JP2001015039A

JP2001015039A - プラズマディスプレイパネル

Info

Publication number: JP2001015039A
Application number: JP18578499A
Authority: JP
Inventors: Kazuki Takagi; 一樹高木; Katsuya Irie; 克哉入江; Fumihiro Namiki; 文博並木
Original assignee: Fujitsu Ltd
Current assignee: Fujitsu Ltd
Priority date: 1999-06-30
Filing date: 1999-06-30
Publication date: 2001-01-19

Abstract

(57)【要約】【課題】ＰＤＰに関し、放電セルを複数に分割するこ
とで、アドレス期間を増加させることなく、サブフィー
ルド数を減少させて、高輝度、高階調の表示を行う。【解決手段】プラズマディスプレイパネルの一対の基
板間にマトリクス状に画素を配列し、一対の基板のいず
れか一方の基板に設けた隔壁によって画素を区画すると
ともに各画素を複数のサブピクセルに分割し、分割した
各サブピクセルの領域をさらに一対の基板のいずれか一
方の基板に設けた障壁によって複数に分割し、その分割
サブピクセルの領域内で放電を発生させる電極を設け
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、プラズマディス
プレイパネル（ＰＤＰ）に関し、さらに詳しくは、放電
セルをマトリクス状に配置し、任意の放電セルを点灯す
ることで様々な内容を表示するマトリクス表示方式のＰ
ＤＰに関する。

【０００２】

【従来の技術】ＰＤＰは視認性に優れ、高速表示が可能
であり、しかも比較的大画面化の容易な薄型表示デバイ
スである。マトリクス表示方式の、なかでも面放電型の
ＰＤＰは、駆動電圧の印加に際して対となる表示電極を
同一の基板上に配列したＰＤＰであり、蛍光体によるカ
ラー表示に適している。

【０００３】従来、例えばＡＣ駆動方式の３電極面放電
型のカラーＰＤＰは、以下のような構成となっている。
すなわち、図１２に示すように、ＰＤＰ１０はガラスか
らなる前面側の基板１１と背面側の基板２１から構成さ
れている。前面側の基板１１には、行Ｌ毎に一対ずつ面
放電（表示用の主放電であるため表示放電と呼ばれた
り、アドレス後の維持放電であるためサステイン放電と
呼ばれたりする）発生用のサステイン電極（表示電極）
Ｘ，Ｙが水平方向にほぼ平行に配置されている。行Ｌは
画面における水平方向のセル列である。サステイン電極
Ｘ，Ｙは、それぞれが透明電極１２と金属電極（バス電
極）１３で形成され、低融点ガラスからなる誘電体層１
７で被覆されている。誘電体層１７の表面にはＭｇＯか
らなる保護層１８が設けられている。

【０００４】背面側の基板２１上には、下地層２２が形
成され、その上にアドレス放電発生用の複数のアドレス
電極（信号電極とも呼ばれる）Ａが形成されている。ア
ドレス電極Ａは誘電体層２４によって被覆されている。
誘電体層２４の上には、アドレス電極Ａを挟むように放
電を物理的に区分するためのストライプ状の多数のリブ
（隔壁）２９が垂直方向（サステイン電極と交差する方
向）にほぼ平行に設けられている。これらのリブ２９に
よって放電空間３０が行方向にサブピクセル（単位発光
領域）毎に区画され、かつ放電空間３０の間隙寸法が規
定されている。そして、リブ間の細長い溝内にはカラー
表示のためのＲ，Ｇ，Ｂの３色の蛍光体層２８Ｒ，２８
Ｇ，２８Ｂが形成されている。３色の配置パターンは、
１列のセルの発光色が同一でかつ隣接する列どうしの発
光色が異なるストライプパターンである。

【０００５】放電空間３０には主成分のネオンにキセノ
ンを混合した放電ガスが充填されており、蛍光体層２８
Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは放電時のキセノンが放つ紫外線に
よって局部的に励起されて発光する。表示の１画素（ピ
クセル）は行方向に並ぶ３個のサブピクセルで構成され
る。各サブピクセル内の構造体が放電セル（表示素子）
である。

