JP2001040215A - 光学材料 - Google Patents
光学材料Info
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Abstract
現させることなく、ポリシロキサン中に均一に分布させ
て、良好な光学的透明性、低屈折率、及び低分散の光学
素子を形成しうるポリシロキサン樹脂系光学材料を提供
する。 【解決手段】 フロロ炭化水素をケイ素基をケイ素原子
上の置換基とするケイ素原子を含むポリシロキサン樹脂
100重量部と、コロイダルシリカ10〜100重量部
とを含むポリシロキサン樹脂組成物を含む溶液を乾燥さ
せることにより溶媒を除去して、付形し、加熱硬化し得
るポリシロキサン樹脂組成物からなる光学材料。
Description
等の光学素子として使用されうる光学材料の製造方法に
関する。
る微小光学素子の中には、光学ガラスを表面研磨して作
成する従来の光学素子製造技術では作成困難なものも求
められるようになり、成形性に優れた高分子材料による
光学素子が用いられ始めている。そのような高分子材料
としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネー
トが知られている。近年、ポリメチルメタクリレート樹
脂の耐熱性、ポリカーボネート樹脂の耐湿性、耐水性お
よび複屈折等の改善を目的とした幾つかのポリオレフィ
ン系樹脂が開発されている。これら非晶性樹脂は全て樹
脂中に芳香族環を含まないため本質的な複屈折性は無
い。しかし、これら樹脂は溶融成形を基本とする熱可塑
性樹脂であるため、成形加工時に発生する流動複屈折に
起因する複屈折は避けられない。唯一熱硬化性樹脂とし
てはアクリル樹脂系のCR−36が眼鏡用レンズとして
使用されているにすぎない。
号に開示されているごとくフッ化リン酸ガラス系の低屈
折率低分散ガラスが開発されており、有機ガラスでも同
様な低屈折率低分散材料が求められている。一般に、フ
ッ素を分子中に含む高分子が低屈折率を示すことは過去
の知見の教えるところであり、その多くは低分散性を示
す。しかしながらフッ素原子に由来する分子間力の増大
に伴って結晶性或いは秩序構造が発現し、光線透過性が
低減する傾向がある。この様なフッ素含有高分子の例と
しては、代表的にはテトラフロロエチレンポリマー、テ
トラフロロエチレン−ヘキサフロロプロピレンコポリマ
ー等の結晶性ポリマーが挙げられる。しかし、このよう
な高分子について、光学素子材料としての検討はほとん
ど行われておらず、ポリメチルメタクリレート中の一部
にフッ素置換基を導入したアクリル樹脂が導波路等の部
材として検討されているのみである。
は、コンタクトレンズ、可変焦点光学素子等の透明弾性
体としての特殊な用途、導波路あるいは光学薄膜形成の
ためのコーティング材を主体に応用が進められている。
レンズ、プリズム等の幾何光学素子に適用可能なポリシ
ロキサン樹脂は特開平7−294701号、特開平7−
306301号に開示されているが、光学素子の形成可
能なフッ素を分子中に含む低屈折率のポリシロキサン樹
脂に関しては何ら開示されていない。
子中に含む樹脂は、フロロ炭化水素基の分子間相互作用
によって凝集し、透明性が低下する。一方、熱硬化性樹
脂は粘度の低い低分子量ポリマーを用いて成形硬化する
ため、成形に伴う後発性の複屈折性を抑制するうえで良
好の樹脂である。本発明の目的は、低屈折率を与えるフ
ロロ炭化水素基を可能な限り凝集構造を発現させること
なくポリシロキサン中に均一に分布させ良好な光学的透
明性を有するポリシロキサン樹脂を主成分とするポリシ
ロキサン樹脂組成物によって、屈折率が低く、屈折率分
散も低い光学材料を提供することにある。
3/2 (Rfは炭素数1以上12以下のフロロ炭化水素基
である)で表わされる単位を有するポリシロキサン樹脂
100重量部とコロイダルシリカ10重量部以上100
重量部以下を含むポリシロキサン樹脂組成物を含むポリ
シロキサン樹脂組成物溶液を乾燥させることにより溶媒
を除去し、付形し、加熱硬化し得る光学材料によって解
決される。
O3/2 (ここに、Rfは炭素数1以上12以下のフロロ
炭化水素基である)で示される単位を必須の構成単位と
して含むもので、この他にRSiO3/2 (ここに、Rは
炭素数1以上6以下のアルキル基である)で示される単
