JP2001019761A - ポリマー及びポリマーの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱に安定で、電気絶縁性で、機械的強度が大
きく、インキジェットプリントヘッドに適し、光パター
ン形成が可能である、架橋可能又は鎖延長可能なポリマ
ーを提供する。 【解決手段】 次の構造式で示されるポリマーを提供す
る。 【化１】 式中、Ａは、次の構造式で示される基、 【化２】 又は、次の構造式で示される基の混合物であり、 【化３】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
それらの混合物であり、Ｂは、次の構造式で示される特
定の基のいずれか、又はそれらの混合物であり、 【化４】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高性能ポリマーと
その製造法に関するものである。更に詳細に述べるなら
ば、本発明は、フォトレジスト、超小型電子装置、イン
キジェットプリントヘッド、電子写真用画像形成部材等
の用途に適する高性能ポリマーに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】超小型電子技術的用途において、層間誘
電層や、超小型回路を保護する不動態層として用いるた
めの、比誘電率が低く、ガラス転移温度が高く、熱的に
安定で、光パターン形成が可能なポリマーが強く求めら
れている。この要求を満たすため、ポリイミド類が広く
用いられているが、この素材には、水の収着が比較的大
きく、加水分解し易いといった欠点がある。このため、
効率の良い光パターン形成と高解像度の現像を可能とす
る高性能ポリマーが求められている。

【０００３】このような材料は、インキジェットプリン
トヘッドの製造には特に必要とされる。

【０００４】本発明の光パターン形成ポリマーは、他の
フォトレジストの用途、例えば、他の超小型電子技術的
用途、プリント回路板、リソグラフィ印刷法、層間誘電
体等にも適している。

【０００５】米国特許第５，９９４，４２５号では、モ
ノマー繰り返し単位の少なくとも一部に感光性付与置換
基を含む、光パターン形成可能なポリマーを含んだ、改
良された組成物を開示している。この光パターン形成ポ
リマーは次の一般式で示される。

【０００６】

【化６９】 又は、

【化７０】 式中、ｘは０又は１の整数であり、Ａは例えば次の式で
示される基であり、

【化７１】 Ｂは次の式で示される基のいずれか、又はそれらの混合
物である。

【０００７】

【化７２】 ｎは、繰り返しモノマー単位の数を示す整数である。ま
た本願には、前述のポリマーを用いたサーマルインキジ
ェットプリントヘッドの製造法と、上述の構造式の架橋
又は鎖延長ポリマーの層を含むサーマルインキジェット
プリントヘッドも開示されている。

【０００８】米国特許第５，８１４，４２６号では、伝
導性基材と、光発生材料と、次の構造式Ｉ、II、III 、
IV、Ｖ、VI、VII 、VIII、IX、又はＸのポリマーを含ん
だバインダとを含む、画像形成部材を開示している。

【０００９】

【化７３】

【化７４】

【化７５】

【化７６】

【化７７】

【化７８】 式中、ｘは０又は１の整数であり、Ａは、次の式で示さ
れる基又はそれらの混合物であり、

【化７９】

【化８０】 Ｂは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化８１】

【化８２】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化８３】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化８４】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化８５】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化８６】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化８７】

【化８８】 Ｃは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化８９】 式中、Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキ
ル基、又はそれらの混合物であり、ｍ及びｎは、繰り返
し単位の数を示す整数である。

【００１０】米国特許第５，８８２，８１４号では、伝
導性基材と、光発生層と、次の構造式Ｉ、II、III 、I
V、Ｖ、VI、VII 、VIII、IX、又はＸのポリマーを含ん
だ電荷輸送層とを含む、画像形成部材を開示している。

【００１１】

【化９０】

【化９１】

【化９２】

【化９３】

【化９４】 式中、ｘは０又は１の整数であり、Ａは、次の式で示さ
れる基又はそれらの混合物であり、

【化９５】

【化９６】 Ｂは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化９７】

【化９８】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化９９】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化１００】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化１０１】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化１０２】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化１０３】

【化１０４】 又は、

【化１０５】 であり、式中、（１）Ｚは、

【化１０６】 又は、

【化１０７】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化１０８】 又は、

【化１０９】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化１１０】 又は、

【化１１１】 であり、（５）Ｘは、

【化１１２】

【化１１３】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化１１４】 又は、

【化１１５】 であり、（６）ｑは０又は１であり、Ｂ基の少なくとも
一部は、次の構造式で示されるものであり、

【化１１６】 Ｃは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化１１７】 式中、Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキ
ル基、又はそれらの混合物であり、ｍ及びｎは、繰り返
し単位の数を示す整数である。

【００１２】米国特許第５，８７４，１９２号では、伝
導性基材と、光発生材料と、電荷輸送材料と、ポリマー
バインダとを含む画像形成部材を開示している。このポ
リマーバインダは、（ａ）ポリカーボネートを含む第１
ポリマーと、（ｂ）次の構造式Ｉ、II、III 、IV、Ｖ、
VI、VII 、VIII、IX、又はＸの第２ポリマーとを含むも
のである。

【００１３】

【化１１８】

【化１１９】

【化１２０】

【化１２１】

【化１２２】 式中、ｘは０又は１の整数であり、Ａは、次の式で示さ
れる基又はそれらの混合物であり、

【化１２３】

【化１２４】 Ｂは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化１２５】

【化１２６】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化１２７】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化１２８】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化１２９】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化１３０】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化１３１】

【化１３２】 Ｃは、次の式で示される基又はそれらの混合物であり、

【化１３３】 式中、Ｒは、アルキル基、アリール基、アリールアルキ
ル基、又はそれらの混合物であり、ｍ及びｎは、繰り返
し単位の数を示す整数である。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】既知の組成物及び製造
法はその意図する目的には適しているが、超小型電子技
術的用途に適した、改良された素材が求められている。
またより優れたインキジェットプリントヘッドも求めら
れている。更に、熱に安定で、電気絶縁性、また機械的
強度が大きく、インキジェットインキ組成物に用いる材
料に対して化学的に不活性で、超小型電子装置の製造に
おける後硬化工程での収縮が小さく、また貯蔵寿命が比
較的長いなどの特長を持つ、架橋可能又は鎖延長可能な
ポリマー材料が求められている。また、比較的低い露光
エネルギーでパターン形成が可能な、光パターン形成ポ
リマー材料が求められている。更に、硬化後の形態での
耐溶剤性が良好で、スピンキャスティング法で超小型電
子装置に塗布及び硬化した場合に、稜線のビードが少な
く、また膨らみや窪みがなく、比誘電率が比較的低く、
水の収着が少なく、特にアルカリ性溶液に暴露した場合
に加水分解しにくいなどの特長を持つ、架橋可能又は鎖
延長可能なポリマー材料が求められている。また、高
温、典型的には約１５０℃以上でも安定で、ガラス転移
温度が高く、又は十分に架橋しているため露光後の低温
相転移が無く、熱膨張率が小さいなどの特長を持つ、光
パターン形成可能なポリマー材料も求められている。更
に、熱的に安定で、約３０μｍ又はそれ以上の厚いフィ
ルムに成型でき、露光前のＴｇが低く、比誘電率が低
く、水の収着が少なく、膨張率が小さく、所望の機械的
特性及び接着性を持ち、層間誘電体、例えば高温で使用
される層間誘電体として一般に望ましく、また光パター
ン形成が可能であるポリマーが求められている。また加
工性に優れたフォトレジスト組成物も求められている。
更にまた、改良された感光性画像形成部材も求められて
いる。また、感光性画像形成部材に用いられる改良され
たバインダも求められている。更に、画像形成部材の光
発生層や電荷輸送層での使用に適し、ガラス転移温度が
高く、電荷輸送材料や可塑剤を大量に混ぜることがで
き、フィルム特性が良好で、画像形成部材の基材への接
着性が良いなどの特長を持つポリマーバインダが求めら
れている。また、様々な溶媒に対して強い耐性を持つ画
像形成部材用ポリマーバインダが求められている。更
に、あまり可塑化を起こさずに、Ｎ，Ｎ´−ジフェニル
−Ｎ，Ｎ´−ビス（３´´−メチルフェニル）−（１，
１´−ビフェニル）−４，４´−ジアミン［別名：Ｎ，
Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３−メチルフェニ
ル）ベンジジン］などの電荷輸送材料を５０重量％以上
混合できる、画像形成部材の電荷輸送層に適したポリマ
ーバインダが求められている。感光性画像形成部材上
に、様々な溶媒からの塗布が可能で、電荷輸送分子の結
晶化が少なく、又は無く、広く使用されている感光体バ
インダポリマーに比べて結晶化しにくい、などの特長を
持つポリマーバインダも求められている。また、耐摩耗
性で、オーブン乾燥後も平らである光導電性画像形成部
材も求められている。光導電性画像形成部材に一般に使
用されている既知のポリマーに比べて耐摩耗性に優れた
ポリマーバインダ及び（電荷）輸送ポリマーも求められ
ている。また、塗布用溶媒の除去後も反りが無く、応力
がかからない光導電性画像形成部材も求められている。
更に、光導電性画像形成部材の接着層材料や、保護用上
塗り層材料としての使用に適し、また、溶媒と混合して
画像形成部材上に塗布する場合、特に、本発明のポリマ
ーを含む層の上に、その層が乾燥する前に上塗りを行う
単回乾燥法において、光導電性画像形成部材の上塗りと
して通常使用される材料（ラックアミド（ＬＵＣＫＡＭ
ＩＤＥ）など）との接着性が良いポリマーが求められて
いる。光導電性画像形成部材に混合した場合、バイアス
荷電ロールに対しての耐摩耗性に優れ、一般的に用いら
れる、１，１−シクロヘキシル−４，４´−ビスフェノ
ールを基にしたポリカーボネートなどの、２倍近い耐摩
耗性を示すポリマーが求められている。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明は次の構造式で示
されるポリマーに関するものである。

