JP2001016076A - 電圧制御発振回路 - Google Patents
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Abstract
低周波領域から高周波領域まで安定して精度の良い発振
周波数のクロック信号を出力できる電圧制御発振回路を
提供することを目的としている。 【解決手段】レベル変換回路、振幅制御回路、差動型の
ディレーセルがリング状に接続された電圧制御発振部、
及び出力レベル変換回路で構成された電圧制御発振回路
である。上記レベル変換回路は、制御電流の最大値Im
axと最小値Iminを制限するリミッター11,14
を有し、これらのリミッターにより電圧制御発振部の発
振動作が正常に動作する領域のみを使用可能とする事に
より、電圧制御発振回路が出力するクロック信号のデュ
ーティや周波数の安定性を向上させることを特徴として
いる。
Description
(VCO)に関し、特に差動型のディレーセルを複数用
いたリング型の電圧制御発振回路に係り、例えばマイク
ロ・コンピュータ(MCU)やデジタル・シグナル・プ
ロセッサ(DSP)等のLSI内部用の高周波のクロッ
ク信号を生成するために用いられるものである。また、
LSIの外部クロックに低周波のクロックを用い、LS
Iの内部クロックに高周波のクロックを用いる事によ
り、LSIの処理性能を向上させたり、システム全体の
パワーを抑える様な応用分野に用いられるものである。
個用いた従来の基本的な電圧制御発振回路を示してい
る。この回路は、レベル変換回路及び振幅制御回路1、
電圧制御発振部100を構成する差動型のディレーセル
2〜6、及び出力レベル変換回路7等を含んで構成され
ている。上記各ディレーセル2〜6は同一回路構成であ
り、それぞれPMOS(Pチャネル型MOS)トランジ
スタP1,P2とNMOS(Nチャネル型MOS)トラ
ンジスタN1〜N3で構成されている。初段のディレー
セル2の差動出力信号は順次次段のディレーセル3,
4,5に供給され、最終段のディレーセル6の差動出力
信号Vip,Vimが出力レベル変換回路7に供給され
ると共に、初段のディレーセル2中のNMOSトランジ
スタN2,N1のゲートに帰還されることにより発振動
作を行うようになっている。各ディレーセル2〜6中の
MOSトランジスタP1,P2のゲートにはレベル変換
回路及び振幅制御回路1から出力される振幅制御電圧V
bpが供給され、NMOSトランジスタN3のゲートに
はレベル変換回路及び振幅制御回路1から出力される制
御電圧Vcnが供給されて発振動作が制御される。そし
て、上記出力レベル変換回路7からクロック信号CKo
utを出力するようになっている。なお、上記レベル変
換回路及び振幅制御回路1、ディレーセル2〜6、及び
出力レベル変換回路7はそれぞれ、電源電圧VDD,V
SSで動作する。
レベル変換回路1Aの構成例を、図15は振幅制御回路
1Bの構成例を、図16は出力レベル変換回路7の構成
例をそれぞれ示している。
は、PMOSトランジスタP3,P4、NMOSトラン
ジスタN4,N5及び抵抗R1で構成されている。この
回路は、外部から入力された制御電圧Vinの電圧/電
流変換を行った後、電流/電圧変換を行って制御電圧V
cnを生成するものであり、制御電圧VinはNMOS
トランジスタN4のゲートに供給され、PMOSトラン
ジスタP4とNMOSトランジスタN5のドレイン共通
接続点から制御電圧Vcnを出力するようになってい
る。
圧生成回路8、演算増幅回路9及び振幅制御対象回路1
01等から構成されている。この振幅制御対象回路10
1は、PMOSトランジスタP5,P6及びNMOSト
ランジスタN6〜N8で構成される。基準電圧生成回路
8から出力される基準電圧Vrefは、演算増幅回路9
の反転入力端(−)及びMOSトランジスタN7のゲー
トに供給される。上記レベル変換回路1Aから出力され
る制御電圧Vcnは、NMOSトランジスタN8のゲー
トに供給される。上記演算増幅回路9の出力は、PMO
SトランジスタP5,P6のゲートに供給されると共
に、振幅制御電圧Vbpとして出力される。
7は、PMOSトランジスタP7〜P9、及びNMOS
トランジスタN9〜N12で構成されている。ディレー
セル6の出力信号VimはNMOSトランジスタN9の
ゲートに供給され、出力信号VipはNMOSトランジ
スタN10のゲートに供給される。そして、上記PMO
SトランジスタP9とNMOSトランジスタN12のド
レイン共通接続点からクロック信号CKoutを得る。
nは、レベル変換回路1Aへ入力されてディレーセル2
〜6の制御電流Icntに応じた制御電圧Vcnに変換
される。一方、振幅制御回路1Bでは、振幅制御対象回
路101にディレーセル2〜6と同一構成の回路を用
い、振幅制御対象回路101の一方の入力端子(NMO
SトランジスタN6のゲート)に電源電圧VDDを印加
し、他方の入力端子(NMOSトランジスタN7のゲー
ト)に基準電圧生成回路8で生成した基準電圧Vref
を印加している。そして、振幅制御対象回路101の電
源電圧VDDを入力した方の出力端子102からの出力
電圧と基準電圧生成回路8で生成した基準電圧Vref
を、演算増幅回路9の正転入力端(+)と反転入力端
(−)に各々入力し、この演算増幅回路9の出力を振幅
制御電圧Vbpとして出力する。この振幅制御電圧Vb
pを振幅制御対象回路101中のPMOSトランジスタ
P5,P6のゲートに印加することによって、出力端子
102の出力電圧が基準電圧生成回路8で生成した基準
電圧Vrefと同じ電圧になるようにフィードバック制
御がかかる。この事は、振幅制御対象回路101と同一
回路構成のディレーセル2〜6で構成された電圧制御発
振部100に振幅制御電圧Vbpを同じように入力する
と、ディレーセル2〜6の一方の入力端子の電圧が電源
電圧VDDレベルの場合に、その出力端子から出力され
る出力電圧は基準電圧生成回路8で生成した基準電圧V
refと同じ電圧になっている事を示している。
幅制御電圧Vbpによって、発振波形の振幅の最大値が
電源電圧VDDとなり、その最小値が基準電圧生成回路
8で生成した基準電圧Vrefとなるように発振波形の
振幅が常に一定に保たれている。
は、電圧制御発振部100の発振周波数を制御する制御
電圧Vcnも入力されている事から、制御電圧Vcnの
変化に応じて振幅制御電圧Vbpも変化するために、電
圧制御発振部100の発振周波数が変化しても、やはり
振幅制御電圧Vbpによって、発振波形の振幅の最大値
が電源電圧VDDとなり、その最小値が基準電圧生成回
路8で生成した基準電圧Vrefとなるように発振波形
の振幅が常に一定に保たれている。この結果、図17に
示すような発振出力が得られる。図17は、出力振幅が
基準電圧Vrefから電源電圧VDDに制御されている
小振幅差動型のディレーセルで構成された電圧制御発振
部100の発振動作波形を示している。
ら出力される小振幅の発振出力は、出力レベル変換回路
7に供給され、CMOS論理回路で用いられる接地電圧
VSSから電源電圧VDDのCMOSレベルに変換され
てクロック信号CKoutとして出力される。
いる事の利点は、電源ノイズ等のコモンモードノイズに
対して、ノイズの影響を受け難いという特徴と、高周波
動作に適しているという特徴の二つを持っている点であ
る。
年の大規模集積回路(LSI)のミックスドシグナル化
(アナログ回路とデジタル回路を同一チップ上に集積す
る事)において、デジタル回路で発生されるデジタルノ
イズを受け難いアナログ回路の重要な回路技術の一つと
して認識されている。そして、高周波動作に適している
特徴は、デバイスの微細化等により、トランジスタのゲ
ート遅延が小さくなっていくのに伴い、LSIの信号処
理性能を上げるうえで、LSIの内部クロックに高周波
のクロックを用いるようになってきているために都合が
よい。従って、この内部クロックを生成している電圧制
御発振回路に対しても、高周波の発振周波数が求められ
ている。
は、 fosc=1/(N×Tdelay) となる。但し、N:ディレーセルの段数、Tdela
