JP2001042337A - 液晶表示素子ならびにその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 少なくとも電極を有する一対の基板間に液晶
層を配設してなる液晶表示素子において、一対の基板を
一定間隔に規定するスペーサが、基板上に一定形状で配
置された感光性材料からなる被膜上にのみ配置された液
晶素子を提供すること。 【解決手段】 スペーサとして熱硬化性または熱可塑性
を有するビーズ８を使用し、感光性材料からなる被膜上
２１に散布し加熱固着させた後、該被膜を露光、現像す
ることにより、画素部分２、３、４上にあるスペーサビ
ーズ８を除去しスペーサビーズ８を一定形状で被膜２１
上に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示素子に関す
る。さらに詳しくは、液晶表示素子の基板間隔を長期間
安定に規定し、なおかつ表示品位に優れた液晶表示素子
ならびにその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶ディスプレイや液晶プロジ
ェクターなどに用いられている液晶表示素子は、少なく
とも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶が注
入、封止された構造を持つ。これら一対の基板を一定の
間隔に規定するためには通常、一方の基板上にガラスや
プラスティックからなるビーズやロッド状のスペーサを
散布して、他方の基板と重ね合わせると言う方法が採ら
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
スペーサが液晶表示素子の画素内に存在すると液晶の配
向不良を引き起こし、表示品位を低下させる事がある。

【０００４】また、特に大型の液晶表示素子を常時立て
て使用する場合などには、重力や振動等の影響により、
基板内に散布したスペーサが基板に沿って下方向に移動
するため、基板間隔に異常が生じる事もある。

【０００５】このような問題を解決するために現在、主
に２種類の先行技術が提案されている。

【０００６】第１の方法は、感光性を持つ高分子材料な
どを基板に塗布し、これをフォトリソ法により選択的に
剥離する事により、基板上にスペーサを形成する方法で
ある（特開平２−２２３９２２号公報、特開平６−１７
５１３３号公報など。高分子スペーサ法と呼ぶ）。

【０００７】しかしながら、このような高分子スペーサ
法には以下のような問題が有る。１つは、高分子スペー
サを形成するための高分子材料自体に起因するコストア
ップならびにその露光、現像による液晶表示素子作成工
程の増加ならびにコストアップであり、もう１つは、高
分子スペーサはスペーサビーズに比べて高さの精度が低
いと言う問題である。例えば、高分子材料などを基板に
塗布する方法のうち、最も精度が高いとされているスピ
ンコート法によっても、塗布被膜厚の精度は±３％であ
るとされている。よって、例えば５μｍの高分子スペー
サには±０．１５μｍの高さむらが存在する事になり、
なおかつこの精度むらは基板サイズが大きくなればなる
ほど制御が困難になる。

【０００８】これに比ベてスペーサビーズを基板上に散
布する方法においては、例えばビーズ径５μｍ±０．０
８μｍの製品の作製、入手も可能である。よって第２の
方法としてスペーサビーズを基板上に選択的に配置し
て、画素領城に、スペーサビーズを残さないようにする
方法が複数提案されている。

【０００９】例えば特開平４−１１０８２７号公報には
図７に示す技術が開示されている。これは画素電極部以
外に遮光膜２２が存在する基板を用いて、これに光溶融
性感光スペーサビーズ２３を散布した後に基板１裏面か
らの背面露光３１により画素電極部６のスペーサビーズ
２３を除去するものである。しかし本従来例は、遮光膜
２２部分以外では露光に用いる紫外線を遮断しない基板
（例えばＴＦＴ基板）を用いる必要があるので、一般の
カラーフィルタ基板に対しては使用できない。

【００１０】ここで、もともと製造コストが高いＴＦＴ
基板に新たな製造プロセスを追加する事は、歩留まりを
低下させてさらに製造コストを上昇させる可能性が有る
ので好ましい事ではない。