【０００６】隔壁２９の配置パターンがストライプパタ
ーンであることから、放電空間３０のうちの各列に対応
した部分は全ての行Ｌに跨がって列方向に連続してい
る。そのため、隣接する行Ｌどうしの電極間隔（逆スリ
ット）の寸法と各行Ｌの面放電ギャップとの比は、列方
向の放電結合を防ぐことのできる値に選定されている。

【０００７】なお、前記隔壁は表示電極対間の逆スリッ
トに対応する部分で隔壁間間隔を狭くするための突起部
を付属させたり、当該部位の隔壁間底部に隔壁よりも背
の低い障壁を付属させることができ、本発明ではこれら
の形状を含めて帯状と定義する。

【０００８】表示は、サステイン電極Ｙとアドレス電極
Ａとの間で放電を発生させて点灯すべき放電セルを選択
した後、サステイン電極Ｘ，Ｙ間に維持放電電圧を交互
に印加して維持放電を発生させることにより行う。

【０００９】図１３は従来の３電極面放電型のＰＤＰの
平面図である。ＰＤＰ１０の基本となる最小の発光単位
は、上述したように、サブピクセル（通常この最小のセ
ルを単に「放電セル」という）Ｃであり、行方向に並ぶ
Ｒ用のサブピクセルＣ（Ｒ）と、Ｇ用のサブピクセルＣ
（Ｇ）と、Ｂ用のサブピクセルＣ（Ｂ）との３個のサブ
ピクセルで１つの画素Ｐが構成される。

【００１０】図１４は１つの画素Ｐを模式的に示した図
であり、このように隔壁２９で区分けされたＲ，Ｇ，Ｂ
の３個のサブピクセルで１つの画素Ｐが構成される。図
中、Ｐ０は画素ピッチである。

【００１１】ＰＤＰのカラー表示は、１画素Ｐ内のＲ，
Ｇ，Ｂの各色の階調を変化させることにより行う。

【００１２】図１５は従来のＰＤＰのフィールド構成お
よび駆動電圧波形の一例を示す説明図である。ＰＤＰの
階調表現は、２値の点灯制御によって行うため、入力画
像である時系列のフレームＦが奇数フィールドｆと偶数
フィールドｆからなる場合、各フィールドｆ（符号の添
字は表示順位を表す）を、点灯時間の異なる例えば８個
のサブフィールドｓｆ１，…，ｓｆ８に分割することに
よって行う。言い換えれば、フィールドｆを８個のサブ
フィールドｓｆ１〜ｓｆ８の集合に置き換え、これらサ
ブフィールドｓｆ１〜ｓｆ８における輝度の相対比率が
１：２：４：１６：３２：６４：１２８となるように重
み付けをして各サブフィールドｓｆ１〜ｓｆ８の発光回
数を設定する。サブフィールド単位の点灯／非点灯の組
み合わせで、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色毎に２５６段階の輝度設
定を行うことができるので、表示可能な色の数（発色
数）は２５６³となる。

【００１３】各サブフィールドｓｆ１〜ｓｆ８に割り当
てるサブフィールド時間Ｔｓｆは、画面全体の放電セル
の電荷を消去するリセット期間ＴＲと、例えば書き込み
形式でアドレッシングを行う場合であれば点灯すべき放
電セルを選択するアドレス期間ＴＡと、階調レベルに応
じた輝度を確保するために点灯状態を維持するサステイ
ン期間ＴＳからなる。各サブフィールド期間Ｔｓｆにお
いて、サステイン期間ＴＳの長さは輝度の重みが大きい
ほど長いが、リセット期間ＴＲおよびアドレス期間ＴＡ
の長さは輝度の重みに関わらず一定である。つまり、１
つのフィールドｆに対応する８つのサブフィールド期間
Ｔｓｆの長さは互いに異なり、輝度の重みが小さいほ
ど、サブフィールド期間Ｔｓｆに対するサステイン準備
期間（＝リセット期間ＴＲ＋アドレス期間ＴＡ）の長さ
の割合が大きくなる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】このように、従来のＰ
ＤＰにおいては、１画素を３つのサブピクセルで構成
し、階調表現はサブフィールド単位の点灯／非点灯の組
み合わせによって行っていた。このため、フルカラー
（発色数２５６³）を表示するためには、フィールドｆ
を８つ以上のサブフィールドに分割する必要があった。