【００１６】

【化１３４】 式中、Ａは、次の式で示される基、

【化１３５】 又は次の式で示される基の混合物であり、

【化１３６】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
それらの混合物であり、Ｂは、次の式で示される基、

【化１３７】

【化１３８】

【化１３９】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化１４０】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化１４１】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化１４２】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化１４３】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
であり、

【化１４４】 式中、ｐは０又は１の整数であり、

【化１４５】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化１４６】 式中、（１）Ｚは、

【化１４７】 又は、

【化１４８】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化１４９】 又は、

【化１５０】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化１５１】 又は、

【化１５２】 であり、（５）Ｘは、

【化１５３】

【化１５４】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化１５５】 又は、

【化１５６】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
れらの混合物であり、ｎは繰り返しモノマー単位の数を
示す整数である。本発明の他の態様は、次の構造式で示
されるポリマーに関するものである。

【００１７】

【化１５７】 式中、Ｐは、ポリマーの架橋を可能とする置換基であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄは各々、０、１、２、３、又は４の
整数で、ポリマーのモノマー繰り返し単位の少なくとも
一部では、ａ、ｂ、ｃ、ｄの一つ以上は１以上であり、
Ａ及びＢは先に定義したとおりであり、ｎは繰り返しモ
ノマー単位の数を示す整数である。更に、本発明の他の
態様は、末端基とモノマー繰り返し単位を持つ前駆体ポ
リマーを架橋又は鎖延長させることにより生成した、架
橋又は鎖延長ポリマーに関するものである。前記前駆体
ポリマーは次の構造式で示される。

【００１８】

【化１５８】 式中、Ｐは、ポリマーの架橋を可能とする置換基であ
り、ａ、ｂ、ｃ、ｄは各々、０、１、２、３、又は４の
整数で、ポリマーのモノマー繰り返し単位の少なくとも
一部では、ａ、ｂ、ｃ、ｄの一つ以上は１以上であり、
Ａ及びＢは先に定義したとおりであり、ｎは繰り返しモ
ノマー単位の数を示す整数である。架橋又は鎖延長は、
前駆体ポリマーのモノマー繰り返し単位の少なくとも一
部に含まれる架橋置換基によって行われる。また、本発
明の更に他の態様は、（ｉ）前駆体ポリマーを製造する
工程と、（ii）前駆体ポリマーをボランと反応させ、ポ
リマーを生成する工程とを含む、ポリマーの製造方法に
関するものである。前駆体ポリマーは次の構造式で示さ
れる。

【００１９】

【化１５９】 式中、Ａは、次の式で示される基であり、

【化１６０】 Ｂは、次の式で示される基、

【化１６１】

【化１６２】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化１６３】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化１６４】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化１６５】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化１６６】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
であり、

【化１６７】 式中、ｐは０又は１の整数であり、

【化１６８】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化１６９】 式中、（１）Ｚは、

【化１７０】 又は、

【化１７１】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化１７２】 又は、

【化１７３】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化１７４】 又は、

【化１７５】 であり、（５）Ｘは、

【化１７６】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化１７７】 又は、

【化１７８】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
れらの混合物であり、ｎは繰り返しモノマー単位の数を
示す整数である。生成するポリマーは次の構造式で示さ
れる。

【００２０】

【化１７９】 式中、Ａは、次の式で示される基、

【化１８０】 又は次の式で示される基の混合物であり、

【化１８１】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
それらの混合物である。本発明のまた更に他の態様は、
（ｉ）前駆体ポリマーを製造する工程と、（ii）前駆体
ポリマーを、構造式がＲＭｇＸである試薬と反応させる
工程と、（iii）次に、このポリマーに水又は酸を加え
て、ポリマーを生成する工程とを含む、ポリマーの製造
方法に関するものである。ＲＭｇＸのＲは、水素原子、
アルキル基、アリール基、又はそれらの混合物であり、
Ｘはハロゲン原子である。前駆体ポリマーは次の構造式
で示される。

【００２１】

【化１８２】 式中、Ａは、次の式で示される基であり、

【化１８３】 Ｂは、次の式で示される基、

【化１８４】

【化１８５】

【化１８６】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、

【化１８７】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、

【化１８８】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、

【化１８９】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、

【化１９０】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
であり、

【化１９１】 式中、ｐは０又は１の整数であり、

【化１９２】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、

【化１９３】 式中、（１）Ｚは、

【化１９４】 又は、

【化１９５】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化１９６】 又は、

【化１９７】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化１９８】 又は、

【化１９９】 であり、（５）Ｘは、

【化２００】

【化２０１】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化２０２】 又は、

【化２０３】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
れらの混合物であり、ｎは繰り返しモノマー単位の数を
示す整数である。生成するポリマーは次の構造式で示さ
れる。

【００２２】

【化２０４】 式中、Ａは、次の式で示される基、

【化２０５】 又は次の式で示される基の混合物である。

【００２３】

【化２０６】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
それらの混合物である。

【００２４】

【発明の実施の形態】本発明は、次の一般式で示される
ポリマー類に関するものである。

【００２５】

【化２０７】 式中、Ａは、次の式で示される基、

【化２０８】 又は次の式で示される基の混合物である。

【００２６】

【化２０９】 式中、Ｒは、（ａ）水素原子、（ｂ）非置換アルキル基
と、ヒドロキシアルキル基などの置換アルキル基とを含
むアルキル基（炭素数は、望ましくは１〜約２０、より
望ましくは１〜約１０、更に望ましくは１〜約５である
が、この範囲を越えても良い）、（ｃ）非置換アリール
基と、ヒドロキシアリール基などの置換アリール基とを
含むアリール基（炭素数は、望ましくは６〜約１８、よ
り望ましくは６〜約１２、更に望ましくは６であるが、
この範囲を越えても良い）、又は（ｄ）それらの混合物
である。Ｂは、次の式で示される基、

【化２１０】

【化２１１】

【化２１２】 式中、ｖは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２１３】 式中、ｚは、望ましくは２〜約２０、より望ましくは２
〜約１０の整数であり、

【化２１４】 式中、ｕは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２１５】

【化２１６】 式中、ｗは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２１７】

【化２１８】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、（ａ）水素原
子、（ｂ）非置換アルキル基と、ヒドロキシアルキル基
などの置換アルキル基とを含むアルキル基（炭素数は、
望ましくは１〜約２０、より望ましくは１〜約１０、更
に望ましくは１〜約５であるが、この範囲を越えても良
い）、（ｃ）非置換アリール基と、ヒドロキシアリール
基などの置換アリール基とを含むアリール基（炭素数
は、望ましくは６〜約１８、より望ましくは６〜約１
２、更に望ましくは６であるが、この範囲を越えても良
い）、又は（ｄ）それらの混合物であり、ｐは、０又は
１の整数であり、

【化２１９】 式中、ｐは、０又は１の整数であり、

【化２２０】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは、１〜約２０の整数であり、

【化２２１】 式中、（１）Ｚは、

【化２２２】 又は、

【化２２３】−Ａｒ−（Ｘ）_p −Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化２２４】 又は、

【化２２５】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化２２６】 又は、

【化２２７】 であり、（５）Ｘは、

【化２２８】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化２２９】 又は、

【化２３０】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
物、あるいはそれらのヒドロキシ置換誘導体、それらの
ヒドロキシアルキル置換誘導体、それらのヒドロキシア
リール置換誘導体、若しくはそれらの混合物である。ヒ
ドロキシアルキル置換基の炭素数は、望ましくは１〜約
２０、より望ましくは１〜約１０、更に望ましくは１〜
約５であるが、この範囲を越えても良い。ヒドロキシア
リール置換基の炭素数は、望ましくは６〜約１８、より
望ましくは６〜約１２、更に望ましくは約６であるが、
この範囲を越えても良い。ｎは繰り返しモノマー単位の
数を示す整数である。望ましい置換誘導体の特定例を次
に幾つか挙げるが、これらに限るものではない。