y:ディレーセル一段あたりの遅延時間である。
o:ディレーセルの出力振幅、Icnt:ディレーセル
の遅延時間を制御する制御電流である。
数を上げる方法としては、ディレーセルの段数Nを少な
くするか、ディレーセル一段あたりの遅延時間Tdel
ayを少なくするかが考えられる。しかし、ディレーセ
ルの段数Nが少ないと、ディレーセルの各段の遅延時間
のばらつきが、電圧制御発振部100で生成する発振周
波数に直接影響を与える恐れが有る。このため、ディレ
ーセルの段数Nを少なくする方法は、電圧制御発振部1
00で生成する発振周波数の安定性を考慮すると、あま
り好ましくないと考えられる。
は、次段のディレーセルの入力トランジスタのゲート容
量であり、プロセスの微細化に依存するパラメータであ
る。ディレーセルの遅延時間を制御する制御電流Icn
tの最大値は、使用するトランジスタのサイズに依存
し、制御電流Icntを大きくするためにトランジスタ
のサイズを大きくすると、ディレーセルの出力負荷容量
Coを大きくする事になり、ディレーセルの遅延時間を
制御する制御電流Icntにおいてもプロセスの微細化
に応じた最適値が存在すると考えられる。
ないで、回路的に対応できる手法としては、ディレーセ
ルの段数Nを少なくする方法とディレーセルの出力振幅
Voを小さくする方法がある。
法は、電圧制御発振部100の発振周波数を上げる方法
として有効では有るが、S/Nの比率を小さくしてしま
うために、差動型のディレーセルを用いて対ノイズ性能
比を上げる必要性がある。さらに、電圧制御発振部10
0の小振幅出力をCMOSレベルに変換する出力レベル
変換回路7の動作特性から、電圧制御発振部100の出
力振幅を一定にし、なおかつ中心電圧(正転出力と反転
出力が交差する電圧)も一定に保つ必要性が有る。
心電圧が一定に保たれない場合には、電圧制御発振部1
00の小振幅出力をCMOSレベルに変換する出力レベ
ル変換回路7の正常な動作を困難にし、出力レベル変換
回路7から出力されるクロック信号CKoutのデュー
ティや周波数の安定性を劣化させる。さらには出力レベ
ル変換回路7が動作不能となり、クロック信号CKou
tを出力できなくなる恐れもある。
CMOSレベルに変換する出力レベル変換回路7を正常
動作させるために、振幅制御対象回路101に、電圧制
御発振部100を構成しているディレーセルと同一構成
の回路を用いた図15に示したような振幅制御回路1B
は、ある程度は有効に機能している。しかし、電圧制御
発振部100と振幅制御回路1Bは、同一のディレーセ
ルを使用しているものの、両者の動作状態の違いによっ
て次のような問題が引き起こされている。
動作をしているために、常に“H”レベル(電源電圧V
DDレベル)と“L”レベル(基準電圧Vrefレベ
ル)が交互に繰り返すAC動作をしている。これに対し
て、振幅制御回路1Bは、入力電圧が常に“H”レベル
(電源電圧VDDレベル)と“L”レベル(基準電圧V
refレベル)に固定されたDC動作をしている。この
AC動作とDC動作の両者の動作状態の相違は、電圧制
御発振部100の発振周波数が低い場合には、ほとんど
無視できるほど小さいが、電圧制御発振部100の発振
周波数が高くなるに従って顕著に現れてくる。それは、
電圧制御発振部100の発振周波数が低い場合には、図
18(a)に示すように“H”レベルと“L”レベルに
安定している時間が長いため、“H”レベルと“L”レ
ベルが振幅制御回路1Bと同様の状態で、所望のレベル
に到達して安定に動作している。しかし、電圧制御発振
部100の発振周波数が高くなるに従って、図18
(b)に示すように“H”レベルと“L”レベルに安定
している時間が短くなって来るために、出力振幅が所望
のレベルに到達する前に次のサイクルの動作に移行して
しまう事によって、出力振幅が小さくなって行く(出力
振幅の下限値Vbottomが基準電圧Vrefよりも
高くなる)という問題点、或は出力振幅の中心電圧のレ
ベルが変動して行くという問題点が現れてくる。
さくなっていく問題点、或は出力振幅の中心電圧のレベ
ルが変動していく問題点は、電圧制御発振部100の電
圧と周波数の変換特性の線形性を劣化させ、また電圧制
御発振部100の小振幅出力をCMOSレベルに変換す
る出力レベル変換回路7の正常な動作を困難にする。こ
の結果、出力レベル変換回路7から出力されるクロック
信号CKoutのデューティや周波数の安定性が劣化す
る。さらには出力レベル変換回路7が動作不能となり、
クロック信号CKoutを出力できなくなる可能性もあ
る。このクロック信号CKoutが出力されなくなる問
題点は、PLL(フェイズ・ロックド・ループ)回路に
おいて、フィードバック制御のかからない状態に落ち込
み、復帰できなくなってしまうために、致命的な問題点
であると言える。
ィレーセルの段数を多くするなどして、電圧制御発振部
100の発振周波数が高くならないように設計する等の
設計上の注意が必要となり、またアプリケーション的に
は、高周波領域で使用できない事から、周波数範囲の狭
い電圧制御発振回路となるために、応用システムの範囲
が限定されたり、使用上の制約がある等の問題点があ
る。
圧制御発振回路は、電圧制御発振部の発振周波数を高く
すると、電圧制御発振部の出力振幅が小さくなったり、
出力振幅の中心電圧のレベルが変動しするという問題が
あった。
利用できる周波数範囲が狭く、応用システムの範囲が限
定されたり、使用上の制約がある等の問題があった。
れたもので、その目的とするところは、電圧制御発振部
の発振周波数が高くなっても、電圧制御発振部の出力振
幅が一定となる様に制御する事により、低周波領域から
高周波領域まで安定して精度の良い発振周波数のクロッ
ク信号を出力できる電圧制御発振回路を提供することに
ある。
の可変範囲を広くでき、多様な応用システムに対応可能
な電圧制御発振回路を提供することにある。
載した電圧制御発振回路は、入力された制御電圧を電圧
制御発振部を制御する制御電流に変換するV/I変換部
と、この変換した電流に対して制御電流の最大値を制限
する第1のリミッターと、前記制御電流の最小値を制限
する第2のリミッターと、前記第1,第2のリミッター
の基準となる電流を生成する定電流源とを具備するレベ
ル変換回路を用いることを特徴としている。
制御発振回路は、電圧制御発振部と、この電圧制御発振
部から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路と
を備える電圧制御発振回路において、前記電圧制御発振
部は、第1の振幅制御手段と、入力端子に差動の信号が
入力される第1のV/I変換手段と、前記第1のV/I
変換手段の出力電流が共通に供給される第1の電流制御
手段とを有する差動型ディレーセルが複数個リング状に
接続されて構成され、前記振幅制御回路は、第2の振幅
制御手段と、入力端子に電源電圧が印加され、前記第2
の振幅制御手段の出力で制御される第2のV/I変換手
段と、前記第2のV/I変換手段の出力電流が供給され
る第2の電流制御手段とを有する振幅制御対象回路と、
振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、基準電圧生成回路から出力される基準
電圧と前記振幅制御対象回路の出力電圧が入力され、両
者の電位差が無くなるように前記差動型ディレーセルの
第1の振幅制御手段と前記振幅制御対象回路の第2の振
幅制御手段を制御する制御電圧を出力する演算増幅回路
とを具備し、前記演算増幅回路から出力される制御電圧
によって、AC動作している差動型ディレーセルの発振
振幅の下限値と、DC動作している振幅制御対象回路の
出力電圧との誤差を補正することを特徴としている。
制御発振回路は、電圧制御発振部と、この電圧制御発振
部から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路と
を備える電圧制御発振回路において、前記電圧制御発振
部は、第1の振幅制御部と各々の入力端子に差動の信号
が入力される第1,第2のV/I変換部と、前記第1,
第2のV/I変換部の出力電流が共通に供給される第1