【００１５】しかし、ハイビジョン用のＰＤＰなど、行
のライン数が増加し、各フィールドｆ内を８サブフィー
ルド以上で構成した場合、アドレス期間ＴＡが大きくな
ってしまい、その分各サブフィールドにおける発光回数
が減ってしまい暗くなってしまう。また、サブフィール
ド数を少なくした場合には、階調数が低下してしまうと
いう不具合がある。

【００１６】この発明は、このような事情を考慮してな
されたもので、放電セルを複数に分割することにより、
アドレス期間を増加させることなく、サブフィールド数
を減少させて、高輝度、高階調の表示ができるようにし
たプラズマディスプレイパネルを提供するものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】この発明は、対向して配
置された一対の基板間にマトリクス状に画素を配列し、
一対の基板のいずれか一方の基板に設けた隔壁によって
画素を区画するとともに各画素を複数のサブピクセルに
分割し、分割した各サブピクセルの領域をさらに一対の
基板のいずれか一方の基板に設けた障壁によって複数に
分割し、その分割サブピクセルの領域内で放電を発生さ
せる電極を設けてなるプラズマディスプレイパネルであ
る。

【００１８】すなわち、この発明は、入力画像である時
系列の各フレーム（フィールド）を複数のサブフィール
ドに分割し、サブフィールドの点灯／非点灯によって階
調表現を行うプラズマディスプレイパネルに適用可能で
あり、障壁で各サブピクセルを隔壁と平行に複数に分割
したプラズマディスプレイパネルである。

【００１９】この発明によれば、サブフレーム単位の点
灯／非点灯で階調表現をするだけでなく、複数に分割さ
れた分割サブピクセルの点灯／非点灯によっても階調表
現ができる。

【００２０】よって、サブフレーム数を一定とした場
合、従来構造のＰＤＰよりも高階調な表示を行うことが
できる。また、階調数を一定とした場合には、サブフレ
ーム数を減少させ、サステイン発光回数を増加させるこ
とができるため、高輝度な表示を行うことができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】この発明において、一対の基板と
しては、ガラス、石英、シリコン等の基板や、これらの
基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の
構成物を形成した基板が含まれる。

【００２２】隔壁は、画素を区画するとともに各画素を
複数のサブピクセルに分割できるものであればよく、こ
の隔壁としては、例えば低融点ガラス粉末と樹脂と溶媒
を混合したペースト状の公知の隔壁材料を用い、スクリ
ーン印刷、サンドブラスト法、埋込み法、転写法等の公
知の方法により形成したものが含まれる。低融点ガラス
としては、例えばＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₂−ＳｉＯ₂系ガラスな
どを用いることができる。

【００２３】この発明においては、一対の基板のいずれ
か一方の基板に設けた障壁によって、各サブピクセルの
領域を複数に分割する。この分割においては、現状の技
術における極小分割に限界がある。例えば、障壁を設け
ない場合の隔壁間距離が３００μｍ程度である場合、隔
壁間に障壁を２つ設けてサブピクセルを３つに分割する
とすれば、障壁自身の幅を考慮すると障壁間距離は隔壁
間距離の１／３以下のの約７０〜９０μｍとなる。この
微細な分割が可能な限界点を考慮した場合、この発明は
比較的大画面のＰＤＰに適用することが望ましい。

【００２４】この発明のＰＤＰを、例えば３電極面放電
型のＰＤＰに適用した場合には、隔壁は、複数の平行な
帯状隔壁として形成され、障壁は、隣接する隔壁間に隔
壁と平行に形成された帯状障壁として形成される。