【００１１】また、特開平７−２７０８０６号公報には
図８に示す技術が開示されている。これはＴＦＴ基板２
６上にゲート絶縁膜２７、パッシベーション膜２８、Ｉ
ＴＯ電極６および配向膜２９を形成した後、熱溶融性樹
脂を含有した黒色感光性樹脂３０を塗布して露光３２
し、次いでスペーサビーズ８を散布して加熱する事によ
りスペーサビーズ８と黒色感光性樹脂３０との密着性を
あげ、これを現像する事により黒色感光性樹脂３０をブ
ラックマトリクスとすると同時に、ブラックマトリクス
部分以外のビーズを除去するものである。しかし本従来
例は、熱溶融性樹脂を含有した黒色感光性樹脂３０とい
う、一般の液晶表示素子作製には使用しない特殊な材料
を用いる上に、ＴＦＴ基板２６側への新たなブラックマ
トリクス形成という本来不要な工程を必要とするので素
子の作製工程数や材料コストの増加によって製造コスト
を上昇させる可能性が有るので好ましい事ではない。加
えて本従来例においては基板上２６に配向膜２９を形成
し、ラビングなどの配向処理を行った後に、黒色感光性
樹脂３０の塗布、現像を行っているが、この方法は感光
性樹脂材料に含まれている有機溶剤や、現像に用いられ
る現像液に配向膜２９がさらされるために配向膜２９が
汚染され、配向規制力の低下が起こるので好ましい方法
ではない。

【００１２】さらに特開平９−２９２６１９号公報には
黒色感光性樹脂を用いてブラックマトリクスを作成する
際に、その樹脂にスペーサビーズを混入しておき、現
像、露光によりブラックマトリクス部分以外のビーズを
除去するという技術が開示されている。しかし本従来例
においては、まずスペーサビーズを粘性の高い樹脂に均
一分散する事が難しいという問題がある。黒色感光性樹
脂内でビーズが均一に分散されないと、基板内でスペー
サビーズの分布が不均一になり、基板間隔の規定ができ
なくなる。また、本従来例にはビーズを混入した樹脂を
基板全体に均一に塗る事が難しいという問題もある。例
えばもっとも一般的な溶液塗布方法であるスピンコート
法によっては、遠心力により基板中央と周辺部でのスペ
ーサビーズ密度が変わってくる事がある。

【００１３】本発明は上記従来の問題を解決するもの
で、液晶表示素子の基板間隔を正確に制御できると言う
スペーサビーズの特長を生かしつつ、画素内部にあると
表示品位を落とす事があり、また重力や振動等の影響を
受けやすいという欠点を補う事により、液晶表示素子の
基板間隔を長期間安定に規定し、なおかつ表示品位に優
れた液晶表示素子を提供することを目的とし、さらにそ
れらを比較的安価に製造する方法を提供することを目的
としている。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明による液晶表示素
子は、少なくとも電極を有する一対の基板間に液晶層を
配設してなる液晶表示素子であって、該一対の基板を一
定間隔に規定するスペーサが熱硬化性または熱可塑性を
有し、且つ、該スペーサが、該基板上に一定形状で配置
された感光性材料からなる被膜上にのみ配置されている
事を特徴とする液晶表示素子もしくは、少なくとも電極
を有する一対の基板間に液晶層を配設してなる液晶表示
素子であって、該一対の基板を一定間隔に規定するスペ
ーサが熱硬化性または熱可塑性を有し、且つ、該基板上
に接着または固着された該スペーサが、該基板上に一定
形状で配置された感光性材料からなる被膜下にのみ配置
されている事を特徴とする液晶表示素子であり、このこ
とにより上記問題を解決できる。

【００１５】ここで本発明に使用する、スペーサは、基
板を一定間隔に規定するための熱硬化性または熱可塑性
を有さないスペーサのコアの表面に熱硬化性または熱可
塑性を有した高分子層を形成した、少なくとも２層構造
である事が好ましく、さらに遮光性を有していても良
い。

【００１６】また、本発明による液晶表示素子は、上記
感光性材料からなる被膜が液晶表示素子のブラックマト
リクスを兼ねている事を特徴とする液晶表示素子であ
り、さらには上記液晶層が、上記一対の基板の少なくと
も一方に形成された壁によって分割された複数の液晶頒
域からなり、該複数の液晶領域内の液晶分子は、該一対
の基板に垂直な軸を中心に軸対称配向している液晶表示
素子（特開平６−３０１０１５号公報、特開平７−１２
０７２８号公報等。軸対称配向（ＡｘｉａｌｌｙＳｙｍ
ｍｅｔｒｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ Ｍｉｃｒｏｃ
ｅ１１）である事からＡＳＭと呼ばれ、広視野角な液晶
表示素子である）において、上記感光性材料からなる被
膜が、該一対の基板の少なくとも一方に形成された壁で
ある事を特徴とする液晶表示素子であり、このことによ
っても上記問題を解決できる。