の電流制御部とを有する差動型ディレーセルが複数個リ
ング状に接続されて構成され、前記振幅制御回路は、第
2の振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加され、前
記第2の振幅制御部の出力で制御される第3のV/I変
換部と、前記第3のV/I変換部の出力電圧が入力端子
に供給され、前記第2の振幅制御部の出力で制御される
第4のV/I変換部と、前記第3,第4のV/I変換部
の出力電流が共通に供給され、前記第1の電流制御部と
同等の電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制御対
象回路と、振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出
力する基準電圧生成回路と、基準電圧生成回路から出力
される基準電圧と前記振幅制御対象回路の出力電圧が入
力され、両者の電位差が無くなるように前記差動型ディ
レーセルの第1の振幅制御部と前記振幅制御対象回路の
第2の振幅制御部を制御する制御電圧を出力する演算増
幅回路とを具備し、前記演算増幅回路から出力される同
一の制御電圧に対して前記電圧制御発振部を構成してい
る差動型ディレーセルの第1の振幅制御部のトランスコ
ンダクタンスより、前記振幅制御対象回路の第2の振幅
制御部のトランスコンダクタンスの方が大きいことを特
徴としている。
振回路は、差動型ディレーセルが複数個リング状に接続
されて構成された電圧制御発振部と、この電圧制御発振
部から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路と
を備える電圧制御発振回路において、前記振幅制御回路
は、振幅制御対象回路と、振幅制御の基準となる基準電
圧を生成して出力する基準電圧生成回路と、基準電圧生
成回路から出力される基準電圧と前記振幅制御対象回路
の出力電圧が入力され、両者の電位差が無くなるように
前記差動型ディレーセルの振幅制御部と前記振幅制御対
象回路の振幅制御部を制御する制御電圧を出力する演算
増幅回路とを具備し、前記差動型ディレーセルは、第1
の振幅制御部及び第1の電流制御部を有するとともに、
これら第1の振幅制御部と第1の電流制御部の間に、各
々の入力端子に差動の信号が入力される第1,第2のV
/I変換部の対が接続されてなり、かつ、前記振幅制御
対象回路は、第2の振幅制御部及び第2の電流制御部を
有するとともに、これら第2の振幅制御部と第2の電流
制御部の間に、入力端子に電源電圧が入力される単一の
第3のV/I変換部が接続されてなることを特徴として
いる。
振回路は、電圧制御発振部と、この電圧制御発振部から
出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路とを備え
る電圧制御発振回路において、前記電圧制御発振部は、
第1の振幅制御部と、各々の入力端子に差動の信号が入
力される第1,第2のV/I変換部と、前記第1,第2
のV/I変換部の出力電流が共通に供給される第1の電
流制御部とを有する差動型ディレーセルが複数個リング
状に接続されて構成され、前記振幅制御回路は、第2の
振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加され、前記第
2の振幅制御部の出力で制御される第3のV/I変換部
と、前記第3のV/I変換部の出力電流が供給され、前
記第1の電流制御部の電流値より低く且つ1/2より大
きい電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制御対象
回路と、振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力
する基準電圧生成回路と、基準電圧生成回路から出力さ
れる基準電圧と前記振幅制御対象回路の出力電圧が入力
され、両者の電位差が無くなるように前記差動型ディレ
ーセルの第1の振幅制御部と前記振幅制御対象回路の第
2の振幅制御部を制御する制御電圧を出力する演算増幅
回路とを具備し、前記演算増幅回路から出力される同一
の制御電圧に対して前記電圧制御発振部を構成している
差動型ディレーセルの第1の振幅制御部のトランスコン
ダクタンスが、前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御
部のトランスコンダクタンスと実質的に等しいことを特
徴としている。
制御発振回路は、電圧制御発振部と、この電圧制御発振
部から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路と
を備える電圧制御発振回路において、前記電圧制御発振
部は、第1の振幅制御部と、各々の入力端子に差動の信
号が入力される第1,第2のV/I変換部と、前記第
1,第2のV/I変換部の出力電流が共通に供給される
第1の電流制御部とを有する差動型ディレーセルが複数
個リング状に接続されて構成され、前記振幅制御回路
は、第2の振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加さ
れ、前記第2の振幅制御部の出力で制御される第3のV
/I変換部と、前記第3のV/I変換部の出力電流が供
給され、前記第1の電流制御部の電流値の実質的に1/
2の電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制御対象
回路と、振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力
する基準電圧生成回路と、基準電圧生成回路から出力さ
れる基準電圧と前記振幅制御対象回路の出力電圧が入力
され、両者の電位差が無くなるように前記差動型ディレ
ーセルの第1の振幅制御部と前記振幅制御対象回路の第
2の振幅制御部を制御する制御電圧を出力する演算増幅
回路とを具備し、前記演算増幅回路から出力される同一
の制御電圧に対して前記電圧制御発振部を構成している
差動型ディレーセルの第1の振幅制御部のトランスコン
ダクタンスより、前記振幅制御対象回路の第2の振幅制
御部のトランスコンダクタンスの方が小さいことを特徴
としている。
電圧制御発振回路は、差動型ディレーセルで構成された
電圧制御発振部の小振幅出力信号を入力して増幅する小
振幅出力低ゲイン入力差動段と、この小振幅出力低ゲイ
ン入力差動段の出力のDCレベルを調整する出力レベル
調整回路と、この出力レベルを調整された小振幅出力低
ゲイン入力差動段の出力を入力してCMOSレベルの出
力へ増幅するコモンモードフィードバック増幅段と、こ
のコモンモードフィードバック増幅段の出力が入力され
て波形整形した出力信号を出力するCMOSバッファ増
幅段とを具備する出力レベル変換回路を用いることを特
徴としている。
路が、内部に制御電流の最大値Imaxと最小値Imi
nを制限するリミッターを有し、これらのリミッターに
より電圧制御発振部の発振動作が正常に動作する領域の
みを使用可能とする事により、電圧制御発振回路が出力
するクロック信号のデューティや周波数の安定性を向上
できる。
レーセルと振幅制御回路の振幅制御対象回路で使用して
いるディレーセルを同一回路構成にし、振幅制御回路
は、電圧制御発振部におけるディレーセルの出力電圧の
最下点が、低周波動作領域において基準電圧Vref−
αとなるように制御する。これにより、電圧制御発振部
の発振振幅が、高周波動作領域において小さくなる事を
避け、電圧制御発振部の小振幅出力をCMOSレベルに
変換する出力レベル変換回路の正常な動作を可能とし、
出力レベル変換回路が出力するクロック信号のデューテ
ィや周波数の安定性を向上できる。
発振部の出力振幅や出力振幅の中心電圧が変動した場合
でも、その出力レベル変換回路の出力波形の振幅やデュ
ーティがそれらの変動に影響されずに安定動作する事が
できる。
御回路や出力レベル変換回路を用いる事により、電圧制
御発振部の動作周波数範囲において、電圧制御発振部の
出力振幅が一定となる様に制御する事が可能になり、低