【００２５】障壁は、各サブピクセルの領域を、例えば
隔壁と平行に複数に分割できるものであればよく、隔壁
と同じ材料で形成されてもよいし、隔壁とは異なる材料
で形成されてもよい。また、隔壁と同じ形成方法で形成
されてもよいし、隔壁とは異なる形成方法で形成されて
もよい。さらに、障壁の形成の時期については、隔壁と
同じ工程で隔壁と同時に形成されてもよいし、隔壁とは
異なる工程で形成されてもよい。

【００２６】障壁を、隔壁と同じ材料を用いて、同じ形
成方法で形成する場合には、上述した隔壁と同様に、例
えば低融点ガラス粉末と樹脂と溶媒を混合したペースト
状の公知の隔壁材料と同じ材料を用い、スクリーン印
刷、サンドブラスト法、埋込み法、転写法等の公知の隔
壁と同じ形成方法により形成することができる。低融点
ガラスとしては、隔壁と同様に、例えばＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₂
−ＳｉＯ₂系ガラスなどを用いることができる。

【００２７】この障壁を隔壁間に形成して、例えばサブ
ピクセルを３分割する場合、例えば、ストライプ状の隔
壁を持つ３電極面放電型の４０〜４２インチのカラーＰ
ＤＰで、画素数６４０×４８０のものであれば、高さ約
１００μｍ、幅約５０μｍ、間隔約３００μｍ程度の隔
壁の間に、高さ約１００μｍ、幅約５０μｍ、間隔約５
０μｍ程度の障壁を２つ形成すればよい。

【００２８】電極は、障壁で分割された各領域内で放電
を発生させることができるものであればよく、当該分野
で通常用いられる公知の材料及び方法を用いて形成した
ものを適用することができる。例えばＩＴＯのような透
明導電膜をフォトリソグラフィの手法でパターニングし
た透明電極と、Ｃｒ／Ｃｕ／Ｃｒのような金属導電膜を
フォトリソグラフィの手法でパターニングした金属電極
（バス電極）とで構成することができる。

【００２９】この発明において、障壁によって分割され
た領域の幅は、同じであっても、異なっていてもよい。
また、障壁によって分割された領域は、異なる発光輝度
比を有するように構成してもよい。その場合、発光輝度
比が、１：２：３：，…，：ｎ−２：ｎ−１：ｎ（ｎは
分割数）と整数倍比になるように分割幅を設定すること
が望ましい。

【００３０】列方向に分割された各色蛍光体の配列にお
いては、同色蛍光体が列方向に連続して配列されていて
もよく、また、連続して配列されていなくてもよい。

【００３１】障壁は、可視光透過率の高い絶縁材にて形
成されていてもよい。この場合、可視光透過率は、前面
側の誘電体層の可視光透過率以上の可視光透過率、つま
り約７０％以上であることが望ましい。

【００３２】障壁は、反射率の低い絶縁材で形成又は被
覆してもよい。また、反射防止絶縁材で形成又は被覆し
てもよい。あるいは、高反射絶縁材で形成又は被覆して
もよい。さらに、２つ以上の多層構造にし、前面側の基
板側を反射防止絶縁材で形成又は被覆し、背面側の基板
側を高反射絶縁材で形成又は被覆するようにしてもよ
い。

【００３３】隔壁と障壁との形成位置に関しては、隔壁
と障壁を全て一方の基板の内側面上に形成してもよい
し、あるいは、隔壁を一方の基板の内側面上に形成し、
障壁を他方の基板の内側面上に形成するようにしてもよ
い。

