JP2001056304A - 極点測定方法 - Google Patents

極点測定方法

Info

Publication number
JP2001056304A
JP2001056304A JP2000172105A JP2000172105A JP2001056304A JP 2001056304 A JP2001056304 A JP 2001056304A JP 2000172105 A JP2000172105 A JP 2000172105A JP 2000172105 A JP2000172105 A JP 2000172105A JP 2001056304 A JP2001056304 A JP 2001056304A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sample
plane
axis
pole
ray
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000172105A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryoichi Yokoyama
亮一 横山
Kazuhiko Omote
和彦 表
Kamihisa Endo
上久 遠藤
Ryuji Matsuo
隆二 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Original Assignee
Rigaku Denki Co Ltd
Rigaku Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rigaku Denki Co Ltd, Rigaku Corp filed Critical Rigaku Denki Co Ltd
Priority to JP2000172105A priority Critical patent/JP2001056304A/ja
Publication of JP2001056304A publication Critical patent/JP2001056304A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 あおり角αの高角領域からインプレーン回折
領域までの全領域にわたるほぼすべての領域に対する極
点測定を反射法により実現する。 【解決手段】 ゴニオメータの中心Oを通る所定のΩ軸
周りに試料Sを回転させて試料面Saに対するX線の入
射角ωを設定する。そして、Ω軸と直交する平面に沿っ
てΩ軸周りにX線検出器1を2θ回転させ、かつΩ軸を
含み上記平面と直交する平面に沿ってゴニオメータの中
心O周りにX線検出器1を2θχ回転させることによ
り、試料面Saに対するX線の入射角と等しいX線の出
射角方向にX線検出器1を配置する。この状態で、試料
Sを面内回転させることにより、試料Sの極点分布を測
定する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、X線回折装置を
用いて多結晶試料を分析するための極点測定方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】X線回折装置を用いた多結晶試料の分析
方法に、極点図をもって試料の配向(集合組織)等を分
析する極点測定方法がある。極点図は、試料を構成する
結晶の特定の格子面に関する極を、図7に示すようなポ
ーラーネット(ステレオ投影図)に表したものである。こ
こで、極とは試料を構成する結晶を中心とする球と格子
面の法線との交点をいう。
【0003】図6は、従来の反射法による極点測定方法
に用いられるX線回折装置の概要を示す模式図である。
試料Sは、Ω軸周りにω回転するとともに、試料面Sa
内のL軸を中心に回転自在であり、かつ試料面Saに直
交するΦ軸を中心として面内回転する。入射X線K
は、所定の入射角ωで試料面Saに入射させる。この
入射角ωの設定は、試料のω回転によって行われる。X
線検出器1は、Ω軸と同軸周りに回転するカウンタアー
ムに装着されている。一般に、極点測定では対称位置、
すなわち試料面に対するX線の入射角と等しいX線の出
射角方向にX線検出器を配置する。つまり、X線検出器
1は、カウンタアームのΩ軸周りの回転により、入射角
ωで試料に入射する入射X線Kに対して、2ωの角度
位置に位置決めされる。
【0004】そして、試料SをL軸中心に所定角度ごと
微小回転して傾斜させ、各傾斜角(以下、あおり角αと
いう)において、Φ軸を中心に試料Sを面内回転させ、
試料面Saからブラッグ反射してくる回折X線Kを、
2ωの角度位置に固定したX線検出器1で測定する。
【0005】X線検出器1で測定した回折X線Kの強
度は、試料Sのあおり角αおよび面内回転角度βをパラ
