JP2001038637A - 電着砥石 - Google Patents

電着砥石

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JP2001038637A
JP2001038637A JP21139099A JP21139099A JP2001038637A JP 2001038637 A JP2001038637 A JP 2001038637A JP 21139099 A JP21139099 A JP 21139099A JP 21139099 A JP21139099 A JP 21139099A JP 2001038637 A JP2001038637 A JP 2001038637A
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inclined surface
grinding
pad
wheel
angle
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JP21139099A
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English (en)
Inventor
Tsutomu Takahashi
務 高橋
Naoki Shitamae
直樹 下前
Nobukazu Nagayama
信和 永山
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 研削圧力を低減して被削材を傷めることなく
研削代を任意に設定できる。 【解決手段】 電着ホイール20のリング状の砥粒層2
3について縦断面視で頂部に平坦部24を形成する。砥
粒層23の外周側面25に台金22側から第一傾斜面2
7と第二傾斜面28を設けて平坦部24につなぎ、内周
側面26に第三傾斜面29と第四傾斜面30を設けて平
坦部24につなげる。第一傾斜面27の傾斜角θ1を鋭
角とし、第二傾斜面28の傾斜角θ2をθ1より小さく
する。第三傾斜面29の傾斜角θ3を鋭角とし、第四傾
斜面30の傾斜角θ4をθ3より小さくする。θ1>θ
4としてもよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体ウエ
ーハ等の被研磨材の表面をCMP装置によって研磨する
際に用いられる研磨用のパッドをコンディショニングす
るため等に用いられる電着砥石に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリコンインゴットから切り出し
た半導体ウエーハ(以下、単にウエーハという)の表面
を化学的且つ機械的に研磨するCMP装置(ケミカルメ
カニカルポリッシングマシン)の一例として、図6に示
すような装置がある。ウエーハはデバイスの微細化に伴
って高精度かつ無欠陥表面となるように鏡面研磨するこ
とが要求されている。CMPによる研磨のメカニズム
は、微粒子シリカ等によるメカニカルな要素(遊離砥
粒)とアルカリ液や酸性液等によるエッチング要素とを
複合したメカノ・ケミカル研磨法に基づいている。この
CMP装置1は、図6に示すように中心軸2に取り付け
られた円板状の回転テーブル3上に例えば硬質ウレタン
からなるポリッシング用のパッド4が設けられ、このパ
ッド4に対向して且つパッド4の中心軸2から偏心した
位置に自転可能なウエーハキャリア5が配設されてい
る。このウエーハキャリア5はパッド4よりも小径の円
板形状とされてウエーハ6を保持するものであり、この
ウエーハ6がウエーハキャリア5とパッド4間に配置さ
れてパッド4側の表面の研磨に供され鏡面仕上げされ
る。
【0003】研磨に際して、例えば上述した微粒子シリ
カ等からなる遊離砥粒が研磨剤として用いられ、更にエ
ッチング用のアルカリ液等が混合されたものが液状のス
ラリsとしてパッド4上に供給されているため、このス
ラリsがウエーハキャリア5に保持されたウエーハ6と
パッド4との間に流動して、ウエーハキャリア5でウエ
ーハ6が自転し、同時にパッド4が中心軸2を中心とし
て回転するために、パッド4でウエーハ6の一面が研磨
