JP2001060530A - 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法 - Google Patents

積層セラミック電子部品の外部電極形成方法

Info

Publication number
JP2001060530A
JP2001060530A JP11234657A JP23465799A JP2001060530A JP 2001060530 A JP2001060530 A JP 2001060530A JP 11234657 A JP11234657 A JP 11234657A JP 23465799 A JP23465799 A JP 23465799A JP 2001060530 A JP2001060530 A JP 2001060530A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
laminated chip
element body
chip body
drying
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11234657A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Sato
博樹 佐藤
Masashige Omi
正成 近江
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TDK Corp
Original Assignee
TDK Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TDK Corp filed Critical TDK Corp
Priority to JP11234657A priority Critical patent/JP2001060530A/ja
Publication of JP2001060530A publication Critical patent/JP2001060530A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な工程の付加により、外部電極が形状的
にバラ付くのを確実に抑える。 【解決手段】 積層チップ素体1の端部に塗布する導電
性ペーストから外部電極2,3を形成する際、導電性ペ
ーストを積層チップ素体1の端部に塗布する前に、素体
面を疎にする温度により予熱乾燥処理を積層チップ素体
1に施す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明に属する技術分野】本発明は、均一な形状の外部
電極を積層チップ素体の両端部に形成する積層セラミッ
ク電子部品の外部電極形成方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、積層セラミック電子部品の外部
電極を形成するには、導電性ペーストを積層チップ素体
の端部面に塗布ローラで塗布,乾燥することにより下地
電極層を片端部毎に形成することが行われている。その
導電性ペーストとしてはAg,Ag/Pd,Cu等の導
電金属を主成分とし、ガラスフリット,樹脂バインダ及
び溶剤等を加えたものが用いられている。また、乾燥処
理は180〜200℃の温度で行われている。
【0003】その下地電極層を設けた後、積層チップ素
体は500℃以上の高温で焼成処理し、更に、回路基板
の配線パターと半田付けするのに濡れ性及び耐半田性を
向上するべく、Ni等のメッキ被膜を下地電極層に被着
すると共に、SnまたはSn/Pb等のメッキ被膜を被
着するメッキ処理を施すことにより外部電極として形成
することが行われている。
【0004】ところが、上述した下地電極層を形成する
際、図4で示すように導電性ペーストを積層チップ素体
1の端部面に付着すると、その導電性ペーストはペース
ト自体の表面張力乃至は積層チップ素体の持つ親和性,
疎水性等の物性からエッジラインe,eが丸みや波
形の帯びた形状になる。このため、メッキ処理後の外部
電極2,3は表面に沿って弧を描くよう緩やかに中央に
広がる形状となり、素体面と電極面の境目が直線状にな
らない。
【0005】その電極エッジ部分のバラ付きd,d
は平均100〜200μm程度となり、外部電極2,3
の形状及び電極間の寸法をバラ付かせることになる。こ