位を含んでいてもよい。更に発明の効果を妨げない程度
であれば、前記ポリシロキサン樹脂は上記のようなシル
セスキオキサン単位以外の単位、例えばR′2 SiO
2/2 ,R′3 SiO1/2 (ここにR′はアルキル基であ
る)で表される単位等を含んでいてもよい。前記Rf基
は、好ましくは一般式Cm F2m+1(CH2 )2 −で示さ
れ、ここにmは1以上10以下、好ましくは1以上8以
下、更に好ましくは1以上6以下の整数である。
は、トリフロロメチル、パーフロロエチル(CF3 CF
2 −)、パーフロロプロピル(CF3 CF2 CF
2 −)、パーフロロブチル(CF3 (CF2 )3 −)、
パーフロロアミル(CF3 (CF2)4 −)、パーフロ
ロヘキシル(CF3 (CF2 )5 −)、パーフロロオク
チル基(CF3 (CF2 )7 −)等が挙げられる。フロ
ロ炭素の鎖長が長くなれば屈折率は低下するものの、混
合比を大きくすると凝集し易くなり光散乱を誘発し透過
率は低下する。フロロ炭化水素基以外のケイ素上の置換
基としては、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミ
ル、ヘキシル基等を挙げることができる。これらのう
ち、低屈折率の点からはメチル基であることが好まし
い。しかし、成形性或いは機械的強度を改善するために
アルキル鎖の長い炭化水素を含む事は差し支えない。
脂組成物中に必須の構成成分として含まれる。コロイダ
ルシリカは屈折率が1.46程度あり、ポリシロキサン
と比較して屈折率が高いため樹脂中には含まれない方が
光学的性質上は好ましい。しかし、コロイダルシリカが
存在しない樹脂では成形性が著しく損なわれる。フロロ
炭化水素の種類とそのポリシロキサン中の濃度にも依存
するが、コロイダルシリカの添加量は、ポリシロキサン
樹脂100重量部に対して10重量部以上100重量部
以下の範囲であるのが好ましい。
ダルシリカは、平均粒径が0.1μm以下であることが
好ましい。光学的な透明性、均一分散のためには、平均
粒径は10−40nmの範囲であるのがより好ましい。こ
のようなコロイダルシリカは二次凝集体を形成し易いた
め、粒子表面を有機化合物によって修飾してこれを抑制
しているものもある。本発明においては、ポリシロキサ
ン中への分散性が損なわれない限り、このような修飾は
制限されない。修飾している有機基はポリシロキサンと
の反応或いは硬化反応時に除去することができる。コロ
イダルシリカは予め適当な溶媒中に分散されているもの
であっても差し支えない。
一般的製法は、伊藤邦雄編“シリコーンハンドブック”
(日刊工業新聞社、1990年)第12章−第15章、
熊田誠、和田正編“最新シリコーン技術”第3章等に記
載されている。この製法は、加水分解性基を有する有機
ケイ素化合物とコロイダルシリカを溶媒中で混合し、加
水分解縮合させる。コロイダルシリカ中のシラノールと
加水分解した有機ケイ素化合物とが反応し、ポリシロキ
サン樹脂中にコロイダルシリカが均一分散したポリシロ
キサン樹脂組成物が製造される。フロロ炭化水素を置換
基として有する有機ケイ素化合物と炭化水素を置換基と
して有する有機ケイ素化合物とをコロイダルシリカの存
在下、共加水分解縮合することによって、フロロ炭化水
素基を含有するポリシロキサン樹脂組成物を合成するこ
とができる。加水分解速度がケイ素原子上の置換基の種
類によって影響を受けるため、ブロック共重合を抑制し
てフロロ炭化水素基の結合したケイ素原子を偏在させな
いで分散させることが光線透過率を良好に保つ上で必須
である。フロロ炭化水素がケイ素原子に結合した有機ケ
イ素化合物と炭化水素がケイ素原子に結合した有機ケイ
素化合物のそれぞれの加水分解性基はメトキシ、エトキ
シ、プロポキシ、ブトキシ、アミルオキシ、ヘキシルオ
キシ等の低級アルコール性基の群から選ばれるのが好ま
しい。この加水分解縮合は、加水分解性基に対し等当量
以上の水を含む溶媒中で行うのが好ましい。加水分解で
発生するアルコールを溶媒として用いる事もできる。こ
れら溶媒に他の有機溶媒を添加することもできる。
カ中に含まれるシラノール基あるいは加水分解性基がポ
リシロキサン形成に関与する有機ケイ素化合物と反応し
得る状態であれば、反応開始当初から存在していてもよ
く、また反応途中にこれを加えてもよい。このようなコ
ロイダルシリカは粉体であっても溶媒中に分散されたも