【００１７】さらに、本発明による液晶表示素子の製造
方法は、該一対の基板を一定間隔に規定するスペーサが
熱硬化性または熱可塑性を有し、且つ、該基板上に感光
性材料からなる被膜を形成する工程と、該被膜上に該ス
ペーサを散布する工程と、加熱によって該スペーサを該
被膜上に接着または固着する工程と、該感光性材料を選
択的に除去する事により該スペーサを該被膜上に選択的
に配置する工程を含む液晶表示素子の製造方法、もしく
は該一対の基板を一定間隔に規定するスペーサが熱硬化
性または熱可塑性を有し、且つ、該基板上に該スペーサ
を散布する工程と、加熱によって該スペーサを該基板上
に接着または固着する工程と、該基板上に感光性材料か
らなる被膜を形成する工程と、該感光性材料を選択的に
除去する事により該スペーサを該基板上に選択的に配置
する工程を含む液晶表示素子の製造方法であり、このこ
とによっても上記問題を解決できる。

【００１８】以下、本発明の作用について説明する。

【００１９】本発明においては、基板１上に感光性材料
からなる被膜７を形成し、ここに熱硬化性または熱可塑
性を有するスぺーサビーズ８を散布して、加熱によりこ
れらのスペーサビーズ８を被膜上に固定した後、露光、
現像により被膜の一部を剥離する事により、スペーサビ
ーズ８を選択的に配置する。このように、高分子スペー
サに比べて基板間隔の制御精度の高いスペーサビーズを
用いることにより、および液晶表示素子の画素内部にス
ペーサビーズが存在しないことにより、スペーサビーズ
が原因となる液晶の配向むらによる表示品位の低下が無
い液晶表示素子を作製する事が出来る。

【００２０】さらにこの方法によれば、熱硬化性または
熱可塑性を有するスペーサビーズ８を用いているので、
スペーサビーズ８が少なくとも片側の基板に固定され
る。そのためスペーサビーズ８が重力、振動等の影響を
受けて移動する事が無く、長期間の使用においても安定
した基板間隔の制御が可能になる。

【００２１】なお、ここで「熱硬化性」は加熱により１
度基板に接着すると、基本的に以後の熱工程によって軟
化しない性質を表す言葉として、「熱可塑性」とは、加
熱により何回でも軟化し、固着性を示す性質を表す言葉
として使用している。ただし本発明においては、これら
のスペーサビーズ８はあくまで基板間隔を規定するもの
であり、基板同士を接着する事は重視していないので、
どちらの性質を示すスペーサビーズを用いても大きな違
いはない。

【００２２】また、ここで遮光性スペーサビーズを用い
る事は、万一画素部分にスペーサビーズ８が残った場合
においても表示素子の白抜けを防ぐために有効（遮光性
スペーサビーズを用いた場合、そこは黒点となるが、白
抜けよりも黒点の方が表示品位を下げないとされてい
る）である。

【００２３】さらに上記感光性材料からなる被膜７が、
液晶表示素子において必須の部材であるブラックマトリ
クスを兼ねている事により、従来例に見られるように特
殊な材料を用いる事も、スペーサビーズ８を選択配置す
るためだけの余分な製造工程を導入する必要も無い。よ
って極めてコストアップ要因の少ない製造方法を提供す
る事が出来る。

【００２４】同じ理由により、ＡＳＭと呼ばれる構造を
採る液晶表示素子においても、必須の部材である壁構造
２６を上記感光性材料からなる被膜として用いる事が好
ましい。

【００２５】また本発明においては、基板上に熱硬化性
または熱可塑性を有するスペーサビーズ８を散布して、
加熱によりこれらのスペーサビーズ８を基板１上のオー
バーコート層上およびＩＴＯ電極６上に固定した後、こ
こに感光性材料からなる被膜７を形成し、露光、現像に
より被膜の一部を剥離する事により、スペーサビーズ８
を選択的に配置してもよい。この場合には基板上に固定
されたスペーサビーズ８のうち、被膜を剥離した部分の
スペーサビーズを強制的に取り除かねばならないが、こ
れは現像時または現像後の高圧水流による洗浄や、ブラ
シを用いた洗浄などによって良好に除去可能である。こ
のような順番の工程であっても上記と同様の利点のある
液晶表示素子が提供される。