【００２７】

【化２３１】 式中、ｍ及びｎは各々、０、１、又は２の整数である。

【００２８】

【化２３２】 式中、ｍ及びｎは各々、０、１、又は２の整数である。

【００２９】

【化２３３】 式中、ｍ、ｎ、ｐ、ｑは各々、０、１、又は２の整数で
ある。

【００３０】

【化２３４】 式中、ｍ及びｎは各々、０、１、又は２の整数である。

【００３１】望ましいｎの値と、それに対応する重量平
均分子量及び数平均分子量は、そのポリマーを希望する
用途によって変わる。例えば、感光性付与基などの架橋
基を備え、フォトレジストやインキジェットプリントヘ
ッドなどに用いられるポリマーでは、ｎは、この素材の
重量平均分子量が約１，０００〜約１０万、望ましくは
約１，０００〜約６５，０００、より望ましくは約１，
０００〜約４万、更に望ましくは約３，０００〜約２
５，０００となるような値が望ましいが、重量平均分子
量はこの範囲を越えるものでも良い。望ましくは、ｎは
約２〜約７０、より望ましくは約５〜約７０、更に望ま
しくは約８〜約５０の整数であるが、この範囲を越えて
も良い。例えば、このポリマーを画像形成部材のバイン
ダポリマーとして用いる場合（架橋基で置換、非置換の
いずれの場合も）、ｎは、望ましくはこの素材の数平均
分子量（Ｍ_n）が、約１万〜約１０万、より望ましくは
約３万〜約１０万、更に望ましくは約３万〜約６万であ
り、重量平均分子量（Ｍ_w）が、望ましくは約２万〜約
３５万、より望ましくは約１０万〜約２５万であり、多
分散性（Ｍ_w／Ｍ_n）が通常、約２〜約９、望ましくは約
３となるような値であるが、Ｍ_n及びＭ_wはこの範囲を越
えても良く、また多分散値がこれより大きい又は小さい
ものも使用できる。フェニル基とＡ及び／又はＢ基も置
換され得るが、ポリマー上に架橋官能基を導入する場
合、Ｂ基上に酸素基に対しｏ−位（オルト位）に２個以
上の置換基があると、置換は困難となる。置換基は、架
橋官能基をポリマーへ導入する前でも後でも導入可能で
あり、また架橋官能基をポリマーへ導入する際に導入す
ることもできる。置換基及び／又は架橋基は、次の基本
構造式で示されるポリマーの調製前、調製中、あるいは
調製後に導入することができる。

【００３２】

【化２３５】 適当な置換基の例としては、望ましくは炭素数１〜約６
の、飽和、不飽和、環状アルキル基などのアルキル基、
望ましくは炭素数１〜約６の、飽和、不飽和、環状置換
アルキル基などの置換アルキル基、望ましくは炭素数６
〜約２４のアリール基、望ましくは炭素数６〜約２４の
置換アリール基、望ましくは炭素数７〜約３０のアリー
ルアルキル基、望ましくは炭素数７〜約３０の置換アリ
ールアルキル基、望ましくは炭素数１〜約６のアルコキ
シ基、望ましくは炭素数１〜約６の置換アルコキシ基、
望ましくは炭素数６〜約２４のアリールオキシ基、望ま
しくは炭素数６〜約２４の置換アリールオキシ基、望ま
しくは炭素数７〜約３０のアリールアルキルオキシ基、
望ましくは炭素数７〜約３０の置換アリールアルキルオ
キシ基、ヒドロキシ基、等が挙げられるが、これらに限
定するものではない。

【００３３】本発明の望ましい実施の形態の一つは、次
の構造式で示されるポリマーに関するものである。

【００３４】

【化２３６】 式中、ｎは、繰り返しモノマー単位の数を示す整数であ
る。本発明の他の望ましい実施の形態は、次の構造式で
示されるポリマーに関するものである。

【００３５】

【化２３７】 式中、ｎは、繰り返しモノマー単位の数を示す整数であ
る。

【００３６】本発明のポリマーは、所望の又は適当な方
法により調製可能である。例えば次に示すように、対応
するポリ（アリーレンエーテルケトン）を製造し、次に
このポリ（アリーレンエーテルケトン）をボランで還元
してポリ（アリーレンエーテルアルコール）を生成する
ことにより、本ポリマーを調製できる。

【００３７】

【化２３８】 典型的には、対応するポリ（アリーレンエーテルケト
ン）約１０重量部を、テトラヒドロフランなどの適当な
溶媒約１００重量部に溶解し、アルゴンなどの不活性雰
囲気中で機械撹拌しながら、これに１モル濃度のボラン
−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液
（例えば、ウィスコンシン州ミルウォーキー、アルドリ
ッチ ケミカル社（Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ
Ｃｏ．）より入手可）を加える。通常、カルボニル基
を完全に還元するには、ポリマーの各カルボニル基に対
し、１モルのボラン−テトラヒドロフラン錯体を加え
る。ボラン−テトラヒドロフラン錯体の添加量によっ
て、ケト基の一部又は全てを還元することができる。全
てのカルボニル基をアルコール基に還元しない場合に
は、カルボニル基の望ましくは約０．１％以上、より望
ましくは約１０％以上、更に望ましくは約２５％以上を
還元する。最も望ましくは、カルボニル基のほぼ１００
％を還元する。

【００３８】始発物質として、次に示すような、例えば
アセチル基で置換した対応するポリ（アリーレンエーテ
ルケトン）を用いることにより、ポリマー上にヒドロキ
シメチル基を導入することも可能である。

【００３９】

【化２３９】 ポリマー骨格のカルボニル基は、２５℃でボラン−テト
ラヒドロフラン錯体で還元されるが、側鎖のアセチル基
は通常、高めた温度（例えば、テトラヒドロフランの沸
点で約２時間還流）で還元される。１モルのボラン−テ
トラヒドロフラン錯体を加えて、１モルのアセチル基を
対応するヒドロキシメチル基に還元する。

【００４０】本発明のポリマーはまた、グリニャール法
でも調製可能である。詳細に述べるならば、外界温度
（約２５℃）、アルゴンなどの不活性雰囲気中で機械撹
拌しながら、約１００重量部の乾燥テトラヒドロフラン
に溶解した、約１０重量部のポリマーを、１モル当量の
グリニャール試薬（ＲＭｇＸ、Ｒは最終的にポリマーの
カルボニル結合に付加する基であり、Ｘは、塩素、臭
素、ヨウ素などのハロゲンである）と反応させ、次に水
又は酸を加えて生成物とする。この反応は次のとおりで
ある。

【００４１】

【化２４０】 対応するポリ（アリーレンエーテルケトン）は、所望の
又は適当な方法で調製できる。この物質の製造方法は公
知であり、例えば、米国特許第５，８４９，８０９号、
米国特許第５，７３９，２５４号、米国特許第５，７５
３，７８３号、米国特許第５，７６１，８０９号、米国
特許第５，８６３，９６３号、米国特許第５，８１４，
４２６号、米国特許第５，８７４，１９２号などに開示
されている。

【００４２】置換ポリ（アリーレンエーテルアルコー
ル）もまた、この方法で調製可能である。例えば次のよ
うに、ハロアルキル化ポリ（アリーレンエーテルケト
ン）又はアクリロイル化ポリ（アリーレンエーテルケト
ン）をボランと反応させ、対応するポリ（アリーレンエ
ーテルアルコール）を生成することができる。

【００４３】

【化２４１】 アセチル基又はアセトキシ基は、約７０〜約８０℃でボ
ランとの反応を続けることにより、次のようにヒドロキ
シル基に転化できる。

【００４４】

【化２４２】 幾つかの例において、最終的なポリマー上に必要とされ
る置換基は、還元前のケトン型前駆体ポリマー上に存在
することができる。例えば、ハロアルキル基又はシアノ
基は、還元処理の間も変化せずポリマー上に存在可能で
ある。これ以外の基はボラン還元剤と反応してしまい、
例えば、アミド基は還元されてアミン基となり、ヒドロ
キシル基はホウ酸エステルに転化し、酸基とエステル基
はアルコールに還元される。

【００４５】ポリ（アリーレンエーテルアルコール）は
更に、ジイソシアナート、アクリロイル＝クロリドなど
のアクリロイル＝ハライド、メタクリロイル＝クロリド
などのメタクリロイル＝ハライド、アクリル酸イソシア
ナトエチル部分、メタクリル酸イソシアナトエチル部分
などと反応し、変性樹脂の熱及び／又は光化学的架橋を
生じることができる。通常、１モル当量のヒドロキシ置
換ポリマーは、１モル当量のイソシアナートなどの反応
試剤と化合し、また反応は、テトラヒドロフランや他の
極性非プロトン性溶媒等の溶媒中、外界温度（約２５
℃）で約１６時間行う。例えば、ポリ（アリーレンエー
テルアルコール）とメタクリル酸イソシアナトエチルと
の反応は、次のとおりである。

【００４６】

【化２４３】 ヒドロキシメチル置換ポリ（アリーレンエーテルアルコ
ール）は次の構造式で示される。

【００４７】

【化２４４】 また、次の構造式である特定例は、フェノール樹脂に似
ており、更に修飾、特に酸性触媒を用いた修飾を行わな
くても熱硬化できる。特にこの場合には、光活性化され
たカチオン開始剤が使用可能である。

【００４８】

【化２４５】 本発明のポリマーは、フォトレジストとしての使用や、
化学線照射、加熱、架橋剤、又はそれらを組み合わせた
ものでポリマーの架橋又は鎖延長を起こす他の応用法に
適しており、このポリマーは、モノマー繰り返し単位の
少なくとも一部に、化学線が照射されるとポリマーの架
橋又は鎖延長を可能とする架橋置換基を含んでいる。架
橋置換基としては、化学線を照射するとポリマーの架橋
又は鎖延長を生じる感光性付与置換基や、熱にさらされ
るとポリマーの架橋又は鎖延長を生じる感熱性付与置換
基や、架橋剤と反応させるとポリマーの架橋又は鎖延長
を生じる化学架橋置換基や、ポリマーの架橋又は鎖延長
を起こすために、化学線照射、加熱、及び／又は架橋剤
との接触の２つ以上を必要とする置換基などが挙げられ
る。このポリマーは、より一般的には次の構造式で示さ
れるが、

【化２４６】 より詳しくは、次の構造式で示される。

【００４９】

【化２４７】 式中、Ｐはポリマーの架橋を可能とする置換基であり、
ａ、ｂ、ｃ、ｄは各々、０、１、２、３、又は４の整数
である。ポリマーのモノマー繰り返し単位の少なくとも
一部において、ａ、ｂ、ｃ、ｄの一つ以上は１以上であ
る。Ａは、次の式で示される基、

