JP2001027178A - 真空ポンプ及びその駆動方法 - Google Patents
真空ポンプ及びその駆動方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 真空ポンプの消費電力を低減し、かつ生産性
及び信頼性を向上させた真空ポンプ及び駆動方法を提供
する。 【解決手段】 真空ポンプを駆動制御して、真空ポンプ
本体２の吸気側に加わる負荷状態の違い（チャンバー１
の運転状態）により、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を
高真空と大気圧付近とに切替えることにより、真空ポン
プ本体２の消費電力量を抑制する。
及び信頼性を向上させた真空ポンプ及び駆動方法を提供
する。 【解決手段】 真空ポンプを駆動制御して、真空ポンプ
本体２の吸気側に加わる負荷状態の違い（チャンバー１
の運転状態）により、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を
高真空と大気圧付近とに切替えることにより、真空ポン
プ本体２の消費電力量を抑制する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、消費電力の低減を
図る真空ポンプに関するものである。
図る真空ポンプに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】真空ポンプは半導体製造装置等に用いら
れるが、近年の地球温暖化問題および製造コストの観点
から省エネルギー装置、ひいては半導体製造装置の低消
費電力化が重要な要素となってきている。
れるが、近年の地球温暖化問題および製造コストの観点
から省エネルギー装置、ひいては半導体製造装置の低消
費電力化が重要な要素となってきている。
【０００３】ところで、従来例に係る真空ポンプは図４
に示すように、半導体装置の処理を行うチャンバー１の
状態を検出して、その検出信号に基づいて運転要否の判
断７を行い、真空ポンプ本体２の駆動をＯＮ／ＯＦＦ制
御するようになっている。また５はバルブである。
に示すように、半導体装置の処理を行うチャンバー１の
状態を検出して、その検出信号に基づいて運転要否の判
断７を行い、真空ポンプ本体２の駆動をＯＮ／ＯＦＦ制
御するようになっている。また５はバルブである。
【０００４】したがって、チャンバー１の負荷状態に拘
わらず、真空ポンプ本体２の排気性能としての到達圧力
値領域において運転が継続することとなり、無駄な電力
を消費する原因になっている。
わらず、真空ポンプ本体２の排気性能としての到達圧力
値領域において運転が継続することとなり、無駄な電力
を消費する原因になっている。
【０００５】また、真空ポンプ本体２の運転を停止し
て、その消費電力を節約することが考えられるが、この
場合には、ポンプを再運転する際の立上がりのロス時間
を回避することができず、生産性が悪くなるという問題
がある。
て、その消費電力を節約することが考えられるが、この
場合には、ポンプを再運転する際の立上がりのロス時間
を回避することができず、生産性が悪くなるという問題
がある。
【０００６】そこで、特開平０７−３５０７２号公報に
は、真空ポンプの回転数を制御して、その消費電力量を
低減する技術が開示されている。
は、真空ポンプの回転数を制御して、その消費電力量を
低減する技術が開示されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】上述した特開平０７−
３５０７２号公報に開示された技術は、インバーター回
路を用いて真空ポンプの回転数を効率的に制御している
ため、その消費電力量を節約することに一応の効果を発
揮することは可能であるが、しかしながら、その技術で
は、低回転領域から定常回転領域までの加速時間を必要
とし、その使用状態に至るまでに遅れ時間が発生すると
いう問題がある。
３５０７２号公報に開示された技術は、インバーター回
路を用いて真空ポンプの回転数を効率的に制御している
ため、その消費電力量を節約することに一応の効果を発
揮することは可能であるが、しかしながら、その技術で
は、低回転領域から定常回転領域までの加速時間を必要
とし、その使用状態に至るまでに遅れ時間が発生すると
いう問題がある。
【０００８】本発明の目的は、真空ポンプの消費電力を
低減し、かつ生産性及び信頼性を向上させた真空ポンプ
及び駆動方法を提供することにある。