【００２６】なお、本発明に用いる熱硬化性または熱可
塑性を有するスペーサビーズは、例えば特開平１−２４
７１５５号公報や特開平９−８０４４８号公報などに示
されるように、ガラスやプラスティックなどからなる微
粒子表面にオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ビニル
樹脂などをコーティングした少なくとも２層構造（３層
以上であっても構わない）を採る公知のスペーサ材料で
あり、特別なコストアップ要因になるものではない。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、実施形態を示しつつ本発明
を更に詳細に説明する。

【００２８】（実施形態１）本発明に用いるカラーフィ
ルター付き基板の作成方法について図１を用いて以下に
述べる。

【００２９】ガラス基板１上に緑、赤、青各色の画素形
成を、各色のドライフィルムレジスト（ＤＦＲ）２、
３、４をこの順番に貼りつけ、露光、現像および焼成を
繰り返すことにより行う。図１（ａ）はガラス基板、図
１（ｂ）はガラス基板に１色目ＤＦＲを貼り付けした様
子、図１（ｃ）はその後マスク露光、現像、焼成した様
子、図１（ｄ）は２色目ＤＦＲを貼り付けした様子、図
１（ｅ）はその後マスク露光、現像、焼成した様子、図
１（ｆ）は３色目ＤＦＲを貼り付けした様子、図１
（ｇ）はその後背面露光、現像、焼成した様子をそれぞ
れ示す。其々の焼成後の膜厚は１．５μｍである。

【００３０】使用ＤＦＲは富士フィルム社製ＤＦＲ（商
品名トランサー）であり、最後の青作成時に背面露光を
用いる事により、全ての着色層間隙を青のＤＦＲ４で埋
める（これにより、着色層表面の平坦化が可能とな
る）。

【００３１】この基板にオーバーコート（新日鐵化学社
製Ｖ２５９−ＰＡ）５をスピンナーで２μｍ厚に塗布、
焼成し（図１（ｈ））、次にスパッタ法によりＩＴＯを
形成した後、フォトレジスト塗布、マスクによる露光及
び現像、エッチングを経てストライプ状のＩＴＯ電極６
を形成する（図１（ｉ））。

【００３２】次に、この基板に１．５μｍの黒色感光性
樹脂（新日鐵化学社製Ｖ２５９−ＢＫ０）７を塗布、乾
燥後にマスクによる露光を行う（図１（ｊ））。更にこ
こに３．５μｍ径の熱可塑性スペーサビーズ（積水ファ
インケミカル社製ミクロパール）８を乾式法により散布
し、１００℃に加熱する事により樹脂７上にスペーサビ
ーズ８を固定する（図１（ｋ））。これを現像、焼成し
てカラーフィルタ基板とし（図１（ｌ））、その後これ
に配向膜を塗布して液晶素子を作製する。

【００３３】対向基板として、ストライプ状のＩＴＯ電
極を形成したガラス基板を用い、両基板に配向膜（日産
化学工業社製ＳＥ−７５１１Ｌ）を塗布、焼成する。こ
のＳＥ−７５１１Ｌは垂直配向膜であり、誘電異方性が
負の液晶材料と組み合わせれば、ラビングなどの配向処
理は必ずしも必要ではない。

【００３４】両基板をボンド（三井東圧社製ストラクト
ボンド）を用いて貼り合わせ、誘電異方性が負の液晶材
料を注入して液晶パネルとする。

【００３５】このようにすれば、一般の液晶表示素子作
製に用いられる材料のみを用いて、高分子スペーサ形成
時に必要な、高分子材料塗布、露光、現像といった余分
な工程を必要とせず、また通常のスペーサビーズ散布に
よって生じる画素内部のスペーサによる表示品位低下
や、長期使用時のスペーサ移動等を生じることの無い液
晶表示素子を作製することができる。

