JP2001026413A - 粉体処理用シャフト炉 - Google Patents
粉体処理用シャフト炉Info
- Publication number
- JP2001026413A JP2001026413A JP11198834A JP19883499A JP2001026413A JP 2001026413 A JP2001026413 A JP 2001026413A JP 11198834 A JP11198834 A JP 11198834A JP 19883499 A JP19883499 A JP 19883499A JP 2001026413 A JP2001026413 A JP 2001026413A
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- JP
- Japan
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- raw material
- powder
- material supply
- cylindrical shaft
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な構成で、原料供給ホッパー内でのブリ
ッジ形成防止、粉体間空気の大幅減少による粉体の酸化
防止等を可能とした粉体処理用シャフト炉を提供する。 【解決手段】 下端に原料供給管４を、上部に原料補給
バルブ５を有し、かつ原料供給管４に原料供給バルブ３
を備えた密閉式原料供給ホッパー１と、装入室１０と、
加熱部１８および冷却部１９を備えた炉本体１５と、間
欠式排出装置２６を備えた排出室２５とを前記順序で連
結し、原料供給管４を装入室１０内に位置させて円筒状
シャフト２０の上端が装入室１０内で原料供給管４に対
向し、下端が排出室２５に位置するように炉本体１５を
上下に貫通配設し、原料供給ホッパー１内の原料粉体Ｗ
を円筒状シャフト２０の上端に供給し、排出板２８で処
理粉体Ｗ’を間欠的に切り出すように粉体処理用シャフ
ト炉Ｔ1が構成されている。
ッジ形成防止、粉体間空気の大幅減少による粉体の酸化
防止等を可能とした粉体処理用シャフト炉を提供する。 【解決手段】 下端に原料供給管４を、上部に原料補給
バルブ５を有し、かつ原料供給管４に原料供給バルブ３
を備えた密閉式原料供給ホッパー１と、装入室１０と、
加熱部１８および冷却部１９を備えた炉本体１５と、間
欠式排出装置２６を備えた排出室２５とを前記順序で連
結し、原料供給管４を装入室１０内に位置させて円筒状
シャフト２０の上端が装入室１０内で原料供給管４に対
向し、下端が排出室２５に位置するように炉本体１５を
上下に貫通配設し、原料供給ホッパー１内の原料粉体Ｗ
を円筒状シャフト２０の上端に供給し、排出板２８で処
理粉体Ｗ’を間欠的に切り出すように粉体処理用シャフ
ト炉Ｔ1が構成されている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、炭素粉体の黒鉛化
あるいは焼成処理等に使用する粉体処理用シャフト炉に
関するものである。
あるいは焼成処理等に使用する粉体処理用シャフト炉に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、前記粉体処理用シャフト炉として
は、特公平２−２０９２０号公報に開示のものがある。
すなわち、このシャフト炉Ｔ0は図３に示すように上部
ホッパー４１に貯留した原料粉体をロータリーバルブ４
２により下部ホッパー４３に供給し、ここからこの原料
粉体は黒鉛等からなる円筒状シャフト４４を備えた加熱
部に至り、発熱体４５により所定温度に加熱されて水冷
ジャケット管４６からなる冷却部で冷却された後、スク
リューコンベア４７により連続的に排出されるようにな
っている。
は、特公平２−２０９２０号公報に開示のものがある。
すなわち、このシャフト炉Ｔ0は図３に示すように上部
ホッパー４１に貯留した原料粉体をロータリーバルブ４
２により下部ホッパー４３に供給し、ここからこの原料
粉体は黒鉛等からなる円筒状シャフト４４を備えた加熱
部に至り、発熱体４５により所定温度に加熱されて水冷
ジャケット管４６からなる冷却部で冷却された後、スク