周波領域から高周波領域までデューティや周波数の安定
した精度の良い発振周波数を出力できることから、電圧
制御発振回路の発振周波数の可変範囲を広くし、多様な
応用システムに対応可能とする事ができる。
いて図面を参照して説明する。 [第1の実施の形態]図1は、本発明の第1の実施の形
態に係る電圧制御発振回路について説明するためのもの
で、電圧制御発振回路で用いられるレベル変換回路の概
念図である。このレベル変換回路は、入力電圧Vinを
電流に変換するV/I変換部10、定電流源13、定電
流源13の電流値を基準にして出力電流の最大値を所望
の値以下に制限するImax制限部(第1のリミッタ
ー)11、定電流源13の電流値をもとに出力電流の最
小値を所望の値以上に制限するImin制限部(第2の
リミッター)14、Imax制限部11の出力電流とI
min制限部14の出力電流を加算して制御電流Icn
tを生成する加算部15、及び制御電流Icontを電
圧に変換して制御電圧Vcnを生成するI/V変換部1
2から構成されている。
周波数、または出力レベル変換回路の最大動作周波数の
いずれか小さい方の周波数を上回らない制御電流値を選
択し、Imin値は、電圧制御発振部の最小発振周波
数、または出力レベル変換回路の最小動作周波数のいず
れか大きい方の周波数を下回らない制御電流値を選択
し、各々を別々に設定できるようになっている。この事
により電圧制御発振部と出力レベル変換回路の使用周波
数範囲を正常動作可能な範囲のみに限定する事が可能と
なる事から、電圧制御発振回路の制御電圧にどの様な電
圧が入力された場合においても、出力するクロック信号
のデューティや周波数が安定した精度の良い発振周波数
を低周波領域から高周波領域まで安定に出力する事がで
きる。
の具体的な構成例を示す回路図である。V/I変換部1
0は、PMOSトランジスタP13とNMOSトランジ
スタN16で構成され、MOSトランジスタN16のゲ
ートに供給された入力電圧Vinをこの電圧に比例した
電流に変換している。定電流源13は、PMOSトラン
ジスタP10〜P12、NMOSトランジスタN13〜
N15、及び抵抗R2で構成される。上記MOSトラン
ジスタP10,P11、N13,N14及び抵抗R2で
電流I1を生成し、MOSトランジスタP12,N15
でレベルを調整して基準電流Irefを生成している。
ここで、上記定電流源13の電流値I1は、 I1=(1/R2×s)×1n(N14×P10/(N
13×P11)) となる。但し、sは弱反転領域のVg−logId特性
の傾きを表すスロープファクタ、N14はNMOSトラ
ンジスタN14のW/L、P10はPMOSトランジス
タP10のW/L、N13はNMOSトランジスタN1
3のW/L、及びP11はPMOSトランジスタP11
のW/Lをそれぞれ示している。
ジスタP15で構成され、その制限された電流値Ima
xは、 Imax=Iref×P15/P12 となり、PMOSトランジスタP12とP15のサイズ
比で設定する事ができる。これにより、レベル変換回路
は、入力電圧Vinが最大値になった場合においても、
Imaxより大きな電流値を出力する事ができない。
ランジスタP14とNMOSトランジスタN17,N1
8で構成され、その制限された電流値Iminは、 Imin=Iref×P14×N18/(P12×N1
7) となり、MOSトランジスタP12×N17とMOSト
ランジスタP14×N18のトランジスタのサイズ比で
設定する事ができる。これにより、レベル変換回路は、
入力電圧Vinが最小値になった場合においても、Im
inより小きな電流値を出力する事ができない。そし
て、制御電流値がImax値とImin値の間は、V/
I変換部10の変換特性に応じた出力電流を出力する。
で用いているレベル変換回路は、入力電圧Vinにどの
様な電圧が入力された場合においても、電圧制御発振部
と出力レベル変換回路の使用周波数範囲を正常動作可能
な範囲のみに制限した出力電流を出力する。よって、電
圧制御発振部と出力レベル変換回路の安定な動作を保証
できる。
定電流源12は、図2に示した回路構成に限定されるも
のではない。また、Imax値とImin値を制限して
いる定電流源は共通である必要性は無く、それぞれ別々
の定電流源を持ち、各々を別々に設定する事も可能であ
る。
2の実施の形態に係る電圧制御発振回路について説明す
るためのもので、電圧制御発振回路で用いられる振幅制
御回路及び電圧制御発振部を構成するディレーセルの構
成例を示す概念図である。振幅制御回路は、振幅制御対
象回路20、基準電圧生成回路21及び演算増幅回路2
2を含んで構成されている。上記振幅制御対象回路20
は、振幅制御部24、1対のV/I変換部25,26及
び定電流源27で構成される。V/I変換部25の入力
端子には電源電圧VDDが接続され、V/I変換部26
の入力端子には上記振幅制御部24からV/I変換部2
5への制御電圧が供給される。上記V/I変換部25,
26はそれぞれ、振幅制御部24から制御電圧が供給さ
れる。また、上記V/I変換部25,26と電源VSS
間には、定電流源27が接続されている。
制御発振部を構成する1つの差動型のディレーセル23
を抽出して代表的に示している。この差動型ディレーセ
ル23は、複数個がリング状に接続されてリング型の電
圧制御発振部を構成するものであり、各々が振幅制御対
象回路20と実質的に同様な回路構成になっている。す
なわち、振幅制御部28、1対のV/I変換部29,3
0及び定電流源31で構成される。
基準となる基準電圧Vrefを生成して出力するもので
ある。また、上記演算増幅回路22には、振幅制御対象
回路20の出力となる振幅制御部24からの制御電圧と
基準電圧生成回路21で生成された基準電圧Vrefが
その正転入力端(+)と反転入力端(−)に各々供給さ
れ、電圧制御発振部における振幅制御部28を制御する
振幅制御電圧Vbpを出力する。この演算増幅回路22
は、入力された振幅制御対象回路20の出力と基準電圧
生成回路21で生成された基準電圧Vrefが同一の電
圧値になるように、振幅制御対象回路20の振幅制御部
24にフィードバック制御を加える。そして、上記振幅
制御回路によって、電圧制御発振部の発振波形の振幅が
制御されるようになっている。
部24の振幅制御電圧Vbpに対するgm(トランスコ
ンダクタンス)とディレーセル23の振幅制御部28の
振幅制御電圧Vbpに対するgmを同一にすると、従来
例と同様の動作となり、従来例と同様の問題点を生ず
る。
の振幅制御部24のgmをディレーセル23の振幅制御
部28のgmに対して大きくする事により、従来例の問
題点を解決している。具体的には、振幅制御対象回路2
0における振幅制御部24のトランジスタサイズをディ
レーセル23の振幅制御部28のトランジスタサイズに
対して大きくする事により、同一の制御電圧Vbpに対
して、振幅制御対象回路20の出力は基準電圧生成回路
21で生成された基準電圧Vrefと同一になる様に制
御されるが、ディレーセル側の出力電圧は基準電圧Vr
efより低い電圧(Vref−α)になる様に制御され
る事となる。従って、この時のディレーセル側の出力電
圧は、最上点の電圧が電源電圧VDDで、最下点の電圧
が(Vref−α)となり、ディレーセル23の出力振
幅は(VDD−Vref+α)となる。そして、制御電
圧Vcnが低く電圧制御発振部の発振周波数が低い時に
は、このα値は小さくなり、逆に制御電圧Vcnが高く
電圧制御発振部の発振周波数が高い時には、このα値は
大きくなる。
は、電圧制御発振部の発振周波数を制御する制御電圧V
cnに依存し、制御電圧Vcnが高くなり電圧制御発振
部の発振周波数が高くなるにしたがって、振幅が大きく
なる様に制御される。このα値を最適化する事により、
従来回路で問題となった制御電圧Vcnが高くなり電圧
制御発振部の発振周波数が高くなるにしたがって、電圧
制御発振部の発振波形の振幅が小さくなる動作が相殺さ
れる。この結果、本発明の振幅制御回路は、電圧制御発
振部の低周波動作領域から高周波動作領域まで、電圧制
御発振部の発振波形の振幅が略一定となるように制御す