低減し、かつ生産性及び信頼性を向上させた真空ポンプ
及び駆動方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明に係る真空ポンプは、真空ポンプ本体の吸気
側と負荷との間を第１のバルブにより連通遮断可能に接
続し、かつ前記真空ポンプ本体の吸気側を大気圧側に第
２のバルブにより連通遮断可能に接続したものである。
め、本発明に係る真空ポンプは、真空ポンプ本体の吸気
側と負荷との間を第１のバルブにより連通遮断可能に接
続し、かつ前記真空ポンプ本体の吸気側を大気圧側に第
２のバルブにより連通遮断可能に接続したものである。
【００１０】また前記第１のバルブは、前記真空ポンプ
本体の吸気側を負荷に接続して前記真空ポンプ本体の吸
気側圧力を高真空状態に制御するものである。
本体の吸気側を負荷に接続して前記真空ポンプ本体の吸
気側圧力を高真空状態に制御するものである。
【００１１】また前記第２のバルブは、不活性ガス等気
体を前記真空ポンプ本体の吸気側に導入して前記真空ポ
ンプ本体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものであ
る。
体を前記真空ポンプ本体の吸気側に導入して前記真空ポ
ンプ本体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものであ
る。
【００１２】また前記第２のバルブは、前記真空ポンプ
本体の排気側の気体を吸気側に導入して前記真空ポンプ
本体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものである。
本体の排気側の気体を吸気側に導入して前記真空ポンプ
本体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものである。
【００１３】また本発明に係る真空ポンプの駆動方法
は、真空ポンプ本体の吸気側に加わる負荷状態の違いに
より、前記真空ポンプ本体の吸気側圧力を高真空と大気
圧付近とに切替えて、前記真空ポンプ本体の消費電力量
を抑制するものである。
は、真空ポンプ本体の吸気側に加わる負荷状態の違いに
より、前記真空ポンプ本体の吸気側圧力を高真空と大気
圧付近とに切替えて、前記真空ポンプ本体の消費電力量
を抑制するものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図に
より説明する。
より説明する。
【００１５】（実施形態１） 図１は、本発明の実施形
態１に係る真空ポンプの駆動方法を示す特性図、図２
は、本発明の実施形態１に係る真空ポンプの駆動方法を
実施する真空ポンプを示す構成図である。
態１に係る真空ポンプの駆動方法を示す特性図、図２
は、本発明の実施形態１に係る真空ポンプの駆動方法を
実施する真空ポンプを示す構成図である。
【００１６】図１に示すように、スクリュー型真空ポン
プにおける吸気側圧力と消費電力量との特性は、真空ポ
ンプ本体２の吸気側圧力が大気圧近くの圧力値では、そ
の消費電力量は低く、真空ポンプ本体２の排気性能であ
る到達圧力値近傍では、その消費電力量は高くなる傾向
にある。
プにおける吸気側圧力と消費電力量との特性は、真空ポ
ンプ本体２の吸気側圧力が大気圧近くの圧力値では、そ
の消費電力量は低く、真空ポンプ本体２の排気性能であ
る到達圧力値近傍では、その消費電力量は高くなる傾向
にある。
【００１７】本発明は図１に示す特性の知見を得て、真
空ポンプ本体２の吸気側と負荷（実施形態ではチャンバ
ー１）との間を第１のバルブ５により連通遮断可能に接
続し、かつ真空ポンプ本体２の吸気側を大気圧側に第２
のバルブ４により連通遮断可能に接続したものである。
空ポンプ本体２の吸気側と負荷（実施形態ではチャンバ
ー１）との間を第１のバルブ５により連通遮断可能に接
続し、かつ真空ポンプ本体２の吸気側を大気圧側に第２
のバルブ４により連通遮断可能に接続したものである。
【００１８】また第１のバルブ５は、真空ポンプ本体２
の吸気側を負荷（実施形態ではチャンバー１に接続して
真空ポンプ本体２の吸気側圧力を高真空状態に制御する
ようになっている。
の吸気側を負荷（実施形態ではチャンバー１に接続して
真空ポンプ本体２の吸気側圧力を高真空状態に制御する
ようになっている。
【００１９】また第２のバルブ４は、不活性ガス等気体
を真空ポンプ本体２の吸気側に導入して真空ポンプ本体
２の吸気側圧力を大気圧付近に制御し、或いは真空ポン