【００３６】（実施形態２）ここでは、液晶表示素子と
してプラズマアドレス液晶表示素子（ＰＡＬＣ）を用い
る場合について説明する。ＰＡＬＣとは図２に示すよう
に、ガラス基板１上にカソード１３およびアノード１４
を有し、リブ隔壁１２、ガラス基板１、誘電セパレータ
９により仕切られた空間にプラズマ放電部１１を有す
る。そして誘電セパレータ９と上部ガラス基板３３に形
成された電極１０との間に配設された液晶層２０を有す
る構造となる。片側電極として誘電セパレータ（一般に
５０μｍ〜ｌ００μｍ程度の厚みのガラスからなる）９
を用いているために、通常のＩＴＯ付きガラス基板を用
いた液晶表示素子に比べて、基板間隔の変動が表示むら
に与える影響が大きい。

【００３７】カラーフィルター基板の構成は実施形態１
に準じるが、スペーサビーズ８として遮光性を示す材料
を用いる。さらに対向基板としては、公知の方法によっ
て作製したプラズマ基板を使ってＰＡＬＣを作製する。

【００３８】このようにすれば、一般の液晶表示素子作
製に用いる材料のみを用いて、高分子スペーサ形成時に
必要な、余分な高分子材料塗布、露光、現像といった工
程を必要とせず、通常のスペーサ散布によって生じる画
素内部のスペーサビーズによる表示品位低下や長期使用
時のスペーサ移動の無い液晶表示素子を作製することが
できると共に、このＰＡＬＣにおいては高分子スペーサ
を用いるよりも基板間隔が正確に規定されるので、基板
間隔の変動に起因する表示むらが生じにくい事が分か
る。なお、万一画素部にスペーサビーズの一部が残る事
が有っても、遮光性スペーサビーズを用いる事で表示品
位の低下を最小限に抑える事が出来る。

【００３９】（実施形態３）ここでは、液晶表示素子と
してプラズマアドレス液晶表示素子（ＰＡＬＣ）を用
い、かつ、その液晶表示部がＡＳＭ構造を採る場合につ
いて図３、図５を用いて説明する。

【００４０】ブラックマトリクス１８ならびに緑、赤、
青各色画素１７の形成を各色ＤＦＲを用いて通常のマス
ク露光により行う（図５（ａ）、図５（ｂ））。ここに
オーバーコート５を塗布、焼成し、さらにＩＴＯのスト
ライプ電極６を形成する（図５（ｃ））。その後感光性
樹脂（新日鐵化学杜製Ｖ２５９−ＰＡ）２１を１μｍ厚
になるように塗布、乾燥、マスク露光を行い（図５
（ｄ））、その後４μｍ径の熱可塑性スペーサビーズ
（積水ファインケミカル社製ミクロパール）８を乾式法
により散布し、１２０℃に加熱する事により感光性樹脂
２１上にスペーサビーズ８を固定する（図５（ｅ））。

【００４１】これを現像する事で井形の壁１６上にのみ
スペーサ８が配置されたカラーフィルター付き基板とし
（図５（ｆ））、さらにこれに配向膜を塗布した後、液
晶表示素子を作製する。

【００４２】この基板を用いて公知の方法によってＰＡ
ＬＣを作製すれば、通常のＡＳＭ構造において高分子ス
ペーサを形成する際に必要な高分子材料塗布、露光、現
像といった工程を必要とせず、通常のスペーサビーズ散
布によって生じる画素内部のスペーサビーズによる表示
品位低下や、長期使用時のスペーサビーズ移動などの無
い液晶表示素子を作製することができると共に、このＰ
ＡＬＣにおいては高分子スペーサを用いるよりも基板間
隔が正確に規定されるので、基板間隔の変動に起因する
表示むらが生じにくい事が分かる。

【００４３】（実施形態４）ここではスペーサビーズ散
布工程と感光性被膜を形成する工程の順番が、上記実施
形態と異なる場合について説明する。

【００４４】実施形態１と同様にしてＩＴＯストライプ
電極６までを形成した（図６（ａ）、図６（ｂ））基板
に対し、４μｍ径の熱可塑性スペーサビーズ（積水ファ
インケミカル社製ミクロパール）８を乾式法により散布
し、ｌ００℃に加熱する事により基板上にスペーサビー
ズ８を固定する（図６（ｃ））。この基板に１．０μｍ
の黒色感光性樹脂（新日鐵化学社製Ｖ２５９−ＢＫ０）
７を塗布、乾燥後にマスクによる露光を行い（図６
（ｄ））、現像、焼成して（図６（ｅ））カラーフィル
ター基板とする。中性洗剤とブラシを用いた洗浄を行う
事でブラックマトリクス部分７以外に残ったスペーサビ
ーズ８を排除する（図６（ｆ））。