ることができる。
性を示し、図4(b)に本発明の振幅制御回路の動作特
性を示す。図4(a),(b)ともに、電圧制御発振回
路の入力電圧Vinの変化に対して、ディレーセルの遅
延時間を制御する制御電圧Vcn、ディレーセルの出力
振幅を制御する制御電圧Vbp、電圧制御発振部を構成
しているディレーセルの発振動作(AC動作)時の出力
振幅の下限値を示すVbottom、及び電圧制御発振
部を構成しているディレーセルの静止動作(DC動作)
時の出力振幅の下限値を示すVbxの変化をそれぞれ示
している。
refは、入力電圧Vinの変化に依存しないために一
定である。ディレーセルの遅延時間を制御する制御電圧
Vcnは、入力電圧Vinが増加すると同様に増加し
て、ディレーセルの遅延時間を減少する(発振周波数を
増加する)様に変化する。ディレーセルの出力振幅を制
御する制御電圧Vbpは、入力電圧Vinが増加すると
ディレーセルを流れる電流が増加するために、その増加
した電流に応じた電流を流すようにゲート・ソース間の
電圧を大きくする(ソースが電源電圧VDDになるた
め、制御電圧Vbpは減少する方向に変化する)。この
様に双方の釣り合いを取る事によりディレーセルの出力
振幅を制御している。
示している図4(a)では、振幅制御対象回路の出力電
圧は基準電圧Vrefと同一となるように制御され、デ
ィレーセルの静止動作時の出力振幅の下限値を示すVb
xも振幅制御対象回路と同様に基準電圧Vrefと同一
となるように制御されている。しかし、入力電圧Vin
が増加して発振周波数が高くなるにしたがって、ディレ
ーセルの発振動作時の出力振幅の下限値を示すVbot
tomが上昇して、電圧制御発振部の発振振幅が小さく
なっている。
作特性を示している図4(b)では、振幅制御対象回路
の出力電圧は基準電圧Vrefと同一となるように制御
されているが、ディレーセルの静止動作時の出力振幅の
下限値を示すVbxは基準電圧Vrefと同一となるよ
うに制御されず、入力電圧Vinが増加して発振周波数
が高くなるにしたがって、減少する(出力振幅としては
大きくなる)方向に変化する。これは、ちょうど図4
(a)の電圧制御発振部の発振周波数が高くなるにした
がってディレーセルの発振動作時の出力振幅の下限値を
示すVbottomが上昇して行く特性と相殺する形と
なり、その結果として出力振幅の下限値Vbottom
が一定となる。
電圧制御発振回路について説明するためのもので、振幅
制御回路及び電圧制御発振部を構成するディレーセルの
他の構成例を示す概念図である。この図5に示す振幅制
御回路32は、制御対象となる電圧制御発振部を構成し
ている差動型ディレーセル23の半分の回路構成、すな
わち1個の振幅制御部41と入力端子を電源電圧VDD
に接続したV/I変換部36を各々直列に接続し、この
出力電流は制御対象となる電圧制御発振部を構成してい
る差動型ディレーセル23の電流制御部より小さい電流
値の電流制御部37に接続された回路構成となってい
る。
部41のgmをディレーセル23の振幅制御部42のg
mと同じとし、振幅制御対象回路32の電流制御部37
の電流値Icont’をディレーセル23の電流制御部
31の電流値Icontの半分とすると、振幅制御対象
回路32のV/I変換部36に流れる電流値がディレー
セルよりも小さくなるため、図3に示した振幅制御対象
回路より出力電圧は高くなり、ディレーセル側の出力電
圧は低くなる。但し、このままではディレーセル23の
出力振幅(VDD−Vref+α)のα値が大きくなり
すぎる場合がある。
振幅制御部41のgmをディレーセル23の振幅制御部
28のgmより小さくするか、振幅制御対象回路32の
電流制御部37の電流値Icont’をディレーセル2
3の電流制御部31の電流値Icontの半分より大き
くするか、または両者を組み合わせることで、最適なα
値に設定する事ができる。α値が大きくなりすぎると、
電圧制御発振回路がクロック信号を出力できなくなると
いう電圧制御発振回路にとっては致命的な問題点は生じ
ないが、高周波動作領域でfmax特性が悪化するとい
う問題点を生じさせる。以上の様に本発明では従来例の
問題点を解決し、なおかつ回路規模の簡略化が可能とな
る。
している差動型ディレーセルと振幅制御対象回路の同一
性が求められる事から、マスクレイアウトの形状に起因
する寄生素子等も同一にする必要性があるため、マスク
レイアウトの形状も同一になるように配置等を考慮し、
マスクレイアウトの形状に関する制約がある。しかしな
がら、本発明では電圧制御発振部を構成している差動型
ディレーセルと振幅制御対象回路においてトランジスタ
サイズで差をつけているために、同一性が求められな
い。従って、マスクレイアウトの形状に関する制約も無
く、マスクレイアウトの設計も簡単である。また、この
事は、本発明が従来よりもトランジスタ形状のプロセス
上のばらつきの影響を受け難いという事も示している。
5に示した振幅制御回路及び電圧制御発振部を構成する
ディレーセルの具体的な構成例を示す回路図である。図
6に示している振幅制御回路及びディレーセルは、図3
に示した回路の構成例であり、差動型のディレーセル4
5は、PMOSトランジスタP19,P20で構成され
た振幅制御部と、差動の発振信号が入力されるNMOS
トランジスタN23,N24で構成されたV/I変換部
と、発振周波数制御電圧Vcnがゲートに入力されるN
MOSトランジスタN25で構成された電流制御部とで
構成されている。そして、このディレーセル45が複数
個リング状に接続されて電圧制御発振部を構成してい
る。
レーセル45と同様の回路構成になっており、PMOS
トランジスタP17,P18で構成された振幅制御部
と、入力用のNMOSトランジスタN20,N21で構
成されたV/I変換部と、発振周波数制御電圧Vcnが
入力されるNMOSトランジスタN22で構成された電
流制御部とで構成されている。
部のPMOSトランジスタP17,P18のトランジス
タサイズを、ディレーセル45の振幅制御部のPMOS
トランジスタP19,P20のトランジスタサイズに対
して大きくする事により、同一の振幅制御電圧Vbpに
対して、振幅制御対象回路43の出力は基準電圧生成回
路で生成された基準電圧Vrefと同一になる様に制御
されるが、ディレーセル45側の出力電圧は基準電圧V
refより低い電圧(Vref−α)になる様に制御さ
れる事となる。このα値は、制御電圧Vcnが低く電圧
制御発振部の発振周波数が低い時には小さくなり、逆に
制御電圧Vcnが高く電圧制御発振部の発振周波数が高
い時には大きくなる。
ている振幅制御回路は、電圧制御発振部の発振周波数を
制御する制御電圧Vcnに依存し、制御電圧Vcnが高
くなり電圧制御発振部の発振周波数が高くなるにしたが
って、電圧制御発振部の出力振幅が大きくなる様に制御
する。この結果、電圧制御発振部の発振周波数が高くな
るにしたがってディレーセル45の出力振幅が小さくな
る特性と相殺する形となり、電圧制御発振部の出力振幅
が低周波動作領域から高周波動作領域まで略一定となる
ように制御することができる。
示した回路の構成例であり、振幅制御対象回路46が電
圧制御発振部を構成している差動型ディレーセル48の
半分の回路構成からなる。すなわち、差動型ディレーセ
ル48がPMOSトランジスタP22,P23で構成さ
れた振幅制御部と、差動の発振信号が入力されるNMO
SトランジスタN28,N29で構成されたV/I変換
部と、発振周波数制御電圧Vcnがゲートに入力される
NMOSトランジスタN30で構成された電流制御部と
で構成されているのに対し、振幅制御対象回路46は、
PMOSトランジスタP21で構成される振幅制御部
と、ゲートに電源電圧VDDを印加するNMOSトラン
ジスタN26で構成されるV/I変換部と、ゲートに制
御電圧Vcnが印加されるNMOSトランジスタN27
で構成される電流制御部とで構成されている。
御部は、電源VDD,VSS間に直列に接続されてい
る。上記電流制御部の出力電流は、制御対象となる電圧
制御発振部を構成している差動型ディレーセル48の電