【００３４】障壁は、その高さが隔壁の高さ以下である
ことが望ましい。障壁の高さは、各色間で異なっていて
もよい。

【００３５】障壁の間隔は、各色間で等しくすることが
望ましいが、障壁によるサブピクセルの分割数は、各色
間で異なっていてもよい。

【００３６】以下、図面に示す実施例に基づいてこの発
明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定され
るものではない。［実施例１］図１はこの発明の実施例１のプラズマディ
スプレイパネルの画素の構成を示す説明図である。この
実施例においては、ＰＤＰの基本的な構成は図１２で示
した構成と同じである。ただ従来と異なるのは、図１４
で示したＲ，Ｇ，Ｂの各サブピクセルを障壁２でそれぞ
れ複数に分割している点である。この例では、Ｒ，Ｇ，
Ｂの各色蛍光体のサブピクセルを３分割した例を示し
た。

【００３７】図中、２９は図１１で示した従来の隔壁２
９と同じものであり、当該分野で通常用いられる材料と
形成方法を用いて形成している。例えば、この隔壁２９
は、低融点ガラスペーストを、スクリーン印刷法などの
手法を用いて基板上に平面膜として形成し、その平面膜
上に感光性ドライフィルムを貼り付け、フォトリソグラ
フィの手法を用いて平面膜上に隔壁のマスクパターンを
形成して、平面膜をサンドブラストで切削した後、焼成
するとにより、形成することができる。

【００３８】２は隔壁２９と同じ材料及び同じ方法で形
成された障壁であり、この障壁２で１つのサブピクセル
Ｃを３分割している。この障壁２は隔壁２９と平行に隔
壁２９と同じ長さだけ形成している。この障壁２は、隔
壁２９と同時に形成してもよいし、別工程で形成しても
よい。

【００３９】Ｐ０は画素Ｐのピッチを表わしている。ア
ドレス電極は、図示していないが、分割サブピクセル数
に対応する数だけ設けてある。

【００４０】図１に示す如く、１つのサブピクセルを３
分割した場合には、各分割サブピクセルの点灯／非点灯
によって、３ビット制御ができるようになる。この３ビ
ット制御とサブフィールド単位の点灯／非点灯の組み合
わせによって高階調表現ができ、しかもアドレス時間が
変わらない。

【００４１】［実施例２］図２はこの発明の実施例２の
プラズマディスプレイパネルの画素の構成を示す説明図
である。

【００４２】この実施例において、隔壁２９及び障壁２
の材料及び形成方法は実施例１と同じである。本実施例
では、各色蛍光体のサブピクセルを３分割し、３分割し
たサブピクセルの発光輝度比が１：２：３となるように
分割幅を設定している。

【００４３】このように、３分割したサブピクセルから
発光する輝度比が１：２：３となるようにそれぞれの分
割幅を設定した場合には、サブフィールド数を４とし、
各サブフィールドに対応する輝度重みを１，４，１６，
６４としたとき、分割幅比１の分割サブピクセルにて
１，４，１６，６４の輝度レベルが、分割幅比２の分割
サブピクセルにて２，８，３２，１２８の輝度レベル
が、分割幅比３の分割サブピクセルにて３，１２，４
８，１９２の輝度レベルが表示できる。

【００４４】この時、階調数は３＋１２＋４８＋１９２
＝２５５と全消灯（黒）階調と合わせた２５６階調とな
る。２５６階調内の任意の階調表現は、分割幅比１，
２，３のいずれか１つの分割サブピクセルを点灯し、サ
ブフィールドの輝度重みで駆動することによってでき
る。このように、サブピクセルを分割することにより、
従来と比較して、サブフレーム数を半減させることがで
きる。

【００４５】このサブフィールドの点灯の手法には、例
えば輝度レベル４を得るために、分割幅比１と３の分割
サブピクセルをサブフィールド１（重み１）で点灯させ
る方法と、分割幅比１の分割サブピクセルをサブフィー
ルド２（重み４）で点灯させる方法がある。言い換えれ
ば、ある輝度レベルを表示させる手法として、ある同一
のサブフィールド内で分割幅比が異なる複数の分割サブ
ピクセルを組み合わせて点灯する方法と、いずれか一つ
の分割サブピクセルを異なるサブフィールド内で点灯さ
せる方法の２通りがあるが、いずれの手法を用いてもよ
い。