【００４５】この基板を用いて実施例１と同様に液晶パ
ネルを作製すれば、一般の液晶表示素子作製に用いる材
料のみを用いて、高分子スペーサ形成時に必要な、余分
な高分子材料塗布、露光、現像といった工程を必要とせ
ず、通常のスペーサ散布によって生じる画素内部のスペ
ーサビーズによる表示品位低下や、長期使用時のスペー
サ移動の無い液晶表示素子を作製することができる。さ
らにこの場合、比較形態に比べて高精度に基板間隔を保
ちつつ、実施形態１〜３よりもさらにスペーサビーズの
基板への接着強度を向上させることができる。

【００４６】（実施形態５）ここではスペーサビーズ散
布工程と感光性被膜の露光工程の順番が、上記実施形態
と異なる場合について説明する。

【００４７】実施形態１同様にしてＩＴＯストライプ電
極までを形成した基板に対し、１．５μｍの黒色感光性
樹脂（新日鐵化学社製Ｖ２５９−ＢＫ０）を塗布、乾燥
後に３．５μｍ径の熱可塑性スペーサビーズ（積水ファ
インケミカル社製ミクロパール）を乾式法により散布
し、１００℃に加熱する事により樹脂上にビーズを固定
する。さらにマスク露光を行い、現像する事でカラーフ
ィルター付き基板とする。この基板を用いて実施例１同
様に液晶パネルを作製すれば、一般の液晶表示素子作製
に用いる材料のみを用いて、高分子スペーサ形成時に必
要な、余分な高分子材料塗布、露光、現像といった工程
を必要とせず、通常のスペーサ散布によって生じる画素
内部のスペーサビーズによる表示品位低下や長期使用時
のスペーサ移動の無い液晶表示素子を作製することがで
きる。

【００４８】以上のように、スペーサビーズ散布と露光
工程の順番はどちらが先でも構わない。ただし、ビーズ
散布後に露光する場合の長所としては、露光前の感光性
被膜は露光後よりも柔らかいのでビーズの固着性をより
強固にする事ができる。また、場合によっては感光性被
膜に対する溶解性を持つ溶媒を含む溶液に固着性ビーズ
を混ぜて湿式散布を行ったり、散布後に感光性被膜に対
する溶解性を持つ溶媒を含む溶液を基板状にスプレーす
る事により、さらにビーズの固着性を上げる事が期待で
きる。

【００４９】（比較形態）実施形態３同様にオーバーコ
ート５ならびに高分子壁１６まで作成した基板に、さら
に感光性樹脂（新日鐵化学社製Ｖ２５９−ＰＡ）を５μ
ｍ厚になるように塗布、乾燥、マスク露光を行って高分
子スペーサ１９を形成する（図４）。これを用いてＰＡ
ＬＣを作製すると、わずかに表示むら（例えば、単色中
間調表示時）微妙な明るさむら）が確認され、高分子ス
ペーサの高さを測定すると±０．１５μｍ程度の高さむ
らが生じており、これが表示むらの原因だと考えられ
る。

【００５０】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、通常のス
ペーサビーズ散布法のような画素内部へのスぺーサビー
ズ混入による表示品位の低下や長期使用時のスペーサビ
ーズ移動が無く、かつ高分子スペーサ法のように特別な
工程が必要ないのでコスト的に有利な液晶表示素子を提
供できる。なお本発明によれば、スペーサビーズの直径
精度は高分子スペーサの高さ精度以上に高いので、基板
間隔の制御精度が高い液晶表示素子を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施形態１におけるカラーフィルター
基板作成工程を示す説明図である。