プ本体２の排気側の気体を吸気側に導入して真空ポンプ
本体２の吸気側圧力を大気圧付近に制御するようになっ
ている。
を真空ポンプ本体２の吸気側に導入して真空ポンプ本体
２の吸気側圧力を大気圧付近に制御し、或いは真空ポン
プ本体２の排気側の気体を吸気側に導入して真空ポンプ
本体２の吸気側圧力を大気圧付近に制御するようになっ
ている。
【００２０】そして本発明は、上述した構成の真空ポン
プを用いて真空ポンプを駆動制御して、真空ポンプ本体
２の吸気側に加わる負荷状態の違い（実施形態ではチャ
ンバー１の運転状態）により、真空ポンプ本体２の吸気
側圧力を高真空と大気圧付近とに切替えて、真空ポンプ
本体２の消費電力量を抑制する。
プを用いて真空ポンプを駆動制御して、真空ポンプ本体
２の吸気側に加わる負荷状態の違い（実施形態ではチャ
ンバー１の運転状態）により、真空ポンプ本体２の吸気
側圧力を高真空と大気圧付近とに切替えて、真空ポンプ
本体２の消費電力量を抑制する。
【００２１】具体的には本発明は、上述した負荷状態
Ａ，Ｂの違いにより、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を
負荷状態Ａにおいては高真空とし、負荷状態Ｂにおいて
は大気圧近くに切替えて、消費電力量の低減を実現して
いる。
Ａ，Ｂの違いにより、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を
負荷状態Ａにおいては高真空とし、負荷状態Ｂにおいて
は大気圧近くに切替えて、消費電力量の低減を実現して
いる。
【００２２】次に、本発明の具体例を実施形態１として
説明する。すなわち、図２に示すように本発明の実施形
態１に係る真空ポンプは、半導体装置の処理が行われる
チャンバー１の真空排気側にバルブ５を介して真空ポン
プ本体２が接続され、真空ポンプ本体２を用いバルブ５
を介してチャンバー１内を真空排気するようになってい
る。
説明する。すなわち、図２に示すように本発明の実施形
態１に係る真空ポンプは、半導体装置の処理が行われる
チャンバー１の真空排気側にバルブ５を介して真空ポン
プ本体２が接続され、真空ポンプ本体２を用いバルブ５
を介してチャンバー１内を真空排気するようになってい
る。
【００２３】さらに本発明の実施形態１に係る真空ポン
プは、真空ポンプ本体２からバルブ５に至る配管８の容
積を小さくすることにより、低回転領域から定常回転領
域までの加速時間を短縮して、その使用状態に至るまで
の遅れ時間を短縮することを特徴とするものである。
プは、真空ポンプ本体２からバルブ５に至る配管８の容
積を小さくすることにより、低回転領域から定常回転領
域までの加速時間を短縮して、その使用状態に至るまで
の遅れ時間を短縮することを特徴とするものである。
【００２４】詳細に説明すると、真空ポンプ本体２の前
段すなわち吸気側からバルブ５に至る配管８にコンダク
タンスバルブ４を設置し、コンダクタンスバルブ４から
ガスライン３のＮ2またはＡｉｒ等の気体（不活性ガス
等気体）を真空ポンプ本体２の吸気側に導入するように
なっている。
段すなわち吸気側からバルブ５に至る配管８にコンダク
タンスバルブ４を設置し、コンダクタンスバルブ４から
ガスライン３のＮ2またはＡｉｒ等の気体（不活性ガス
等気体）を真空ポンプ本体２の吸気側に導入するように
なっている。
【００２５】次に、本発明の実施形態１に係る真空ポン
プを駆動制御して、その消費電力量を低減する方法につ
いて説明する。
プを駆動制御して、その消費電力量を低減する方法につ
いて説明する。
【００２６】図２において、チャンバー１の負荷状態を
検出して、その検出信号に基づいてチャンバー１の運転
状態を判断６する。この場合、チャンバー１内は、真空
ポンプ本体２により真空排気されて高真空圧に圧力制御
されているとする。
検出して、その検出信号に基づいてチャンバー１の運転
状態を判断６する。この場合、チャンバー１内は、真空
ポンプ本体２により真空排気されて高真空圧に圧力制御
されているとする。
【００２７】そのチャンバー１の運転状態が、例えば待
機状態（図１の負荷状態Ｂ）である場合には、バルブ５
を閉じてチャンバー１と真空ポンプ本体２との連通を遮
断する。
機状態（図１の負荷状態Ｂ）である場合には、バルブ５
を閉じてチャンバー１と真空ポンプ本体２との連通を遮
断する。
【００２８】そして、チャンバー１と真空ポンプ本体２
との連通を遮断させた後、コンダクタンスバルブ４を開
けることにより、ガスライン３のＮ2またはＡｉｒを真