リューコンベア４７により連続的に排出されるようにな
っている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記シ
ャフト炉Ｔ0においては、円筒状シャフト４４内および
水冷ジャケット管４６内では、加熱・冷却された処理粉
体がスクリュコンベア４７により連続的に排出されるこ
とから、粉体は自重により連続流下する。そのため、円
筒状シャフト４４内および水冷ジャケット管４６内の壁
面付近の粉体が側圧（水平方向の粉体圧）によって壁に
押し付けられて粉体と壁との摩擦が大きくなり、円筒状
シャフト４４あるいは水冷ジャケット管４６内の中心部
の粉体が壁付近より速く落下する、いわゆるファンネル
・フローが生じ、円筒状シャフト４４内あるいは水冷ジ
ャケット管４６内での滞留時間、即ち加熱時間あるいは
冷却時間に差が生じて均一な加熱・冷却処理ができない
という欠点を有していた。
ャフト炉Ｔ0においては、円筒状シャフト４４内および
水冷ジャケット管４６内では、加熱・冷却された処理粉
体がスクリュコンベア４７により連続的に排出されるこ
とから、粉体は自重により連続流下する。そのため、円
筒状シャフト４４内および水冷ジャケット管４６内の壁
面付近の粉体が側圧（水平方向の粉体圧）によって壁に
押し付けられて粉体と壁との摩擦が大きくなり、円筒状
シャフト４４あるいは水冷ジャケット管４６内の中心部
の粉体が壁付近より速く落下する、いわゆるファンネル
・フローが生じ、円筒状シャフト４４内あるいは水冷ジ
ャケット管４６内での滞留時間、即ち加熱時間あるいは
冷却時間に差が生じて均一な加熱・冷却処理ができない
という欠点を有していた。
【０００４】一方、前記ファンネル・フローの発生を防
止するため、特許第２８０１９３０号公報にて円筒状シ
ャフト内にコアを設けて狭隘部を形成するようにした黒
鉛粉末製造装置が提案されている。しかしこの装置の場
合、コアを設けるため、構造が複雑になり高価になると
いう欠点を有する。本発明は、斯かる従来の欠点に鑑み
てなされたもので、簡単な構成で、ファンネル・フロー
を生じない粉体処理用シャフト炉を提供することを目的
とする。
止するため、特許第２８０１９３０号公報にて円筒状シ
ャフト内にコアを設けて狭隘部を形成するようにした黒
鉛粉末製造装置が提案されている。しかしこの装置の場
合、コアを設けるため、構造が複雑になり高価になると
いう欠点を有する。本発明は、斯かる従来の欠点に鑑み
てなされたもので、簡単な構成で、ファンネル・フロー
を生じない粉体処理用シャフト炉を提供することを目的
とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、下端に原料供給管を有するとともに上部
に原料補給バルブを有し、かつ前記原料供給管に原料供
給バルブを備えた密閉式原料供給ホッパーと、装入室
と、加熱部および冷却部を備えた炉本体と、間欠式排出
装置を備えた排出室とを前記順序で連結し、前記原料供
給管を装入室内に位置させる一方、円筒状シャフトをそ
の上端が前記装入室内で前記原料供給管に対向し、下端
が前記排出室に位置するように前記炉本体を上下に貫通
配設し、前記原料供給ホッパー内の原料粉体を前記円筒
状シャフトの上端に供給し、この円筒状シャフト内にて
加熱・冷却された処理粉体を前記間欠式排出装置により
間欠的に切り出すように構成した。
成するために、下端に原料供給管を有するとともに上部
に原料補給バルブを有し、かつ前記原料供給管に原料供
給バルブを備えた密閉式原料供給ホッパーと、装入室
と、加熱部および冷却部を備えた炉本体と、間欠式排出
装置を備えた排出室とを前記順序で連結し、前記原料供
給管を装入室内に位置させる一方、円筒状シャフトをそ
の上端が前記装入室内で前記原料供給管に対向し、下端
が前記排出室に位置するように前記炉本体を上下に貫通
配設し、前記原料供給ホッパー内の原料粉体を前記円筒
状シャフトの上端に供給し、この円筒状シャフト内にて
加熱・冷却された処理粉体を前記間欠式排出装置により
間欠的に切り出すように構成した。
【０００６】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施形態につい
て図にしたがって説明する。図１は本発明の第１の実施