流制御部より小さい電流値となるように、NMOSトラ
ンジスタN27のトランジスタサイズを小さくしてい
る。ここで、振幅制御対象回路46の振幅制御部のPM
OSトランジスタP21のトランジスタサイズを、ディ
レーセル45の振幅制御部のPMOSトランジスタP2
2(またはPMOSトランジスタP23)のトランジス
タサイズより小さくする事や、振幅制御対象回路46の
電流制御部のNMOSトランジスタN27のトランジス
タサイズをディレーセル48の電流制御部のNMOSト
ランジスタN30のトランジスタサイズの半分より大き
くする事により、最適なα値に設定する事ができる。こ
の結果、本発明の電圧制御発振回路で用いている振幅制
御回路は、電圧制御発振部の出力振幅が低周波動作領域
から高周波動作領域まで略一定となるように制御するこ
とができるとともに、回路規模の簡略化が可能となる。
は、振幅制御電圧Vbpのフィードバックループの他
に、NMOSトランジスタN20,N21による小さな
ループができるために、回路的に不安定になりやすい。
よって、図7に示した回路の方が、振幅制御回路のみの
動作の安定度は高い。ただし、図6の振幅制御回路を採
用する際には、回路設計やマスクレイアウト上の寄生素
子等に十分配慮して設計すれば良い。
振部を構成する差動型ディレーセルの他の構成例を示す
回路図である。差動型ディレーセル59は、PMOSト
ランジスタP36,P37で構成された振幅制御部と、
差動の発振信号が入力されるNMOSトランジスタN5
1,N52で構成されたV/I変換部と、ゲートに発振
周波数制御電圧Vcnが入力されるNMOSトランジス
タN53からなる電流制御部と、各々ゲートとドレイン
が接続され、PMOSトランジスタP36,P37に対
して並列に挿入された負荷PMOSトランジスタP3
5,P38とで構成されている。
ンジスタP34で構成される振幅制御部と、ゲートとド
レインが接続され、PMOSトランジスタP34に対し
て並列に挿入された負荷PMOSトランジスタP33
と、ゲートに電源電圧VDDを印加したNMOSトラン
ジスタN49で構成されるV/I変換部と、差動型ディ
レーセル59の電流制御部より小さい電流値のトランジ
スタN50で構成される電流制御部とによって構成され
ている。
のPMOSトランジスタP34のトランジスタサイズを
ディレーセル59の振幅制御部のPMOSトランジスタ
P36(またはPMOSトランジスタP37)のトラン
ジスタサイズより小さくする事や、振幅制御対象回路5
7の電流制御部のNMOSトランジスタN50のトラン
ジスタサイズをディレーセル59の電流制御部のNMO
SトランジスタN53のトランジスタサイズの半分より
大きくする事により、最適なα値に設定する事ができ
る。ゲートとドレインを接続した負荷PMOSトランジ
スタP33,P35,P38は、ディレーセル59の出
力振幅の下限値を安定に保つ事ができ、ディレーセル5
9の振幅制御部の振幅制御電流と出力振幅の関係の線形
性を高める事ができる特徴を持っている。
定化は、電源投入時やノイズ等の外乱により電圧制御発
振部が不安定な動作をしている時に、電圧制御発振部が
異常動作状態へ落ち込む事を防ぎ、PLLの引き込みを
助ける事ができる。また、ディレーセル59の振幅制御
部の振幅制御電流と出力振幅の関係の線形性は、振幅制
御を行うフィードバック制御の安定性を高める効果が有
り、発振振幅の安定性や電圧制御発振部の発振特性の線
形性を高める効果が有る。
振部を構成するディレーセルの更に他の構成例を示す回
路図である。ディレーセル62は、PMOSトランジス
タP40,P41で構成された振幅制御部と、差動の発
振信号が入力されるNMOSトランジスタN59.N6
0で構成されたV/I変換部と、各々PMOSトランジ
スタP40,41と並列に接続され、ゲートに発振周波
数制御電圧Vcnが入力されるトランジスタN61から
なる電流制御部と、ゲートとドレインに電源電圧VDD
が印加される負荷NMOSトランジスタN57,N58
で構成されている。
ィレーセル62の半分の回路構成、すなわちPMOSト
ランジスタP39で構成される振幅制御部と、PMOS
トランジスタP39と並列に接続され、ゲートとドレイ
ンに電源電圧VDDが印加される負荷NMOSトランジ
スタN54と、ゲートに電源電圧VDDが印加されるN
MOSトランジスタN55で構成されるV/I変換部
と、差動型ディレーセル62の電流制御部より小さい電
流値のNMOSトランジスタN56で構成される電流制
御部とで構成されている。
部のPMOSトランジスタP39のトランジスタサイズ
を、ディレーセル62の振幅制御部のPMOSトランジ
スタP40(またはPMOSトランジスタP41)のト
ランジスタサイズより小さくする事や、あるいは振幅制
御対象回路60の電流制御部のNMOSトランジスタN
56のトランジスタサイズをディレーセル62の電流制
御部のNMOSトランジスタN61のトランジスタサイ
ズの半分より大きくする事により、最適なα値に設定す
る事ができる。ゲートとドレインに電源電圧VDDを印
加している負荷NMOSトランジスタN54,N57,
N58は、ディレーセル62の出力振幅の下限値を安定
に保つ事ができ、ディレーセル62の振幅制御部の振幅
制御電流と出力振幅の関係の線形性を高める事ができる
特徴を持っている。
定化は、電源投入時やノイズ等の外乱により電圧制御発
振部が不安定な動作をしている時に、電圧制御発振部が
異常動作状態へ落ち込む事を防ぎ、PLLの引き込みを
助ける事ができる。また、ディレーセル62の振幅制御
部の振幅制御電流と出力振幅の関係の線形性は、振幅制
御を行うフィードバック制御の安定性を高める効果が有
り、発振振幅の安定性や電圧制御発振部の発振特性の線
形性を高める効果が有る。
第3の実施の形態に係る電圧制御発振回路について説明
するためのもので、出力レベル変換回路の概念図であ
る。本発明の出力レベル変換回路は、小振幅出力低ゲイ
ン入力差動段49、出力レベル調整回路50、コモンモ
ードフィードバック増幅段51、及びCMOSバッファ
増幅段52から構成されている。
御発振部の小振幅で差動の発振信号は、小振幅出力低ゲ
イン入力差動段49に入力されて、低ゲイン(数倍程
度)ながら増幅される。しかし、出力振幅は回路的に制
限されるために、小振幅出力低ゲイン入力差動段49の
ゲインは、出力波形のスルーレイト(出力波形の単位時
間当たりの電圧変化量)を向上させる事に寄与し、後段
の増幅段の高速化(遅延時間の短縮)を助けている。小
振幅出力低ゲイン入力差動段49の差動の出力信号は、
次段の出力レベル調整回路50へ入力される。
ゲイン入力差動段49の半分の回路構成の参照回路を構
成し、この参照回路により、プロセスばらつきや電源電
圧等の環境変化に対して、出力レベルが変化しないよう
に制御している。そしてこの出力レベル調整回路50の
出力信号は、コモンモードフィードバック増幅段51へ
入力される。コモンモードフィードバック増幅段51
は、出力レベル調整回路50の小振幅出力信号をCMO
Sレベルの出力信号にレベルを変換する。
出力信号レベルを参照して動作レベルを調整するコモン
モードフィードバック制御回路は、プロセスばらつきや
電源電圧等の環境変化に対して、コモンモードフィード
バック増幅段自体の動作レベルを安定に保ち、出力する
クロック信号のデューティを一定に保ち、出力するクロ
ック信号の出力レベルをCMOSレベルに安定にレベル
を変換する事ができる。そしてこのコモンモードフィー
ドバック増幅段51の出力信号は、通常のCMOSバッ
ファ増幅段52へ入力される。
数や出力負荷(出力ファンアウト数)に応じた出力駆動
電流となる様に設定され、コモンモードフィードバック
増幅段51の出力信号を波形整形して出力する。
変換回路の具体的な構成例を示す回路図である。上記小
振幅出力低ゲイン入力差動段49は、ドレインとゲート
を接続したPMOSトランジスタP24,P25と、ゲ
ートに入力信号Vi1,Vi2が入力されるNMOSト
ランジスタN31,N32と、これらのMOSトランジ
スタN31,N32の共通ソースに接続されバイアス電
