JP2001035008A - 光記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高ＮＡレンズによる超高密度記録に好適な光
記録媒体を提供する。 【解決手段】 光記録媒体１０は、基板１の一方の面に
熱伝導層２、再生層３、記録層４及び潤滑剤層５を順次
有する。基板１として、板厚が０．６ｍｍ未満、好まし
くは５０μｍ〜５００μｍの薄型フレキシブル基板を用
いる。これにより、レンズから記録層まで間隔を近くす
ることができるので、焦点距離の短い高ＮＡレンズを用
いて、記録層４に微小な光スポットを形成することが可
能となる。また、熱伝導率の高い熱伝導層２により記録
層４または再生層３で発生する熱を光入射側で良好に拡
散させることができる。したがって、情報の超高密度記
録及びその超高密度記録情報の再生が可能となる。次世
代の光記録媒体として極めて好適である。
記録媒体を提供する。 【解決手段】 光記録媒体１０は、基板１の一方の面に
熱伝導層２、再生層３、記録層４及び潤滑剤層５を順次
有する。基板１として、板厚が０．６ｍｍ未満、好まし
くは５０μｍ〜５００μｍの薄型フレキシブル基板を用
いる。これにより、レンズから記録層まで間隔を近くす
ることができるので、焦点距離の短い高ＮＡレンズを用
いて、記録層４に微小な光スポットを形成することが可
能となる。また、熱伝導率の高い熱伝導層２により記録
層４または再生層３で発生する熱を光入射側で良好に拡
散させることができる。したがって、情報の超高密度記
録及びその超高密度記録情報の再生が可能となる。次世
代の光記録媒体として極めて好適である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板上に記録層を
備える光記録媒体に関し、更に詳細には、高ＮＡレンズ
を用いて超高密度に情報を記録することができる光記録
媒体に関する。
備える光記録媒体に関し、更に詳細には、高ＮＡレンズ
を用いて超高密度に情報を記録することができる光記録
媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体は、動画像データや音声デー
タなどのデジタルデータを記録または再生することがで
きる情報記録媒体として広く利用されている。近年、動
画像の高画質化や音声データの高音質化が進み、取り扱
うデータ量は増加している。このため、光記録媒体にお
いては、かかるデータ量の増加に十分に対応するため
に、更なる大容量化が要望されている。
タなどのデジタルデータを記録または再生することがで
きる情報記録媒体として広く利用されている。近年、動
画像の高画質化や音声データの高音質化が進み、取り扱
うデータ量は増加している。このため、光記録媒体にお
いては、かかるデータ量の増加に十分に対応するため
に、更なる大容量化が要望されている。
【０００３】この要望に応えるために、微小な記録マー
クを形成して記録密度を向上させ、この微小な記録マー
クを微小な光スポットで読み出す方法が検討されてい
る。光スポット径は、光の波長に比例し、光を集光する
レンズの開口数（ＮＡ）に反比例する。したがって、光
スポット径を微小化するには、記録再生の際に用いるレ
ーザー光を短波長化するか、またはレンズの開口数を上
げればよい。現在、ＤＶＤ（デジタルバーサタイルディ
スク）においては、ＣＤ再生用の波長７８０ｎｍの赤色
レーザー光よりも短波長の波長６５０ｎｍの橙色レーザ
ー光が使用されており、光スポットの微小化を実現して
いる。また、ＤＶＤ再生用のレンズは開口数０．６で、
ＣＤ再生用の開口数０．４５のレンズよりも高ＮＡのレ
ンズが使用されている。
クを形成して記録密度を向上させ、この微小な記録マー
クを微小な光スポットで読み出す方法が検討されてい
る。光スポット径は、光の波長に比例し、光を集光する
レンズの開口数（ＮＡ）に反比例する。したがって、光
スポット径を微小化するには、記録再生の際に用いるレ
ーザー光を短波長化するか、またはレンズの開口数を上
げればよい。現在、ＤＶＤ（デジタルバーサタイルディ
スク）においては、ＣＤ再生用の波長７８０ｎｍの赤色
レーザー光よりも短波長の波長６５０ｎｍの橙色レーザ
ー光が使用されており、光スポットの微小化を実現して
いる。また、ＤＶＤ再生用のレンズは開口数０．６で、
ＣＤ再生用の開口数０．４５のレンズよりも高ＮＡのレ
ンズが使用されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レンズのＮ
Ａを更に上げて超高密度記録を実現しようとすると、か
かる高ＮＡのレンズは焦点距離が更に短くなるために、
レンズから記録層までの距離を一層短くしなければなら
ない。
Ａを更に上げて超高密度記録を実現しようとすると、か
かる高ＮＡのレンズは焦点距離が更に短くなるために、
レンズから記録層までの距離を一層短くしなければなら