れでは、特に、表面形状6mm×3mmの極小な積層セ
ラミック電子部品の場合に、リフロー半田付けによる電
極間の短絡不良や回路基板に対する装着不良を生ずるこ
とから信頼性の低下を招く。
【0006】その電極エッジ部分のバラ付きを防ぐに
は、導電ペーストの粘度や塗布ローラの回転速度等を調
整することで対応できる。然し、この対応は種々の変化
に応じてその都度講じなければならないから、一貫した
連続作業ができず、作業的にも経済的にも好ましくな
い。
【0007】
【発明が解決するための課題】本発明は、簡単な工程の
付加により、外部電極が形状的にバラ付くのを確実に抑
えられる積層セラミック部品の外部電極形成方法を提供
することを目的とする。
【0008】
【発明が解決するための手段】本発明の請求項1に係る
積層セラミック部品の外部電極形成方法においては、導
電性ペーストを積層チップ素体の端部に塗布する前に、
素体面を疎にする温度により予熱乾燥処理を積層チップ
素体に施すようにされている。
【0009】本発明の請求項2に係る積層セラミック部
品の外部電極形成方法においては、導電性ペーストを積
層チップ素体の端部に塗布する前に、大気雰囲気中で1
00℃の温度により予熱乾燥処理を積層チップ素体に施
すようにされている。
【0010】
【発明の実施の態様】以下、本発明の実施の形態として
積層セラミックコンデンサの外部電極を形成する場合に
基づいて説明する。まず、Pd,Pt,Ag/Pd等の
貴金属を主成分とする導電性ペーストからなる内部電極
を誘電体のセラミックグリーンシートに印刷し、そのセ
ラミックグリーンシートを内部電極と交互に複数積層焼
成させて積層チップ素体を形成し、図1で示すように積
層チップ素体1の両端部に外部電極2,3を設けるのに
適用される。
【0011】その外部電極は、後述するように内部電極
と接続させて積層チップ素体の両端部に塗布するAg,
Ag/Pd,Cu等の導電性ペーストから形成する下地
電極層と、この下地電極層に被着するNiメッキ層と、
更に、Niメッキ層に被着するSnまたはSn/Pb,
Sn/Cu,Sn/Bi,Sn/Znのうちいずれか一
種のメッキ層とを積層することにより形成される。
【0012】その外部電極2,3の下地電極層を形成す
るには、図2で示すようなキャリア治具10を用いて積
層チップ素体1を片端部で50個程度保持し、図3で示
すような搬送ベルト11により積層チップ素体1を保持
したキャリア治具10を移送することによる導電性ペー
ストの塗布,乾燥工程で処理できる。
【0013】その導電性ペーストの塗布,乾燥工程は、
キャリア治具の挿入ゾーン12から排出ゾーン13が搬
送ベルト11で循環連続されている。この搬送ベルト1
1による移送途上には、導電性ペーストを積層チップ素
体1の片端部毎に塗布,乾燥処理することから、第1の
塗布ローラ14,第1の乾燥炉15が配置されている。
また、キャリア治具10の反転後には第2の塗布ローラ
16,第2の乾燥炉17が配置されている。
【0014】それに加えて、第1並びに第2の塗布ロー
ラ14,16に至る前には第1並びに第2の予熱乾燥炉
18,19が配置されている。この第1並びに第2の予
熱乾燥炉18,19は素体面を疎にする温度により予熱
乾燥処理を積層チップ素体に施すものであり、その温度
としては大気雰囲気中で100℃程度が好ましい。
【0015】その導電性ペーストの塗布,乾燥工程で
は、挿入ゾーン12から、積層チップ素体1の一端部を
露出させて保持したキャリア治具10を搬送ベルト11
に搭載し、まず、大気雰囲気下で100℃程度の炉内温
度に保たれた第1の予熱乾燥炉18を15秒間程度通過
させる。この予熱乾燥により、積層チップ素体1は表面
に残る残留溶剤や外気の付着水分が除去されて素体面が
疎荒な面になる。
【0016】その予熱乾燥後、積層チップ素体1の素体
面を加熱保温状態に保って第1の塗布ローラ14に送り
込み、下地電極層を形成する導電性ペーストを予熱乾燥
処理した積層チップ素体1の端部面に保温状態のまま塗
布する。
【0017】その導電性ペーストは、積層チップ素体1
の表面から残留溶剤や外気の付着水分が予め除去されて
素体面が疎荒な面で保温状態に保もたれているため、ペ
ースト自体の表面張力があっても、エッジラインe
(図1参照)が丸みや波形を帯びず、また、表面に
沿って弧を描く広がり形状とならないで素体面と電極面