形態にかかる単筒方式の粉体処理用シャフト炉Ｔ1を示
し、この粉体処理用シャフト炉Ｔ1は、大略、密閉式原
料供給ホッパ１と装入室１０と炉本体１５と排出室２５
とからなる。前記密閉式原料供給ホッパ１は、図示しな
い真空ポンプに接続される排気管２を備えるとともに、
下端には原料供給バルブ（例：ロータリーバルブ）３を
備えた原料供給管４が連結される一方、上部には原料補
給バルブ（例：ボールバルブ）５を備えた原料補給管６
が連結され、かつ前記原料供給管４の下端を前記装入室
１０内に突出させている。また、前記密閉式原料供給ホ
ッパ１の下部には、下方に向けて不活性ガスを噴出する
不活性ガス噴出管７が配設されている。なお、この不活
性ガス噴出管７は操業時には埋設状態となるもので、前
記密閉式原料供給ホッパー１内の原料粉体層の下部に不
活性ガスを噴出させて、この原料粉体層を流動させる。
て図にしたがって説明する。図１は本発明の第１の実施
形態にかかる単筒方式の粉体処理用シャフト炉Ｔ1を示
し、この粉体処理用シャフト炉Ｔ1は、大略、密閉式原
料供給ホッパ１と装入室１０と炉本体１５と排出室２５
とからなる。前記密閉式原料供給ホッパ１は、図示しな
い真空ポンプに接続される排気管２を備えるとともに、
下端には原料供給バルブ（例：ロータリーバルブ）３を
備えた原料供給管４が連結される一方、上部には原料補
給バルブ（例：ボールバルブ）５を備えた原料補給管６
が連結され、かつ前記原料供給管４の下端を前記装入室
１０内に突出させている。また、前記密閉式原料供給ホ
ッパ１の下部には、下方に向けて不活性ガスを噴出する
不活性ガス噴出管７が配設されている。なお、この不活
性ガス噴出管７は操業時には埋設状態となるもので、前
記密閉式原料供給ホッパー１内の原料粉体層の下部に不
活性ガスを噴出させて、この原料粉体層を流動させる。
【０００７】前記装入室１０は、前記密閉式原料供給ホ
ッパ１の下部に連結され、処理時に発生する排ガスを排
気する排気管１１を備えている。前記炉本体１５は、前
記装入室１０の下部に連結され、二重ケーシングからな
る水冷ジャケット構造１６で、断熱材１７からなる加熱
部１８と水冷円筒部からなる冷却部１９とからなる。そ
して、この炉本体１５の中心部には、前記装入室１０内
で上端開口が前記原料供給管４の下端開口に対向すると
ともに、下端開口を前記排出室２５内に突出する円筒状
シャフト２０が配設されている。また、前記円筒状シャ
フト２０は、加熱部１８を形成する黒鉛製円筒状シャフ
ト２０ａと、冷却部１９を形成するステンレス等の耐熱
鋼製円筒状シャフト２０ｂとで構成され、前記円筒状シ
ャフト２０（耐熱鋼製円筒状シャフト２０ｂ）の下端は
下記するガイド板２７上の排出板２８の通過を許容する
距離だけ上方に位置している。なお、２１は電気抵抗加
熱ヒータである。
ッパ１の下部に連結され、処理時に発生する排ガスを排
気する排気管１１を備えている。前記炉本体１５は、前
記装入室１０の下部に連結され、二重ケーシングからな
る水冷ジャケット構造１６で、断熱材１７からなる加熱
部１８と水冷円筒部からなる冷却部１９とからなる。そ
して、この炉本体１５の中心部には、前記装入室１０内
で上端開口が前記原料供給管４の下端開口に対向すると
ともに、下端開口を前記排出室２５内に突出する円筒状
シャフト２０が配設されている。また、前記円筒状シャ
フト２０は、加熱部１８を形成する黒鉛製円筒状シャフ
ト２０ａと、冷却部１９を形成するステンレス等の耐熱
鋼製円筒状シャフト２０ｂとで構成され、前記円筒状シ
ャフト２０（耐熱鋼製円筒状シャフト２０ｂ）の下端は
下記するガイド板２７上の排出板２８の通過を許容する
距離だけ上方に位置している。なお、２１は電気抵抗加
熱ヒータである。
【０００８】前記排出室２５は、前記炉本体１５の下部
に連結され、間欠式排出装置２６を備えるとともに、こ
の排出室２５内には下部に排出バルブ（例：ボールバル
ブ）３１を備えた排出ホッパ３０の上部が開口してい
る。また、前記間欠式排出装置２６は、前記排出ホッパ
３０の上端部に並設したガイド板２７と、このガイド板
２７上で往復運動する排出板２８と、この排出板２８の
一端に連結したシリンダ２９とからなり、前記排出板２
８には前記円筒状シャフト２０の下端断面に対応した形
