JP2001056929A

JP2001056929A - 磁気ディスク用基板、磁気ディスクおよび磁気ディスク用基板の製造方法

Info

Publication number: JP2001056929A
Application number: JP11228729A
Authority: JP
Inventors: Fuminori Takeya; 文則竹矢
Original assignee: NGK Insulators Ltd
Current assignee: NGK Insulators Ltd
Priority date: 1999-08-12
Filing date: 1999-08-12
Publication date: 2001-02-27

Abstract

(57)【要約】【課題】少なくとも一種のアルカリ金属が含有されてい
る結晶化ガラス製の磁気ディスク用基板において、Ｌｉ
やＮａイオンの磁性膜、保護膜などへの移動による突起
物の生成を防止することである。【解決手段】磁気ディスク用基板の外周側の端面と主面
との間に面取り部が形成されている。外周側端面の表面
領域および面取り部の表面領域におけるカリウムの含有
量が、この磁気ディスク用基板におけるカリウムの含有
量の平均値よりも大きい。基板材をカリウムの溶融塩へ
と浸漬することによって、基板材を表面処理し、基板の
表面領域のナトリウムやリチウムをカリウムとイオン交
換する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ディスク用基
板、これを用いた磁気ディスクおよび磁気ディスク用基
板の製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハードディスクドライブの記録密
度の向上が急激に進んでいる。記録密度を高くするため
には、磁気記録媒体（メディア）に記録された信号のト
ラック幅を狭くし、あるいは、ビット長を短くする必要
がる。これは、メディア表面に記録された磁場が、非常
に弱くなってきていることを意味している。この記録密
度向上の背景には、弱い信号でも読み出せる、感度の高
い、磁気抵抗効果型ヘッド（ＭＲヘッド）や巨大磁気抵
抗効果型ヘッド（ＧＭＲヘッド）に代表される磁気ヘッ
ド技術の改良がある。また、トラック幅やビット長を小
さくしても大きな磁場を残せるような、磁気特性の高い
磁性膜を形成する技術に代表されるメディアの改良があ
る。更に、弱い信号を読み書きするために、ハードディ
スクドライブ動作時の、磁気ヘッドとメディアとの距離
（ヘッド浮上量）を小さくすることも、不可欠な技術と
なっている。

【０００３】ヘッド浮上量を小さくするためには、メデ
ィア表面の平滑性（突起物がないこと）が重要である。
特にＭＲヘッド、ＧＭＲヘッドにおいては、その特性か
ら、メディア表面の突起物に触れることによって生じる
瞬間的な温度上昇によって、信号を読み取ることができ
なくなる（サーマル・アスピリティー）現象が知られて
おり、サーマル・アスピリティーに対する対策として、
メディア表面の平滑性が重視されている。例えば、最近
では、ヘッド浮上量５０ｎｍ、メディア表面の突起物の
最大高さ２５ｎｍのスペックのハードディスクドライブ
が使用され始めてきている。

【０００４】このような平滑なメディア表面を実現する
ために、近年では、メディア用の磁気ディスク用基板に
は、アルミニウム合金に代って、化学強化ガラスや結晶
化ガラス等のガラスが使用されている。アルミニウム合
金は、研磨加工等の機械的処理の過程において、その材
料特性から塑性変形を伴うので、先に述べたような平滑
性を得ることは困難である。それに対して、ガラスは表
面の硬度が高く、研磨加工等の処理を施しても塑性変形
を伴わないため、平滑な面を得やすいのである。これら
の理由から、記録密度の高いハードディスクドライブに
は、メディア用の磁気ディスク用基板にガラスを使用し
たハードディスクドライブが増加しつつある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、ガラス製の磁
気ディスク用基板には、次の問題がある。

【０００６】即ち、磁気ディスク用基板の表面には、ス
パッタリング法やＣＶＤ法によって、下地膜、磁性膜、
保護膜等、複数層の膜が積層されている。これらの膜の
うち、磁性膜より上に積層された膜、例えば保護膜の厚
さは、それ自体が磁気ヘッドと磁性膜とを遠ざける距離
となっている。保護膜の厚さは、従来、１５ｎｍ程度で
あったが、この距離が前記例示のヘッド浮上量５０ｎｍ
に加算されることになるので、実質的なヘッド−磁性膜
間の距離を６５ｎｍ（５０ｎｍの１．３倍）に増大させ
ている。最近では、実質的なヘッド−磁性膜間の距離を
小さくして記録密度を改善する動きがあり、保護膜の厚
さを、５〜１０ｎｍに薄くする傾向がある。