される。ウエーハ6の研磨を行う硬質ウレタン製などの
パッド4上にはスラリsを保持する微細な発泡層が多数
設けられており、これらの発泡層内に保持されたスラリ
sでウエーハ6の研磨が行われる。ところが、ウエーハ
6の研磨を繰り返すことでパッド4の研磨面の平坦度が
低下したり目詰まりするためにウエーハ6の研磨精度と
研磨効率が低下するという問題が生じる。
【0004】そのため、従来からCMP装置1には図6
に示すようにパッドコンディショナ8が設けられ、パッ
ド4の表面を再研磨(コンディショニング)するように
なっている。このパッドコンディショナ8は、回転テー
ブル3の外部に設けられた回転軸9にアーム10を介し
て電着ホイール11が設けられ、回転軸9によってアー
ム10を回動させることで、回転するパッド4上におい
て電着ホイール11を往復揺動させてパッド4の表面を
研磨してパッド4の表面の平坦度等を回復または維持し
目詰まりを解消するようになっている。この電着ホイー
ル11は、図7及び図8に示すように円形板状の台金1
2上に上面が平面状でリング状の砥粒層13が形成され
ており、この砥粒層13は例えば図9に示すように台金
12上に電気めっきなどによりダイヤモンドやcBNな
どの超砥粒14を金属めっき相15で分散固定して構成
されている。この金属めっき相15は例えばニッケルな
どで構成されている。尚、砥粒層13の表面には例えば
45°等の所定間隔で径方向に凹溝17が形成されてお
り、スラリsや切り粉をこの凹溝17を通して外部に排
出することになる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
電着ホイール11を用いてパッド4の研磨を行う場合、
電着ホイール11の砥粒層13が例えば図10に示すよ
うに平板状であるものを砥粒層13Aとすると、パッド
4の多数の起毛4a…を研削するときに砥粒層13Aが
面接触するために研削圧は小さいが、研削開始時に砥粒
層13Aの垂直に切り立つ入射角90°の側面13cで
起毛4a…の途中部分を切断するように電着ホイール1
1が横移動するために起毛4a…を傷めてしまうという
欠点がある。また砥粒層13が図11に示すように縦断
面視円弧状に形成されているものを砥粒層13Bとする
と、この場合には研磨の際に砥粒層13Bの頂部13a
で起毛4a…に点接触するために研削圧力(研削抵抗)
が高すぎ、パッド4表面の凹凸形状に沿って研削するた
めに研削精度もよくないという問題が生じる。この問題
を低減するために砥粒層13Bの円弧形状をなだらかで
より大径のものにすると、研削圧力は小さくなるが砥粒
層13Bの側面13bでの起毛4a…に対して接触する
入射角θ即ち傾斜角が変動して鋭く(小さく)なるため
に、研削開始時に砥粒層13Bの側面13bで起毛4a
…途中部分をかじってしまいやはり起毛4a…を傷める
という問題が生じる。このように従来の電着ホイール1
1によるパッド4の研削では研削圧力と研削開始時の入
射角のいずれかを犠牲にせざるを得なかった。
【0006】本発明は、このような実情に鑑みて、研削
圧力を小さくできると共に研削開始時等に被削材を傷め
ないようにした電着砥石を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明に係る電着砥石
は、金属めっき相中に超砥粒が分散配置された砥粒層が
台金に装着されてなる電着砥石において、縦断面視で砥
粒層の頂部に平坦部が形成されていると共に側面に鋭角
の傾斜角をなす第一傾斜面が設けられていることを特徴
とする。パッド等の被削材に対して電着砥石を相対的に
横移動させることで被削材の研削を行うが、砥粒層の頂
部に平坦部を設けたことで頂部の研削面積が増大して研
削圧力を比較的小さい定圧に設定でき、被削材に部分的
に硬さの変化する領域があっても研削量の平均化を図っ
て平坦な研削加工面を得ることができる。そして頂部の
研削抵抗とは関係なく第一傾斜面の傾斜角度を任意に設
定でき、そのために第一傾斜面を比較的大きい鋭角に設
定できて研削開始時には砥粒層の第一傾斜面で被削材に
接触し始める際に起毛等被削材の途中部分をかじって傷
めることを抑制でき、頂部が摩耗しても平坦部が増大す