【図２】本発明の実施形態２におけるＰＡＬＣの断面該
略図である。

【図３】本発明の実施形態３におけるカラーフィルター
基板の概略図である。

【図４】比較形態におけるカラーフィルター基板の概略
図である。

【図５】本発明の実施形態３におけるカラーフィルター
基板作成工程を示す説明図である。

【図６】実施形態４におけるカラーフィルター基板作成
工程を示す説明図である。

【図７】先行技術に示された液晶基板作成工程を示す説
明図である。

【図８】先行技術に示された液晶基板作成工程を示す説
明図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ １色目ドライフィルムレジスト ３ ２色目ドライフィルムレジスト ４ ３色目ドライフィルムレジスト ５ オーバーコート ６ ＩＴＯ電極 ７ 黒色感光性樹脂 ８ スペーサビーズ １７ 着色画素部 １８ ブラックマトリクス ２０ 液晶層 ２１ 感光性樹脂 ２２ 遮光膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H089 HA36 KA15 LA03 LA07 LA16 LA19 LA20 MA15X NA14 NA15 NA24 NA25 NA27 NA44 NA45 NA53 NA60 PA02 PA09 QA05 QA12 QA14 SA01 TA04 TA06 TA07 TA13 5C094 AA03 AA42 AA43 AA55 BA43 CA19 CA24 EC03 ED20 FB02 GA10 GB01

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも電極を有する一対の基板間に
   液晶層を配設してなる液晶表示素子であって、該一対の
   基板を一定間隔に規定するスペーサが熱硬化性または熱
   可塑性を有し、且つ、該スペーサが、該基板上に一定形
   状で配置された感光性材料からなる被膜上にのみ配置さ
   れている事を特徴とする液晶表示素子。
2. 【請求項２】 少なくとも電極を有する一対の基板間に
   液晶層を配設してなる液晶表示素子であって、該一対の
   基板を一定間隔に規定するスペーサが熱硬化性または熱
   可塑性を有し、且つ、該基板上に接着または固着された
   該スペーサが、該基板上に一定形状で配置された感光性
   材料からなる被膜下にのみ配置されている事を特徴とす
   る液晶表示素子。
3. 【請求項３】 前記被膜が感光性材料からなり、前記液
   晶表示素子のブラックマトリクスである事を特徴とする
   請求項１または請求項２に記載の液晶表示素子。
4. 【請求項４】 前記液晶層が、前記一対の基板の少なく
   とも一方に形成された壁によって分割された複数の液晶
   領域からなり、該複数の液晶領域内の液晶分子は、該一
   対の基板に垂直な軸を中心に軸対称配向している液晶表
   示素子において、前記感光性材料からなる被膜が、該一
   対の基板の少なくとも一方に形成された壁である事を特
   徴とする請求項１または請求項２に記載の液晶表示素
   子。
5. 【請求項５】 前記スペーサが、基板を一定間隔に規定
   するための熱硬化性または熱可塑性を有さないスペーサ
   のコア表面に熱硬化性または熱可塑性を有する高分子層
   を形成した、少なくとも２層構造である事を特徴とする
   請求項１〜請求項４のいずれかに記載の液晶表示素子。
6. 【請求項６】 前記スペーサが遮光性を持つ事を特徴と
   する請求項１〜請求項５のいずれかに記載の液晶表示素
   子。
7. 【請求項７】 少なくとも電極を有する一対の基板間に
   液晶層を配設してなる液晶表示素子の製造方法であっ
   て、該基板上に感光性材料からなる被膜を形成する工程
   と、該被膜上に該一対の基板を一定間隔に規定する熱硬
   化性または熱可塑性を有するスペーサを散布する工程
   と、加熱によって該スペーサを該被膜上に接着または固
   着する工程と、該感光性材料からなる該被膜を選択的に
   除去する事により該スペーサを該被膜上に選択的に配置
   する工程を含む事を特徴とする液晶表示素子の製造方
   法。
8. 【請求項８】 少なくとも電極を有する一対の基板間に
   液晶層を配設してなる液晶表示素子の製造方法であっ
   て、該基板上に該一対の基板を一定間隔に規定する熱硬
   化性または熱可塑性を有するスペーサを散布する工程
   と、加熱によって該スペーサを該基板上に接着または固
   着する工程と、該基板上に感光性材料からなる被膜を形
   成する工程と、該感光性材料を選択的に除去する事によ
   り該スペーサを該基板上に選択的に配置する工程を含む
   事を特徴とする液晶表示素子の製造方法。