の境目を直線状に保てる。
【0018】その後に、大気雰囲気下で180〜200
℃の炉内温度に保たれた第1の乾燥炉15に送り込んで
導電性ペーストを乾燥硬化させる。この導電性ペースト
の乾燥硬化により、下地電極層としてはエッジラインe
,eが素体面と電極面の境目を直線状に保つよう形
成される。
【0019】その片端部の下地電極層を形成後はキャリ
ア治具10を反転し、第2の予熱乾燥炉19,第2の塗
布ローラ16,第2の乾燥炉17を経由することによ
り、上述したと同様に予熱乾燥,導電性ペーストの塗
布,乾燥処理をキャリア治具10から露出する積層チッ
プ素体1の他端部に施せばよい。
【0020】その下地電極層をベースに、Niメッキ層
と最外層のメッキ層とを積層形成することから、外部電
極2,3としては電極エッジ部分のバラ付きd,d
のない直線状のエッジラインe,eを保つよう形成
される。
【0021】本発明の有効性を確認するべく、平面寸法
0.6×0.3mmの積層チップ素体を作製し、従来法
と共に、外部電極を積層チップ素体の両端部に形成し、
その各外部電極のエッジ部分のバラ付きを対比検証し
た。この結果は次の表1で示す通りであり、そのバラ付
き値はN=100の最大値と最小値の平均値で示すが、
本発明ではバラ付き値を従来に比べて約1/10程度に
減少できた。
【0022】
【表1】
【0023】また、本発明に係る方法においてベルト移
動速度の関係から予熱乾燥時間の15秒を一定に保ち、
予熱乾燥温度を80℃,90℃,100℃,110℃及
び120℃の5点を選び、各温度毎のエッジ部分のバラ
付きを測定したところ、次の表2で示す通りであった。
【0024】
【表2】
【0025】この表2から判るように、エッジ部分のバ
ラ付きは予熱乾燥温度を80℃から100℃に上昇する
に伴って減少する。この現象は、導電性ペーストの塗布
時には多少温度が低下するものの、積層チップ素体の表
面が疎になっていると共に、高温状態に保たれたままで
塗布されるので、導電ペーストの粘度が低下し、表面張
力が激減することによる。
【0026】然し、予熱乾燥温度が100℃を超える
と、逆に、エッジ部分のバラ付きが100℃のときと比
べて大きくなっている。これは予熱乾燥温度が100℃
を超えると、加熱過ぎて内部に残留している溶剤が表面
ににじみ出ると共に、外気温度(室温25℃)との差が
あり過ぎて塗布時に水分を吸着することから、積層チッ
プ素体の表面が疎にならないため、導電性ペーストの表
面張力が増すことによるものと推察される。以上のこと
から、予熱乾燥温度は100℃が適している。
【0027】
【発明の効果】以上の如く、本発明の請求項1に係る積
層セラミック部品の外部電極形成方法に依れば、導電性
ペーストを積層チップ素体の端部に塗布する前に、素体
面を疎にする温度により予熱乾燥処理を積層チップ素体
に施すことから、外部電極のエッジのバラ付きを極めて
小さくでき、外部電極間の短絡不良や回路基板に対する
装着不良を防げ、極小の積層セラミック電子部品であっ
ても信頼性の高いものに構成することができる。
【0028】本発明の請求項2に係る積層セラミック部
品の外部電極形成方法に依れば、導電性ペーストを積層
チップ素体の端部に塗布する前に、大気雰囲気中で10
0℃の温度により予熱乾燥処理を積層チップ素体に施す
ことから、エッジのバラ付きがより小さい外部電極を形
成することができる。。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る方法で外部電極を形成した積層セ
ラミック部品を示す平面図である。
【図2】本発明に係る方法で用いられる積層チップ素体
のキャリア治具を示す説明図である。
【図3】本発明に係る積層セラミック部品の外部電極形
成方法を適用する導電性ペーストの塗布,乾燥工程を示
す説明図である。
【図4】従来例に係る方法で外部電極を形成した積層セ
ラミック部品を示す平面図である。
【符号の説明】
1 積層チップ素体 2,3 外部電極
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 5E001 AB03 AF06 AH00 AH01 AJ03 5E082 AB03 BC38 EE04 EE23 EE35 FG06 FG26 FG58 GG10 GG26 GG28 JJ03 JJ15 JJ23 LL01 MM24 PP06

