JP2001023795A - Ｘ線発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】飛散粒子の発生をほとんど無くし、高頻度で繰
り返してレーザープラズマ軟Ｘ線やＸ線レーザーを発生
させることができるようにする。 【解決手段】真空容器内に配置されたターゲットにエネ
ルギービームを照射するＸ線発生装置において、気体、
液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状態にあ
るターゲット材料４２がケース内に封入されてなる封入
ターゲット４０を用いた。このようなターゲット材料を
用いることにより、飛散粒子の発生がほとんど無い。そ
して封入ターゲットとすることでレーザー集光部への連
続的な供給が可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザープラズマ
軟Ｘ線、Ｘ線レーザーなどを発生させるＸ線発生装置に
関し、詳しくはエネルギービームがターゲットに照射さ
れる際の飛散粒子の発生をほとんど無くしたＸ線発生装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、真空容器内に配置された所定のタ
ーゲットにレーザービームを照射してＸ線を発生させる
Ｘ線発生装置が知られている。例えばターゲットとして
平板状あるいは円柱状の固体金属を用い、このターゲッ
トの表面にレーザービームを集光させることによって高
密度レーザープラズマを生成し、この自由膨張したプラ
ズマ中から発生するＸ線をＸ線光学系を介して外部へ導
く構造のものが知られている。

【０００３】また近年、１０〜１００ＭＷ／ｃｍ² 以上
の強度をもつ高エネルギーのレーザー光が開発され、こ
のレーザー光を励起用に用いてレーザープラズマ軟Ｘ線
を発生させる装置が提案され（特開平7-128500号公報な
ど）、Ｘ線リソグラフィやＸ線顕微鏡などへの応用が期
待されている。

【０００４】しかしこのようなＸ線発生装置では、過熱
による不具合を回避するために数１０分以上の間隔をあ
けて間欠的に励起用レーザー光の照射を行っているのが
現状である。これでは連続的に軟Ｘ線を取り出すことが
困難であるが、近年、特開平7-94296号公報に開示され
ているように、波形制御されたパルス列の固体レーザー
を用いることにより、１Ｈｚ又は１０Ｈｚの繰り返しで
レーザープラズマ軟Ｘ線を発生させることができるよう
になっている。

【０００５】そして米国特許4,700,371 号などには、波
形制御されたパルス列の固体レーザーとテープ形状のタ
ーゲットを用いることにより、真空容器を常圧に戻すこ
となく高頻度で繰り返してレーザープラズマ軟Ｘ線を発
生させることが提案されている。

【０００６】ところが励起用レーザー光を用いたＸ線発
生装置では、ターゲットから燃焼分解物や破砕物からな
る飛散粒子（以下、これをデブリという）がＸ線と同時
に放出され、広範囲の領域に飛散する。また１０ＭＷ／
ｃｍ² 以上の高エネルギーの励起用レーザー光の場合
は、デブリの速度が特に大きくなり、一層広範囲に飛散
する。そしてこのデブリがＸ線光学系に付着すると、装
置から取り出されるＸ線量が減少したり、Ｘ線光学系の
要素を劣化させる場合がある。またレーザー光学系にデ
ブリが付着すると、励起用レーザー光の利用効率が低減
する。さらにテープ形状のターゲットを用いるなどし
て、長時間繰り返してレーザープラズマ軟Ｘ線を発生さ
せる場合には、短時間の間に多量のデブリが爆発的に発
生してＸ線光学系やレーザー光学系に付着するという問
題がある。

【０００７】そのため従来のＸ線発生装置では、数十か
ら数千回の励起用レーザー照射毎に真空容易を常圧に戻
し、Ｘ線光学系やレーザー光学系に付着したデブリを除
去している。したがって長時間連続してＸ線を取り出す
ことが困難であり、作業性及び生産性が低いという問題
があった。