【化２４８】 又は次の式で示される基の混合物である。

【００５０】

【化２４９】 式中、Ｒは、（ａ）水素原子、（ｂ）非置換アルキル基
と、ヒドロキシアルキル基などの置換アルキル基と、を
含むアルキル基（炭素数は、望ましくは１〜約２０、よ
り望ましくは１〜約１０、更に望ましくは１〜約５）、
（ｃ）非置換アリール基と、ヒドロキシアリール基など
の置換アリール基と、を含むアリール基（炭素数は、望
ましくは６〜約１８、より望ましくは６〜約１２、更に
望ましくは６）、又は（ｄ）それらの混合物である。Ｂ
は、次の式で示される基、

【化２５０】

【化２５１】 式中、ｖは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２５２】 式中、ｚは、望ましくは２〜約２０、より望ましくは２
〜約１０の整数であり、

【化２５３】 式中、ｕは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２５４】 式中、ｗは、望ましくは１〜約２０、より望ましくは１
〜約１０の整数であり、

【化２５５】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、（ａ）水素原
子、（ｂ）非置換アルキル基と、ヒドロキシアルキル基
などの置換アルキル基とを含むアルキル基（炭素数は、
望ましくは１〜約２０、より望ましくは１〜約１０、更
に望ましくは１〜約５であるが、この範囲を越えても良
い）、（ｃ）非置換アリール基と、ヒドロキシアリール
基などの置換アリール基とを含むアリール基（炭素数
は、望ましくは６〜約１８、より望ましくは６〜約１
２、更に望ましくは６であるが、この範囲を越えても良
い）、又は（ｄ）それらの混合物であり、ｐは、０又は
１の整数であり、

【化２５６】 式中、ｐは、０又は１の整数であり、

【化２５７】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは、１〜約２０の整数であり、

【化２５８】 式中、（１）Ｚは、

【化２５９】 又は、

【化２６０】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、

【化２６１】 又は、

【化２６２】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
り、（４）Ａｒ´は、

【化２６３】 又は、

【化２６４】 であり、（５）Ｘは、

【化２６５】

【化２６６】 式中、ｓは０、１、又は２であり、

【化２６７】 又は、

【化２６８】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
物、それらのヒドロキシ置換誘導体、それらのヒドロキ
シアルキル置換誘導体、それらのヒドロキシアリール置
換誘導体、あるいはそれらの混合物である。ヒドロキシ
アルキル置換基の炭素数は、望ましくは１〜約２０、よ
り望ましくは１〜約１０、更に望ましくは１〜約５であ
るが、この範囲を越えても良い。ヒドロキシアリール置
換基の炭素数は、望ましくは６〜約１８、より望ましく
は６〜約１２、更に望ましくは約６であるが、この範囲
を越えても良い。ｎは繰り返しモノマー単位の数を示す
整数である。

【００５１】感光性付与架橋基の架橋又は鎖延長を活性
化する化学線放射は、可視光、赤外光、紫外光、電子ビ
ーム放射、ｘ−線放射など、あるいはこれらに限らず、
どのような所望の光源、また所望の波長も使用可能であ
る。適当な感光性付与基の例としては、アクリロイル
基、メタクリロイル基、シンナモイル基、クロトノイル
基、エタクリロイル基（２−エチル−２−プロペノイル
基）、オレオイル基、リノレオイル基、マレオイル基、
フマロイル基、イタコノイル基、シトラコノイル基、フ
ェニルマレオイル基、３−ヘキセン−１，６−ジカルボ
ン酸のエステルなどの、不飽和エステル基が挙げられ
る。またアルキルカルボキシメチレン及びエーテル基も
適している。電子ビーム、遠紫外線、又はｘ−線放射な
ど、ある一定の条件下で画像形成を行う場合には、ハロ
メチル基も光活性である。エポキシ基、アリルエーテル
基、ヒドロキシアルキル基、不飽和アンモニウム、ホス
ホニウム、エーテル基も、適当な光活性基である。

【００５２】これらの基を含む光パターン形成可能なポ
リマーは、適当な又は所望の方法で調製できる。例え
ば、米国特許第５，８８９，０７７号に開示されている
ように、ポリマーに、（ｉ）ホルムアルデヒド源を反応
させる工程と、（ii）酸触媒の存在下で不飽和酸を反応
させて、不飽和エステル基を持つ硬化可能なポリマーを
生成する工程とを含む方法により、感光性基を持たない
ポリマーへ直接不飽和エステル基を導入することが可能
である。

【００５３】あるいは、１つ以上の中間体の調製も可能
である。例えば、ポリマー骨格の誘導体化を容易にす
る、ヒドロキシル基、カルボキシル基、クロロメチル基
などのハロアルキル基、ヒドロキシメチル基などのヒド
ロキシアルキル基、メトキシメチル基、アルキルカルボ
キシメチレン基、等の置換基で、ポリマー骨格に反応性
を持たせることができる。米国特許第５，７３９，２５
４号に開示されているように、例えば、最初にハロアル
キル化誘導体を調製し、次にハロアルキル基の少なくと
も一部を不飽和エステル基で置き換えることにより、不
飽和エステル基などの感光性付与基でポリマーを置換で
きる。例えば、ハロアルキル化ポリマーを、溶液中で不
飽和エステル塩と反応させて、ハロアルキル化ポリマー
に不飽和エステル基を導入することができる。エーテル
基とアルキルカルボキシメチレン基も、反応物として対
応するアルキルカルボン酸又はアルコキシドの塩を用い
る以外は、不飽和エステル基と同様な方法でハロアルキ
ル化ポリマーに導入可能である。ハロアルキル基の一部
又は全てを、不飽和エステル、エーテル、又はアルキル
カルボキシメチレン置換基で置き換えられる。一般に反
応時間が長いほど、不飽和エステル、エーテル、又はア
ルキルカルボキシメチレン置換基による、ハロアルキル
基の置換度が高くなる。

【００５４】ハロアルキル化ポリマーは、アリルエーテ
ルで置換、あるいはエポキシ化することができる。これ
には、米国特許第５，９４５，２５３号、米国特許第
５，７５３，７８３号に開示されているように、まず、
ハロアルキル化ポリマーを、溶液中でアリルアルコール
塩などの不飽和アルコール塩と反応させてアリル置換ポ
リマーとし、所望ならば、このアリル置換ポリマーを、
過酸化水素、ｍ−クロロ過安息香酸、過酸化ジアセチル
などの過酸化物、またそれらの混合物と反応させて、エ
ポキシ置換ポリマーに転化し、エポキシ化ポリアリーレ
ンエーテルを生成する。ハロアルキル基の一部又は全て
を、アリルエーテル又はエポキシ置換基で置き換えられ
る。一般に反応時間が長いほど、アリルエーテル又はエ
ポキシ置換基による、ハロアルキル基の置換度が大きく
なる。前述の参照文献にも開示されているように、ハロ
アルキル化ポリマーと、グリシドール塩などのエポキシ
基を含むアルコール塩、又は先に述べたような不飽和ア
ルコール塩とを、層間移動条件下、不飽和アルコール塩
又はエポキシ基含有アルコール塩に対して１モル濃度過
剰の、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸カリ
ウム、第４級アルキルアンモニウム塩などの塩基の存在
下で反応させても、エポキシ化ポリマーが調製可能であ
る。不飽和又はアリルエーテル基は、グリニャール反
応、ウィッティッヒ反応などの他の方法でも、ハロアル
キル化ポリマー上へ導入できる。

【００５５】米国特許第６，００７，８７７号に開示さ
れているように、ハロアルキル化ポリマーと、不飽和ア
ミン、ホスフィン、又はアルコールとを反応させて、ハ
ロアルキル化ポリマーを感光性付与基、水溶性（又は水
分散性）向上基で置換できる。ハロアルキル基の一部又
は全てを、感光性付与置換基、水溶性（又は水分散性）
向上置換基で置き換えられる。一般に反応時間が長いほ
ど、感光性付与置換基、水溶性（又は水分散性）向上置
換基による、ハロアルキル基の置換度が高くなる。ま
た、前述の参照文献にも開示されているように、非置換
ポリマーは、二つの異なる官能基、一方はポリマーに感
光性を与え、もう一方は水溶性又は水分散性を与えるも
ので置換することができる。ポリマーと反応して、適当
な水溶性向上基又は水分散性向上基でポリマーを置換す
る反応物の例としては、第３級アミン、第３級ホスフィ
ン、アルキルチオエーテルなどが挙げられる。これらの
水溶性付与置換基又は水分散性付与置換基は、適当な又
は所望の方法でポリマー上に導入できる。例えば、ジメ
チルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル
ピロリドン、ジメチルホルムアミドなどの極性非プロト
ン性溶媒中、２５℃で、２当量の求核試薬（アミン、ホ
スフィン、又はチオエーテル）を、１当量のハロアルキ
ル化ポリマーと反応させる。溶媒中の反応物濃度は、固
体が約３０重量％である。反応時間は、約１〜約２４時
間で、通常２時間である。あるいは、水溶性付与基又は
水分散性付与基は非イオン性であっても良い。非イオン
性置換基は、例えば、テトラヒドロフラン、ジメチルア
セトアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピロリ
ドン、ジメチルホルムアミドなどの極性非プロトン性溶
媒中、約２当量以上の水酸化ナトリウム、約１当量以上
の水素化ナトリウムなどの塩基の存在下、約８０℃で約
１６時間、約２〜約１０ミリ当量の非イオン性基の塩
（アルカリ金属塩など）を、１当量のハロアルキル化ポ
リマーと反応させて、ポリマー上に導入することができ
る。ポリ（ビニルベンジルクロリド）ポリマーのポリエ
ーテル鎖での置換については、例えば特開昭５３−７９
８３３号公報に更に詳細に開示されている。一般に、ハ
ロアルキル化度を高くすると、水溶性付与基又は水分散
性付与基による置換度を高くできる。