るだけで第一傾斜面の入射角(傾斜角)が変化するよう
な悪影響を与えることはない。
【0008】また平坦部と第一傾斜面との間に第二傾斜
面が設けられ、該第二傾斜面はその傾斜角が第一傾斜面
の傾斜角より小さい鋭角に設定されていてもよい。砥粒
層の側面を複数段階にわたる傾斜面で形成することによ
って、被削材に対する研削の程度に応じて第一傾斜面や
他の傾斜面の角度を個別に設計できて被削材の研削代ま
たは研削量を任意に設定できる。尚、砥粒層は各側面で
複数の傾斜面を接続して頂部の平坦部に連結することで
構成しても良い。或いは複数段階の傾斜面に凸曲面を介
して平坦部に連結するものでもよい。
【0009】また電着砥石はホイール形状をなしてい
て、その中央縦断面視で砥粒層の外周側面に第一傾斜面
が設けられ、内周側面にその傾斜角が第一傾斜面の傾斜
角より小さい他の傾斜面(第四傾斜面)が設けられ、前
記第一傾斜面で粗研削が行われ、前記他の傾斜面で仕上
げ研削が行われるようにしてもよい。この電着ホイール
で被削材を研削する際に、最初に被削材を研削する一方
の砥粒層部分では平坦部から比較的離れた台金側の第一
傾斜面で研削を開始して粗研削を行い、続いて他方の砥
粒層部分では平坦部に比較的近接する傾斜角の小さい第
二傾斜面で研削を開始して仕上げ研削することで1つの
電着砥石で粗研削と仕上げ研削とを連続して行うことが
できる。尚、この電着砥石はCMP装置のパッドコンデ
ィショナとして用いても良い。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面により説明するが、上述の従来技術と同一の部分に
は同一の符号を用いてその説明を省略する。図1乃至図
3は第一の実施の形態に関するものであって、図1は電
着ホイールの部分縦断面図、図2は電着ホイールの研削
圧力と研削性との関係を示す図、図3はパッドの起毛の
研削状態を示す説明図である。図1に示す実施の形態に
よる電着ホイール20(電着砥石)は、図7及び図8に
示す電着ホイール11と基本構成を同じくしており、円
板形の台金22の一端面外周側にリング型の砥粒層23
が設けられて構成されている。砥粒層23は、例えばN
iからなる金属めっき相15中にダイヤモンドなどの超
砥粒14が分散配置されていて、例えば電気めっきによ
って製作されている。
【0011】砥粒層23は縦断面視で多角形状をなし台
金22に対向する頂部は例えば台金22と平行な平坦部
24を形成し、その側面として外周側と内周側に外周側
面25と内周側面26とが設けられてそれぞれリング状
に形成されている。平坦部24の幅hは、図1に示す縦
断面視で砥粒層23の幅Lとした時に(1/20)L〜
(1/3)Lの範囲に設定するのが好ましく、例えばL
=8.6mmとしたときにh=1mmに設定する。平坦
部24を設けることでパッド4の起毛4a…の研削時に
定圧で所定面積に亘って研削でき研削抵抗を低減できる
上に研削性即ち研削効率を向上できる。ここで平坦部2
4の幅hが1/20Lより小さいと研削量の平均化と硬
さの変化する領域での平坦な研削を行い難く、1/3L
より大きいと研削圧力が小さく成りすぎて切れ味が低下
する。
【0012】外周側面25は台金22側から平坦部24
に向けて傾斜角の異なる第一傾斜面27と第二傾斜面2
8が順次接続されて平坦部24に連結されている。内周
側面26は台金22側から平坦部24に向けて傾斜角の
異なる第三傾斜面29と第四傾斜面30が順次接続され
て平坦部24に連結されている。外周側面25におい
て、第一傾斜面27は台金22または平坦部24に対し
て鋭角の傾斜角θ1をなしていて、台金22に接続され
る第一傾斜面27は粗研削に供されて起毛4a…の先端
側をなぎ倒しつつ研磨するものであり、この傾斜角θ1
は15°〜45°の範囲、例えば30°に設定されてい
る。傾斜角θ1が15°より小さいとパッド4の起毛4
a…の研削量が小さすぎて効率が悪く45°より大きい
と研削量が大きすぎるために起毛4a…を傷めることに
なる。
【0013】また第二傾斜面28は台金22または平坦
部24に対してθ1より小さい鋭角の傾斜角θ2をなし
ていて、第一傾斜面27に接続される第二傾斜面28は