【０００８】そこで特開平4-112498号公報、特開平8-19
4100号公報には、ターゲットとＸ線光学系との間に高分
子フィルムを介在させ、高分子フィルムを通してＸ線を
Ｘ線光学系へ照射する構成の装置が開示されている。ま
た特開平10-26699号公報には、励起用レーザー入射窓へ
のデブリの付着を阻止するために高分子フィルムを用い
ることが提案されている。このようにすれば、デブリは
高分子フィルムに付着して捕捉されるので、デブリがＸ
線光学系やレーザー光学系に付着するのが防止されるた
め、上記不具合を解決することができる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
に高分子フィルムでデブリを遮蔽する方法では、飛散粒
子はある程度捕捉することはできるものの、真空容器内
を浮遊する浮遊粒子を完全に捕捉することは困難であっ
た。またＸ線リソグラフィ、Ｘ線光電子分光を行う際に
用いるＸ線光学素子、あるいはＸ線集光光学系などはタ
ーゲットに比較的近傍に配置されるため、高分子フィル
ムでデブリを遮蔽しても多くの浮遊粒子に曝される可能
性が高いために、デブリの付着を完全に防止することは
困難である。

【００１０】そこでデブリ自体の発生を抑制することが
研究され、特開平10-55899号公報には真空容器内に微粒
子状のターゲットを噴射し回収する装置を用いて連続的
に軟Ｘ線を発生させる装置が開示されている。また特開
平10−221499号公報には、ガスと微粒子の混合物からな
るターゲットを噴射し回収する装置を用いて軟Ｘ線を発
生させる装置が開示されている。

【００１１】しかしこれらのＸ線発生装置では、デブリ
の発生を抑制することはできるものの、高輝度軟Ｘ線を
発生させることができない。また、ターゲットの噴射と
パルス列の励起用レーザーの照射とを同期させることが
難しいという問題がある。

【００１２】本発明はこのような事情に鑑みてなされた
ものであり、デブリの発生をほとんど無くすとともに、
高頻度で繰り返してレーザープラズマ軟Ｘ線やＸ線レー
ザーを発生させることができるようにすることを目的と
する。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明のＸ線発生装置の特徴は、真空容器と、真空容器内に
配置されたターゲットと、ターゲットにエネルギービー
ムを照射するビーム照射手段と、よりなるＸ線発生装置
において、ターゲットは気体、液体及び微粒子から選ば
れる少なくとも一つの状態にあるターゲット材料がケー
ス内に封入されてなる封入ターゲットとして配置されて
いることにある。

【００１４】上記Ｘ線発生装置において、ターゲットは
封入ターゲットが複数個連結された形状に形成され、封
入ターゲットをエネルギービームの照射位置に少なくと
も１個ずつ順に供給するターゲット駆動装置をもつこと
が望ましい。

【００１５】また上記Ｘ線発生装置において、封入ター
ゲットに封入されたターゲット材料の内圧は０．１〜５
気圧であることが望ましく、体積は１０^-6〜１ｃｍ³ で
あることが望ましい。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明のＸ線発生装置では、ター
ゲットは気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも
一つの状態にあるターゲット材料がケース内に封入され
てなる封入ターゲットとして配置されている。したがっ
てエネルギービームが封入ターゲットに照射されると、
ケースが破壊されると同時にターゲット材料から高密度
プラズマが生成しＸ線が放射される。ターゲット材料は
気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一つの状
態にあるので、デブリはほとんど発生しない。そしてタ
ーゲット材料の量を１回のエネルギービームの照射で消
費されるに必要な最小量としておけば、デブリの発生を
一層抑制することが可能となる。

【００１７】封入ターゲットに封入されるターゲット材
料は、気体、液体及び微粒子から選ばれる少なくとも一
つの状態にある。気体としてはキセノン、酸素、アルゴ
ン、クリプトン、ネオンなどの気体の単体あるいはこれ
らから選ばれる複数種の混合物、あるいはこれらの元素
を含む合成ガスなどが例示される。また液体としては、
水、アルコール、各種有機溶剤などが例示され、これら
に可溶な種々の化合物が溶解した水溶液、アルコール溶
液などを用いることもできる。さらに微粒子としては、
各種金属粉、各種無機化合物粉などを用いることができ
る。気体、液体及び微粒子のうち一つの状態を用いても
よいし、気−液混合物、気−粉混合物、液−粉混合物あ
るいは気−液−粉混合物を用いることもできる。

