂの各着色部を有するカラ
ーフィルタを得た。得られたカラーフィルタは、特に表
面平坦性に優れたものであった。

【００５０】さらに、得られたカラーフィルタの表面に
アクリル系熱硬化型樹脂をスピンコートにより１．０μ
ｍの膜厚に塗布した。その後、９０℃で１０分間のプリ
ベーク処理を行った後、２３０℃で１時間のポストベー
ク処理を行い、保護層を形成した。

【００５１】得られた保護層付のカラーフィルタは、平
坦性はもとより信頼性等の諸特性に優れたものであっ
た。

【００５２】（実施例２）実施例１で作製したカラーフ
ィルタを用いて液晶素子を作製した。

【００５３】実施例１のカラーフィルタの保護層上に、
１０００Åの厚みのＩＴＯ電極層を形成し、さらに、該
電極層上に配向機能を付与したポリイミド樹脂からなる
膜厚１２００Åの絶縁層を形成した。

【００５４】次に、対向基板（アクティブマトリクス基
板）の形成工程について図３に沿って説明する。

【００５５】先ず、ガラス基板（コーニング社製「１７
３７」）３１上に１０００Åの厚さのＩＴＯ膜を形成
し、フォトリソ工程により所望のパターンに形成してＩ
ＴＯ画素電極３２を形成した（図３（ａ））。

【００５６】Ａｌを１０００Åの厚さに真空蒸着し、こ
の蒸着層をフォトリソ工程により所望の形状にパターニ
ングしてゲート電極３３を形成した（図３（ｂ））。

【００５７】次に、感光性ポリイミド（東レ社製「セミ
コファイン」）を基板全面に塗布して絶縁層３４を形成
し、パターン露光及び現像処理によってドレイン電極と
画素電極３２とのコンタクト部を構成するスルーホール
３５を形成した（図３（ｃ））。

【００５８】基板を堆積槽内の所定の位置にセットし、
堆積槽内にＨ₂で希釈されたＳｉＨ₄を導入し、真空中で
グロー放電法により、基板全面に２０００Åの厚さのａ
−Ｓｉからなる光導電層（イントリンシック層）３６を
堆積させた後、同様の操作によって１０００Åの厚さの
ｎ⁺層３７を堆積させた。この基板を堆積槽から取り出
し、前記ｎ⁺層３７及び光導電層３６をそれぞれ順にド
ライエッチング法により所望の形状にパターニングした
（図３（ｄ）、（ｅ））。

【００５９】基板全面にＡｌを１０００Åの厚さで真空
蒸着した後、このＡｌ蒸着層をフォトリソ工程により所
望の形状にパターニングして、ソース電極３８、ドレイ
ン電極３９を形成した（図４（ｆ））。

【００６０】基板全面に配向機能を付与した絶縁層４０
として、ポリイミド樹脂を１２００Åの厚さに塗布し、
２５０℃で１時間加熱処理して樹脂の硬化を行い、アク
ティブマトリクス基板を得た（図３（ｇ））。

【００６１】上記の用にして作製されたアクティブマト
リクス基板と、前記実施例１のカラーフィルタを用いて
形成された基板とを貼り合わせて液晶を封入し、液晶素
子を得た。

【００６２】得られた液晶素子は、平坦性に優れたカラ
ーフィルタを用いているため、特にカラー表示性能に優
れたものであった。

【００６３】

【発明の効果】本発明によれば、インク受容層にインク
を付与して着色部を形成するカラーフィルタの製造方
法、特に、インクジェット方式により着色部を形成する
製造方法において、特に特別な工程を経ることなく、簡
易なプロセスにより平坦性に優れたカラーフィルタが得
られ、該カラーフィルタを用いて、よりカラー表示品質
が高く信頼性に富む液晶素子を安価に提供することが可
能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一実施形
態の工程図である。

【図２】図２によるカラーフィルタを用いた、本発明の
液晶素子の一実施形態の断面模式図である。

【図３】本発明の実施例におけるアクティブマトリクス
基板の製造工程図である。

【符号の説明】

１透明基板２ブラックマトリクス３インク受容層４フォトマスク５非着色部６被着色部７インクジェットヘッド８インク９着色部１０保護層１１共通電極１２配向膜２１対向基板２２画素電極２３配向膜２４液晶３１ガラス基板３２画素電極３３ゲート電極３４絶縁層３５スルーホール３６光導電層３７ｎ⁺層３８ソース電極３９ドレイン電極４０絶縁層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2C056 EA24 FB01 FC06 HA46 2H048 BA64 BB02 BB14 BB23 BB37 BB44 2H091 FA02Y FB02 FC10 FC22 GA16 LA12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明基板上に着色部を有するカラーフィ
ルタの製造方法であって、透明基板上に加熱溶融硬化型
樹脂組成物からなるインク受容層を形成する工程と、上
記インク受容層にインクを付与して着色する工程と、着
色されたインク受容層に加熱処理を施して該インク受容
層を溶融、硬化させて着色部を形成する工程と、を少な
くとも有することを特徴とするカラーフィルタの製造方
法。
【請求項２】上記加熱溶融硬化型樹脂組成物が、１０
０℃〜１５０℃で軟化、溶融状態をとり、１５０℃〜２
３０℃で硬化反応が進む組成物である請求項１記載のカ
ラーフィルタの製造方法。
【請求項３】上記加熱溶融硬化型樹脂組成物が感光性
樹脂組成物であって、インク受容層を予めパターン露光
することにより、インク吸収性を有する被着色部と、隣
接する被着色部間に位置し、該被着色部よりもインク吸
収性の低い非着色部とを形成し、上記被着色部にインク
を付与して着色し、着色部を形成する請求項１または２
に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項４】インク受容層にインクを付与する手段
が、インクジェット方式である請求項１〜３のいずれか
に記載のカラーフィルタの製造方法。
【請求項５】透明基板上に、加熱溶融硬化型樹脂組成
物を着色、硬化してなる着色部を有することを特徴とす
るカラーフィルタ。
【請求項６】表面に保護層を有する請求項５記載のカ
ラーフィルタ。
【請求項７】一対の基板間に液晶を狭持してなり、一
方の基板が請求項５または６に記載のカラーフィルタを
用いて構成されていることを特徴とする液晶素子。