【００５６】米国特許第５，８４９，８０９号に開示さ
れているように、上記構造式のポリマーのヒドロキシメ
チル化は、溶液中で、ホルムアルデヒド又はパラホルム
アルデヒドと、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水
酸化カルシウム、水酸化アンモニウム、テトラメチルア
ンモニウム＝ヒドロキシドなどの塩基と、ポリマーとを
反応させて行う。一般に、反応時間が長いとヒドロキシ
メチル化度が高くなる。前述の参照文献にも開示されて
いるように、最初にハロアルキル化誘導体を調製し、次
にハロアルキル基の少なくとも一部をヒドロキシアルキ
ル基で置き換えることにより、非置換ポリマーをヒドロ
キシアルキル化することもできる。一般に、ハロアルキ
ル化度を高くすることにより、ヒドロキシアルキル基で
の置換度を高くでき、これによりポリマーの感光度を上
げることができる。ハロアルキル基の一部又は全てをヒ
ドロキシアルキル置換基で置き換えられる。一般に反応
時間が長いほど、ヒドロキシアルキル置換基によるハロ
アルキル基の置換度が高くなる。

【００５７】中間誘導体も適当な又は所望の方法で調製
可能である。例えば、ポリマーの適当なハロアルキル化
法は、通常、ルイス酸触媒の存在下、ホルムアルデヒド
と、塩酸、ビスクロロメチルエーテル、クロロメチル＝
メチル＝エーテル、クロロメチル＝オクチル＝エーテル
等と、ポリマーとの反応を含むものである。ポリマー上
のメチル基の臭素化も、元素状臭素を用いて、例えば過
酸化物開始剤又は光により開始されるフリーラジカル反
応によって行うことができる。例えば、適当なハロゲン
化水素酸又はハロゲン化物塩との反応により、既にハロ
メチル基上にあるハロゲンと、他のハロゲン原子との交
換が可能である。ポリマーのハロアルキル化法について
は、例えば、Ｗ．Ｈ．ダレイらによる、“Ｃｈｌｏｒｏ
ｍｅｔｈｙｌａｔｉｏｎ ｏｆ Ｃｏｎｄｅｎｓａｔｉ
ｏｎ Ｐｏｌｙｍｅｒｓ Ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ ａｎ
Ｏｘｙ−１，４−Ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ Ｂａｃｋｂｏ
ｎｅ”，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，２０巻
１号、８３５（１９７９）にも開示されている。ポリマ
ーのハロアルキル化に適した方法の一つは、米国特許第
５，７３９，２５４号、米国特許第５，７５３，７８３
号に開示されているように、ハロゲン含有ルイス酸触媒
の存在下、塩化アセチルなどのハロゲン化アセチルとジ
メトキシメタンとをポリマーに反応させるものである。

【００５８】感熱性付与基も、本発明のポリマーの架橋
基として適している。感熱性付与架橋基の例は、特開平
１０−０９７０７３号公報（特願平０９−２３３８２０
号）に開示されているものなどである。感熱性付与基
は、適当な又は所望の合成法によりポリマー上に導入す
ることができる。本発明のポリマー上に感光性付与架橋
基と感熱性付与架橋基の両方がある場合、このポリマー
は、（ａ）ポリマーに化学線を照射し、感光性付与基に
よる架橋又は鎖延長を生じる露光工程と、次に、（ｂ）
感熱性付与基が反応を起こすのに十分な温度にポリマー
を加熱し、感熱性付与基によって更にポリマーの架橋又
は鎖延長を起こす加熱工程とを含む、２段階工程で硬化
することも可能である。

【００５９】適当な感熱性付与基の例は、エチニル基、
エチレン結合含有基、ビニル基、ビニルエーテル基、エ
ポキシ基、ハロメチル基、ヒドロキシメチル基、ベンゾ
シクロブテン基、フェノール基、マレイミド基、ビフェ
ニレン基、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイ
ミド（ナジミド（ｎａｄｉｍｉｄｅ））基、アルキルカ
ルボン酸エステル基などである。エチニル基は、例えば
次の構造式で示される。

【００６０】

【化２６９】 式中、Ｒは、

【化２７０】 又は、

【化２７１】 であり、ａは０又は１の整数であり、Ｒ´は水素原子又
はフェニル基である。エチレン結合含有基は、例えば次
の構造式で示されるアリル基などである。

【００６１】

【化２７２】 式中、Ｘ及びＹは各々互いに独立して、水素原子又は、
フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン原子であ
る。ビニル基は、例えば次の構造式で示される。

【００６２】

【化２７３】−Ｒ−ＣＨ＝ＣＨ₂ 式中、Ｒは、飽和、不飽和、直鎖、分枝、環状アルキル
基などの、望ましくは炭素数１〜約３０、より望ましく
は１〜約１１、更に望ましくは１〜約５であるアルキル
基、置換アルキル基、望ましくは炭素数６〜約２４、よ
り望ましくは６〜約１８であるアリール基、置換アリー
ル基、望ましくは炭素数７〜約３０、より望ましくは７
〜約１９であるアリールアルキル基、又は置換アリール
アルキル基である。置換アルキル基、置換アリール基、
置換アリールアルキル基、置換アルコキシ基、置換アリ
ールオキシ基、置換アリールアルキルオキシ基上の置換
基は、ヒドロキシ基、アミン基、イミン基、アンモニウ
ム基、ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アル
デヒド基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボン
酸基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スル
ホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン
基、ホスホニウム基、リン酸基、シアノ基、ニトリル
基、メルカプト基、ニトロソ基、ハロゲン原子、ニトロ
基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、そ
れらの混合物などであるが、これらに限定されるもので
はない。また、二つ以上の置換基が互いに結合して環を
形成しても良い。ビニルエーテル基は、次の構造式で示
される。

【００６３】

【化２７４】−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ₂ エポキシ基は、例えば次の構造式で示される。

【００６４】

【化２７５】 Ｒは、飽和、不飽和、直鎖、分枝、環状アルキル基など
の、望ましくは炭素数１〜約３０、より望ましくは１〜
約１１、更に望ましくは１〜約５であるアルキル基、置
換アルキル基、望ましくは炭素数６〜約２４、より望ま
しくは６〜約１８であるアリール基、置換アリール基、
望ましくは炭素数７〜約３０、より望ましくは７〜約１
９であるアリールアルキル基、又は置換アリールアルキ
ル基である。置換アルキル基、置換アリール基、置換ア
リールアルキル基、置換アルコキシ基、置換アリールオ
キシ基、置換アリールアルキルオキシ基上の置換基は、
ヒドロキシ基、アミン基、イミン基、アンモニウム基、
ピリジン基、ピリジニウム基、エーテル基、アルデヒド
基、ケトン基、エステル基、アミド基、カルボン酸基、
カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、スルホン酸
基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフィン基、ホ
スホニウム基、リン酸基、シアノ基、ニトリル基、メル
カプト基、ニトロソ基、ハロゲン原子、ニトロ基、スル
ホン基、アシル基、酸無水物基、アジド基、それらの混
合物などであるが、これらに限定されるものではない。
また、二つ以上の置換基が互いに結合して環を形成して
も良い。ハロメチル基は、フルオロメチル基、クロロメ
チル基、ブロモメチル基、ヨードメチル基などである。
ベンゾシクロブテン基は、次の構造式で示される。

【００６５】

【化２７６】 フェノール基（−φ−ＯＨ）は、ハロメチル基又はヒド
ロキシメチル基と共に存在し、ハロメチル基又はヒドロ
キシメチル基は、フェノール基が付いているのと同じポ
リマー上に、又は異なるポリマー上に、あるいはフェノ
ール基が置換したポリマーと共に存在するモノマー種上
にある。マレイミド基は、次の構造式で示される。

【００６６】

【化２７７】 ビフェニレン基は、次の構造式で示される。

【００６７】

【化２７８】 ５−ノルボルネン−２，３−ジカルボキシイミド（ナジ
ミド）基は、次の構造式で示される。

【００６８】

【化２７９】 アルキルカルボン酸エステル基は、次の構造式で示され
る。

【００６９】

【化２８０】 式中、Ｒは、飽和、不飽和、環状アルキル基などの、炭
素数が望ましくは１〜約３０、より望ましくは１〜約６
であるアルキル基、置換アルキル基、炭素数が望ましく
は６〜約３０、より望ましくは１〜約２であるアリール
基、置換アリール基、炭素数が望ましくは７〜約３５、
より望ましくは７〜約１５であるアリールアルキル基、
又は置換アリールアルキル基である。置換アルキル、ア
リール、アリールアルキル基上の置換基は、炭素数が望
ましくは１〜約６であるアルコキシ基、炭素数が望まし
くは６〜約２４であるアリールオキシ基、炭素数が望ま
しくは７〜約３０であるアリールアルキルオキシ基、ヒ
ドロキシ基、アミン基、イミン基、アンモニウム基、ピ
リジン基、ピリジニウム基、エーテル基、エステル基、
アミド基、カルボニル基、チオカルボニル基、硫酸基、
スルホン酸基、スルフィド基、スルホキシド基、ホスフ
ィン基、ホスホニウム基、リン酸基、メルカプト基、ニ
トロソ基、スルホン基、アシル基、酸無水物基、アジド
基、等であるが、これらに限定されるものではない。ま
た、二つ以上の置換基が互いに結合して環などを形成し
ても良い。所望の又は適当な置換度のものが使用でき
る。望ましい置換度は、繰り返しモノマー単位当たり、
感熱性付与基が約１〜約４であるが、この範囲を越えて
も良い。また、感熱性付与基の置換度は、望ましくはポ
リマー１ｇ当たり約０．５〜約５ミリ当量、より望まし
くは約０．７５〜約１．５ミリ当量であるが、この範囲
を越えても良い。