ない。
【０００５】そこで、本発明は、高ＮＡレンズを用いて
超高密度に情報を記録することが可能な光記録媒体を提
供することを目的とする。
超高密度に情報を記録することが可能な光記録媒体を提
供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明に従えば、情報が
記録される記録層を基板上に備え、基板側から光が照射
される光記録媒体において、基板の厚みが０．６ｍｍ未
満であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
記録される記録層を基板上に備え、基板側から光が照射
される光記録媒体において、基板の厚みが０．６ｍｍ未
満であることを特徴とする光記録媒体が提供される。
【０００７】本発明の光記録媒体は、板厚が０．６ｍｍ
未満の薄型基板を用いて構成されているので、記録層に
記録光または再生光を集光させるための対物レンズを記
録層に従来よりも近づけて配置させることができる。そ
れゆえ、対物レンズとして焦点距離の短い高ＮＡレンズ
（例えば開口数０．６〜０．９のレンズ）を用いること
ができ、超高密度に情報を記録することができる。ま
た、高ＮＡを用いて記録再生する場合は、レンズの光出
射面とディスク表面との距離が短くなるために、基板の
板厚は５０μｍ〜５００μｍが好ましい。基板の板厚
を、かかる範囲まで薄くすると機械的強度が弱くなるの
で、基板の外周部分及び内周部分の少なくとも一方を、
それらと同一の径を有する環状の枠部材を用いて補強す
ることが好ましい。或いは、光記録媒体を介して互いに
対向して配置された磁気ヘッドと光学ヘッドとで、光記
録媒体を挟みこみながら記録再生することによって安定
性を保たせることも可能である。
未満の薄型基板を用いて構成されているので、記録層に
記録光または再生光を集光させるための対物レンズを記
録層に従来よりも近づけて配置させることができる。そ
れゆえ、対物レンズとして焦点距離の短い高ＮＡレンズ
（例えば開口数０．６〜０．９のレンズ）を用いること
ができ、超高密度に情報を記録することができる。ま
た、高ＮＡを用いて記録再生する場合は、レンズの光出
射面とディスク表面との距離が短くなるために、基板の
板厚は５０μｍ〜５００μｍが好ましい。基板の板厚
を、かかる範囲まで薄くすると機械的強度が弱くなるの
で、基板の外周部分及び内周部分の少なくとも一方を、
それらと同一の径を有する環状の枠部材を用いて補強す
ることが好ましい。或いは、光記録媒体を介して互いに
対向して配置された磁気ヘッドと光学ヘッドとで、光記
録媒体を挟みこみながら記録再生することによって安定
性を保たせることも可能である。
【０００８】本発明において、基板を構成する材料とし
ては、例えば、ポリカーボネートやアモルファスポリオ
レフィン、ポリメチルメタクリレートなどのプラスチッ
ク材料、ガラス、セラミックなどを用いることができ
る。基板は、射出成形法や２Ｐ（Photo-Polymer）法な
ど既知の製造方法により製造することができ、薄型の樹
脂シートなどを用いて製造することも可能である。
ては、例えば、ポリカーボネートやアモルファスポリオ
レフィン、ポリメチルメタクリレートなどのプラスチッ
ク材料、ガラス、セラミックなどを用いることができ
る。基板は、射出成形法や２Ｐ（Photo-Polymer）法な
ど既知の製造方法により製造することができ、薄型の樹
脂シートなどを用いて製造することも可能である。
【０００９】本発明の光記録媒体は、基板と記録層の間
に熱伝導率が２０Ｗｍ−１Ｋ−１以上の非磁性の熱伝導
層を備えることが好ましく、熱伝導層は、Ｃｕ、Ａｕ及
びＡｇなどの金属材料や、それらを含む合金、例えばＣ
ｕＮｉを用いて構成されることが好ましい。Ｃｕ、Ａ
ｕ、Ａｇ及びＣｕＮｉは、３００ｎｍ〜６００ｎｍの波
長域内に光反射端を有し、光反射端以下の波長の光を透
過する性質を有する。例えば、図３の反射率スペクトル
のグラフに示すように、Ｃｕ（銅）及びＡｕ（金）は、
それぞれ、波長５６０ｎｍ、５００ｎｍの近傍に光反射
端を有している。それゆえ、上記金属を用いた熱伝導層
を記録層の光入射側に形成するとともに、上記金属を透
過する波長の光を記録光または再生光に用いることによ
り、記録または再生光照射により生じる記録層の熱を記
録層の光入射側で速やかに拡散させることができる。こ
れにより、光照射により生じる記録層の熱を記録層の光
入射側で拡散させて記録層に所望の熱分布を形成させる
ことが可能となる。また、熱伝導層に金属を用いたこと
により、薄型基板の機械的強度を高めることもできる。
なお、本明細書において、用語「光反射端」とは、光の
波長に対する反射率のスペクトルにおいて、低波長から
高波長に波長を変化させたときに反射率が急激に立ち上
がる部分を示すものとする。上記図３の反射率スペクト