【０００７】一方、磁気ディスク用基板に使用されてい
るガラスのうち、強化ガラスにはナトリウム、結晶化ガ
ラスにはリチウムが、主なアルカリ金属として含まれて
いる。これらの金属イオンは、そのイオン半径が小さい
ことから移動し易く、特に高温高湿下では移動し易い。
前記のように、保護膜の厚さを薄くしたメディアでは、
そのメカニズムは明確になっていないが、メディアの表
面に移動してきたナトリウムイオンやリチウムイオン
が、周囲の物質と反応して、図１に示すような位置に、
水酸化物や炭酸塩等、さまざまな化合物を形成し、メデ
ィア表面に突起物（高さ約３０ｎｍ）を形成することに
よって、浮上中のヘッドと衝突し、ヘッドクラッシュを
起こす可能性が否定できない。また、磁性膜を腐食する
ことにより、磁性膜の特性を劣化させ、記録・再生時に
エラーを発生したり、この結果としてヘッドクラッシュ
を起こす可能性が指摘されている。更に、これらのアル
カリ金属イオンがヘッド側に付着することにより、磁気
ヘッド素子自体を腐食する可能性や、ヘッドクラッシュ
を起こす可能性も指摘されている。

【０００８】これらの課題に対して、本発明者らは、特
開平８−３３５３１２号公報の中で、磁気ディスク用基
板を温水や弱酸性水溶液中で処理することにより、磁気
ディスク用基板の表面のアルカリ金属イオン濃度を低下
させる処理を開示した。また、磁気ディスク用基板を加
熱処理することにより、同様の効果が得られることを開
示した。

【０００９】当時のハードディスクドライブでは、ヘッ
ド浮上量が７５ｎｍであったので、高さ約３０ｎｍの突
起物に衝突する確率が低かったことと、特開平８−３３
５３１２号公報記載の処理と、１５ｎｍの厚さの保護膜
とによって、突起物の生成を抑制できていた。しかし、
ヘッド浮上量が５０ｎｍに低下するのに加えて、保護膜
の厚さを５−１０ｎｍに薄くすることによって、特開平
８−３３５３１２号公報記載の手法による抑制効果では
不十分なことが判明してきた。

【００１０】本発明の課題は、少なくとも一種のアルカ
リ金属が含有されている結晶化ガラス製の磁気ディスク
用基板において、ナトリウムイオンやリチウムイオンの
磁性膜、保護膜などへの移動による突起物の生成を防止
することである。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
種のアルカリ金属が含有されている結晶化ガラス製の磁
気ディスク用基板であって、磁気ディスク用基板の外周
側の端面と主面との間に面取り部が形成されており、外
周側端面の表面領域および前記面取り部の表面領域にお
けるカリウムの含有量が、この磁気ディスク用基板にお
けるカリウムの含有量の平均値よりも大きいことを特徴
とする、磁気ディスク用基板に係るものである。

【００１２】また、本発明は、前記磁気ディスク用基板
と、この磁気ディスク用基板上に設けられている磁性膜
とを備えていることを特徴とする、磁気ディスクに係る
ものである。

【００１３】また、本発明は、結晶化ガラス製の磁気デ
ィスク用基板を製造する方法であって、原料ガラスを溶
融して溶融ガラスを得る工程、この溶融ガラスを成形し
て板状ガラスを得る工程、板状ガラスに内径孔を形成し
て基板材を得る工程、基板材の主面を研磨または研削加
工することによって基板材の厚さを調節する工程、基板
材の前記内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とを
それぞれ面取り加工することによって各面取り部を形成
する工程、内周側端面および外周側端面を鏡面にポリッ
シュ加工する工程、基板材の主面を鏡面にポリッシュ加
工する工程を有しており、前記基板材を得る工程の後お
よび基板材の主面を鏡面にポリッシュ加工する工程の前
のいずれかの時点で、基板材をカリウムの溶融塩中に浸
漬して表面処理を施すことを特徴とする。