【００４６】上述した実施例１及び実施例２において
は、サブピクセルを分割する障壁２を反射防止絶縁材で
形成するか、あるいは障壁２の表面を反射防止絶縁材で
被覆するようにしてもよい。このように、障壁２を反射
防止絶縁材で形成又は被覆した場合には、従来構造に比
較し、表示コントラストを向上させることができる。

【００４７】［実施例３］図３（ａ）及び図３（ｂ）は
この発明の実施例３のプラズマディスプレイパネルの画
素の構成を示す説明図である。この実施例においても、
隔壁２９及び障壁２の材料及び形成方法は実施例１と同
じである。

【００４８】これらの図は、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色蛍光体の
サブピクセルを４分割した例を示しているが、同じ４分
割であっても、蛍光体の並び方が異なっている。図３
（ａ）は１つの画素中にＲ，Ｇ，Ｂ，Ｒ，Ｇ，Ｂの順に
４つの分割サブピクセルを設定した例であり、図３
（ｂ）は１つの画素中にＲ，Ｒ，Ｇ，Ｇ，Ｂ，Ｂの順に
４つの分割サブピクセルを設定した例である。本実施例
においても、実施例１と同様の効果を得ることができ
る。

【００４９】本実施例においては、サブピクセルを４分
割するので、画面の開口率（有効発光面積／表示画面面
積）が低下し、発光効率が低下してしまう。このため、
障壁を可視光透過率の高い絶縁材で形成することが望ま
しい。

【００５０】［実施例４］図４（ａ）及び図４（ｂ）は
この発明の実施例４のプラズマディスプレイパネルの画
素の構成を示す説明図である。図４（ａ）は障壁２を可
視光透過率の高い絶縁材で形成した場合の画素の平面状
態を示し、図４（ｂ）は側面状態を示している。このよ
うに障壁２を可視光透過率の高い絶縁材で形成したした
場合には、表示コントラストおよび発光効率は従来のま
まで、高輝度、高階調表示を行うことができる。

【００５１】この時用いる絶縁材の可視光透過率は、サ
ステイン電極Ｘ，Ｙを覆う誘電体層１７の可視光透過率
以上の可視光透過率、つまり７０％以上であることが望
ましい。

【００５２】図５は同じ４分割でも図３（ｂ）で示した
ような異なるタイプの画素の障壁に可視光透過率の高い
絶縁材を適用した例を示す説明図である。この図に示す
ように、１つの画素中にＲ，Ｒ，Ｇ，Ｇ，Ｂ，Ｂの順に
４つの分割サブピクセルを設けた場合でも、障壁に可視
光透過率の高い絶縁材を適用することができる。

【００５３】以上では、障壁を可視光透過率の高い絶縁
材で形成する例を説明したが、障壁を高反射絶縁材で形
成するか、あるいは高反射絶縁材で被覆するようにして
もよい。このようにしても、障壁を可視光透過率の高い
絶縁材で形成した場合と同様の効果が得られる。この場
合可視光が障壁を透過することはないが、障壁によって
反射された反射光が障壁間の開口部を通過するので発光
効率の低下はない。

【００５４】また、障壁を深さ方向に２層構造にし、前
面側の基板側を反射防止絶縁材で形成し、背面側の基板
側を高反射絶縁材で形成するようにしてもよい。このよ
うにした場合には、表示コントラストと発光効率の向上
を両立させることができ、高階調表示も可能となる。こ
の場合、障壁を２層構造にするのではなく、障壁に反射
防止絶縁材と高反射絶縁材とを塗り分けて被覆しても同
様の効果を得ることができる。

【００５５】以上の実施例においては、図４（ｂ）のよ
うに、隔壁と障壁を同一基板上に設けた例、つまり障壁
を背面側の基板に設けた例を示したが、障壁を前面側の
基板に設けるようにしてもよい。