仕上げ研削に供されて第一傾斜面27で研削された起毛
4a…を仕上げ研削するものであり、この傾斜角θ2は
3°〜θ1°未満の範囲、例えば7°に設定されてい
る。傾斜角θ2が3°より小さいとパッド4の起毛4a
…の研削量が小さすぎ、θ1°以上だと第一傾斜面27
よりも精密な仕上げ研削ができなくなる。また内周側面
26の第三傾斜面29の傾斜角θ3及び第四傾斜面30
の傾斜角θ4は同様に台金22及び平坦部24に対して
それぞれ鋭角でθ3>θ4に設定されており、θ3=θ
1、θ4=θ2に設定しても良い。またパッド4が軟質
であるために電着ホイール20に弾性変形可能な柔軟性
をもたせている。
【0014】本実施の形態による電着ホイール20は上
述の構成を備えており、図6に示すようにパッド4のコ
ンディショニングを行うに際して、回転する回転テーブ
ル3上のパッド4に対して横方向にアーム10を揺動さ
せることで電着ホイール20を往復揺動させるか、或い
はウエーハキャリア5に電着ホイール20を支持させて
パッド4に対して偏心した位置でパッド4とは反対方向
に自転させることで、パッド4の起毛4a…を研削して
その平坦度を回復または維持させる。電着ホイール20
による研削開始時にはパッド4の上面を電着ホイール2
0が摺動または回転することで、砥粒層23の入射側で
ある外周側面25の第一傾斜面27で起毛4a…の先端
側領域を順次なぎ倒しつつ粗研削する。この時の研削量
は第一傾斜面27の傾斜角θ1である入射角と長さによ
って設定される。第一傾斜面27に続く第二傾斜面28
では傾斜角θ2がθ1より小さいために研削量が小さく
なり中仕上げ研削が行われる。そして頂部の平坦部24
ではパッド4の起毛4a…の先端部を所定面積に亘って
定圧で研削できるため、起毛4a…の一部に硬さの異な
る部位があったとしてもまた表面に凹凸があったとして
もその周辺領域を含めて均一な平担度に仕上げ研削を行
え、パッド4表面の平坦部を回復または維持できる。そ
の後、内周側面26の第四傾斜面30及び第三傾斜面2
9で研削残りの起毛4aを研削しつつ最終調整研削が行
われて、砥粒層23がパッド4から離脱する。
【0015】図2において、図11に示すような従来の
円弧状の砥粒層13Bを備えた電着ホイール11では研
削圧力が円弧の頂部13a一点にかかるために研削圧力
即ち研削抵抗が高すぎることになり、パッド4の硬さの
高いポイントでは電着ホイール11がこれを反映して研
削するために平坦性を達成できない。しかも頂部13a
の研削面積が小さいために研削性即ち研削効率が悪い。
これに対して、本実施の形態による電着ホイール20で
は頂部を平坦部24としたことで研削抵抗を低減でき、
パッド4に部分的に硬さの異なるポイントがあっても他
の部分との関係で研削面の平坦化を達成できる仕上げ研
削を行える。しかも従来の円弧状の砥粒層13Bでは頂
部の研削圧力と外周側面25の傾斜角θ1,θ2のいず
れかを犠牲にせざるを得なかったが、本実施の形態では
平坦部24とは別個に第一及び第二傾斜面27,28等
の傾斜角を設定できるから、頂部の研削圧力を低減でき
る上に研削開始時の入射角を任意の大きさに設定できて
研削代の設定が任意である。
【0016】また図3において、図10に示すような従
来の平板状の砥粒層13Aでは、パッド4の起毛4a…
の研削開始時に側面が略直角であると起毛4aの途中部
分から一気になぎ倒して研削するために起毛4aを傷め
やすいという欠点がある。これに対して、本実施の形態
では砥粒層23の第一及び第二傾斜面27,28が適切
な傾斜角θ1,θ2を備えているために、順次起毛4a
の先端側からなぎ倒すことになり、電着ホイール20の
相対的な進行に従って起毛4aの先端側から根元方向に
徐々に研削量が増大して平坦部24で仕上げ研削するも
のであるから、起毛4a…を傷めることが少なく低い研
削抵抗で平坦に仕上げることができる。尚、砥粒層23
は平坦部24に複数段階の傾斜面27,28を接続して
成るから、第一及び第二傾斜面27,28の傾斜角θ
1,θ2を平坦部24とは無関係に個別に設定でき、起
毛4a…の研削代を傾斜角θ1,θ2及びその長さによ
って任意に設定できる。
【0017】上述のように本実施の形態によれば、頂部