【００１４】本発明者は、先に述べたＬｉやＮａイオン
の移動に起因すると考える突起物を解析している中で、
図１に示すように、この突起物２の発生位置が、すべて
メディア１の外周部に多いことを発見した。ただし、４
Ａ、４Ｂは主面であり、６は内周側の端面である。

【００１５】本発明者は、この原因を探索した結果、次
の発見に到達した。即ち、図２に拡大して示す磁気ディ
スク用基板５におけるように、主面４Ａ、４Ｂと外周側
端面３ａとの間に面取り部３ｂ、３ｃを形成する。そし
て、前記した突起物をよく観察すると、面取り部３ｂ、
３ｃ上に突出し、主面４Ａ側にまで延びることで、問題
を起こすことが分かった。こうした磁気ディスク用基板
の面取り部の近傍以外では、リチウムイオンやナトリウ
ムイオンの移動に起因すると見られる突起物は、ごく僅
かしか観測されなかった。

【００１６】この原因は、磁気ディスク用基板の外周側
端面の形態の特異性にあるものと思われる。即ち、磁気
ディスク用基板５の外周側端面３ａおよび内周側の端面
６は、図２に示すように面取り加工した後、酸化セリウ
ム等のスラリーを用いて鏡面にポリッシュ加工される。
しかし、実際に仕上がった面の品質を観察したところ、
内周側端面の方が外周側端面よりも優れていることが分
かった。外周側の端面には、内周側端面に比べて、欠け
やピット等が多く観察された。これらの欠けやビットな
どのポリッシュ後に残留する欠陥が、機構は明らかでは
ないが、磁気記録媒体においてリチウムイオンやナトリ
ウムイオンの移動を引き起し、突起物を生成させる起点
となるものと考えられる。

【００１７】また、面取り部や、内周側および外周側端
面は、主面に比べて、スパッタリング等による磁性膜や
保護膜が付きにくいため、その膜厚が薄くなっているこ
とも、原因の一つと考えられる。

【００１８】従って、リチウムイオンとカリウムイオン
との交換は、少なくとも面取り部と、内周側端面および
外周側端面とに施されていれば、リチウムイオンやナト
リウムイオンの移動に起因するものと考えられる突起物
の生成を効果的に抑制することができる。例えば、内径
および外径加工工程後に、リチウムイオンとカリウムイ
オンとの交換を行う場合、イオン交換された領域の深さ
が、少なくとも内周側端面、外周側端面の面取り加工
と、内周側端面および外周側端面のポリッシュ加工とに
おける除去量以上あれば良く、イオン交換された領域の
深さが、主面の粗ラップ、精密ラップ、ポリッシュ等の
加工除去量以上なくとも、その効果を得ることができ
る。

【００１９】また、磁気ディスク用基板の内周側および
外周側端面および／または主面の表面領域におけるカリ
ウムの含有量が、同じ領域における他のアルカリ金属の
含有量（合計値）の５倍以上であることが好ましく、こ
れによって、リチウムイオンやナトリウムイオンの移動
に起因する考えられる突起物の生成が特に顕著に抑制さ
れる。

【００２０】なお、ここで言う表面領域とは、基板の表
面から１μｍ以内の深さの領域のことを意味している。
その理由は、突起物の生成するリチウムイオンやナトリ
ウムイオンの移動は、カリウムでイオン交換された基板
においては、基板の表面から１μｍよりも深い領域では
生じにくいからである。

【００２１】磁気ディスク用基板を構成するガラスは、
結晶化ガラスとする。例えば、Ｌｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃ −
ＳｉＯ₂ 系のガラスが特に好ましい。この系のガラスに
おいては、特に好適には、溶融温度および溶融したガラ
スの粘性の観点から、工業的に有利に生産するために
は、その主結晶相がニケイ酸リチウム（Ｌｉ ₂ Ｏ・２Ｓ
ｉＯ₂ ）相によって占められていることが好ましい。

【００２２】副結晶相として、クリストバライトやα−
石英などの結晶相を同時に析出させることによって、磁
気ディスク用基板全体の熱膨張係数を適切な値に制御す
ることができる。

【００２３】また、結晶化ガラスが好ましい理由を以下
に述べる。強化ガラスの場合は、基板製造プロセスの最
終行程で化学強化処理が施されるため、強化前の強度の
低い状態で、全製造プロセスを実施しなければならな
い。このため、全製造プロセスの工程途中で、基板材の
破損や欠け、傷が発生しやすく、工程歩留りが低いとい
う問題がある。