【００７０】熱架橋に用いる温度は通常、ポリマー上に
ある感熱性付与基によって決まる。例えば、エチニル基
では、硬化温度は約１５０〜約３００℃が望ましく、ハ
ロメチル基では約１５０〜約２６０℃、ヒドロキシメチ
ル基では約１５０〜約２５０℃、フェニルエチニルフェ
ニル基では約２５０℃以上、ビニル基では約８０〜約２
５０℃、アリル基では約２００℃以上、エポキシ基では
約１５０℃、マレイミド基では約２００〜約３００℃、
ベンゾシクロブテン基では約２００℃以上、５−ノルボ
ルネン−２，３−ジカルボキシイミド基では約２００〜
約３００℃、ビニルエーテル基では約１５０℃、ヒドロ
キシメチル又はハロメチル基存在下のフェニル基では約
１５０〜約２１０℃、アルキルカルボン酸エステル基で
は約１５０〜約２５０℃が望ましい。硬化温度は通常、
約４００℃を越えることはないが、ポリマーの分解が起
こらなければ、より高い温度とすることもできる。高温
での硬化は、望ましくは酸素を排除した環境中で行う。

【００７１】適当な架橋基の更に別の例としては、イソ
シアナート基、アクリロイル＝クロリド基などのアクリ
ロイル＝ハライド基、ビニルベンジル＝クロリド基など
のビニルベンジル＝ハライド基、エチニルベンジル＝ク
ロリド基などのエチニルベンジル＝ハライド基、メタク
リロイル＝クロリド基などのメタクリロイル＝ハライド
基、メタクリル酸２−イソシアナトエチル基、トルエン
＝ジイソシアナート、ヘキサン＝ジイソシアナートなど
のジイソシアナート基、等、また、化学線照射、熱、架
橋剤、それらを組み合わせたものなどによるポリマーの
架橋又は鎖延長を可能とする、他の適当な官能基などが
挙げられる。

【００７２】架橋基が感光性付与基である場合、光パタ
ーン形成ポリマーは、ポリマーの架橋又は鎖延長を起こ
すことのできる波長及び／又はエネルギーレベルの化学
線で均一に照射することにより、感光性付与基の部分で
硬化可能である。あるいは、感光性付与基が感度を持つ
波長及び／又はエネルギーレベルの放射で、この材料を
画像の形に露光し、光パターン形成ポリマーを現像す
る。通常、フォトレジスト組成物は、光パターン形成可
能なポリマーと、必要に応じて光パターン形成ポリマー
のための溶媒と、必要に応じて増感剤と、必要に応じて
光開始剤とを含むものである。特に、架橋していない光
パターン形成ポリマーのＴｇが高い場合には、溶媒が必
要である。溶媒と光パターン形成ポリマーとの比率は通
常、溶媒が０〜約９９重量％で、ポリマーが約１〜１０
０重量％、望ましくは溶媒が約２０〜約６０重量％で、
ポリマーが約４０〜約８０重量％、更に望ましくは溶媒
が約３０〜約６０重量％で、ポリマーが約４０〜約７０
重量％であるが、この範囲を越える比率でも良い。

【００７３】本発明の架橋可能又は鎖延長可能なポリマ
ー材料は、インキジェットプリントヘッドの成分として
使用できる。本発明のプリントヘッドは、適当であれば
どのような形状も可能である。本発明のポリマー材料
は、架橋又は鎖延長基が置換されていてもいなくても、
感光性画像形成部材の成分として使用可能である。本発
明の画像形成部材は、どの様な適当な形状にもすること
ができる。

【００７４】

【実施例】実施例１．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００７５】

【化２８１】 式中、ｎは繰り返しモノマー単位の数を示し、その値は
約１３０である。以後、このポリマーを、ポリ（４−Ｆ
ＰＫ−ＦＢＰＡ）と呼ぶ。ディーン−スタークトラップ
（Ｄｅａｎ−Ｓｔａｒｋ ｔｒａｐ）（バレット（Ｂａ
ｒｒｅｔｔ）トラップ）、凝縮器、撹拌機、アルゴン流
入装置、栓を取り付けた、１リットルの三つ口丸底フラ
スコをシリコーン油浴中に置いた。このフラスコに、４
３．４７ｇ（０．１９９２モル）の４，４´−ジフルオ
ロベンゾフェノン（ウィスコンシン州ミルウォーキー、
アルドリッチ ケミカル社製）と、７５．０６ｇ（０．
２１４５モル）の９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）フルオレノン（アルドリッチ社製）と、６５．５６
ｇの炭酸カリウムと、３００ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミドと、５２ｍｌのトルエンとを加え、１７
５℃（油浴温度）に加熱して、揮発性トルエン成分を捕
集して除去した。撹拌を続けながら１７５℃で５時間加
熱後、反応混合物を２５℃まで放冷した。固体化した塊
をジクロロメタンで抽出し、ろ過し、メタノールに加え
てポリマーを沈殿させた。これをろ過して集め、水で洗
い、次にメタノールで洗った。真空乾燥して得られた生
成物、ポリ（４−ＦＰＫ−ＦＢＰＡ）の収量は７１．７
ｇであった。このポリマーを、溶離液としてテトラヒド
ロフランを用いて、ゲル浸透クロマトグラフィで分析し
たところ、次のような結果であった。Ｍ_n ＝５９，１０
０、Ｍ_peak＝１４４，０００、Ｍ_w ＝１３６，１００。
このポリマーのガラス転移温度を、昇温速度２０℃／分
で示差走査熱量測定法により測定したところ、２４０℃
であった。ジクロロメタンからの溶液成形フィルムは、
透明で強靭、可撓性であった。反応に用いた化学量論の
結果より、このポリマーは、フルオレノンビスフェノー
ルから誘導されたヒドロキシル末端基を持つと考えられ
る。

【００７６】実施例２．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００７７】

【化２８２】 凝縮器、撹拌機、アルゴン流入装置、ゴム製セプタムを
取り付けた、１リットルの三つ口丸底フラスコをシリコ
ーン油浴中に置いた。これに、２００ｇのテトラヒドロ
フランに溶解した、１０ｇのポリ（４−ＦＰＫ−ＦＢＰ
Ａ）（実施例１で調製）を入れ、次に、８３．５ｇの１
モル濃度のボラン−テトラヒドロフラン錯体（ウィスコ
ンシン州ミルウォーキー、アルドリッチ ケミカル社
製）を加えたところ、溶液はゲル化した。このゲルを撹
拌装置で撹拌しながら２時間還流した後、反応混合物を
放冷し、２５℃で１６時間置いた。次にメタノールを慎
重に滴下しながら加え、残ったボランを反応させた。固
体残留物をろ過し、水で洗い、次に真空乾燥した。３０
０ｍｌのテトラヒドロフランをこの固体に加えたとこ
ろ、２０ｍｌの酢酸を加えるまで溶解しなかった。この
ポリマー溶液各２５ｍｌずつを、それぞれ７５０ｍｌの
水に加え、ワーリングブレンダを用いて白色のポリマー
を沈殿させた。このポリマーをろ過し、水で良く洗い、
ろ過し、メタノールで洗い、ろ過し、次に真空乾燥し
た。このポリマーは、テトラヒドロフランには溶解した
が、ジクロロメタン、酢酸エチル、トルエン、メチルイ
ソブチルケトンには不溶であった。８．５ｇのテトラヒ
ドロフランに、１．２ｇのヒドロキシル化ポリマーと、
１．２ｇのＮ，Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３
´´−メチルフェニル）−（１，１´−ビスフェノー
ル）−４，４´−ジアミン［別名：Ｎ，Ｎ´−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジ
ン］とを溶解したものを用いて、ヒドロキシガリウムフ
タロシアニン光発生層を備えた有機感光体に、厚さ２５
μｍの電荷（正孔）輸送層を被覆した。更に、上記の被
覆用溶液に０．１ｇのヘキサン＝ジイソシアナートを加
えたところ、装置の電気的特性の著しい向上が見られ
た。

【００７８】４００ｇのテトラヒドロフランに溶解し
た、１９．７ｇのポリ（４−ＦＰＫ−ＦＢＰＡ）と、２
１５ｇの１モル濃度のボラン−テトラヒドロフラン錯体
／テトラヒドロフランを用いて、上記の反応を繰り返し
た。２時間還流後、２５℃で１６時間置き、この反応混
合物をメタノールで、次に酢酸で慎重に処理し、次に水
に加えてポリマーを再沈殿させた。ポリマーをろ過し、
水で洗い、メタノールで洗い、次に真空乾燥した。