である平坦部24での研削圧力を低減して研削効率を向
上できる上に被削材であるパッド4に部分的に硬さの異
なる部位があったとしても他の部分と共に平均に平坦化
でき、研削開始時にパッド4の起毛4a…を傷めること
なく徐々に研削量を増大できて、粗研削から中仕上げ研
削、仕上げ研削までスムーズに効率的に行えてパッド4
の平坦度を維持または回復できる。しかも砥粒層23は
頂部の平坦部24と第一及び第二傾斜面27,28とを
個別にそれぞれ適切に設定できるから、起毛4a…の研
削代設定と研削圧力低減とを同時に達成できる。
【0018】次に本発明の第二の実施の形態を図4及び
図5により説明するが、上述の第一の実施の形態と同一
または同様な部材には同一の符号を用いてその説明を省
略する。図4は電着ホイールの要部縦断面図、図5は電
着ホイールでパッドを研削する状態を示す説明図であ
る。図4に示す電着ホイール30は第一の実施の形態に
よる電着ホイール20と同一構成を備えている。図中、
円形の電着ホイール30の中央縦断面図で見てリング型
の砥粒層23が二分割されており、その一方を砥粒層部
23Aとし、他方を砥粒層部23Bとする。一方の砥粒
層部23Aにおいて外周側面25の第一傾斜面27の傾
斜角θ1に対して、他方の砥粒層部23Bにおいて内周
側面26の第四傾斜面30の傾斜角θ4をθ1より小さ
く設定する。
【0019】そして図5に示すようにコンディショニン
グに際して、一方の砥粒層23Aの第一傾斜面27で研
削開始時の入射角(傾斜角)がθ1に設定されて所定の
研削代による粗研削が行われ、これに続いて第二傾斜面
28及び平坦部24でも研削が行われる。その後、一方
の砥粒層部23Aでの研削が終了してパッド4から離れ
た後に他方の砥粒層部23Bでの研削が行われる。この
時の研削開始は他方の砥粒層23Bの傾斜角θ4を有す
る第四傾斜面30でθ4を入射角として行われ、中仕上
げ研削が行われる。更に他方の砥粒層部23Bの平坦部
24で仕上げ研削が行われる。
【0020】なお、上述の各実施の形態では、外周側面
25と内周側面26について二段階の傾斜面をそれぞれ
設定したが、三段階以上の傾斜面を接続して平坦部24
に連結するようにしてもよい。その場合、傾斜角は平坦
部に近い傾斜面の方がより小さくなることが好ましい。
本実施の形態では、二以上の傾斜面27,28,29,
30によってパッド4の研削を行うために砥粒層23の
外周側面25や内周側面26には少なくとも二段階によ
る傾斜面が設けられていればよい。そのため、第二傾斜
面28や第四傾斜面30と平坦部24との間に凸曲面が
設けられていてもよい。また研削代が小さければ第一傾
斜面27,第三傾斜面29だけで外周及び内周側面2
5,26を構成してもよく、この場合、砥粒層23は縦
断面で略台形になる。
【0021】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る電着
砥石は、縦断面視で砥粒層の頂部に平坦部が形成されて
いると共に側部に鋭角の傾斜角をなす第一傾斜面が設け
られているから、砥粒層の頂部に平坦部を設けたことで
研削圧力を比較的小さい定圧に設定できて被削材に部分
的に硬さの変化する領域があっても研削量の平均化と平
坦化を達成することができて研削効率を向上でき、また
平坦部とは関係なく第一傾斜面の傾斜角度を任意に設定
できて研削開始時には砥粒層の第一傾斜面で被削材に接
触し始める際に起毛等の被削材をかじって傷めることを
防止でき、被削材の研削代と研削圧力を個別に好適に設
定できる。
【0022】また平坦部と第一傾斜面との間に第二傾斜
面が設けられ、該第二傾斜面はその傾斜角が第一傾斜面
の傾斜角より小さい鋭角に設定されているから、砥粒層
側面の傾斜面を複数段階にわたって形成することによっ
て被削材に対する研削代の程度によって第一傾斜面や第
二傾斜面の傾斜角を平坦部とは無関係に個別に設計でき
て被削材の研削代を任意に設定できる。
【0023】また電着砥石はホイール形状をなしてい
て、その中央縦断面視で砥粒層の外周側面に第一傾斜面
が設けられ、内周側面にその傾斜角が第一傾斜面の傾斜
角より小さい他の傾斜面が設けられ、第一傾斜面で粗研