【００２４】これに対して、結晶化ガラスを使用した場
合には、図３に例示したように、全製造プロセスの初期
には既に結晶化処理を施すことができ、基板剤の強度を
高くすることができる。従って、この結晶化処理の後の
各加工工程において、強化ガラスを使用した場合よりも
高い歩留りを得ることができる。

【００２５】こうした結晶化ガラスからなる基板を製造
するためには、ＳｉＯ₂：６５〜８５重量％、Ｌｉ₂
Ｏ：８〜１２重量％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：２〜８重量％、Ｐ₂
Ｏ₅ ：１〜３重量％を含有する組成の原ガラスを製造す
る。好ましくは、このガラス原料を、５００〜６００℃
で１〜５時間熱処理することにより、結晶核を形成し、
次いで６５０〜８００℃で１〜５時間熱処理することに
より、結晶化ガラスを製造する。こうして得られた結晶
化ガラスからは、図３の工程を経ることによって中心線
平均表面粗さ５オングストローム以下の平滑性を有する
磁気ディスク用基板を得ることができる。

【００２６】なお、この系の結晶化ガラス中には、他の
成分を含有させることができる。まず、Ｐ₂ Ｏ₅ 以外の
核形成剤として、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 、ＳｎＯ₂等の金
属酸化物または白金等の金属、フッ化物を、単独で、ま
たは２種以上混合して、含有することができる。また、
Ｋ₂ Ｏを０〜７重量％含有させることができる。これ
は、ガラスの溶融、成形温度を低下させるのと共に、成
形時のガラスの失透を抑制する効果がある。この作用を
発揮させるには、この含有量を２重量％以上とすること
が更に好ましい。また、この含有量が７重量％を越える
と、ガラスセラミックスの強度が低下する傾向がある。
Ａｓ₂ Ｏ₃ とＳｂ₂ Ｏ₃ との一方または双方を、合計で
０〜２重量％含有させることもできる。これらは、ガラ
ス溶融の際の清澄剤である。

【００２７】その他、ＺｎＯ成分を０−３重量％、Ｍｇ
Ｏ成分を０−１重量％、Ｂ₂ Ｏ₃ 成分を０〜３重量％、
ＣａＯ成分を０〜３重量％、ＳｒＯを０〜３重量％、Ｂ
ａＯを０〜３重量％含有させることができる。

【００２８】ガラス製磁気ディスク用基板の製造工程の
一例を、図３に示す。

【００２９】原料ガラスを溶融して溶融ガラスを得、こ
の溶融ガラスを成形して板状ガラスを得、好ましくは板
状ガラスを結晶化させる。この板状ガラスに内径孔を形
成し、基板材を得る。次いで基板材の主面を粗ラップ加
工および精密ラップ加工し、基板材の厚さを調節して基
板材を得る。次いで、この基板材の内径孔に面する内周
側端面と外周側の端面とをそれぞれ面取り加工すること
によって面取り部を形成し、内周側端面および外周側端
面を鏡面にポリッシュ加工する。次いで、基板材の主面
を鏡面に最終的なポリッシュ加工を施して磁気ディスク
用基板を得る。

【００３０】図３に示すように、カリウム溶融塩による
基板材の表面処理は、板状ガラスに内径孔を形成した
後、最終的な鏡面ポリッシュ加工の前の、いずれの時点
で施してもよい。ただし、最終の主面ポリッシュ加工の
直前に表面処理を行うことが、リチウムイオンとカリウ
ムイオンとが置換した層の厚さを厚く維持するという観
点から、最も好適である。

【００３１】リチウムイオンとカリウムイオンとの交換
は、以下の手法で行う。３００−４５０℃に加熱した硝
酸ナトリウムの溶融塩の中に、前記したいずれかの工程
の時点における基板材を、所定時間浸漬する。次に、３
５０−５００℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩の中
に、基板材を所定時間浸漬する。リチウムイオンとの交
換速度および交換深さは、処理する温度が高いほど、ま
たは処理する時間が長いほど、大きくなる。