ルのグラフには示さなかったが、Ａｇ、ＣｕＮｉの光反
射端は、それぞれ、３００ｎｍ、５３０ｎｍの近傍にあ
ることが知られている。
に熱伝導率が２０Ｗｍ−１Ｋ−１以上の非磁性の熱伝導
層を備えることが好ましく、熱伝導層は、Ｃｕ、Ａｕ及
びＡｇなどの金属材料や、それらを含む合金、例えばＣ
ｕＮｉを用いて構成されることが好ましい。Ｃｕ、Ａ
ｕ、Ａｇ及びＣｕＮｉは、３００ｎｍ〜６００ｎｍの波
長域内に光反射端を有し、光反射端以下の波長の光を透
過する性質を有する。例えば、図３の反射率スペクトル
のグラフに示すように、Ｃｕ（銅）及びＡｕ（金）は、
それぞれ、波長５６０ｎｍ、５００ｎｍの近傍に光反射
端を有している。それゆえ、上記金属を用いた熱伝導層
を記録層の光入射側に形成するとともに、上記金属を透
過する波長の光を記録光または再生光に用いることによ
り、記録または再生光照射により生じる記録層の熱を記
録層の光入射側で速やかに拡散させることができる。こ
れにより、光照射により生じる記録層の熱を記録層の光
入射側で拡散させて記録層に所望の熱分布を形成させる
ことが可能となる。また、熱伝導層に金属を用いたこと
により、薄型基板の機械的強度を高めることもできる。
なお、本明細書において、用語「光反射端」とは、光の
波長に対する反射率のスペクトルにおいて、低波長から
高波長に波長を変化させたときに反射率が急激に立ち上
がる部分を示すものとする。上記図３の反射率スペクト
ルのグラフには示さなかったが、Ａｇ、ＣｕＮｉの光反
射端は、それぞれ、３００ｎｍ、５３０ｎｍの近傍にあ
ることが知られている。
【００１０】また、熱伝導層は、照射される光の波長に
おける消衰係数が３．０以下となる性質を有することが
好ましい。光磁気記録媒体から得られる性能指数（反射
率とカー回転角の積で表される値）は、図２に示したよ
うに、熱伝導層を構成する材料の光消衰係数が小さくな
るに従って大きくなる。それゆえ、光消衰係数が３．０
以下、好ましくは１．５以下であれば、情報再生に十分
な性能指数を得ることができる。かかる条件を満足する
材料としては、例えばＳｉが好適である。Ｓｉは光反射
端が３００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内には存在しない
が、熱伝導率が１６０Ｗｍ−１Ｋ−１と大きく且つ光の
消衰係数が０．２程度と小さいため、熱伝導層を構成す
る材料として好適である。
おける消衰係数が３．０以下となる性質を有することが
好ましい。光磁気記録媒体から得られる性能指数（反射
率とカー回転角の積で表される値）は、図２に示したよ
うに、熱伝導層を構成する材料の光消衰係数が小さくな
るに従って大きくなる。それゆえ、光消衰係数が３．０
以下、好ましくは１．５以下であれば、情報再生に十分
な性能指数を得ることができる。かかる条件を満足する
材料としては、例えばＳｉが好適である。Ｓｉは光反射
端が３００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲内には存在しない
が、熱伝導率が１６０Ｗｍ−１Ｋ−１と大きく且つ光の
消衰係数が０．２程度と小さいため、熱伝導層を構成す
る材料として好適である。
【００１１】また、熱伝導層の膜厚は１ｎｍ〜２００ｎ
ｍが好ましい。膜厚が１ｎｍ未満であると光照射により
発生する熱の放熱効果が十分ではない。また、膜厚が２
００ｎｍよりも厚いと、図４に示したように、熱伝導層
の光消衰係数により、性能指数が減衰して信号品質が劣
化する恐れがあるため好ましくない。また、熱伝導層を
Ｓｉから構成した場合、熱伝導層の成膜プロセスで単結
晶Ｓｉを形成することは難しく、光消衰係数も大きくな
るため、熱伝導層の膜厚は４０ｎｍ以下であることが望
ましい。
ｍが好ましい。膜厚が１ｎｍ未満であると光照射により
発生する熱の放熱効果が十分ではない。また、膜厚が２
００ｎｍよりも厚いと、図４に示したように、熱伝導層
の光消衰係数により、性能指数が減衰して信号品質が劣
化する恐れがあるため好ましくない。また、熱伝導層を
Ｓｉから構成した場合、熱伝導層の成膜プロセスで単結
晶Ｓｉを形成することは難しく、光消衰係数も大きくな
るため、熱伝導層の膜厚は４０ｎｍ以下であることが望
ましい。
【００１２】本発明においては、記録または再生時に光
記録媒体を所定の速度で回転させたときに、光記録媒体
に外部磁界を印加するための磁気ヘッドにより基板と反
対側の面が支持されることが好ましい。これにより、薄
型基板を用いたことで光記録媒体の機械的強度が弱くな
り、たわんだ状態になったとしても、光磁気記録媒体の
情報を記録または再生しようとする領域が磁気ヘッドに
より支持されることになるので、その領域の光入射方向
における位置が変化することはなく、良好に記録または
再生することができる。また、記録または再生時以外の
とき、すなわち光記録媒体を回転させずに静止させた状