【００１８】封入ターゲットにおいて、上記ターゲット
材料を封入するケースは、高分子フィルム、ガラスなど
を袋状、バルーン（風船）状もしくはターゲット材料を
サンドイッチしたスライド状などに形成することができ
る。なかでも、エネルギービームの照射によりガス化す
る高分子フィルムから形成することが望ましい。高分子
フィルムの種類としては、ターゲット材料を漏れなく封
入することができかつ入手しやすいものが望ましく、ポ
リエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）などが望ましい。その厚さは特に制限されない
が、入手が容易な５０〜１００μｍのものが好ましい。

【００１９】封入されたターゲット材料の内圧は、０．
１〜５気圧の範囲とすることが望ましい。内圧が０．１
気圧より低いとプラズマ密度が低くなり、発生するＸ線
強度が低くなる。また内圧が５気圧より高くなると高分
子フィルムで構成された袋状のターゲットが真空容器内
において破裂する可能性がある。特に望ましいのは１〜
３気圧である。

【００２０】封入ターゲットの大きさは、ターゲット材
料の量が１回のエネルギービームの照射で消費される必
要最小量となる大きさとすることが望ましい。例えばレ
ーザー光の集光サイズが５０〜１００μｍであるなら、
ターゲット材料の体積を１０ ^-6〜１ｃｍ³ の範囲とすれ
ば照射されたレーザー光のエネルギーを無駄なく利用す
ることができる。この場合、ターゲット材料の体積が１
０^-6ｃｍ³ より小さいと発生するＸ線量が少なく、１ｃ
ｍ³ より大きくなると過剰のターゲット材料が真空容器
内に飛散してデブリとなる場合があるため好ましくな
い。

【００２１】さらに、ターゲットを複数の封入ターゲッ
トが連結された形状とし、封入ターゲットをエネルギー
ビームの照射位置に１個ずつ順に供給するターゲット駆
動装置をもつことが望ましい。これにより真空容器の真
空を解除することなく新品のターゲットに交換できるの
で、繰り返しエネルギービームを照射することができ、
高頻度で繰り返してＸ線を発生させることが可能とな
る。

【００２２】このターゲット駆動装置としては、例えば
封入ターゲットが線状に連結されたテープ形状のターゲ
ットを一対のリールの一方に巻いておき、それを他方の
リールに巻き取ることで封入ターゲットをエネルギービ
ームの集光位置に少なくとも１個ずつ順に供給すること
ができる。この場合、リールに巻き取る方法以外に、テ
ープ形状のターゲットを折り畳んでおき、封入ターゲッ
トを集光位置に少なくとも１個ずつ順に供給するように
してもよい。また複数の封入ターゲットが格子状に配置
されたプレート形状のターゲットとし、それをＸ−Ｙ方
向に移動させることで封入ターゲットをエネルギービー
ムの照射位置に１個ずつ順に供給してもよい。あるいは
複数の封入ターゲットが円周方向に配置された円板状の
ターゲット又は複数の封入ターゲットが外周表面に配置
された円柱状のターゲットとし、それを回転させること
で封入ターゲットをエネルギービームの照射位置に１個
ずつ順に供給することもできる。

【００２３】ビーム照射手段としては、強度が１０ＭＷ
／ｃｍ² 以上のレーザー光を照射する装置を利用するこ
とができ、レーザー光の種類としては１００ＭＷ／ｃｍ
² 以上のものが特に好ましく、ＹＡＧレーザー、ガラス
レーザー、エキシマレーザー、ＣＯ₂ ガスレーザーなど
のレーザー光を利用できる。１００ＭＷ／ｃｍ² 以上の
強度のレーザー光を用いれば、２〜４０ｎｍの波長の軟
Ｘ線を効率よく発生させることができる。

【００２４】また真空容器の真空度は、１０^-10 〜１０
^-3Ｐａの範囲が一般的に用いられる。

【００２５】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００２６】（実施例１）図１に本実施例のＸ線発生装
置を模式的に示す。このＸ線発生装置は、一側壁にレー
ザー入射窓１０を備え、その側壁と９０度に交差する側
壁にＸ線取り出し口１１をもつ真空容器１と、真空容器
１外部に配置された集光レンズ２と、真空容器１内に配
置されたターゲット駆動装置３と、ターゲット駆動装置
３に保持されたテープ状のターゲット４とから構成され
ている。