空ポンプ本体２の吸気側配管８に導入し、真空ポンプ本
体２の吸気側圧力を大気圧近傍に制御する。
との連通を遮断させた後、コンダクタンスバルブ４を開
けることにより、ガスライン３のＮ2またはＡｉｒを真
空ポンプ本体２の吸気側配管８に導入し、真空ポンプ本
体２の吸気側圧力を大気圧近傍に制御する。
【００２９】一方、チャンバー１内でウェハの加工を行
う期間（図１の負荷状態Ａ）では、コンダクタンスバル
ブ４を閉じて、真空ポンプ本体２を大気環境から遮断す
る。真空ポンプ本体２を大気圧環境から遮断した後、バ
ルブ５を開けてチャンバー１と真空ポンプ本体２とを連
通し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力をチャンバー１内
の高真空圧に設定制御する。この状態にて真空ポンプ本
体２を駆動してバルブ５を介してチャンバー１内を真空
排気する。
う期間（図１の負荷状態Ａ）では、コンダクタンスバル
ブ４を閉じて、真空ポンプ本体２を大気環境から遮断す
る。真空ポンプ本体２を大気圧環境から遮断した後、バ
ルブ５を開けてチャンバー１と真空ポンプ本体２とを連
通し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力をチャンバー１内
の高真空圧に設定制御する。この状態にて真空ポンプ本
体２を駆動してバルブ５を介してチャンバー１内を真空
排気する。
【００３０】以上説明した本発明の実施形態１におい
て、真空ポンプ本体２の排気速度が１０００Ｌ／ｍｉｎ
の能力をもつクラスの真空ポンプ本体２を用いた半導体
製造装置の場合、チャンバー１が待機状態（図１の負荷
状態Ｂ）のとき、コンダクタンスバルブ４の開度を調整
し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を４００〜６００ｔ
ｏｒｒにする。
て、真空ポンプ本体２の排気速度が１０００Ｌ／ｍｉｎ
の能力をもつクラスの真空ポンプ本体２を用いた半導体
製造装置の場合、チャンバー１が待機状態（図１の負荷
状態Ｂ）のとき、コンダクタンスバルブ４の開度を調整
し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力を４００〜６００ｔ
ｏｒｒにする。
【００３１】上述したクラスの一般的な真空ポンプ本体
２の低回転領域から排気性能である到達圧力値近傍まで
の運転電流は１２〜１５Ａであるが、本発明の実施形態
１に係る真空ポンプを用いて駆動制御することにより、
７〜１０Ａ程度の電流値に低減することができる。
２の低回転領域から排気性能である到達圧力値近傍まで
の運転電流は１２〜１５Ａであるが、本発明の実施形態
１に係る真空ポンプを用いて駆動制御することにより、
７〜１０Ａ程度の電流値に低減することができる。
【００３２】例えば半導体製造装置の稼働率が７０％で
あり、さらに製品ロット処理条件に２０％のチェンバ−
１の待機状態が存在するウェハ加工レシピの場合、総合
的な待機状態は４４％となり、前述した電流値の比率に
基づくと、本発明の実施形態１によれば、真空ポンプの
総合的な消費電力量は約１６％低減することができると
いう効果がある。
あり、さらに製品ロット処理条件に２０％のチェンバ−
１の待機状態が存在するウェハ加工レシピの場合、総合
的な待機状態は４４％となり、前述した電流値の比率に
基づくと、本発明の実施形態１によれば、真空ポンプの
総合的な消費電力量は約１６％低減することができると
いう効果がある。
【００３３】さらに本発明の実施形態１では、真空ポン
プ本体２からバルブ５までの配管容積を小さくすること
により、特開平０７−３５０７２号公報に開示された従
来例と比較した遅れ時間は約１ｓｅｃ以内に短縮するこ
とができる。
プ本体２からバルブ５までの配管容積を小さくすること
により、特開平０７−３５０７２号公報に開示された従
来例と比較した遅れ時間は約１ｓｅｃ以内に短縮するこ
とができる。
【００３４】さらに特開平０７−３５０７２号公報に開
示された従来例のようにインバーター回路，シーケンサ
ーを具備する必要がないため、生産コスト，部品点数を
低減して、高信頼性を得ることができる。
示された従来例のようにインバーター回路，シーケンサ
ーを具備する必要がないため、生産コスト，部品点数を
低減して、高信頼性を得ることができる。
【００３５】（実施形態２） 図３は、本発明の実施形
態２に係る真空ポンプを示す構成図である。