【００７９】実施例３．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００８０】

【化２８３】 撹拌機、還流冷却器、アルゴン流入装置、栓を取り付け
た、５リットルの三つ口丸底フラスコをシリコーン油浴
中に置き、これに順に、３８８ｇ（３２０ｍｌ）の塩化
アセチルと、４５０ｍｌのジメトキシメタンと、１２．
５ｍｌのメタノールと、５００ｍｌのテトラクロロエタ
ンと、１，２５０ｍｌのテトラクロロエタンに溶解した
１００ｇのポリ（４−ＦＰＫ−ＦＢＰＡ）（サイエンテ
ィフィック・ポリマー・プロダクツ（Ｓｃｉｅｎｔｉｆ
ｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）製）とを加
えた。この混合物に、次に気密シリンジを用いて５ｍｌ
の塩化スズ（IV）を加えた。反応混合物を、油浴設定温
度９０〜１００℃で、２時間加熱した。２５℃に放冷
後、この反応混合物をメタノールに加え、繰り返し単位
当り０．９６のクロロメチル基を持ったポリマーを再沈
殿させた。

【００８１】実施例４．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００８２】

【化２８４】 １，９６７ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解し
た、７８．５ｇのクロロメチル化ポリ（４−ＦＰＫ−Ｆ
ＢＰＡ）（実施例３で調製）を、撹拌機、アルゴン流入
装置、凝縮器を取り付け、シリコーン油浴中に置いた５
リットルの三つ口丸底フラスコに入れた。これに７８．
５ｇの酢酸ナトリウムを加え、反応混合物を１００℃で
２４時間加熱した。次に反応溶液を水に加えてポリマー
生成物を沈殿させ、これをろ過し、メタノールで洗っ
た。同様にして、７００ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミドに溶解した、２５ｇのクロロメチル化ポリ（４−Ｆ
ＰＫ−ＦＢＰＡ）（実施例３で調製）と、１５ｇの酢酸
ナトリウム（アルドリッチ社製）とを、２５℃で１か月
間、マグネチックスターラで撹拌して、同じポリマーを
調製した。次に、反応溶液を遠心分離にかけ、沈降させ
た不溶塩類をデカンテーションして除いた。この溶液を
メタノールに加えて白色のポリマーを沈殿させ、これを
ろ過し、水で洗い、メタノールで洗い、次に真空乾燥し
た。収量は１２．２ｇであった。

【００８３】実施例５．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００８４】

【化２８５】 ２ｋｇのテトラヒドロフランに溶解した、５０ｇのアセ
チル化ポリマー（実施例４で調製）を、２５０ｍｌの１
モル濃度のボラン−テトラヒドロフラン錯体／テトラヒ
ドロフラン（アルドリッチ社製）と１時間還流して反応
させた。反応容器は、撹拌機、凝縮器、アルゴン流入装
置、ゴム製セプタムを取り付け、シリコーン油浴中に置
いた、５リットルの三つ口丸底フラスコであった。メタ
ノールを加えて未反応ボランを中和し、酢酸を加えてポ
リマー溶液とした。次に反応混合物を水に加えて白色の
ポリマーを沈殿させ、これをろ過し、水で洗い、メタノ
ールで洗い、次に真空乾燥した。ポリマー生成物は、テ
トラヒドロフランに溶け、またエタノール１部とテトラ
ヒドロフラン９部とから成る溶液にも溶解した。

【００８５】実施例６．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００８６】

【化２８６】 ディーン−スターク（バレット）トラップ、凝縮器、撹
拌機、アルゴン流入装置、栓を取り付けた、５リットル
の三つ口丸底フラスコをシリコーン油浴中に置いた。こ
のフラスコに、４０３．９５ｇの４，４´−ジクロロベ
ンゾフェノン（アルドリッチ社製）と、３４０．８７ｇ
のビスフェノールＡ（アルドリッチ社製）と、４９１．
７ｇの炭酸カリウムと、２，２５０ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−
ジメチルアセトアミドと、４１２．５ｍｌ（３５９．２
５ｇ）のトルエンとを加え、１７０℃ （油浴温度）に
加熱して、揮発性トルエン成分を捕集して除去した。撹
拌を続けながら１７０℃で４８時間加熱後、反応混合物
を２５℃まで放冷した。次に、この反応混合物をろ過し
て不溶塩類を除き、溶液を次にメタノールに加えてポリ
マーを沈殿させた。ろ過してポリマーを取り出し、水で
洗い、メタノールで洗い、次に真空乾燥した。

【００８７】実施例７．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００８８】

【化２８７】 ５０ｍｌのジオキサンに溶解した、５ｇのポリ（アリー
レンエーテルケトン）（実施例６で調製）を、５０ｍｌ
の１モル濃度のボラン−テトラヒドロフラン錯体／テト
ラヒドロフランで処理した。撹拌しながら７０℃で約４
時間加熱した。全部のボラン溶液を加えてから１０分以
内に、２５℃でポリマー溶液はゲル化した。盛んな気体
の発生が見られた。このポリマーをメタノールで処理し
たところ、気体を発生しながら溶解した。この反応混合
物をロータリーエバポレータで濃縮し、水に加えてポリ
マーを沈殿させ、これを水で良く洗い、次にメタノール
で洗った。真空乾燥後のポリマーの収量は４．６ｇであ
った。

【００８９】実施例８．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００９０】

【化２８８】 ０．１８ｇのメタクリル酸２−イソシアナトエチル（ア
ルドリッチ社製）を、３．７６ｇのテトラヒドロフラン
に溶解した、０．５ｇのポリ（アリーレンエーテルアル
コール）（実施例７で調製）に加えた。この溶液に、
０．５ｇのＮ，Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３
´´−メチルフェニル）−（１，１´−ビスフェノー
ル）−４，４´−ジアミン［別名：Ｎ，Ｎ´−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３−メチルフェニル）ベンジジ
ン］を加え、感光体の電荷輸送層用溶液とした。ヒドロ
キシガリウムバインダ発生層上に、厚さ２９μｍ（±５
μｍ）に塗布し、これを平板電子写真スキャナで試験し
たところ、Ｖ₀ が１，０２０Ｖ、暗失活が６０Ｖ、露光
後の残留電圧が６０Ｖであった。

【００９１】実施例９．次の構造式で示されるポリマー
を、以下のように調製した。

【００９２】

【化２８９】 撹拌機、還流冷却器、アルゴン流入装置、栓を取り付け
た、５リットルの三つ口丸底フラスコを氷浴中に置き、
これに順に、１８４ｇの塩化アセチルと、２２５ｍｌ
（１９３ｇ）のジメトキシメタンと、６．２５ｍｌのメ
タノールと、５００ｍｌのジクロロメタンと、６２５ｍ
ｌのジクロロメタンに溶解した７５ｇのポリ（４−ＣＰ
Ｋ−ＢＰＡ）（実施例８（または６）で調製）とを加え
た。この混合物に、次に気密シリンジを用いて６．５ｍ
ｌの塩化スズ（IV）を加えた。反応混合物を、油浴設定
温度５５℃で、４時間加熱した。２５℃に放冷後、この
反応混合物をメタノールに加え、繰り返し単位当り０．
９６のクロロメチル基を持ったポリマーを再沈殿させ
た。

【００９３】実施例１０．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【００９４】

【化２９０】 ディーン−スターク（バレット）トラップ、凝縮器、撹
拌機、アルゴン流入装置、栓を取り付けた、５００ｍｌ
の三つ口丸底フラスコをシリコーン油浴中に置いた。こ
のフラスコに、２１．８２ｇの４，４´−ジフルオロベ
ンゾフェノン（アルドリッチ社製）と、２２．６４ｇの
ビスフェノールＡ（アルドリッチ社製）と、４０ｇの炭
酸カリウムと、３００ｍｌの無水Ｎ，Ｎ−ジメチルアセ
トアミドと、５２ｍｌのトルエンとを加え、１７５℃
（油浴温度）に加熱して、揮発性トルエン成分を捕集し
て除去した。撹拌を続けながら１７５℃で５時間加熱
後、５ｇのフェノールを加え、反応混合物を撹拌しなが
ら１７５℃で更に３０分間加熱した。次に、反応混合物
を２５℃まで放冷した。固体化した塊を５００ｍｌのジ
クロロメタンで抽出し、ろ過して不溶塩類を除いた。ロ
ータリーエバポレータを用いてこの溶液を濃縮し、次に
メタノールに加えてポリマーを沈殿させた。ろ過してポ
リマーを取り出し、水で洗い、メタノールで洗い、次に
真空乾燥した。生成物、ポリ（４−ＦＰＫ−ＢＰＡ）の
収量は４０ｇであった。

【００９５】実施例１１．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【００９６】

【化２９１】 撹拌機、還流冷却器、アルゴン流入装置、栓を取り付け
た、１リットルの三つ口丸底フラスコをシリコーン油浴
中に置き、これに順に、１４０．１ｇ（１２８ｍｌ）の
塩化アセチルと、１５７．６ｇのジメトキシメタンと、
５ｍｌのメタノールと、５００ｍｌのテトラクロロエタ
ンと、５００ｍｌのテトラクロロエタンに溶解した４０
ｇのポリ（４−ＦＰＫ−ＢＰＡ）（実施例１０で調製）
とを加えた。この混合物に、次に気密シリンジを用いて
０．６ｍｌの塩化スズ（IV）を加えた。反応混合物を、
油浴設定温度１１０℃で、２時間加熱した。２５℃に放
冷後、この反応混合物をメタノールに加え、繰り返し単
位当り１．４４のクロロメチル基を持ったポリマーを再
沈殿させた。