態においても、光記録媒体の外周部等を、例えば板ばね
やローラーなどから構成される支持体を用いて支持させ
ることができる。
記録媒体を所定の速度で回転させたときに、光記録媒体
に外部磁界を印加するための磁気ヘッドにより基板と反
対側の面が支持されることが好ましい。これにより、薄
型基板を用いたことで光記録媒体の機械的強度が弱くな
り、たわんだ状態になったとしても、光磁気記録媒体の
情報を記録または再生しようとする領域が磁気ヘッドに
より支持されることになるので、その領域の光入射方向
における位置が変化することはなく、良好に記録または
再生することができる。また、記録または再生時以外の
とき、すなわち光記録媒体を回転させずに静止させた状
態においても、光記録媒体の外周部等を、例えば板ばね
やローラーなどから構成される支持体を用いて支持させ
ることができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明に従う光記録媒体の
実施例について図面を参照しながら具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例について図面を参照しながら具体的に説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
【００１４】
【実施例】本実施例では、本発明に従う光記録媒体の一
具体例として光磁気記録媒体を製造した。図１に、本実
施例で製造した光磁気記録媒体の断面構造を模式的に示
す。光磁気記録媒体１０は、透明基板１の一方の面に、
熱伝導層２、再生層３、記録層４及び潤滑剤層５をこの
順で積層した構造を有する。
具体例として光磁気記録媒体を製造した。図１に、本実
施例で製造した光磁気記録媒体の断面構造を模式的に示
す。光磁気記録媒体１０は、透明基板１の一方の面に、
熱伝導層２、再生層３、記録層４及び潤滑剤層５をこの
順で積層した構造を有する。
【００１５】図１に示した構造において、透明基板１
は、外径９０ｍｍ、内径１５ｍｍ、板厚１００μｍのポ
リカーボネート製の基板であり、その表面にプリフォー
マットパターンに対応した凹凸を有する。熱伝導層２
は、記録層４内で蓄積する熱を透明基板１側に拡散させ
るための層であり、Ｃｕから構成される。熱伝導層２を
構成するＣｕは、図３に示したような反射スペクトル特
性を示し、光反射端を５６０ｎｍ近傍に有する。また、
Ｃｕの熱伝導率は約４００Ｗｍ−１Ｋ−１である。再生
層３は、情報再生時に記録層と交換結合して記録層の磁
化が転写される層であり、ＧｄＦｅＣｏから構成され
る。記録層４は、情報が磁化情報として記録される層で
あり、ＴｂＦｅＣｏを用いて構成される。潤滑剤層５
は、記録または再生時に、光磁気記録媒体１０に外部磁
界を印加するための磁気ヘッド１２と接触し、当該潤滑
剤層５の下面で磁気ヘッド１２を良好に滑らせるための
層であり、Ｆｏｍｂｌｉｎ（商品名）等のオイルから構
成される。これらの層２〜５を、上記基板１のプリフォ
ーマットパターンに対応する凹凸が形成されている面上
に、以下に示すようにして順次形成した。
は、外径９０ｍｍ、内径１５ｍｍ、板厚１００μｍのポ
リカーボネート製の基板であり、その表面にプリフォー
マットパターンに対応した凹凸を有する。熱伝導層２
は、記録層４内で蓄積する熱を透明基板１側に拡散させ
るための層であり、Ｃｕから構成される。熱伝導層２を
構成するＣｕは、図３に示したような反射スペクトル特
性を示し、光反射端を５６０ｎｍ近傍に有する。また、
Ｃｕの熱伝導率は約４００Ｗｍ−１Ｋ−１である。再生
層３は、情報再生時に記録層と交換結合して記録層の磁
化が転写される層であり、ＧｄＦｅＣｏから構成され
る。記録層４は、情報が磁化情報として記録される層で
あり、ＴｂＦｅＣｏを用いて構成される。潤滑剤層５
は、記録または再生時に、光磁気記録媒体１０に外部磁
界を印加するための磁気ヘッド１２と接触し、当該潤滑
剤層５の下面で磁気ヘッド１２を良好に滑らせるための
層であり、Ｆｏｍｂｌｉｎ（商品名）等のオイルから構
成される。これらの層２〜５を、上記基板１のプリフォ
ーマットパターンに対応する凹凸が形成されている面上
に、以下に示すようにして順次形成した。
【００１６】熱伝導層２、再生層３及び記録層４の成膜
には、マグネトロンスパッタ装置（図示しない）を用い
た。スパッタリングの条件は次の通りである。熱伝導層
２の成膜では、ターゲット材料としてＣｕを用い、膜厚
を１０ｎｍとした。再生層３の成膜では、Ｇｄ単体ター
ゲットとＦｅＣｏ合金ターゲットとを同時スパッタして
成膜し、膜厚を２０ｎｍとした。記録層４の成膜では、
Ｔｂ単体ターゲットとＦｅＣｏ合金ターゲットとを同時
スパッタして成膜した。記録層４の膜厚は３０ｎｍとし
た。
には、マグネトロンスパッタ装置（図示しない）を用い
た。スパッタリングの条件は次の通りである。熱伝導層