削が行われ、他の傾斜面で仕上げ研削が行われるように
したから、ホイール形状の電着砥石によって外周側面の
第一傾斜面と内周側面の他の傾斜面とで粗研削と仕上げ
研削とを連続して行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態による電着ホイールの要部
縦断面図である。
【図2】 実施の形態による電着ホイールと従来の円弧
状の砥粒層を有する電着ホイールとの研削圧力と研削性
を示す図である。
【図3】 実施の形態による電着ホイールと従来の板状
の砥粒層を有する電着ホイールとのパッド起毛の研削状
態を示す説明図である。
【図4】 第二の実施の形態による電着ホイールの要部
中央縦断面図である。
【図5】 図4に示す電着ホイールでパッドを研磨する
状態を示す説明図である。
【図6】 従来のCMP装置の要部斜視図である。
【図7】 図6に示すCMP装置で用いられる従来の電
着ホイールの部分平面図である。
【図8】 図7に示す電着ホイールのA−A′線縦断面
図である。
【図9】 図8に示す電着ホイールの砥粒層を示す要部
拡大断面図である。
【図10】 平板状の砥粒層を有する従来の電着ホイー
ルによるパッドの研削状態を示す要部縦断面図である。
【図11】 円弧状の砥粒層を有する従来の電着ホイー
ルによるパッドの研削状態を示す要部縦断面図である。
【符号の説明】
14 超砥粒 15 金属めっき相 20,30 電着ホイール 23 砥粒層 24 平坦部 25 外周側面 26 内周側面 27 第一傾斜面 28 第二傾斜面 29 第三傾斜面 30 第四傾斜面
フロントページの続き (72)発明者 永山 信和 福島県いわき市泉町黒須野字江越246−1 三菱マテリアル株式会社いわき製作所内 Fターム(参考) 3C058 AA07 AA09 AA19 CA01 CB02 3C063 AA02 AB05 BA02 BA21 BB02 BC02 CC13 EE10

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属めっき相中に超砥粒が分散配置され
    た砥粒層が台金に装着されてなる電着砥石において、縦
    断面視で前記砥粒層の頂部に平坦部が形成されていると
    共に側面に鋭角の傾斜角をなす第一傾斜面が設けられて
    いることを特徴とする電着砥石。
  2. 【請求項2】 前記平坦部と第一傾斜面との間に第二傾
    斜面が設けられ、該第二傾斜面はその傾斜角が第一傾斜
    面の傾斜角より小さい鋭角に設定されていることを特徴
    とする請求項1記載の電着砥石。
  3. 【請求項3】 前記電着砥石はホイール形状をなしてい
    て、その中央縦断面視で砥粒層の外周側面に前記第一傾
    斜面が設けられ、内周側面にその傾斜角が第一傾斜面の
    傾斜角より小さい他の傾斜面が設けられ、前記第一傾斜
    面で粗研削が行われ、前記他の傾斜面で仕上げ研削が行
    われるようにしたことを特徴とする請求項2記載の電着
    砥石。
JP21139099A 1999-07-26 1999-07-26 電着砥石 Pending JP2001038637A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP21139099A JP2001038637A (ja) 1999-07-26 1999-07-26 電着砥石

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002273649A (ja) * 2001-03-15 2002-09-25 Oki Electric Ind Co Ltd ドレッサ−を有する研磨装置
WO2022080921A1 (ko) * 2020-10-13 2022-04-21 (주)미래컴퍼니 웨이퍼 가공 방법, 시스템 및 장치
WO2022250208A1 (ko) * 2021-05-25 2022-12-01 (주)미래컴퍼니 웨이퍼 가공 방법, 시스템 및 장치

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