メータとして、ポーラーネット上に表示する。これによ
り、極点図が作成される。
【0006】ここで、ポーラーネットは、径方向にあお
り角αをとり、中心がα=90°、外周がα=0°と定
義されている。なお、あおり角αは、試料面が赤道面
(図6のX線回折装置においては水平面)に対して直交
するときを90゜としている。また、ポーラーネットに
おいて、面内回転角度βは円周方向にとる。図8は冷間
圧延した70−30CuZnの(111)を極とした極
点図の例を示している。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】さて、従来の極点測定
は、入射X線にラインビームを用いているので、あおり
角αが小さくなると(すなわち、試料面が水平面側に傾
くと)、試料面における入射X線の照射幅が広がってし
まい、反射法(試料面から外側にブラッグ反射してきた
回折X線を測定する方法)によっては、極点を測定する
ことができない。
【0008】そこで、従来は、あおり角αの小さな領域
については、透過法(試料を透過してきた回折X線を測
定する方法)を用いて、極点測定を行っていた。一般
に、あおり角αが、90゜〜25゜の領域については反
射法が用いられ、25゜〜0゜の領域では透過法が用い
られていた。
【0009】しかしながら、薄膜試料を測定対象とする
場合には、厚みのある基板結晶の表面に薄膜試料を形成
するので、薄膜試料で回折したX線が基板結晶に吸収さ
れてしまい透過することができない。また、厚みのある
試料についても、同様に回折X線が試料内で吸収され透
過できない。したがって、従来、これら薄膜試料や厚み
のある試料については、あおり角αの低角領域に関し、
極点測定を行うことができなかった。
【0010】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたもので、あおり角αの高角領域からインプレーン回
折領域までの全領域にわたるほぼすべての領域に対する
極点測定を反射法により実現することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するために、ゴニオメータの中心を通る所定のΩ軸
周りに試料を回転させるとともに、上記Ω軸と直交する
平面に沿ってΩ軸周りにX線検出器を2θ回転させ、か
つΩ軸を含み上記平面と直交する平面に沿ってゴニオメ
ータの中心周りにX線検出器を2θχ回転させる機能を
備えたX線回折装置を用い、次の操作をもって極点測定
を行うことを特徴とする。
【0012】(イ)試料をΩ軸周りに回転させて、試料
面に対するX線の入射角を設定する。 (ロ)X線検出器を2θおよび2θχ回転させて、試料
面に対するX線の入射角と等しいX線の出射角方向にX
線検出器を配置する。 (ハ)試料を面内回転させ、X線検出器で試料面から反
射してくる回折X線を検出し、試料の極点分布を測定す
る。
【0013】また、この発明は、2θ回転および2θχ
回転により、高角領域からインプレーン回折領域までの
全領域にわたってX線検出器を移動させ、各移動位置に
て試料を面内回転させることにより、試料の極点分布を
測定することを特徴とする。
【0014】なお、インプレーン回折とは、図9に示す
ように、X線R1を微小入射角度δで試料面Saに入射
すると、試料Sの内部に試料面Saと平行に走るX線の
成分が現れ、それが試料面Saに垂直な結晶面Pによっ
て回折を起こし、その回折X線R2が試料面すれすれに
出ていくという現象である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して詳細に説明する。
【0016】[X線回折装置]本発明の極点測定方法
は、図1に示すような構造のX線回折装置を用いて行う
ことができる。図1において、X,Y,Zはゴニオメー
タの中心Oを定める直交座標系であり、XY平面を水平
面、Z軸を鉛直軸としてある。試料面Saの測定個所
は、ゴニオメータの中心Oに配置され、この中心Oに向
けてX線が照射される。
【0017】図1に示すX線回折装置は、赤道面(図1
ではXY平面)に垂直な回転中心軸(Ω軸)周りに試料
Sをω回転させるとともに、試料面Saと直交するΦ軸
周りに試料Sを面内回転(β回転)させる機能を備えて
いる。これらΩ軸とΦ軸とは、ゴニオメータの中心Oで
交わっている。
【0018】入射X線K’は、所定の方向(図のY軸
方向)から試料面Saに照射され、その入射角度ωは、
試料SのΩ軸周りのω回転により設定される。
【0019】また、ゴニオメータのカウンタアームにX
線検出器1が搭載してあり、このカウンタアームの動作
により、X線検出器1は、Ω軸と同軸周りに2θ回転す
るとともに、ゴニオメータの中心Oを中心に、赤道面
(図1ではXY平面)と直交する平面に沿って回転(2