２の成膜では、ターゲット材料としてＣｕを用い、膜厚
を１０ｎｍとした。再生層３の成膜では、Ｇｄ単体ター
ゲットとＦｅＣｏ合金ターゲットとを同時スパッタして
成膜し、膜厚を２０ｎｍとした。記録層４の成膜では、
Ｔｂ単体ターゲットとＦｅＣｏ合金ターゲットとを同時
スパッタして成膜した。記録層４の膜厚は３０ｎｍとし
た。
【００１７】次いで、記録層４の成膜を終えた基板１を
スパッタ装置から取り出し、記録層４上に、Ｆｏｍｂｌ
ｉｎからなる潤滑剤をスピン塗布により膜厚１０ｎｍ以
下で形成することによって潤滑剤層５を成膜した。こう
して、図１に示した積層構造を有する光磁気記録媒体１
０を製造した。
スパッタ装置から取り出し、記録層４上に、Ｆｏｍｂｌ
ｉｎからなる潤滑剤をスピン塗布により膜厚１０ｎｍ以
下で形成することによって潤滑剤層５を成膜した。こう
して、図１に示した積層構造を有する光磁気記録媒体１
０を製造した。
【００１８】得られた光磁気記録媒体１０は、図１に示
したように、光磁気記録媒体１０の上方、すなわち基板
１側に、開口数０．９の対物レンズ１１を配置させ、光
磁気記録媒体１０の下方すなわち潤滑剤層５側に、外部
磁界を印加するための磁気ヘッド１２を配置させて、情
報の記録または再生を行うことができる。記録光または
再生光には、例えば波長４００ｎｍのレーザー光を用い
ることができる。この場合、対物レンズ１１の光射出面
から基板１の表面までの距離、すなわち、ワーキングデ
ィスタンスＷＤは約２００μｍとなり、記録層４上に形
成される光スポットの径は約０．５μｍとなる。
したように、光磁気記録媒体１０の上方、すなわち基板
１側に、開口数０．９の対物レンズ１１を配置させ、光
磁気記録媒体１０の下方すなわち潤滑剤層５側に、外部
磁界を印加するための磁気ヘッド１２を配置させて、情
報の記録または再生を行うことができる。記録光または
再生光には、例えば波長４００ｎｍのレーザー光を用い
ることができる。この場合、対物レンズ１１の光射出面
から基板１の表面までの距離、すなわち、ワーキングデ
ィスタンスＷＤは約２００μｍとなり、記録層４上に形
成される光スポットの径は約０．５μｍとなる。
【００１９】情報の記録時には、光磁気記録媒体１０の
潤滑剤層５が形成されている側を磁気ヘッド１２で支持
させながら所定の速度で回転させ、光磁気記録媒体１０
のデータ記録領域にレーザー光（記録光）９を高ＮＡの
対物レンズ１１で集光させて照射する。記録方式として
は、磁界変調方式や光パルス磁界変調方式を用いること
ができる。光磁気記録媒体１０に照射されたレーザー光
９は、熱伝導層２及び再生層３を透過して記録層４に到
達し、レーザー光９の光強度分布に基づいて記録層４を
加熱する。このとき、レーザー光照射により生じる記録
層４の熱は熱伝導層２側に伝達され、熱伝導層２内で膜
厚方向に拡散する。これにより、記録層４には、レーザ
ー光の光強度分布に従ったガウス型の温度分布が形成さ
れ、その結果、輪郭のはっきりした所望の寸法の微小な
記録マークが形成される。このような記録マークからは
ジッターの少ない再生信号が検出される。
潤滑剤層５が形成されている側を磁気ヘッド１２で支持
させながら所定の速度で回転させ、光磁気記録媒体１０
のデータ記録領域にレーザー光（記録光）９を高ＮＡの
対物レンズ１１で集光させて照射する。記録方式として
は、磁界変調方式や光パルス磁界変調方式を用いること
ができる。光磁気記録媒体１０に照射されたレーザー光
９は、熱伝導層２及び再生層３を透過して記録層４に到
達し、レーザー光９の光強度分布に基づいて記録層４を
加熱する。このとき、レーザー光照射により生じる記録
層４の熱は熱伝導層２側に伝達され、熱伝導層２内で膜
厚方向に拡散する。これにより、記録層４には、レーザ
ー光の光強度分布に従ったガウス型の温度分布が形成さ
れ、その結果、輪郭のはっきりした所望の寸法の微小な
記録マークが形成される。このような記録マークからは
ジッターの少ない再生信号が検出される。
【００２０】以上、本発明の光記録媒体について実施例
により説明したが、本発明はこれらに限定されるもので
はなく、種々の改良例及び変形例をも含む。例えば、図
１に示した積層構造において、誘電体層など他の層を追
加しても良く、更に、オーバーライトなどの目的で初期
化層やスイッチング層などの各種の補助層を適当な位置
に付加しても良い。また図１の積層構造では、熱伝導層
を再生層と基板の間に形成しているが、記録層と再生層
の間や記録層と潤滑剤層の間など任意の位置に形成する
こともできる。
により説明したが、本発明はこれらに限定されるもので
はなく、種々の改良例及び変形例をも含む。例えば、図
１に示した積層構造において、誘電体層など他の層を追
加しても良く、更に、オーバーライトなどの目的で初期
化層やスイッチング層などの各種の補助層を適当な位置
に付加しても良い。また図１の積層構造では、熱伝導層