流を制御するNMOSトランジスタN33から構成され
ている。
力低ゲイン入力差動段49の半分の回路構成の参照回路
をPMOSトランジスタP26とNMOSトランジスタ
N38,N39で構成している。この参照回路により、
プロセスばらつきや電源電圧等の環境変化に対して、小
振幅出力低ゲイン入力差動段49の出力レベルが変化し
ないように、この小振幅出力低ゲイン入力差動段49の
出力に接続されたNMOSトランジスタN34,N35
のゲートに参照回路の出力電圧を入力して制御してい
る。NMOSトランジスタN36,N37は、上記MO
SトランジスタN31,N32に入力される入力信号V
i1,Vi2のコモンモードのレベル変動に対して小振
幅出力低ゲイン入力差動段49の出力レベルが変化しな
いようにフィードバック制御をしている。
は、出力レベル調整回路50でレベルを調整された小振
幅出力低ゲイン入力差動段49の出力信号が入力され、
小振幅の入力信号を増幅してCMOSレベルの出力信号
を出力している。この出力レベル調整回路50は、NM
OSトランジスタN40,N41を負荷回路とし、この
負荷回路を入力用のPMOSトランジスタP29,P3
0のドレインにそれぞれ接続して、差動型の増幅回路を
構成している。PMOSトランジスタP27,P28
は、MOSトランジスタP29とP30に入力される入
力信号のコモンモードのレベル変動に対して出力レベル
が変化しないようにフィードバック制御をしている。
トランジスタP31とNMOSトランジスタN42とか
らなるCMOSインバータ回路と、PMOSトランジス
タP32とNMOSトランジスタN43とからなる通常
のCMOSインバータ回路で構成されている。上記PM
OSトランジスタP32とNMOSトランジスタN43
のトランジスタサイズは、出力周波数や出力負荷(出力
ファンアウト数)に応じた出力駆動電流となる様に設定
される。また、初段の小振幅出力低ゲイン入力差動段4
9は、ゲインが低いために入力振幅が小さい場合には、
複数段を直列に接続して、トータルのゲインを上げるよ
うな使用方法が取られる。
動段49の他の構成例を示している。この回路は、ドレ
インとゲートを電源電圧VDDに接続したNMOSトラ
ンジスタN44,N45と、ゲートに入力信号Vi1,
Vi2が入力されるNMOSトランジスタN46,N4
7と、これらNMOSトランジスタN46,N47の共
通ソースに接続され、バイアス電流を制御するNMOS
トランジスタN48から構成されている。また、出力レ
ベル調整回路50で用いられる参照回路は、小振幅出力
低ゲイン入力差動段49の半分の回路構成で構成し、プ
ロセスばらつきや電源電圧等の環境変化に対して、出力
レベルが変化しないように制御している。
ベル変換回路、振幅制御回路及び出力レベル変換回路は
それぞれ、各々の回路技術を単独で用いる事も可能で有
るが、複数の回路技術を選択的に組み合わせて用いる事
も可能である。
は、電源電圧VDDを動作基準に動作する様になってい
る。これに対し、MOSトランジスタの極性を代え、P
チャネル型とNチャネル型を入れ換えた回路構成とする
と、接地電圧VSSを動作基準に動作するようになり、
同様の効果を得る事が可能となる。
発振回路で用いたレベル変換回路では、変換回路内部に
制御電流の最大値Imaxと最小値Iminを制限する
リミッターを持っており、このリミッターにより電圧制
御発振部の発振動作が正常に動作する領域のみを使用可
能とする事により、電圧制御発振回路が出力するクロッ
ク信号のデューティや周波数の安定性を向上させる事が
可能となる。
振幅制御回路では、電圧制御発振部の発振振幅を低周波
動作領域では基準電圧Vrefとなるように制御をし、
高周波動作領域においては(VDD−Vref+α)と
なるように制御する。この事により電圧制御発振部の発
振振幅が、高周波動作領域において小さくなる事を避
け、電圧制御発振部の低周波動作領域から高周波動作領
域まで略一定で、発振振幅の動作周波数依存性をなくす
事が可能となる。
た出力レベル変換回路では、電圧制御発振部の出力振幅
や出力振幅の中心電圧が変動した場合でも、その出力レ
ベル変換回路の出力波形の振幅やデューティがそれらの
変動に影響されずに安定動作する事ができる。
路及び出力レベル変換回路を必要に応じて選択的に用い
ることにより、電圧制御発振部の発振周波数が高くなっ
ても、電圧制御発振部の出力振幅がほぼ一定となる様に
制御する事ができ、低周波領域から高周波領域まで安定
して精度の良い発振周波数のクロック信号を出力できる
電圧制御発振回路が得られる。
多様な応用システムに対応可能な電圧制御発振回路が得
られる。
回路について説明するためのもので、電圧制御発振回路
で用いられるレベル変換回路の概念図。
を示す回路図。
回路について説明するためのもので、振幅制御回路及び
電圧制御発振部を構成するディレーセルの構成例を示す
概念図。
のもので、(a)図は従来の振幅制御回路の動作特性
図、(b)図は本発明の電圧制御発振回路で用いた振幅
制御回路の動作特性図。
回路について説明するためのもので、振幅制御回路及び
電圧制御発振部を構成するディレーセルの他の構成例を
示す概念図。
を構成するディレーセルの具体的な構成例を示す回路
図。
を構成するディレーセルの具体的な構成例を示す回路
図。
ィレーセルの他の具体的な構成例を示す回路図。
ィレーセルの更に他の具体的な構成例を示す回路図。
振回路について説明するためのもので、出力レベル変換
回路の概念図。
な構成例を示す回路図。
ている小振幅出力低ゲイン入力差動段の他の構成例を示
す回路図。
基本的な電圧制御発振回路を示す回路図。
の構成例を示す回路図。
構成例を示す回路図。
回路の構成例を示す回路図。
れている小振幅差動型のディレーセルで構成された電圧
制御発振部の発振動作波形を示す波形図。
ためのもので、(a)図は発振周波数が低い場合の波形
図、(b)図は発振周波数が高い場合の波形図。
レーセル、 7…出力レベル変換回路、 8,21,33…基準電圧生成回路、 9,22,34,44,47,58,61…演算増幅回
路、 10…V/I変換部、 11…Imaxリミッター、 12…I/V変換部、 13…定電流源、 14…Iminリミッター、 20,32,43,46,57,60,101…振幅制
御対象回路、 24,28,41…振幅制御部、 25,26,29,30,36…V/I変換部、 27,31,37…ディレーセルを構成している電流制
御部、 49…小振幅低ゲイン入力差動段、 50…出力レベル調整回路、 51…コモンモードフィードバック増幅段、 52…CMOSバッファ増幅段、 100…電圧制御発振部、 P1〜P41…PMOSトランジスタ、 N1〜N61…NMOSトランジスタ、 R1,R2…抵抗素子。
Claims (7)
- 【請求項1】 入力された制御電圧を電圧制御発振部を
制御する制御電流に変換するV/I変換部と、この変換
した電流に対して制御電流の最大値を制限する第1のリ
ミッターと、前記制御電流の最小値を制限する第2のリ
ミッターと、前記第1,第2のリミッターの基準となる
電流を生成する定電流源とを具備するレベル変換回路を
用いることを特徴とする電圧制御発振回路。 - 【請求項2】 電圧制御発振部と、この電圧制御発振部
から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路とを
備える電圧制御発振回路において、 前記電圧制御発振部は、第1の振幅制御手段と、入力端
子に差動の信号が入力される第1のV/I変換手段と、
前記第1のV/I変換手段の出力電流が共通に供給され
る第1の電流制御手段とを有する差動型ディレーセルが
複数個リング状に接続されて構成され、 前記振幅制御回路は、 第2の振幅制御手段と、入力端子に電源電圧が印加さ
れ、前記第2の振幅制御手段の出力で制御される第2の
V/I変換手段と、前記第2のV/I変換手段の出力電
流が供給される第2の電流制御手段とを有する振幅制御
対象回路と、 振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、 基準電圧生成回路から出力される基準電圧と前記振幅制