【００２７】真空容器１には図示しない排気装置が接続
され、真空容器１内を１０^-4Ｐａまで減圧可能とされて
いる。またレーザー入射窓１０は石英ガラスから形成さ
れ、真空容器１の側壁に真円形状に形成されている。

【００２８】集光レンズ２は、真空容器１外部でレーザ
ー光入射窓１０と同軸的に配置されている。そしてター
ゲット４のターゲット法線と、レーザー入射窓１０の中
心及び集光レンズ２の中心が同一直線（レーザー光軸）
上に位置し、その延長線上に図示しないレーザー光源が
配置されている。このレーザー光源は、１０Ｈｚの繰り
返し周波数で数１００ＭＷ／ｃｍ² の高エネルギーの励
起用レーザー光を照射するものである。

【００２９】図２及び図３に本実施例に用いたターゲッ
ト４を示す。このターゲット４は厚さ５０μｍのポリエ
チレンフィルムが２枚重ねられてなる長尺テープ状をな
し、２枚のポリエチレンフィルム４１の間に酸素ガス４
２が封入されてなる封入ターゲット４０が互いに間隔を
隔てて長手方向に列設されている。封入ターゲット４０
の周囲は２枚のポリエチレンフィルム４１が積層されて
融着した融着部となっている。

【００３０】このターゲット４は、図４に示すターゲッ
ト駆動装置３に配置されている。このターゲット駆動装
置３は、一対のリール３０，３１と、リール３１を回転
駆動する図示しない駆動装置をもち、一方のリール３０
にターゲット４が巻き取られている。そして一方のリー
ル３０から他方のリール３１へターゲット４を水平方向
に連続的に巻き取ることにより、封入ターゲット４０が
順にレーザー光集光部３２に位置するように構成されて
いる。

【００３１】それぞれの封入ターゲット４０は、内容積
がそれぞれ２．５×１０^-5ｃｍ³ であり、酸素ガスの内
圧はそれぞれ３気圧とされている。この封入ターゲット
４０は、ポリエチレンフィルムを筒状に形成し、内部に
酸素ガスを充填した後、それぞれの内容積が２．５×１
０^-5ｃｍ³ となるように加熱圧着して分離することで製
造された。なお封入ターゲット４０の内容積を２．５×
１０^-5ｃｍ³ としたのは、以下の理由によるものであ
る。

【００３２】テープ状のターゲット４の代わりにテープ
状の金属板をターゲットとして真空容器１内に配置し、
５ｍｍ／秒の速度で移動させながら１０Ｈｚの繰り返し
周波数でレーザー光を照射したところ、金属板上には図
５に示すような照射痕が形成された。この照射痕を顕微
鏡にて観察したところ、１回の照射により平面視で直径
約４００〜５００μｍの部分が溶解され、深さ方向では
約１００μｍが溶解されていた。この結果より、レーザ
ー光集光部３２におけるレーザー光の集光サイズは５０
〜１００μｍであるから、封入ターゲット４０の内容積
を２．５×１０ ^-5ｃｍ³ とすればレーザー光のエネルギ
ーを無駄なく利用できることがわかる。

【００３３】またこの実験から、１回の照射によって最
大５００μｍ溶解されるわけであるから、１０Ｈｚの繰
り返し周波数でレーザー光を照射する場合には、ターゲ
ット４の送り速度は５ｍｍ／秒程度であれば十分である
こともわかる。

【００３４】上記のように構成された本実施例のＸ線発
生装置では、図示しない励起用レーザー光源からの励起
用レーザー光１００は、集光レンズ２で集光されてレー
ザー入射窓１０から真空容器１内に入射され、レーザー
光集光部３２に供給されている封入ターゲット４０に照
射される。