を再生層と基板の間に形成しているが、記録層と再生層
の間や記録層と潤滑剤層の間など任意の位置に形成する
こともできる。
【００２１】また、基板１の光入射側の面、すなわち記
録層４などを形成した面とは反対の面上に、熱伝導層２
を構成する材料（Ｃｕ）と同じ材料からなる層を形成す
ることもできる。これにより、光磁気記録媒体の機械的
強度を一層高めることができるとともに、記録層などの
各積層膜を積層することにより発生する光磁気記録媒体
の反りを矯正することが可能となる。
録層４などを形成した面とは反対の面上に、熱伝導層２
を構成する材料（Ｃｕ）と同じ材料からなる層を形成す
ることもできる。これにより、光磁気記録媒体の機械的
強度を一層高めることができるとともに、記録層などの
各積層膜を積層することにより発生する光磁気記録媒体
の反りを矯正することが可能となる。
【００２２】また、上記実施例の光磁気記録媒体の変形
例として、再生層３を、磁気超解像（ＭＳＲ）用の光磁
気記録媒体で用いられる再生層や、本出願人がＷＯ９８
／０２８７８において開示したＭＡＭＭＯＳ（Magnetic
Amplifying Magneto-Optical System）用の光磁気記録
媒体で用いられる磁区拡大再生層に変更することも可能
である。
例として、再生層３を、磁気超解像（ＭＳＲ）用の光磁
気記録媒体で用いられる再生層や、本出願人がＷＯ９８
／０２８７８において開示したＭＡＭＭＯＳ（Magnetic
Amplifying Magneto-Optical System）用の光磁気記録
媒体で用いられる磁区拡大再生層に変更することも可能
である。
【００２３】また、図５に示したように、熱伝導層２の
光入射側に、更に、記録層４（第１記録層）とは別の第
２の記録層（第２記録層）４’を形成した構成にするこ
とができる。かかる構成にした場合は、Ｃｕからなる熱
伝導層２が有する性質、すなわち波長５６０ｎｍ以下の
光を透過しそれよりも長波長の光を反射する性質を利用
して、第２記録層への情報の記録及びその情報の再生
に、熱伝導層で反射される波長５６０ｎｍよりも長波長
の光λ１を用い、第１記録層４への情報の記録及びその
情報の再生に、熱伝導層４を透過する５６０ｎｍ未満の
波長の光λ２を用いればよい。これにより、第１及び第
２記録層にそれぞれ独立に情報を記録し、記録した情報
をそれぞれ独立に再生することができるため、記録容量
を更に増大させることが可能となる。このとき、波長５
６０ｎｍ未満の光λ２で第２記録層の情報が読み出され
ないようにするために、各層の膜厚を調整して光の干渉
効果を利用することができる。なお、図５に示した光記
録媒体では、説明を簡単にするために再生層を設けない
構成の光記録媒体にしたが、第１記録層及び第２記録層
上にそれぞれ第１再生層及び第２再生層を形成し、第１
記録層及び第２記録層に記録した情報をそれぞれ第１再
生層及び第２再生層から再生することも可能である。
光入射側に、更に、記録層４（第１記録層）とは別の第
２の記録層（第２記録層）４’を形成した構成にするこ
とができる。かかる構成にした場合は、Ｃｕからなる熱
伝導層２が有する性質、すなわち波長５６０ｎｍ以下の
光を透過しそれよりも長波長の光を反射する性質を利用
して、第２記録層への情報の記録及びその情報の再生
に、熱伝導層で反射される波長５６０ｎｍよりも長波長
の光λ１を用い、第１記録層４への情報の記録及びその
情報の再生に、熱伝導層４を透過する５６０ｎｍ未満の
波長の光λ２を用いればよい。これにより、第１及び第
２記録層にそれぞれ独立に情報を記録し、記録した情報
をそれぞれ独立に再生することができるため、記録容量
を更に増大させることが可能となる。このとき、波長５
６０ｎｍ未満の光λ２で第２記録層の情報が読み出され
ないようにするために、各層の膜厚を調整して光の干渉
効果を利用することができる。なお、図５に示した光記
録媒体では、説明を簡単にするために再生層を設けない
構成の光記録媒体にしたが、第１記録層及び第２記録層
上にそれぞれ第１再生層及び第２再生層を形成し、第１
記録層及び第２記録層に記録した情報をそれぞれ第１再
生層及び第２再生層から再生することも可能である。
【００２４】また、本発明の光記録媒体は、光磁気記録
媒体に限らず、相変化型光記録媒体や追記型光記録媒体
など任意の光記録媒体に適用され得る。例えば、本発明
を相変化型光記録媒体に適用するならば、記録層を構成
する材料に、例えば、ＧｅＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、Ｉ
ｎＳｅ系及びＡｇＩｎＳｂＴｅ系の相変化材料を用いれ
ばよい。また、本発明を追記型光記録媒体に適用するな
らば、記録層を構成する材料に、シアニン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ポリメチ