【００３２】また、詳細ナトリウムでの前記処理を省略
し、詳細カリウムによる処理のみを施すことによって
も、所望の効果を得ることができる。ただし、硝酸ナト
リウムでの処理がない場合には、その処理がある場合に
比べて、交換深さが浅くなる。従って、この表面処理の
後の工程で研磨工程等の加工工程が施される場合には、
硝酸ナトリウムと硝酸カリウムとの双方によって２段階
の処理を行うことが好ましい。

【００３３】

【実施例】（比較例）ＳｉＯ₂ ：７６．１重量％、Ｌｉ
₂ Ｏ：９．９重量％、Ａｌ₂ Ｏ₃ ：５．１重量％、Ｋ₂
Ｏ：２．８重量％、ＺｒＯ₂ ：４．０重量％、Ｐ₂ Ｏ
₅ ：１．９重量％、Ｓｂ₂ Ｏ₃ ：０．２重量％の組成を
有するガラスを作製した後、図３に示す工程に沿って磁
気ディスク用基板を試作した。ただし、カリウム溶融塩
による表面処理処理は、行わなかった。磁気ディスク用
基板を、スパッタリング装置内に投入する前に、基板の
主面の中心線平均表面粗さを測定した結果、４．０オン
グストロームであった。

【００３４】この磁気ディスク用基板に、スパッタリン
グにより、下地膜と磁性膜を形成し、その上にＣＶＤ法
によりダイヤモンドライクカーボン膜を形成し、更にそ
の上に潤滑剤をコーティングし、メディアを作製した。
スパッタリングによって形成した膜の合計厚さは９０ｎ
ｍであり、ＣＶＤで形成した膜の厚さは１０ｎｍであ
る。メディアを２５枚作製した。各メディアを、温度７
０℃、湿度８０％の恒温恒湿槽中に２４０時間放置した
後、メディアの表面に発生する突起物の有無をハロゲン
ランプの下で目視で観察した。

【００３５】この結果、５枚のメディアにおいて、図１
に示すように、基板の外周エッジ部分上において、突起
物２がメディア表面に白く光って観察された。また、こ
の白色部分を飛行時間型２次イオン質量分析装置（ＴＯ
Ｆ−ＳＩＭＳ）で分析した結果、異常のない箇所に比べ
てリチウムイオン濃度が高いことがわかった。即ち、リ
チウムイオンの移動によって突起物２が生成しているこ
とが確認された。

【００３６】（実施例１）比較例１と同じ組成のガラス
を作製した後、図３に示す工程に沿って磁気ディスク用
基板を試作した。ただし、主面ポリッシュ加工１と２と
の間に、以下のカリウム溶融塩による処理を施した。

【００３７】４８０℃に加熱した硝酸カリウムの溶融塩
中に、ポリッシュ加工１を施した基板材を５時間浸漬し
た。基板材を溶融塩から取り出し、水洗した後、ポリッ
シュ加工２を施して、比較例と同様に、主面における中
心線平均表面粗さ４．０オングストロームの磁気ディス
ク用基板を得た。

【００３８】この磁気ディスク用基板に、比較例と同様
にして、２５枚のメディアを作製し、比較例と同じ環境
下で放置した後、メディア表面をハロゲンランプの下で
目視で観察した。その結果、すべてのメディアに突起物
は見られなかった。また、メディアの外周近傍と、主面
中央部とにおいて、ＴＯＦ−ＳＩＭＳによって、リチウ
ムイオン濃度を測定したところ、共に、比較例の正常な
部分よりも低い値を示した。

【００３９】（実施例２）比較例と同じ組成のガラスを
作製した後、図３に示す工程に沿って磁気ディスク用基
板を試作した。ただし、内周側端面と外周側端面の面取
り加工と、内周側端面および外周側端面のポリッシュ加
工との間に、以下の溶融塩による表面処理を施した。

【００４０】３８０℃に加熱した硝酸ナトリウムの溶融
塩中に、基板材を５時間浸漬した後、４８０℃に加熱し
た硝酸カリウムに５時間浸漬した。基板材を溶融塩から
取り出し、水洗した後、内州側端面および外周側端面を
ポリッシュ加工した。以降は、図３の工程フローに沿っ
て磁気ディスク用基板を試作した。

【００４１】この磁気ディスク用基板に、比較例と同様
にして２５枚のメディアを作製し、比較例と同じ環境下
で放置した後、メディア表面を、ハロゲンランプの下で
目視観察した。その結果、すべてのメディアにおいて突
起物は見られなかった。