【００５６】図６は障壁を前面側の基板に設けた例を示
す説明図である。図４（ｂ）のように、障壁２を背面側
の基板２１に設けた場合には、各障壁２の高さのばらつ
きが大きく（障壁２と隔壁２９の材料が異なる時な
ど）、対向基板との間に隙間がある場合、サステイン期
間中、行方向で放電の干渉をおこし、所望の分割サブピ
クセルを点灯させることができなくなってしまう。

【００５７】そこで、図に示すように、障壁２をサステ
イン電極Ｘ，Ｙが形成されている前面側の基板１１に形
成することで、行方向の放電の干渉を確実に防止するこ
とができる。この時、障壁２の高さは、隔壁２９の高さ
よりも、少なくとも蛍光体層の厚さ分低くする。

【００５８】図７は低い障壁を前面側の基板に設けた例
を示す説明図である。障壁２を前面側の基板１１に設け
た場合、障壁２を可視光透過率の小さい材料、あるいは
高反射絶縁材で形成すると、例えば分割サブピクセルの
点灯数が１の時、隣接セルが全くの非点灯（黒）状態と
なるために、表示画質（粗さ、ザラツキ感など）が悪く
なってしまう。

【００５９】そこで、図に示すように、障壁２の高さ
を、行方向の隣接セルとの放電の干渉はしないものの、
蛍光体を励起する真空紫外光ＵＶが１サブピクセル空間
内に平均化するような高さまで低くする。これによっ
て、分割サブピクセルの点灯数が少ないときの表示の画
質を向上させることができる。

【００６０】図８は画素を平面的に見た場合のサステイ
ン電極の電極構造の一例を示す説明図である。本例は、
サステイン電極Ｘ，Ｙを透明電極１２と金属電極（バス
電極）１３からなる櫛型の電極構造としている。この櫛
型の電極構造は、上述した実施例のいずれにも適用する
ことができるが、特に、前述の低い障壁を前面側の基板
に設けた構造と、この櫛型の電極構造とを組み合わせた
場合には、行方向の放電の干渉が小さくなることから、
障壁２の高さをより低くすることができ、真空紫外光Ｕ
Ｖを１サブピクセル空間内に平均化させるときの平均化
の効果が大きくなる。

【００６１】図９は障壁の高さが異なる例を示す説明図
である。従来のＰＤＰでは、色調調整のために各色蛍光
体の充填量を変えていたり、また各色蛍光体の粒径が異
なることによって、蛍光体層の膜の厚さが各色で異なっ
ている。また、これに起因して放電電圧も各色間で異な
る。よって、障壁２の高さが等しい場合、放電電圧や、
前述した発光平均化の効果等が各色で異なってしまう。
これに対応するため、図に示すように、障壁２の高さを
異ならせることで、各色間の特性ばらつきを低減するこ
とができる。

【００６２】図１０はサブピクセルの分割幅を変化させ
た例を示す説明図である。サブピクセルを所望の数に等
分に分割して障壁２を設けた場合、例えば隔壁２９に近
い放電部と画素中央の放電部とでは、各障壁２の反射率
等の違いから、分割サブピクセル点灯数に対応する輝度
レベルが１，２，３，…の整数倍にならない場合があ
る。この時には、サブピクセルを分割する分割幅を変化
させることによって、点灯数に対応する輝度レベルを整
数倍に調整することが可能となる。図示の例では、隔壁
２９に近い放電部を広くし、画素中央部の放電部を狭く
している。なお、図では、障壁２を前面側の基板１１に
形成しているが、背面側の基板２１に形成しても同様の
効果を得ることができる。

【００６３】図１１はサブピクセルの分割数を変化させ
た例を示す説明図である。従来のＰＤＰでは、人間の好
みに応じて、色調調整のために各色の階調特性（入力信
号に対する出力信号の大きさの関数）を信号部で変化さ
せている。しかし、図に示すように、各色に対するサブ
ピクセルの分割数を変化させることで、各色の階調特性
をパネル側で変化させることができる。なお、図では、
障壁２を前面側の基板１１に形成しているが、背面側の
基板２１に形成しても同様の効果を得ることができる。