状の図示しない貫通口を有している。そして、前記排出
板２８が前記シリンダ２９の伸縮により往復運動するこ
とで、処理粉体Ｗ’を前記円筒状シャフト２０の下端か
ら間欠的に切り出して前記排出ホッパ３０内に送り込む
とともに、円筒状シャフト２０内の原料粉体Ｗを間欠的
に流下させる。
に連結され、間欠式排出装置２６を備えるとともに、こ
の排出室２５内には下部に排出バルブ（例：ボールバル
ブ）３１を備えた排出ホッパ３０の上部が開口してい
る。また、前記間欠式排出装置２６は、前記排出ホッパ
３０の上端部に並設したガイド板２７と、このガイド板
２７上で往復運動する排出板２８と、この排出板２８の
一端に連結したシリンダ２９とからなり、前記排出板２
８には前記円筒状シャフト２０の下端断面に対応した形
状の図示しない貫通口を有している。そして、前記排出
板２８が前記シリンダ２９の伸縮により往復運動するこ
とで、処理粉体Ｗ’を前記円筒状シャフト２０の下端か
ら間欠的に切り出して前記排出ホッパ３０内に送り込む
とともに、円筒状シャフト２０内の原料粉体Ｗを間欠的
に流下させる。
【０００９】つぎに、前記構成の粉体処理用シャフト炉
Ｔ1の操業について説明する。まず、前記原料供給バル
ブ３を閉、原料補給バルブ（ロータリーバルブ）５を運
転状態とし、原料粉体（例：炭素粉体）Ｗを原料供給ホ
ッパー１内に所定量供給する。なお、この状態で不活性
ガス噴出管７は原料粉体Ｗ内に埋設状態となっている。
ついで、原料補給バルブ５を停止（閉）とし、不活性ガ
ス噴出管７から不活性ガス、例えばＡｒガスあるいはＮ
2ガスを下方に向けて噴出するとともに、図示しない真
空ポンプを駆動させて原料供給ホッパー１内の空気およ
び粉体層内に残存する空気をパージする。なお、原料補
給バルブ５の運転と停止とは原料供給ホッパー１内に設
けた図示しないレベル計により原料供給ホッパー１内の
原料粉体Ｗが常に一定量以上となるよう制御される。
Ｔ1の操業について説明する。まず、前記原料供給バル
ブ３を閉、原料補給バルブ（ロータリーバルブ）５を運
転状態とし、原料粉体（例：炭素粉体）Ｗを原料供給ホ
ッパー１内に所定量供給する。なお、この状態で不活性
ガス噴出管７は原料粉体Ｗ内に埋設状態となっている。
ついで、原料補給バルブ５を停止（閉）とし、不活性ガ
ス噴出管７から不活性ガス、例えばＡｒガスあるいはＮ
2ガスを下方に向けて噴出するとともに、図示しない真
空ポンプを駆動させて原料供給ホッパー１内の空気およ
び粉体層内に残存する空気をパージする。なお、原料補
給バルブ５の運転と停止とは原料供給ホッパー１内に設
けた図示しないレベル計により原料供給ホッパー１内の
原料粉体Ｗが常に一定量以上となるよう制御される。
【００１０】前記のようにしてパージが完了すると、原
料供給バルブ３を開として原料粉体Ｗを円筒状シャフト
２０内に供給し、この操作を繰り返すことにより、円筒
状シャフト２０内に原料粉体Ｗが充填されるとともに円
筒状シャフト２０の上部まで満杯になる。この状態にお
いて、円筒状シャフト２０の上端と前記原料供給管４と
の連通部は原料粉体Ｗにより封止されるので、以後、原
料供給バルブ３は開として、原料供給ホッパー１内の原
料粉体量に基づき原料補給バルブ５が開閉することで、
前記原料供給ホッパー１内の原料粉体Ｗを常に一定量以
上に維持する。
料供給バルブ３を開として原料粉体Ｗを円筒状シャフト
２０内に供給し、この操作を繰り返すことにより、円筒
状シャフト２０内に原料粉体Ｗが充填されるとともに円
筒状シャフト２０の上部まで満杯になる。この状態にお
いて、円筒状シャフト２０の上端と前記原料供給管４と
の連通部は原料粉体Ｗにより封止されるので、以後、原
料供給バルブ３は開として、原料供給ホッパー１内の原
料粉体量に基づき原料補給バルブ５が開閉することで、
前記原料供給ホッパー１内の原料粉体Ｗを常に一定量以
上に維持する。
【００１１】前記円筒状シャフト２０内を流下しながら
加熱・冷却された処理粉体Ｗ’は、この円筒状シャフト
２０の下端に位置する排出板２８の貫通孔内に充填さ
れ、シリンダ２９による前記排出板２８の往復運動によ
り間欠的に切り出し、排出ホッパー３０に排出される。
排出ホッパー３０内の粉体は排出バルブ３１により炉外
に排出される。なお、排出バルブ３１の運転は排出ホッ