θχ回転)するように構成されている。
【0020】[極点測定方法の原理]本実施形態におけ
る極点測定方法では、上述した構成のX線回折装置を利
用して、試料面Saのあおり操作の代わりに、X線検出
器1を2θχ回転させて、従来の極点測定においてあお
り角αのときに赤道面上で反射してくる回折X線を、該
2θχ回転した位置にて検出するようにしてある。
【0021】図2は、図6のX線回折装置を用いた従来
の極点測定方法における、あおり角α=90゜(すなわ
ち、試料面SaをXY平面に対し垂直に配置したとき)
の状態を示している。
【0022】図2において、試料面Saに対してY軸方
向からωの角度で入射X線Kが入射すると、ブラッグ
の回折条件より、試料面Saに対してθbの角度方向に
回折X線Kが反射してくる。また、試料面Saと垂直
な方向に散乱ベクトルKがあらわれる。これら入射X線
、回折X線K、散乱ベクトルKを含む回折面D
は、XY平面上におかれる。このときの回折面Dの法線
ベクトルをnとする。また、試料Sのあおり軸をLと
する。このあおり軸Lは、回折面Dと試料面Saとの交
線であり、Y軸(入射X線の軌道)に対しXY平面上に
てZ軸周りに角度ωだけ回転した位置におかれる。
【0023】次に、回折面Dを−(90゜−α)だけY
軸ベクトルの反時計周りに回転させて、図3に示す回折
面D’の位置におくと、回折X線Kは図3に示す
’の位置まで、散乱ベクトルKは図3に示すK’の
位置までそれぞれY軸周りに回転する。ここで、回折X
線K’、散乱ベクトルK’、入射X線K’は、とも
に回折面D’上に存在する。また、回折面Dの法線ベク
トルnは、Y軸ベクトルの反時計周りに−(90゜−
α)だけ回転して、図3のn’の位置に移動する。た
だし、入射X線Kは固定としているので、回転後も入
射X線K’の波数ベクトルはKに等しい。すなわ
ち、K=K’である。
【0024】このように、回折面Dを−(90゜−α)
だけY軸ベクトルの反時計周りに回転させたとき、試料
Sのあおり軸Lは、極点測定における対称条件、すなわ
ち試料面Saに対して対称位置で測定することを原則と
しているので、試料面法線周りに回転して、図3に示す
L’の位置へ移動する。この図3の状態は、回折面Dを
Y軸ベクトルの反時計周りに−(90゜−α)だけ回転
させ、あおり角αの位置に試料面Saを配置した状態に
相当する。
【0025】この実施形態では、上述したようにXY平
面(赤道面)からY軸ベクトルの反時計周りに−(90
゜−α)だけ回転させた方向に反射してくる回折X線K
’の方向に、X線検出器1を2θおよび2θχの回転
操作によって配置する。これにより、試料面Saをあお
り角αだけ回転させた状態における極点測定が実現でき
る。図4は、図2および図3の状態を重ね合わせた図で
ある。
【0026】次に、Y軸ベクトルの反時計周りに−(9
0゜−α)だけ回転させた回折面D’を、あおり軸L’
周りに(90゜−α)だけ逆方向に回転して倒してみ
る。そうすると、回折面D’の法線ベクトルn’は、
図4のn”の位置に移動する。この状態は、あおり角
α=90゜の状態に相当する。
【0027】図2に示したように、図6のX線回折装置
を用いた従来の極点測定方法における、あおり角α=9
0゜の状態においては、回折面Dの法線ベクトルn
は、Z軸上におかれていたが、本実施形態の極点測定
方法によるあおり角α=90゜の状態においては、回折
面D’の法線ベクトルがn”の位置におかれ、両者
(n とn”)間にずれが生じる。
【0028】それら法線ベクトルn、n”がなす角
度Δβは、極点測定における試料Sの面内回転(β回
転)に関する開始位置のずれに相当する。すなわち、本
実施形態の極点測定方法では、X線検出器1の2θχ回
転により試料Sのあおり操作を補完する結果、極点測定
における試料Sの面内回転(β回転)に関し、その開始
位置がΔβだけずれた位置から開始されることになる。
【0029】そこで、本実施形態では、極点測定により
得られたデータを、試料Sの面内回転(β回転)に関
し、Δβだけ補正する必要がある。
【0030】[Δβの計算]座標軸Y、Z周りの回転マ
トリクスを、それぞれRy、Rzとおくと、回転角δに
おける各回転マトリクスRy(δ)、Rz(δ)は、次
式で表される。
【数1】
【0031】また、特定のベクトルv周りの図示反時計
方向へのδ゜回転を、 Ra(v,δ) …(3) とおく。
【0032】ここで、X線のブラッグ反射の角度をθb
とすると、回折X線の波数ベクトルK、散乱ベクトル
K、K’は、次のように表される。 K=Rz(−2ω)K …(4) K’=Ry(−(90゜−α))K …(5) K=K−K …(6) K’=Ry(−(90゜−α))K …(7)
【0033】次に、回折面D、D’の法線ベクトル
、n’は、次式で表される。 n=K×K …(8) n’=Ry(−(90゜−α))n …(9)