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 積層チップ素体の端部に塗布する導電性
    ペーストから外部電極を形成する積層セラミック電子部
    品の外部電極形成方法において、導電性ペーストを積層
    チップ素体の端部に塗布する前に、素体面を疎にする温
    度により予熱乾燥処理を積層チップ素体に施すようにし
    たことを特徴とする積層セラミック電子部品の外部電極
    形成方法。
  2. 【請求項2】 導電性ペーストを積層チップ素体の端部
    に塗布する前に、大気雰囲気中で100℃の温度により
    予熱乾燥処理を積層チップ素体に施すようにしたことを
    特徴とする請求項1記載の積層セラミック電子部品の外
    部電極形成方法。
JP11234657A 1999-08-20 1999-08-20 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法 Pending JP2001060530A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11234657A JP2001060530A (ja) 1999-08-20 1999-08-20 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11234657A JP2001060530A (ja) 1999-08-20 1999-08-20 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001060530A true JP2001060530A (ja) 2001-03-06

Family

ID=16974451

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11234657A Pending JP2001060530A (ja) 1999-08-20 1999-08-20 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001060530A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6995093B2 (en) 2002-09-27 2006-02-07 Yamaha Corporation Polysilicon etching method
JP2010147429A (ja) * 2008-12-22 2010-07-01 Tdk Corp 積層コンデンサ
JP2013042081A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の製造方法
JP2015050452A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板
JP2015164175A (ja) * 2014-01-31 2015-09-10 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法及び電子部品の製造装置
JP2017028229A (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 京セラ株式会社 積層型コンデンサおよびその実装構造体

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6995093B2 (en) 2002-09-27 2006-02-07 Yamaha Corporation Polysilicon etching method
JP2010147429A (ja) * 2008-12-22 2010-07-01 Tdk Corp 積層コンデンサ
US8107217B2 (en) 2008-12-22 2012-01-31 Tdk Corporation Multilayer capacitor
JP2013042081A (ja) * 2011-08-19 2013-02-28 Murata Mfg Co Ltd 電子部品の製造方法
JP2015050452A (ja) * 2013-08-30 2015-03-16 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. 基板内蔵用積層セラミック電子部品及び積層セラミック電子部品内蔵型印刷回路基板
US10264680B2 (en) 2013-08-30 2019-04-16 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic component to be embedded in board and printed circuit board having multilayer ceramic electronic component embedded therein
US10306765B2 (en) 2013-08-30 2019-05-28 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Multilayer ceramic electronic component to be embedded in board and printed circuit board having multilayer ceramic electronic component embedded therein
JP2015164175A (ja) * 2014-01-31 2015-09-10 株式会社村田製作所 電子部品の製造方法及び電子部品の製造装置
JP2017028229A (ja) * 2015-07-28 2017-02-02 京セラ株式会社 積層型コンデンサおよびその実装構造体

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2003264117A (ja) セラミック電子部品、ペースト塗布方法及びペースト塗布装置
JP3562629B2 (ja) 端子電極を持つ電子部品の製造方法
JP2001060530A (ja) 積層セラミック電子部品の外部電極形成方法
JP2012253077A (ja) 電子部品の製造方法及び電子部品
US7186307B2 (en) Method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board
JPS6323679B2 (ja)
JP3277291B2 (ja) チップ型サーミスタの製造方法
JPH0730244A (ja) バンプ電極、及び該バンプ電極の形成方法
JPH04154104A (ja) 積層セラミックコンデンサ
JPH0666170B2 (ja) チップ状部品搬送装置
KR102252133B1 (ko) 전자 부품의 제조 방법
JP2950247B2 (ja) チップ型ジャンパー部品
JP3905355B2 (ja) チップ部品の実装方法
CN110663088B (zh) 导体形成用组合物、导体及其制造方法以及芯片电阻器
JPH1197823A (ja) 導体ペーストによる配線の形成方法
JPH05283207A (ja) チップ型サーミスタ及びその製造方法
JP3837060B2 (ja) チップ抵抗器の製造方法
JPH08134388A (ja) 導電性インキ
KR100611188B1 (ko) 어레이형 다중 칩 부품 및 이의 제조방법
JP2004172499A (ja) 銅導体厚膜回路基板の半田付け方法
JPH08321405A (ja) 電子素子及びその製造方法
JPH0882U (ja) チップ型電子部品
JP3835247B2 (ja) チップ形電子部品の端面電極形成方法
JPH03284894A (ja) 厚膜回路基板及びその製造方法
JPH07297556A (ja) 多層セラミック電子部品の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20041026

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20041116

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20050315