ン系色素、またはこれらの有機色素を混合した色素など
を用いればよい。
媒体に限らず、相変化型光記録媒体や追記型光記録媒体
など任意の光記録媒体に適用され得る。例えば、本発明
を相変化型光記録媒体に適用するならば、記録層を構成
する材料に、例えば、ＧｅＴｅ系、ＧｅＳｂＴｅ系、Ｉ
ｎＳｅ系及びＡｇＩｎＳｂＴｅ系の相変化材料を用いれ
ばよい。また、本発明を追記型光記録媒体に適用するな
らば、記録層を構成する材料に、シアニン系色素、フタ
ロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ポリメチ
ン系色素、またはこれらの有機色素を混合した色素など
を用いればよい。
【００２５】
【発明の効果】本発明の光記録媒体は、板厚が０．６ｍ
ｍ未満の薄い基板を用いて構成されているため、記録光
または再生光を集光させるためのレンズと記録層との間
隔を狭めることが可能となり、焦点距離の短い高ＮＡレ
ンズを用いた超高密度記録を実現することができる。
ｍ未満の薄い基板を用いて構成されているため、記録光
または再生光を集光させるためのレンズと記録層との間
隔を狭めることが可能となり、焦点距離の短い高ＮＡレ
ンズを用いた超高密度記録を実現することができる。
【図１】本発明に従う光記録媒体の断面構造を模式的に
示す図であり、対物レンズ及びと磁気ヘッドが、それぞ
れ光記録媒体の上方及び下方に配置されている様子を示
す。
示す図であり、対物レンズ及びと磁気ヘッドが、それぞ
れ光記録媒体の上方及び下方に配置されている様子を示
す。
【図２】熱伝導層の光消衰係数と、光磁気記録媒体から
得られる性能指数の関係を示すグラフである。
得られる性能指数の関係を示すグラフである。
【図３】熱伝導層を構成するＣｕの光反射スペクトルを
示したグラフである。
示したグラフである。
【図４】熱伝導層の膜厚に対する性能指数の変化の様子
を示す図である。
を示す図である。
【図５】第１記録層と第２記録層の２つの記録層を、熱
伝導層を介して備えた光記録媒体の断面構造を模式的に
示す図であり、波長５６０ｎｍよりも長波長の光λ１と
波長５６０ｎｍ未満の光λ２が照射されている様子を示
す図である。
伝導層を介して備えた光記録媒体の断面構造を模式的に
示す図であり、波長５６０ｎｍよりも長波長の光λ１と
波長５６０ｎｍ未満の光λ２が照射されている様子を示
す図である。
１ 基板 ２ 熱伝導層 ３ 再生層 ４ 記録層 ５ 潤滑剤層 １０ 光磁気記録媒体 １１ 対物レンズ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 11/105 ５１６ Ｇ１１Ｂ 11/105 ５１６Ｆ ５２１ ５２１Ｄ ５３１ ５３１Ｖ ５５１ ５５１Ａ ５５１Ｂ ５８６ ５８６Ａ (72)発明者 中川 活二 東京都江戸川区東小岩６丁目27番12号 ス テイツ東小岩603号 Ｆターム(参考） 5D029 KB14 MA27 5D075 EE03 FF13 FG02 FG17
Claims (14)
- 【請求項１】 情報が記録される記録層を基板上に備
え、基板側から光が照射される光記録媒体において、 基板の厚みが０．６ｍｍ未満であることを特徴とする光
記録媒体。 - 【請求項２】 上記記録層は、情報が磁化情報として記
録される磁性層であり、記録層と基板との間に、更に、
記録層の磁化情報が転写される再生層を備えることを特
徴とする請求項１に記載の光記録媒体。 - 【請求項３】 上記再生層が、記録層の磁化が転写さ
れ、外部磁界の下で拡大する磁区拡大再生層であること
を特徴とする請求項２に記載の光記録媒体。 - 【請求項４】 基板と記録層との間に、熱伝導率が２０
Ｗｍ−１Ｋ−１以上の非磁性の熱伝導層を備えることを
特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光記録
媒体。 - 【請求項５】 上記熱伝導層が、記録層に接して設けら
れていることを特徴とする請求項４に記載の光記録媒
体。 - 【請求項６】 上記熱伝導層は、上記照射される光の波
長における消衰係数が３．０以下であることを特徴とす
る請求項４または５に記載の光記録媒体。 - 【請求項７】 上記熱伝導層は、波長３００ｎｍ〜６０
０ｎｍの間に、光反射スペクトルにおける光反射端を有
することを特徴とする請求項４〜６のいずれか一項に記
載の光記録媒体。 - 【請求項８】 上記熱伝導層は、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ及び
Ｓｉ並びにそれらの少なくとも一種を含む化合物からな
る群から選択された１種から構成されることを特徴とす
る請求項４〜７のいずれか一項に記載の光記録媒体。 - 【請求項９】 上記熱伝導層の膜厚が、１ｎｍ〜２００
ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項４〜８のい