態２に係る真空ポンプを示す構成図である。
【００３６】図３は、本発明の実施形態２に係る真空ポ
ンプは、コンダクタンスバルブ４の一次側を真空ポンプ
本体２の後段すなわち排気側に接続し、その二次側を真
空ポンプ本体２の前段すなわち吸気側に接続することに
より、真空ポンプ本体２の給排気間にコンダクタンスバ
ルブ４によるバイパス通路を並列に設けたことを特徴と
するものである。
ンプは、コンダクタンスバルブ４の一次側を真空ポンプ
本体２の後段すなわち排気側に接続し、その二次側を真
空ポンプ本体２の前段すなわち吸気側に接続することに
より、真空ポンプ本体２の給排気間にコンダクタンスバ
ルブ４によるバイパス通路を並列に設けたことを特徴と
するものである。
【００３７】図３に示す本発明の実施形態２は、チャン
バー１の負荷状態を検出して、その検出信号に基づいて
チャンバー１の運転状態を判断６する構成については実
施形態１と同様であるが、図３に示す本発明の実施形態
２では、バルブ５を閉じてポンプ２の吸気側圧力を大気
圧近傍にするガス導入（図１の負荷状態Ｂ）は、コンダ
クタンスバルブ４による前記バイパス通路を通して行
い、その真空ポンプ本体２の排気側と吸気側とを連通し
て真空ポンプ本体２の吸気側を大気圧近傍に制御する。
バー１の負荷状態を検出して、その検出信号に基づいて
チャンバー１の運転状態を判断６する構成については実
施形態１と同様であるが、図３に示す本発明の実施形態
２では、バルブ５を閉じてポンプ２の吸気側圧力を大気
圧近傍にするガス導入（図１の負荷状態Ｂ）は、コンダ
クタンスバルブ４による前記バイパス通路を通して行
い、その真空ポンプ本体２の排気側と吸気側とを連通し
て真空ポンプ本体２の吸気側を大気圧近傍に制御する。
【００３８】一方、チャンバー１内でウェハの加工を行
う期間（図１の負荷状態Ａ）では、コンダクタンスバル
ブ４を閉じて、真空ポンプ本体２の吸気側を排気側から
遮断する。
う期間（図１の負荷状態Ａ）では、コンダクタンスバル
ブ４を閉じて、真空ポンプ本体２の吸気側を排気側から
遮断する。
【００３９】真空ポンプ本体２を大気圧環境から遮断し
た後、バルブ５を開けてチャンバー１と真空ポンプ本体
２の吸気側とを連通し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力
をチャンバー１内の高真空圧に設定制御する。
た後、バルブ５を開けてチャンバー１と真空ポンプ本体
２の吸気側とを連通し、真空ポンプ本体２の吸気側圧力
をチャンバー１内の高真空圧に設定制御する。
【００４０】本発明の実施形態２によれば、実施形態１
では必要であるガス導入系（Ｎ2，Ａｉｒ等のガスライ
ン３）が不要となり、簡便な構造を用いて真空ポンプ本
体２の消費電力量を低減することができるという利点を
有している。
では必要であるガス導入系（Ｎ2，Ａｉｒ等のガスライ
ン３）が不要となり、簡便な構造を用いて真空ポンプ本
体２の消費電力量を低減することができるという利点を
有している。
【００４１】さらに本発明の実施形態２によれば、チャ
ンバー１にて毒性及び特殊性等を有するガスを半導体製
造装置の処理プロセスに用いる場合、実施形態１のよう
にガス導入系（ガスライン３）が他の導入ガス系に接続
されることはなく閉ループとなっているため、安全性に
優れ、かつ、他のガス導入系の汚染に配慮する必要がな
い。
ンバー１にて毒性及び特殊性等を有するガスを半導体製
造装置の処理プロセスに用いる場合、実施形態１のよう
にガス導入系（ガスライン３）が他の導入ガス系に接続
されることはなく閉ループとなっているため、安全性に
優れ、かつ、他のガス導入系の汚染に配慮する必要がな
い。
【００４２】なお実施形態では真空ポンプ２の吸気側に
加わる負荷をチャンバー１の運転状態として説明した
が、真空ポンプ２の吸気側に加わる負荷は、これに限定
されるものではない。
加わる負荷をチャンバー１の運転状態として説明した
が、真空ポンプ２の吸気側に加わる負荷は、これに限定
されるものではない。
【００４３】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、真
空ポンプにおける吸気側圧力と消費電力量との特性は、
真空ポンプ本体の吸気側圧力が大気圧近くの圧力値で
は、その消費電力量は低く、真空ポンプ本体の排気性能
である到達圧力値近傍では、その消費電力量は高くなる
傾向にあるという知見に基づいて、真空ポンプ本体の吸
気側圧力を制御するため、真空ポンプ本体の回転数を制