【0034】そして、回折面D’の法線ベクトルn
散乱ベクトルK’から、試料Sの面内回転(β回転)の
シフト量Δβは、次式で表される(図4参照)。 L’=n’×K’ …(10) n”=Ra(L’,90゜−α) …(11) Δβ=cos−1(n・n”/|n||n”|) …(12)
【0035】[極点測定方法]本実施形態に係る極点測
定方法では、まず、与えられたあおり角αの値、および
試料Sの測定するミラー指数に基づき、図1に示すカウ
ンタアームの回転角度2θ,2θχ、および試料SのΩ
軸周りの回転角度ωを最初に求め、X線検出器1と試料
面Saとをそれらの回転角度位置に配置しておく。次
に、試料SをΦ軸周りに面内回転(β回転)して、極点
測定を実行する。
【0036】そして、極点測定データのβ回転に関する
項を、上述した計算式(12)により算出した面内回転
(β回転)のシフト量Δβだけ補正して、極点図を作成
する。
【0037】本実施形態の極点測定方法では、試料面S
aのあおり操作がないので、試料面Saに入射するX線
がラインビームであっても、その入射幅が広がることは
ない。そして、X線検出器1の2θおよび2θχ回転に
より、高角領域からインプレーン回折領域までの全測定
領域(すなわち0≦α≦90゜)における各あおり角α
に相当する位置での回折X線の分布を測定できるので、
反射法のみで全領域の極点測定が実現できる。
【0038】[X線検出器と試料面の位置決め]次に、
図1に示すカウンタアームの回転角度2θ,2θχ、お
よび試料SのΩ軸周りの回転角度ωの計算方法につい
て、図5を参照して説明する図5は本実施形態の極点側
転方法の概要を示す図である。
【0039】図5において、e、e、eはそれぞ
れX、Y、Z軸の単位ベクトル、K ’、K’はそれ
ぞれ入射X線、回折X線の波数ベクトルである。また、
は回折面D’の法線ベクトル、nは試料面Saの
法線ベクトルである。そして、eωは試料面Saと回折
面との交線で、L’は−(90゜−α)の回転角度位置
に回折面D’が存在するときの、あおり軸に相当する。
図5に示す各ベクトルの関係より、カウンタアームの回
転角度2θ,2θχ、および試料SのΩ軸周りの回転角
度ωは、次のように求めることができる。
【0040】 2θχ=90゜−cos−1(e・K’/|e||K’|) …(13) n=K’×e …(14) K=Ra(n,2θχ) …(15) 2θ=cos−1(K・e/|K||e|) …(16) K=K−K …(17) eω=e×K …(18) n=eω×e …(19) ω=cos−1(e・n/|e||n|) …(20)
【0041】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の極点測
定方法によれば、あおり角αの高角領域からインプレー
ン回折領域にわたるすべての測定領域に対し反射法によ
り極点測定が行えるので、薄膜試料や厚みのある試料に
対しても高精度な極点測定データを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る極点測定方法に用いる
X線回折装置の概要を示す模式図である。
【図2】図6のX線回折装置を用いた従来の極点測定方
法における、あおり角α=90゜の状態を示す原理図で
ある。
【図3】回折面Dを−(90゜−α)だけ回転させた状
態を示す原理図である。
【図4】図2および図3を重ね合わせて示す原理図であ
る。
【図5】本発明の実施形態に係る極点測定方法の原理図
である。
【図6】従来の極点測定方法に用いられるX線回折装置
の概要を示す模式図である。
【図7】一般的なポーラーネットを示す図である。
【図8】冷間圧延した70−30CuZnの(111)
を極とした極点図である。
【図9】インプレーン回折を説明するための斜視図であ
る。
【符号の説明】
1:X線検出器 S:試料 Sa:試料面 K,K’:入射X線 K,K’:回折X線 K,K’:散乱ベクトル
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 遠藤 上久 東京都昭島市松原町3−9−12 理学電機 株式会社内 (72)発明者 松尾 隆二 東京都昭島市松原町3−9−12 理学電機 株式会社内 Fターム(参考) 2G001 AA01 BA18 CA01 FA10 GA01 GA13 HA01 JA06 JA08 JA11 KA08 PA12 SA07

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ゴニオメータの中心を通る所定のΩ軸周
    りに試料を回転させて試料面に対するX線の入射角を設
    定するとともに、 前記Ω軸と直交する平面に沿ってΩ軸周りにX線検出器
    を2θ回転させ、かつ前記Ω軸を含み前記平面と直交す