のであってもよい。
は、一般に、加水分解性基を含む有機ケイ素化合物の加
水分解を促進するために、ぎ酸、酢酸、シュウ酸、プロ
ピオン酸、マロン酸、グルタル酸、グリコール酸、酒石
酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸あるいは塩酸、硝酸等
の鉱酸を触媒として加える事がある。本発明に使用され
る樹脂の形成のために、これら触媒を使用することがで
きる。
形前は、溶媒中に溶解又は分散されている。この溶媒は
アルコールが好ましく、より好ましくは低沸点のアルコ
ール、最も好ましくは水を少量含む低点のアルコールで
ある。この溶液又は分散液(以下まとめて溶液という)
は、コロイダルシリカを含むポリシロキサン樹脂組成物
からなる固形分濃度がおおよそ50重量%以下であるこ
とが保存安定性の点からは好ましい。
硬化させる。前記ポリシロキサン樹脂組成物中には水酸
基或いは加水分解性基が残存しているため、乾燥後に加
熱してこれらの反応性基を縮合させて硬化させることが
できる。ポリシロキサン樹脂組成物においてこの種の縮
合架橋は50−150℃の温度範囲で加熱して行われ
る。比較的低温で硬化させる場合は、架橋を促進するた
めに、硬化触媒として、ジブチル錫ジアセテート等の錫
化合物、ブチルチタネート等の有機チタン化合物、酢酸
エチル等の有機酸エステル類および前述の有機酸加水分
解触媒の中から選択して用いる。一般的には、硬化触媒
の添加量は樹脂100重量部に対して1重量部以上10
重量部以下の範囲で、硬化温度、硬化速度を考慮して選
定される。
に関して工程順に説明する。先づ、少なくとも1つの面
が開放されており、且つ、後に加圧できる構造の素子型
中にポリシロキサン樹脂組成物溶液を注入し溶媒を蒸発
させ、乾燥させる。この時加圧しつつ乾燥させるのが溶
媒除去に伴うボイド発生を抑制するためには好ましい。
又、必要に応じて溶媒の沸点近傍の温度で加熱して乾燥
を促進させる事ができ。次に、硬化工程について説明す
る。本発明で用いるポリシロキサン樹脂組成物は50−
150℃の温度範囲で加熱硬化する。この時、乾燥ポリ
シロキサン樹脂組成物は約10%の硬化収縮をおこすた
め、少なくとも一方の面から加圧する。加圧する方法は
ポリシロキサン樹脂組成物に均一に圧力がかかる構造の
ものであれば圧力のかけかたに関しては制限はない。そ
の時の圧力は少なくとも105 Pa以上の圧力であるこ
とが好ましい。
率、低分散のポリシロキサン樹脂組成物から成るレン
ズ、プリズム等の光学素子や薄膜を形成しうる光学材料
が提供される。このポリシロキサン樹脂組成物は一般の
有機材料同様に成形加工性に優れ、容易に光学素子等を
形成しうるという特徴を合わせ持っている。
組成物溶液の合成例およびそれをもとに調製した本発明
のポリシロキサン樹脂組成物についての実施例を示す。
ート及び温度計を装着した四つ口フラスコに、イソプロ
ピルアルコールに分散したコロイダルシリカ(IPA−
ST、日産化学工業株式会社製;平均粒子径10〜20
nm)19.79gと(トリデカフロロ−1,1,2,2
−テトラヒドロオクチル)トリエトキシシラン4.65
gを添加し攪拌した。この混合溶液に水2.91mlを添
加し、さらにメチルトリエトキシシラン14.47gを
攪拌下ゆっくり添加した後、酢酸3.76mlを添加し、
60℃に昇温した。さらにそのまま60℃で7時間加熱
攪拌し反応を行った。この反応溶液を室温まで冷却した
後、イソプロピルアルコール2.65gとジブチル錫ジ
ラウレート2.4gを添加し、固形分30.16重量%
のポリシロキサン樹脂組成物溶液(No.5)50.0
6gを得た。その他のポリシロキサン樹脂組成物溶液
(No.1,2,3,4,6)も同様にして合成した。
No.1〜6のポリシロキサン樹脂組成物溶液の詳細に
ついて表1に列挙する。
定) 合成例で得たポリシロキサン樹脂組成物溶液No.1〜
6をそれぞれシリコンウェハー上にスピンコートし、1
10℃のオーブンで4時間加熱することにより乾燥さ
せ、硬化させて、フィルム状試料を得た。得られた試料
の膜厚、屈折率及びアッベ数(屈折率分散)を測定し
た。膜厚および屈折率は自動多入射角分光エリプソメー
ター(VASE(登録商標)ジェー・エー・ウーラム・
ジャパン株式会社製)で測定し、Cauchyの分散式