御対象回路の出力電圧が入力され、両者の電位差が無く
なるように前記差動型ディレーセルの第1の振幅制御手
段と前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御手段を制御
する制御電圧を出力する演算増幅回路とを具備し、 前記演算増幅回路から出力される制御電圧によって、A
C動作している差動型ディレーセルの発振振幅の下限値
と、DC動作している振幅制御対象回路の出力電圧との
誤差を補正することを特徴とする電圧制御発振回路。 - 【請求項3】 電圧制御発振部と、この電圧制御発振部
から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路とを
備える電圧制御発振回路において、 前記電圧制御発振部は、第1の振幅制御部と各々の入力
端子に差動の信号が入力される第1,第2のV/I変換
部と、前記第1,第2のV/I変換部の出力電流が共通
に供給される第1の電流制御部とを有する差動型ディレ
ーセルが複数個リング状に接続されて構成され、 前記振幅制御回路は、 第2の振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加され、
前記第2の振幅制御部の出力で制御される第3のV/I
変換部と、前記第3のV/I変換部の出力電圧が入力端
子に供給され、前記第2の振幅制御部の出力で制御され
る第4のV/I変換部と、前記第3,第4のV/I変換
部の出力電流が共通に供給され、前記第1の電流制御部
と同等の電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制御
対象回路と、 振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、 基準電圧生成回路から出力される基準電圧と前記振幅制
御対象回路の出力電圧が入力され、両者の電位差が無く
なるように前記差動型ディレーセルの第1の振幅制御部
と前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部を制御する
制御電圧を出力する演算増幅回路とを具備し、 前記演算増幅回路から出力される同一の制御電圧に対し
て前記電圧制御発振部を構成している差動型ディレーセ
ルの第1の振幅制御部のトランスコンダクタンスより、
前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部のトランスコ
ンダクタンスの方が大きいことを特徴とする電圧制御発
振回路。 - 【請求項4】 差動型ディレーセルが複数個リング状に
接続されて構成された電圧制御発振部と、この電圧制御
発振部から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回
路とを備える電圧制御発振回路において、 前記振幅制御回路は、 振幅制御対象回路と、 振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、 基準電圧生成回路から出力される基準電圧と前記振幅制
御対象回路の出力電圧が入力され、両者の電位差が無く
なるように前記差動型ディレーセルの振幅制御部と前記
振幅制御対象回路の振幅制御部を制御する制御電圧を出
力する演算増幅回路とを具備し、 前記差動型ディレーセルは、 第1の振幅制御部及び第1の電流制御部を有するととも
に、これら第1の振幅制御部と第1の電流制御部の間
に、各々の入力端子に差動の信号が入力される第1,第
2のV/I変換部の対が接続されてなり、かつ、 前記振幅制御対象回路は、 第2の振幅制御部及び第2の電流制御部を有するととも
に、これら第2の振幅制御部と第2の電流制御部の間
に、入力端子に電源電圧が入力される単一の第3のV/
I変換部が接続されてなることを特徴とする電圧制御発
振回路。 - 【請求項5】 電圧制御発振部と、この電圧制御発振部
から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路とを
備える電圧制御発振回路において、 前記電圧制御発振部は、第1の振幅制御部と、各々の入
力端子に差動の信号が入力される第1,第2のV/I変
換部と、前記第1,第2のV/I変換部の出力電流が共
通に供給される第1の電流制御部とを有する差動型ディ
レーセルが複数個リング状に接続されて構成され、 前記振幅制御回路は、 第2の振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加され、
前記第2の振幅制御部の出力で制御される第3のV/I
変換部と、前記第3のV/I変換部の出力電流が供給さ
れ、前記第1の電流制御部の電流値より低く且つ1/2
より大きい電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制
御対象回路と、 振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、 基準電圧生成回路から出力される基準電圧と前記振幅制
御対象回路の出力電圧が入力され、両者の電位差が無く
なるように前記差動型ディレーセルの第1の振幅制御部
と前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部を制御する
制御電圧を出力する演算増幅回路とを具備し、 前記演算増幅回路から出力される同一の制御電圧に対し
て前記電圧制御発振部を構成している差動型ディレーセ
ルの第1の振幅制御部のトランスコンダクタンスが、前
記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部のトランスコン
ダクタンスと実質的に等しいことを特徴とする電圧制御
発振回路。 - 【請求項6】 電圧制御発振部と、この電圧制御発振部
から出力される信号の振幅を制御する振幅制御回路とを
備える電圧制御発振回路において、 前記電圧制御発振部は、第1の振幅制御部と、各々の入
力端子に差動の信号が入力される第1,第2のV/I変
換部と、前記第1,第2のV/I変換部の出力電流が共
通に供給される第1の電流制御部とを有する差動型ディ
レーセルが複数個リング状に接続されて構成され、 前記振幅制御回路は、 第2の振幅制御部と、入力端子に電源電圧が印加され、
前記第2の振幅制御部の出力で制御される第3のV/I
変換部と、前記第3のV/I変換部の出力電流が供給さ
れ、前記第1の電流制御部の電流値の実質的に1/2の
電流値の第2の電流制御部とを有する振幅制御対象回路
と、 振幅制御の基準となる基準電圧を生成して出力する基準
電圧生成回路と、 基準電圧生成回路から出力される基準電圧と前記振幅制
御対象回路の出力電圧が入力され、両者の電位差が無く
なるように前記差動型ディレーセルの第1の振幅制御部
と前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部を制御する
制御電圧を出力する演算増幅回路とを具備し、 前記演算増幅回路から出力される同一の制御電圧に対し
て前記電圧制御発振部を構成している差動型ディレーセ
ルの第1の振幅制御部のトランスコンダクタンスより、
前記振幅制御対象回路の第2の振幅制御部のトランスコ
ンダクタンスの方が小さいことを特徴とする電圧制御発
振回路。 - 【請求項7】 差動型ディレーセルで構成された電圧制
御発振部の小振幅出力信号を入力して増幅する小振幅出
力低ゲイン入力差動段と、この小振幅出力低ゲイン入力
差動段の出力のDCレベルを調整する出力レベル調整回
路と、この出力レベルを調整された小振幅出力低ゲイン
入力差動段の出力を入力してCMOSレベルの出力へ増
幅するコモンモードフィードバック増幅段と、このコモ
ンモードフィードバック増幅段の出力が入力されて波形
整形した出力信号を出力するCMOSバッファ増幅段と
を具備する出力レベル変換回路を用いることを特徴とす
る電圧制御発振回路。
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