【００３５】レーザー光集光部３２に存在する封入ター
ゲット４０では、レーザー光によりポリエチレンフィル
ム４１がガス化され、内部の酸素ガス４２にレーザー光
が照射される。これにより図６に示すスペクトルをもつ
Ｘ線が発生し、Ｘ線取り出し口１１からＸ線光学系に取
り出される。このとき、封入ターゲット４０内の酸素ガ
ス４２は１回のレーザー光の照射によってＸ線を発生す
るに必要な最小量であり、かつポリエチレンフィルム４
１はほとんどがガス化するため、デブリの発生がほとん
ど無くデブリシールド対策を講じる必要がない。

【００３６】そしてターゲット駆動装置３が駆動するこ
とで、消費された封入ターゲット４０はリール３１に巻
き取られて回収され、次のレーザー光の照射時には新し
い封入ターゲット４０がレーザー光集光部に位置する。
したがって真空容器１の真空を解除することなくターゲ
ットの回収・交換が可能となっているので、繰り返して
レーザー光を照射することにより、高頻度で繰り返して
Ｘ線を発生させることができる。

【００３７】なお封入ターゲット４０内に封入される物
質を、酸素に代えてネオンガス、アルゴンガス及び水
（液体）とし、同様にして発生させたＸ線のスペクトル
を図７〜図９にそれぞれ示す。このようにそれぞれのタ
ーゲット材料からはそれぞれ異なるＸ線スペクトルが得
られる。したがって必要とするＸ線スペクトルが予め分
かっていれば、それに応じたターゲット材料を選択して
用いることができる。

【００３８】（実施例２）本実施例のＸ線発生装置は、
ターゲット駆動装置３の構成が異なること以外は実施例
１と同様である。実施例１ではターゲット４は水平方向
に移動するが、本実施例では、図１０に示すようにター
ゲット４は垂直方向に移動する。このようにしても実施
例１と同様の作用効果が奏される。

【００３９】（実施例３）上記実施例では、封入ターゲ
ット４０が直線上に列設されたテープ状のターゲット４
を用いたが、本実施例では図１１に示すようにプレート
状のターゲットを用い、ターゲット駆動装置の構成が異
なること以外は実施例１と同様の構成である。

【００４０】本実施例のＸ線発生装置におけるターゲッ
ト駆動装置５は、Ｘステージ５０とＹステージ５１とよ
りなるＸ−Ｙステージと、Ｘ−Ｙステージに保持された
プレート状のターゲット４とから構成されている。この
ターゲット４は実施例１と同様の材料から形成され、封
入ターゲット４０が升目状に縦１０個、横１２個、合計
１２０個並んで設けられている。そして封入ターゲット
４０が並んでいる平面がレーザー光１００の光軸に垂直
となるように配置されている。またＸステージ５０とＹ
ステージ５１はそれぞれＸ方向及びＹ方向に移動可能で
あり、それぞれＸ方向及びＹ方向に手動で駆動可能とな
っている。そしてターゲット４がＸ−Ｙステージの移動
とともに移動することで、いずれかの封入ターゲット４
０がレーザー光集光部３２に位置するように構成されて
いる。

【００４１】したがって本実施例のＸ線発生装置によれ
ば、レーザー光の照射毎にＸステージ５０とＹステージ
５１を駆動することで、新しい封入ターゲット４０をレ
ーザー光集光部３２に位置させることができる。したが
って真空容器１の真空を解除することなくターゲットの
交換が可能となっているので、繰り返してレーザー光を
照射することができ、高頻度で繰り返してＸ線を発生さ
せることができる。

【００４２】（実施例４）本実施例のＸ線発生装置も、
ターゲット及びターゲット駆動装置の構成が異なること
以外は実施例１と同様の構成である。

【００４３】すなわち図に示すように、ターゲット駆動
装置６は駆動装置６０と、駆動装置６０に固定された円
柱部材６１とからなる。駆動装置６０の駆動により、円
柱部材６１は中心軸を中心に回転するとともに中心軸方
向に進退可能に構成されている。

【００４４】そして円柱部材６１の外周表面には、実施
例１と同様の構成のターゲット４が螺旋状に巻回されて
いる。つまり円柱部材６１の表面には、複数の封入ター
ゲット４０が整列して存在している。