を用いて解析した。アッベ数(屈折率分散)はνD =
(nD −1)/(nF −nC )、(順に、nD ,nF ,
nC は波長D=589nm,F=486nm,C=658nm
における屈折率) の式より算出した。その結果を表2に
示す。
照)をカップ型に注入し、大気圧下溶媒を蒸発させて乾
燥させた。得られた板状の乾燥ポリシロキサン樹脂組成
物を型から外し、120℃のオーブンの中で一晩加熱す
ることにより硬化を行うことにより、厚さ3mmのポリシ
ロキサン樹脂組成物の硬化物を得た。得られた硬化物は
分光光度計(U−3210(株)日立製作所製)を用い
て分光透過率を測定した。その結果50%透過率の波長
は290nmであり、400〜800nmにおける透過率は
95%以上であった。
6)
Claims (1)
- 【請求項1】 RfSi3/2 (Rfは炭素数1以上12
以下のフロロ炭化水素基である)で表わされる単位を有
するポリシロキサン樹脂100重量部とコロイダルシリ
カ10重量部以上100重量部以下を含むポリシロキサ
ン樹脂組成物を含むポリシロキサン樹脂組成物溶液を乾
燥させることにより溶媒を除去し、付形し、加熱硬化し
得る光学材料。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11213755A JP2001040215A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 光学材料 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11213755A JP2001040215A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 光学材料 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001040215A true JP2001040215A (ja) | 2001-02-13 |
Family
ID=16644500
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11213755A Pending JP2001040215A (ja) | 1999-07-28 | 1999-07-28 | 光学材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001040215A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013010881A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 付加硬化型シリコーン組成物及び光学素子 |
KR20150100817A (ko) | 2012-12-21 | 2015-09-02 | 에이제트 일렉트로닉 머티어리얼스 (룩셈부르크) 에스.에이.알.엘. | 규소 산화물 나노 입자와 실세스퀴옥산 중합체의 복합체 및 그의 제조 방법, 및 그 복합체를 사용하여 제조한 복합 재료 |
-
1999
- 1999-07-28 JP JP11213755A patent/JP2001040215A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013010881A (ja) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | 付加硬化型シリコーン組成物及び光学素子 |
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US10435513B2 (en) | 2012-12-21 | 2019-10-08 | Ridgefield Acquisition | Composite of silicon oxide nanoparticles and silsesquioxane polymer, method for producing same, and composite material produced using composite thereof |
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