御し消費電力量を抑制する場合と比較して消費電力量を
さらに低減することができる。
空ポンプにおける吸気側圧力と消費電力量との特性は、
真空ポンプ本体の吸気側圧力が大気圧近くの圧力値で
は、その消費電力量は低く、真空ポンプ本体の排気性能
である到達圧力値近傍では、その消費電力量は高くなる
傾向にあるという知見に基づいて、真空ポンプ本体の吸
気側圧力を制御するため、真空ポンプ本体の回転数を制
御し消費電力量を抑制する場合と比較して消費電力量を
さらに低減することができる。
【００４４】さらにインバーター回路，シーケンサーを
具備する必要がないため、生産コスト，部品点数を低減
して、高信頼性を得ることができる。
具備する必要がないため、生産コスト，部品点数を低減
して、高信頼性を得ることができる。
【００４５】さらに真空ポンプ本体の吸気側圧力を制御
するためのガス系を外部から隔離遮断することができる
ため、負荷側で例えば毒性の強い処理ガスを用いたとし
ても、その漏出を防止して安全を確保することができ
る。
するためのガス系を外部から隔離遮断することができる
ため、負荷側で例えば毒性の強い処理ガスを用いたとし
ても、その漏出を防止して安全を確保することができ
る。
【図１】本発明の実施形態１に係る真空ポンプの駆動方
法を示す特性図である。
法を示す特性図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る真空ポンプの駆動方
法を実施する真空ポンプを示す構成図である。
法を実施する真空ポンプを示す構成図である。
【図３】本発明の実施形態２に係る真空ポンプを示す構
成図である。
成図である。
【図４】従来例に係る真空ポンプを示す構成図である。
１ チャンバー ２ 真空ポンプ本体 ４，５ バルブ
Claims (5)
- 【請求項１】 真空ポンプ本体の吸気側と負荷との間を
第１のバルブにより連通遮断可能に接続し、 かつ前記真空ポンプ本体の吸気側を大気圧側に第２のバ
ルブにより連通遮断可能に接続したことを特徴とする真
空ポンプ。 - 【請求項２】 前記第１のバルブは、前記真空ポンプ本
体の吸気側を負荷に接続して前記真空ポンプ本体の吸気
側圧力を高真空状態に制御するものであることを特徴と
する請求項１に記載の真空ポンプ。 - 【請求項３】 前記第２のバルブは、不活性ガス等気体
を前記真空ポンプ本体の吸気側に導入して前記真空ポン
プ本体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものである
ことを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。 - 【請求項４】 前記第２のバルブは、前記真空ポンプ本
体の排気側の気体を吸気側に導入して前記真空ポンプ本
体の吸気側圧力を大気圧付近に制御するものであること
を特徴とする請求項１に記載の真空ポンプ。 - 【請求項５】 真空ポンプ本体の吸気側に加わる負荷状
態の違いにより、前記真空ポンプ本体の吸気側圧力を高
真空と大気圧付近とに切替えて、前記真空ポンプ本体の
消費電力量を抑制することを特徴とする真空ポンプの駆
動方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20289799A JP3558557B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | 真空ポンプ及びその駆動方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20289799A JP3558557B2 (ja) | 1999-07-16 | 1999-07-16 | 真空ポンプ及びその駆動方法 |
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1999
- 1999-07-16 JP JP20289799A patent/JP3558557B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| US7739885B2 (en) | 2001-10-24 | 2010-06-22 | Hoya Corporation | Methods for the production of glass substrate blank |
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