ずれか一項に記載の光記録媒体。 - 【請求項１０】 上記記録層が第１記録層であり、更
に、上記基板上に、情報が記録される第２記録層と、熱
伝導率が２０Ｗｍ−１Ｋ−１以上の非磁性の熱伝導層と
をこの順で備え、第１記録層が熱伝導層上に形成されて
いることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記
載の光記録媒体。 - 【請求項１１】 上記照射される光の波長が、３００ｎ
ｍ〜６００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする請求項
１〜１０のいずれか一項に記載の光記録媒体。 - 【請求項１２】 光記録媒体に外部磁界を印加するため
の磁気ヘッドにより、上記光記録媒体の記録層が形成さ
れている側が支持されつつ情報の記録または再生が行な
われることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか一項
に記載の光記録媒体。 - 【請求項１３】 磁界変調方式または光パルス磁界変調
方式により情報が記録されることを特徴とする請求項１
〜１２のいずれか一項に記載の光記録媒体。 - 【請求項１４】 更に、基板の板厚が、５０μｍ〜５０
０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１〜１３
のいずれか一項に記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11211706A JP2001035008A (ja) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11211706A JP2001035008A (ja) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | 光記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001035008A true JP2001035008A (ja) | 2001-02-09 |
| JP2001035008A5 JP2001035008A5 (ja) | 2006-09-07 |
Family
ID=16610254
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11211706A Pending JP2001035008A (ja) | 1999-07-27 | 1999-07-27 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001035008A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102636958A (zh) * | 2012-04-11 | 2012-08-15 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法 |
| CN102880001A (zh) * | 2012-09-11 | 2013-01-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法 |
| CN105425536A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-03-23 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法 |
-
1999
- 1999-07-27 JP JP11211706A patent/JP2001035008A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102636958A (zh) * | 2012-04-11 | 2012-08-15 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 提高激光热刻蚀图形分辨率的薄膜结构及其制备方法 |
| CN102880001A (zh) * | 2012-09-11 | 2013-01-16 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光热刻蚀有机光刻胶及其制备方法 |
| CN105425536A (zh) * | 2015-11-12 | 2016-03-23 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 激光直写用超分辨掩膜板及其制备方法 |
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