パー３０内の粉体面が一定となるように制御される。な
お、円筒状シャフト２０内の原料粉体Ｗは前述のよう
に、排出板２８の往復駆動により、順次、間欠的に円筒
状シャフト２０内を流下していき、その間に、加熱・冷
却される。この際、原料粉体Ｗは円筒状シャフト２０内
で原料粉体Ｗは間欠的に流下するため、円筒状シャフト
２０内ではほぼマス・フロー状態で流下し、原料粉体Ｗ
は、均一に加熱・冷却されることになる。また、原料粉
体Ｗの処理時間（加熱・冷却時間）は、前記排出板２８
の間欠運動の時間間隔を調整することにより行う。
加熱・冷却された処理粉体Ｗ’は、この円筒状シャフト
２０の下端に位置する排出板２８の貫通孔内に充填さ
れ、シリンダ２９による前記排出板２８の往復運動によ
り間欠的に切り出し、排出ホッパー３０に排出される。
排出ホッパー３０内の粉体は排出バルブ３１により炉外
に排出される。なお、排出バルブ３１の運転は排出ホッ
パー３０内の粉体面が一定となるように制御される。な
お、円筒状シャフト２０内の原料粉体Ｗは前述のよう
に、排出板２８の往復駆動により、順次、間欠的に円筒
状シャフト２０内を流下していき、その間に、加熱・冷
却される。この際、原料粉体Ｗは円筒状シャフト２０内
で原料粉体Ｗは間欠的に流下するため、円筒状シャフト
２０内ではほぼマス・フロー状態で流下し、原料粉体Ｗ
は、均一に加熱・冷却されることになる。また、原料粉
体Ｗの処理時間（加熱・冷却時間）は、前記排出板２８
の間欠運動の時間間隔を調整することにより行う。
【００１２】図２は本発明の第２の実施形態にかかる多
筒方式の粉体処理用シャフト炉Ｔ2を示したものであ
る。粉体処理用シャフト炉Ｔ2についての図１に示す装
置との差異は、原料供給ホッパー１の原料供給管４から
の原料粉体Ｗを図面上２本で表された複数の円筒状シャ
フト２０、２０にモータ３２により回転させられるサー
クル分配機３３を介して供給する点、および排出板１９
を、円筒状シャフト２０の断面に対応した大きさの貫通
孔を有する円板状排出板３４とし、これをモータ３５に
より回転させることにより、間欠的に処理粉体Ｗ’を切
り出して排出するようにした点である。その他、図１に
示す装置と実質的に同一部分には同一符号を付して説明
を省略する。
筒方式の粉体処理用シャフト炉Ｔ2を示したものであ
る。粉体処理用シャフト炉Ｔ2についての図１に示す装
置との差異は、原料供給ホッパー１の原料供給管４から
の原料粉体Ｗを図面上２本で表された複数の円筒状シャ
フト２０、２０にモータ３２により回転させられるサー
クル分配機３３を介して供給する点、および排出板１９
を、円筒状シャフト２０の断面に対応した大きさの貫通
孔を有する円板状排出板３４とし、これをモータ３５に
より回転させることにより、間欠的に処理粉体Ｗ’を切
り出して排出するようにした点である。その他、図１に
示す装置と実質的に同一部分には同一符号を付して説明
を省略する。
【００１３】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、円筒状シャフト内での原料粉体の流下は、間欠
的に行われるので、いわゆるマス・フローに近い状態と
なり、粉体を均一に加熱・冷却処理することができ、均
質な処理粉体とすることができる。
よれば、円筒状シャフト内での原料粉体の流下は、間欠
的に行われるので、いわゆるマス・フローに近い状態と
なり、粉体を均一に加熱・冷却処理することができ、均
質な処理粉体とすることができる。
【図１】 本発明の第１の実施形態にかかる粉体処理用
シャフト炉の断面図である。
シャフト炉の断面図である。
【図２】 本発明の第２の実施形態にかかる粉体処理用
シャフト炉の断面図である。
シャフト炉の断面図である。
【図３】 従来の粉体処理用シャフト炉の断面図であ
る。
る。
１ 密閉式原料供給ホッパ ４ 原料供給管 ６ 原料補給管 ７ 不活性ガス噴出管 １０ 装入室 １５ 炉本体 １８ 加熱部 １９ 冷却部 ２０ 円筒状シャフト ２５ 排出室 ２６ 間欠式排出装置 ２８ 排出板 ３３ サークル分配機 ３４ 円板状排出板 Ｔ1,Ｔ2 粉体処理用シャフト炉 Ｗ 原料粉体 Ｗ’ 処理粉体
フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G046 CB02 CC09 4G075 AA27 CA02 CA03 CA63 EA01 EA06 EB21 4K045 AA01 BA05 CA05 GB04 GC01 GD16 4K050 AA04 BA05 CA15 CD06 CF07 CF12 CG26 4K063 AA06 AA19 BA09 CA03 FA07
Claims (1)
- 【請求項１】 下端に原料供給管を有するとともに上部
に原料補給バルブを有し、かつ前記原料供給管に原料供
給バルブを備えた密閉式原料供給ホッパーと、装入室
と、加熱部および冷却部を備えた炉本体と、間欠式排出
装置を備えた排出室とを前記順序で連結し、前記原料供
給管を装入室内に位置させる一方、円筒状シャフトをそ
の上端が前記装入室内で前記原料供給管に対向し、下端
が前記排出室に位置するように前記炉本体を上下に貫通
配設し、前記原料供給ホッパー内の原料粉体を前記円筒
状シャフトの上端に供給し、この円筒状シャフト内にて
加熱・冷却された処理粉体を前記間欠式排出装置により
間欠的に切り出すようにしたことを特徴とする粉体処理
用シャフト炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11198834A JP2001026413A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | 粉体処理用シャフト炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11198834A JP2001026413A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | 粉体処理用シャフト炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001026413A true JP2001026413A (ja) | 2001-01-30 |
Family
ID=16397701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11198834A Pending JP2001026413A (ja) | 1999-07-13 | 1999-07-13 | 粉体処理用シャフト炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001026413A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006057975A (ja) * | 2004-08-24 | 2006-03-02 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 焼成炉 |
| JP4877862B1 (ja) * | 2010-10-29 | 2012-02-15 | 中外炉工業株式会社 | 粉体加熱処理装置 |
| JP2012228631A (ja) * | 2011-04-25 | 2012-11-22 | Chugai Ro Co Ltd | 落下式粉体処理装置 |
| CN102980393A (zh) * | 2012-12-05 | 2013-03-20 | 贵州铝城铝业原材料研究发展有限公司 | 一种新型碳素煅烧炉 |
| CN103127883A (zh) * | 2011-12-01 | 2013-06-05 | 中外炉工业株式会社 | 粉体热处理装置 |
| KR20210079759A (ko) * | 2019-12-20 | 2021-06-30 | 주식회사 포스코 | 흑연화 장치 |
| CN113275558A (zh) * | 2021-05-14 | 2021-08-20 | 扬州大学 | 一种用于粉末样品的快速加热和冷却的热处理装置 |
-
1999
- 1999-07-13 JP JP11198834A patent/JP2001026413A/ja active Pending
Cited By (11)
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