    る平面に沿ってゴニオメータの中心周りにX線検出器を
    2θχ回転させることにより、試料面に対するX線の入
    射角と等しいX線の出射角方向にX線検出器を配置し、 次いで、試料を面内回転させることにより、試料の極点
    分布を測定することを特徴とする極点測定方法。
  2. 【請求項2】 ゴニオメータの中心を通る所定のΩ軸周
    りに試料を回転させるとともに、前記Ω軸と直交する平
    面に沿ってΩ軸周りにX線検出器を2θ回転させ、かつ
    前記Ω軸を含み前記平面と直交する平面に沿ってゴニオ
    メータの中心周りにX線検出器を2θχ回転させる機能
    を備えたX線回折装置を用いた極点測定方法であって、
    次の(イ)乃至(ハ)の操作を含むことを特徴とする極
    点測定方法。 (イ)試料を前記Ω軸周りに回転させて、試料面に対す
    るX線の入射角を設定する。 (ロ)X線検出器を前記2θおよび2θχ回転させて、
    試料面に対するX線の入射角と等しいX線の出射角方向
    にX線検出器を配置する。 (ハ)試料を面内回転させ、前記X線検出器で試料面か
    ら反射してくる回折X線を検出し、試料の極点分布を測
    定する。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の極点測定方法に
    おいて、 X線検出器の位置を、前記2θ回転および2θχ回転に
    より、高角領域からインプレーン回折領域までの全領域
    にわたって移動させ、各移動位置にて試料を面内回転さ
    せることにより、試料の極点分布を測定することを特徴
    とする極点測定方法。
JP2000172105A 1999-06-10 2000-06-08 極点測定方法 Pending JP2001056304A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000172105A JP2001056304A (ja) 1999-06-10 2000-06-08 極点測定方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16449099 1999-06-10
JP11-164490 1999-06-10
JP2000172105A JP2001056304A (ja) 1999-06-10 2000-06-08 極点測定方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001056304A true JP2001056304A (ja) 2001-02-27

Family

ID=26489567

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000172105A Pending JP2001056304A (ja) 1999-06-10 2000-06-08 極点測定方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001056304A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002048696A1 (fr) * 2000-12-14 2002-06-20 Rigaku Corporation Procede de mesure de pole
WO2003002997A1 (en) * 2001-06-27 2003-01-09 Rigaku Corporation Nonuniform-density sample analyzing method, device, and system
US6937694B2 (en) 1999-06-10 2005-08-30 Rigaku Corporation Pole measuring method
JP2006071377A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Rigaku Corp X線回折装置
JP2007278944A (ja) * 2006-04-10 2007-10-25 Rigaku Corp X線回折装置とその制御方法
DE102012111504A1 (de) 2011-11-29 2013-05-29 Rigaku Corp. Röntgenanalyseapparatur

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6937694B2 (en) 1999-06-10 2005-08-30 Rigaku Corporation Pole measuring method
WO2002048696A1 (fr) * 2000-12-14 2002-06-20 Rigaku Corporation Procede de mesure de pole