【００９７】実施例１２．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【００９８】

【化２９２】 ３００ｍｌのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解し
た、１５ｇのクロロメチル化ポリマー（実施例９で調
製）と、９ｇの酢酸ナトリウム（アルドリッチ社製）と
を、１か月間マグネチックスターラで撹拌した。次に、
反応混合物を遠心分離にかけ、反応溶液をデカンテーシ
ョンして残留塩類と分けた。この溶液を水に加えて、白
色のポリマーを沈殿させた。これをろ過し、水で洗い、
メタノールで洗い、次に真空乾燥した。

【００９９】実施例１３．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【０１００】

【化２９３】 ２８３ｇのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドに溶解した、
１５ｇのクロロメチル化ポリマー（１．４４ＣＨ₂Ｃｌ
基／繰り返し単位、実施例１１で調製）と、９ｇの酢酸
ナトリウム（アルドリッチ社製）とを、１か月間マグネ
チックスターラで撹拌した。次に、反応混合物を遠心分
離にかけ、反応溶液をデカンテーションして残留塩類と
分けた。この溶液を水に加えて、白色のポリマーを沈殿
させた。これをろ過し、水で洗い、メタノールで洗い、
次に真空乾燥した。このポリマーをジクロロメタンに溶
解し、メタノール中で再沈殿させ、ろ過し、次に真空乾
燥した。

【０１０１】実施例１４．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【０１０２】

【化２９４】 ５０ｍｌのジオキサンに溶解した、２ｇのクロロメチル
化ポリマー（実施例１１で調製）に、５０ｍｌの１モル
濃度のボラン−テトラヒドロフラン錯体を加えた。この
溶液は２５℃において１０分以内にゲル化した。この反
応混合物を、７０〜８０℃で２時間加熱した。メタノー
ルを慎重に加えたところ、盛んに気体が発生した。得ら
れた溶液を水に加えて、ポリマー生成物を沈殿させた。
白色のポリマーをろ過し、水で洗い、メタノールで洗
い、次に真空乾燥した。４．５ｇのテトラヒドロフラン
に溶解した０．５ｇのポリマーを、０．５ｇの二酸化チ
タン（ＭＴ５００）と、６０ｇのステンレススチール製
ショットと共に、１６時間ロールミルにかけた。この分
散液を、０．５ミル（１２．７μｍ）のバード（Ｂｉｒ
ｄ）アプリケータを用いて、金属化ポリエチレンテレフ
タレートフィルム上に塗布し、４０〜１５０℃で４０分
以上加熱した。ヒドロキシガリウムフタロシアニンをト
ルエン中のポリ（スチレン−ビニルピリジン）に分散さ
せた、光発生体層用分散液を、０．２５ミル（６．４μ
ｍ）のバードアプリケータを用いて塗布し、これを１３
５℃で５分間加熱した。１．２ｇのＮ，Ｎ´−ジフェニ
ル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３´´−メチルフェニル）−
（１，１´−ビスフェノール）−４，４´−ジアミン
［別名：Ｎ，Ｎ´−ジフェニル−Ｎ，Ｎ´−ビス（３−
メチルフェニル）ベンジジン］と、１．２ｇのポリカー
ボネートと、１３．４５ｇのジクロロメタンとから成る
電荷輸送層用溶液を、４ミル（１０１．６μｍ）のバー
ドアプリケータを用いて光発生体層上に塗布した。この
装置を４０〜１００℃で３０分以上乾燥した。

【０１０３】実施例１５．次の構造式で示されるポリマ
ーを、以下のように調製した。

【０１０４】

【化２９５】 １．０ｇのヒドロキシメチル化ポリ（アリーレンエーテ
ルアルコール）（実施例１４で調製）を、９ｇのＮ−メ
チルピロリドンに溶解した、１．１０ｇのメタクリル酸
２−イソシアナトエチルと、１６時間反応させた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジョン エフ ヤヌス アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ウェブ スター リトル バードフィールド ロー ド 924 (72)発明者 ダモダー エム パイ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 フェア ポート シャグバーク ウェイ 72 (72)発明者 マーカス アール シルベストリー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 フェア ポート クラークス クロッシング 29 (72)発明者 ラム エス ナラン アメリカ合衆国 ニューヨーク州 マセダ ン ヒルサイド サークル 390 (72)発明者 ウィリアム ダブリュ リンバーグ アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ペンフ ィールド クリアビュー ドライブ 66 (72)発明者 デール エス レンファー アメリカ合衆国 ニューヨーク州 ウェブ スター アダムス ロード 498

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 次の構造式で示されるポリマーであっ
   て、 【化１】 式中、Ａが、次の式で示される基、 【化２】 又は次の式で示される基の混合物であり、 【化３】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
   それらの混合物であり、Ｂが、次の式で示される基、 【化４】 【化５】 【化６】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、 【化７】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、 【化８】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、 【化９】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、 【化１０】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
   ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
   であり、 【化１１】 式中、ｐは０又は１の整数であり、 【化１２】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、 【化１３】 式中、（１）Ｚは、 【化１４】 又は、 【化１５】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、 【化１６】 又は、 【化１７】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
   ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
   り、（４）Ａｒ´は、 【化１８】 又は、 【化１９】 であり、（５）Ｘは、 【化２０】 式中、ｓは０、１、又は２であり、 【化２１】 又は、 【化２２】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
   物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
   キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
   れらの混合物であり、ｎが繰り返しモノマー単位の数を
   示す整数であることを特徴とするポリマー。
2. 【請求項２】 ポリマーの製造方法であって、（ｉ）次
   の構造式で示される前駆体ポリマーを製造する工程であ
   り、 【化２３】 式中、Ａが、次の式で示される基であり、 【化２４】 Ｂが、次の式で示される基、 【化２５】 【化２６】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、 【化２７】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、 【化２８】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、 【化２９】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、 【化３０】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
   ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
   であり、 【化３１】 式中、ｐは０又は１の整数であり、 【化３２】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、 【化３３】 式中、（１）Ｚは、 【化３４】 又は、 【化３５】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、 【化３６】 又は、 【化３７】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
   ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
   り、（４）Ａｒ´は、 【化３８】 又は、 【化３９】 であり、（５）Ｘは、 【化４０】 式中、ｓは０、１、又は２であり、 【化４１】 又は、 【化４２】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
   物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
   キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
   れらの混合物であり、ｎが繰り返しモノマー単位の数を
   示す整数である工程と、（ii）前駆体ポリマーをボラン
   と反応させて、次の構造式で示されるポリマーを生成す
   る工程であり、 【化４３】 式中、Ａが、次の式で示される基、 【化４４】 又は次の式で示される基の混合物であり、 【化４５】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
   それらの混合物である工程と、を含むことを特徴とする
   ポリマーの製造方法。
3. 【請求項３】 ポリマーの製造方法であって、（ｉ）次
   の構造式で示される前駆体ポリマーを製造する工程であ
   り、 【化４６】 式中、Ａが、次の式で示される基であり、 【化４７】 Ｂが、次の式で示される基、 【化４８】 【化４９】 式中、ｖは１〜約２０の整数であり、 【化５０】 式中、ｚは２〜約２０の整数であり、 【化５１】 式中、ｕは１〜約２０の整数であり、 【化５２】 式中、ｗは１〜約２０の整数であり、 【化５３】 式中、Ｒ₁及びＲ₂は各々互いに独立して、水素原子、ア
   ルキル基、又はアリール基であり、ｐは０又は１の整数
   であり、 【化５４】 式中、ｐは０又は１の整数であり、 【化５５】−（ＣＨ₂Ｏ）_t− 式中、ｔは１〜約２０の整数であり、 【化５６】 式中、（１）Ｚは、 【化５７】 又は、 【化５８】−Ａｒ−（Ｘ）_p−Ａｒ− であり、式中、ｐは０又は１であり、（２）Ａｒは、 【化５９】 又は、 【化６０】 であり、（３）Ｇは、約２〜約１０の炭素原子を含むア
   ルキル又はイソアルキル基より選ばれるアルキル基であ
   り、（４）Ａｒ´は、 【化６１】 又は、 【化６２】 であり、（５）Ｘは、 【化６３】 式中、ｓは０、１、又は２であり、 【化６４】 又は、 【化６５】 であり、（６）ｑは０又は１であり、又はそれらの混合
   物、あるいはそれらのヒドロキシ置換、ヒドロキシアル
   キル置換、ヒドロキシアリール置換誘導体、若しくはそ
   れらの混合物であり、ｎが繰り返しモノマー単位の数を
   示す整数である工程と、（ii）前記前駆体ポリマーを、
   構造式がＲＭｇＸであって、式中、Ｒが、水素原子、ア
   ルキル基、アリール基、又はそれらの混合物であり、Ｘ
   がハロゲン原子である試薬と反応させる工程と、（ii
   i）次に、前記ポリマーに水又は酸を加えて、次の構造
   式で示されるポリマーを生成する工程であり、 【化６６】 式中、Ａが、次の式で示される基、 【化６７】 又は次の式で示される基の混合物であり、 【化６８】 式中、Ｒは、水素原子、アルキル基、アリール基、又は
   それらの混合物である工程と、を含むことを特徴とする
   ポリマーの製造方法。