【００４５】このターゲット駆動装置６によれば、駆動
装置６０の駆動により任意の封入ターゲット４０をレー
ザー光集光部３２に位置させることができる。したがっ
て真空容器１の真空を解除することなくターゲットの交
換が可能となっているので、繰り返してレーザー光を照
射することができ、高頻度で繰り返してＸ線を発生させ
ることができる。

【００４６】

【発明の効果】すなわち本発明のＸ線発生装置によれ
ば、デブリの発生がほとんど無いので、デブリシールド
対策が不要となるとともに、Ｘ線光学系やレーザー光学
系へのデブリの付着が生じない。そして封入ターゲット
をエネルギービームの照射位置に１個ずつ順に供給する
ターゲット駆動装置をもつようにすれば、高頻度で繰り
返してレーザープラズマ軟Ｘ線やＸ線レーザーを発生さ
せることができ、長時間の連続運転が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例のＸ線発生装置の模式的断面
図である。

【図２】本発明の一実施例のＸ線発生装置に用いたター
ゲットの一部平面図である。

【図３】本発明の一実施例のＸ線発生装置に用いたター
ゲットの断面図である。

【図４】本発明の一実施例のＸ線発生装置に用いたター
ゲット駆動装置の斜視図である。

【図５】本発明の一実施例のＸ線発生装置においてター
ゲットに金属板を用いた場合のレーザー照射後のターゲ
ット表面を示す説明図である。

【図６】本発明の一実施例のＸ線発生装置で発生したＸ
線のスペクトル図である。

【図７】本発明の一実施例のＸ線発生装置において、タ
ーゲット材料としてネオンガスを用いた場合に発生した
Ｘ線のスペクトル図である。

【図８】本発明の一実施例のＸ線発生装置において、タ
ーゲット材料としてアルゴンガスを用いた場合に発生し
たＸ線のスペクトル図である。

【図９】本発明の一実施例のＸ線発生装置において、タ
ーゲット材料として水を用いた場合に発生したＸ線のス
ペクトル図である。

【図１０】本発明の第２の実施例のＸ線発生装置に用い
たターゲット駆動装置の斜視図である。

【図１１】本発明の第３の実施例のＸ線発生装置に用い
たターゲット駆動装置の斜視図である。

【図１２】本発明の第４の実施例のＸ線発生装置に用い
たターゲット駆動装置の斜視図である。

【符号の説明】

１：真空容器 ２：集光レンズ
３：ターゲット駆動装置 ４：ターゲット １０：レーザー入射窓 １
１：Ｘ線取り出し口 ４０：封入ターゲット ４１：ポリエチレンフィルム
４２：酸素ガス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西村 靖彦 愛知県豊田市トヨタ町２番地 株式会社ト ヨタマックス内 (72)発明者 間瀬 晃 愛知県豊田市トヨタ町１番地 トヨタ自動 車株式会社内 (72)発明者 松原 享治 愛知県豊田市トヨタ町１番地 トヨタ自動 車株式会社内 (72)発明者 東 博純 愛知県愛知郡長久手町大字長湫字横道41番 地の１ 株式会社豊田中央研究所内 Ｆターム(参考） 4C092 AA06 AB11 AB19 BD01

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空容器と、該真空容器内に配置された
   ターゲットと、該ターゲットにエネルギービームを照射
   するビーム照射手段と、よりなるＸ線発生装置におい
   て、 該ターゲットは気体、液体及び微粒子から選ばれる少な
   くとも一つの状態にあるターゲット材料がケース内に封
   入されてなる封入ターゲットとして配置されていること
   を特徴とするＸ線発生装置。
2. 【請求項２】 前記封入ターゲットに封入された前記タ
   ーゲット材料の内圧は０．１〜５気圧であることを特徴
   とする請求項１に記載のＸ線発生装置。
3. 【請求項３】 前記封入ターゲット内の前記ターゲット
   材料の体積は１０^-6〜１ｃｍ³ であることを特徴とする
   請求項１又は請求項２に記載のＸ線発生装置。
4. 【請求項４】 前記ターゲットは前記封入ターゲットが
   複数個連結された形状に形成され、該封入ターゲットを
   エネルギービームの照射位置に少なくとも１個ずつ順に
   供給するターゲット駆動装置をもつことを特徴とする請
   求項１に記載のＸ線発生装置。