WO2003002997A1 (en) * 2001-06-27 2003-01-09 Rigaku Corporation Nonuniform-density sample analyzing method, device, and system
US7116755B2 (en) 2001-06-27 2006-10-03 Rigaku Corporation Non-uniform density sample analyzing method, device and system
CN1293382C (zh) * 2001-06-27 2007-01-03 理学电机株式会社 密度不均匀实验材料解析方法及其装置和系统
JP2006071377A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Rigaku Corp X線回折装置
JP2007278944A (ja) * 2006-04-10 2007-10-25 Rigaku Corp X線回折装置とその制御方法
DE102012111504A1 (de) 2011-11-29 2013-05-29 Rigaku Corp. Röntgenanalyseapparatur
US9218315B2 (en) 2011-11-29 2015-12-22 Rigaku Corporation X-ray analysis apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Von Heimendahl et al. Applications of Kikuchi line analyses in electron microscopy
Baba‐Kishi et al. Backscatter Kikuchi diffraction in the SEM for identification of crystallographic point groups
US4788702A (en) Orientation of crystals
JPWO2007052688A1 (ja) 微結晶粒の方位分布測定方法及びその装置
EP3249393B1 (en) Two-dimensional x-ray detector position calibration and correction with diffraction pattern
JP2004045369A (ja) 多結晶材料の配向性の評価方法
JP2001056304A (ja) 極点測定方法
US6937694B2 (en) Pole measuring method
JP2821585B2 (ja) 面内分布測定方法及び装置
TW200409263A (en) Method and apparatus for thin film thickness mapping
JP4492779B2 (ja) X線回折方法および中性子線回折方法
JP3664483B2 (ja) 極点測定方法
Berger et al. Omega-Scan: An X-ray tool for the characterization of crystal properties
Bauch et al. X‐ray Rotation‐Tilt‐Method—First Results of a new X‐ray Diffraction Technique
JPH1048159A (ja) 構造解析方法及び構造解析装置
CN111707446A (zh) 光斑中心与探测器接收面中心对准的调节方法及系统
JPH07307370A (ja) 多結晶薄膜の配向性測定方法及び配向性測定装置
JPH09113468A (ja) 正極点図測定方法
Coyle et al. Application of a microfocus Laue technique to the study of deformation in aluminium single crystals
JPH0459581B2 (ja)
JPH0358058B2 (ja)
JPH05312736A (ja) X線単結晶方位測定装置及び測定方法
Koo A Quantitative Method for the Study of Orientation Relationship between Subgrains by Dark‐Field Transmission Electron Microscopy
JP2952284B2 (ja) X線光学系の評価方法
Avetyan et al. Specific features of two diffraction schemes for a widely divergent X-ray beam