【００４２】

【発明の効果】以上に述べたように、本発明によれば、
磁気ディスク用基板上に、スパッタリング法およびＣＶ
Ｄ法で磁性膜等を形成して作製したメディアの高温高湿
下での信頼性を高めることができる。更に、結晶化ガラ
ス表面のリチウムイオンをカリウムイオンに交換するこ
とにより、基板材の強度およびヤング率を一層向上させ
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】メディア１を高温高湿下で腐食試験をしたとき
に、メディアの外周エッジ部分に突起物が生成した状態
を示す模式図である。

【図２】磁気ディスク用基板の外周エッジ部分を模式的
に示す、拡大部分断面図である。

【図３】結晶化ガラス製の磁気ディスク用基板の製造工
程フローの一例を示すフローチャートである。

【符号の説明】

１メディア２アルカリ金属イオンの移動に
よって生じた突起物３ａ基板の外周側の端面
３ｂ、３ｃ面取り部４Ａ、４Ｂ主面６内周側の端面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも一種のアルカリ金属が含有され
ている結晶化ガラス製の磁気ディスク用基板であって、
前記磁気ディスク用基板の外周側の端面と主面との間に
面取り部が形成されており、前記外周側端面の表面領域
および前記面取り部の表面領域におけるカリウムの含有
量が、この磁気ディスク用基板におけるカリウムの含有
量の平均値よりも大きいことを特徴とする、磁気ディス
ク用基板。
【請求項２】前記磁気ディスク用基板の主面の表面領域
におけるカリウムの含有量が、この磁気ディスク用基板
におけるカリウムの含有量の平均値よりも大きいことを
特徴とする、請求項１記載の磁気ディスク用基板。
【請求項３】前記アルカリ金属が、リチウム、ナトリウ
ムおよびカリウムからなる群より選ばれた一種以上のア
ルカリ金属であることを特徴とする、請求項１または２
記載の磁気ディスク用基板。
【請求項４】前記磁気ディスク用基板の前記外周側端面
の表面領域および前記面取り部の表面領域において、カ
リウムの含有量が他のアルカリ金属の含有量の合計の５
倍以上であることを特徴とする、請求項１−３のいずれ
か一つの請求項に記載の磁気ディスク用基板。
【請求項５】前記結晶化ガラスがＬｉ₂ Ｏ−Ａｌ₂ Ｏ₃
−ＳｉＯ₂ 系の結晶化ガラスであり、その主結晶相が二
ケイ酸リチウムで構成されていることを特徴とする、請
求項１〜４のいずれか一つの請求項に記載の磁気ディス
ク用基板。
【請求項６】請求項１−５のいずれか一つの請求項に記
載の磁気ディスク用基板と、この磁気ディスク用基板上
に設けられている磁性膜とを備えていることを特徴とす
る、磁気ディスク。
【請求項７】前記磁気ディスク用基板と前記磁性膜との
間に下地層が設けられており、前記磁性膜の上に保護膜
が設けられていることを特徴とする、請求項６記載の磁
気ディスク。
【請求項８】ヘッド浮上量が５０ｎｍ以下であるスペッ
クのハードディスクドライブにおいて使用されることを
特徴とする、請求項６または７記載の磁気ディスク。
【請求項９】結晶化ガラス製の磁気ディスク用基板を製
造する方法であって、原料ガラスを溶融して溶融ガラス
を得る工程、この溶融ガラスを成形して板状ガラスを得
る工程、板状ガラスに内径孔を形成して基板材を得る工
程、前記基板材の主面を研磨または研削加工することに
よって前記基板材の厚さを調節する工程、基板材の前記
内径孔に面する内周側端面と外周側の端面とをそれぞれ
面取り加工することによって各面取り部を形成する工
程、内周側端面および外周側端面を鏡面にポリッシュ加
工する工程、前記基板材の主面を鏡面にポリッシュ加工
する工程を有しており、前記基板材を得る工程の後およ
び前記基板材の主面を鏡面にポリッシュ加工する工程の
前のいずれかの時点で、前記基板材をカリウムの溶融塩
中に浸漬して表面処理を施すことを特徴とする、磁気デ
ィスク用基板の製造方法。