【００６４】このようにして、１サブピクセルを列方向
に複数に分割することにより、高階調なプラズマディス
プレイパネルとすることができる。例えば１サブピクセ
ルを３分割した場合には、１フィールドを４サブフィー
ルドに分割（それぞれの輝度重みは１，５，２５）する
だけで、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色について２５６階調の階調表
示を行うことができる。

【００６５】

【発明の効果】この発明によれば、隔壁と隔壁との間に
サブピクセルを分割する障壁を形成して、１サブピクセ
ルを複数に分割するようにしたので、この分割したサブ
ピクセルで階調表示を行うことができる。したがって、
サブフレーム数を一定とした場合には、従来よりも高階
調な表示を行うことができる。また、階調数を一定とし
た場合には、従来よりもサブフレーム数を減少させ、サ
ステイン発光回数を増加させることができるため、高輝
度な表示を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例１のプラズマディスプレイパ
ネルの画素の構成を示す説明図である。

【図２】この発明の実施例２のプラズマディスプレイパ
ネルの画素の構成を示す説明図である。

【図３】この発明の実施例３のプラズマディスプレイパ
ネルの画素の構成を示す説明図である。

【図４】この発明の実施例４のプラズマディスプレイパ
ネルの画素の構成を示す説明図である。

【図５】図３（ｂ）で示した画素の障壁に可視光透過率
の高い絶縁材を適用した例を示す説明図である。

【図６】障壁を前面側の基板に設けた例を示す説明図で
ある。

【図７】低い障壁を前面側の基板に設けた例を示す説明
図である。

【図８】画素を平面的に見た場合のサステイン電極の電
極構造の一例を示す説明図である。

【図９】障壁の高さが異なる例を示す説明図である。

【図１０】サブピクセルの分割幅を変化させた例を示す
説明図である。

【図１１】サブピクセルの分割数を変化させた例を示す
説明図である。

【図１２】従来のＡＣ駆動方式の３電極面放電型のカラ
ーＰＤＰの構造を示す説明図である。

【図１３】従来の３電極面放電型のＰＤＰの平面図であ
る。

【図１４】従来の３電極面放電型のＰＤＰの１つの画素
を模式的に示した図である。

【図１５】従来のＰＤＰのフィールド構成および駆動電
圧波形の一例を示す説明図である。

【符号の説明】

２障壁１１前面側の基板１７誘電体層１２透明電極１３金属電極（バス電極）２１背面側の基板２９隔壁Ａアドレス電極Ｃ放電セルＸ，Ｙサステイン電極

フロントページの続き (72)発明者並木文博神奈川県川崎市中原区上小田中４丁目１番１号富士通株式会社内Ｆターム(参考） 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GC02 GF02 LA02 LA12 MA03 5C094 AA02 AA10 BA31 CA19 CA24 EA04 EA10 ED20 FA10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】対向して配置された一対の基板間にマト
リクス状に画素を配列し、一対の基板のいずれか一方の
基板に設けた隔壁によって画素を区画するとともに各画
素を複数のサブピクセルに分割し、分割した各サブピク
セルの領域をさらに一対の基板のいずれか一方の基板に
設けた障壁によって複数に分割し、その分割サブピクセ
ルの領域内で放電を発生させる電極を設けてなるプラズ
マディスプレイパネル。
【請求項２】隔壁が複数の平行な帯状隔壁からなり、
障壁が隣接する隔壁間にそれと平行に形成された帯状障
壁からなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネ
ル。
【請求項３】障壁によって分割された領域が、異なる
発光輝度比を有することを特徴とする請求項１記載のプ
ラズマディスプレイパネル。
【請求項４】障壁が光透過性の材料で形成されている
ことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１つに記載の
プラズマディスプレイパネル。
【請求項５】隔壁が一対の基板の一方の基板の内側面
上に形成され、障壁が他方の基板の内側面上に形成され
ていることを特徴とする請求項１記載のプラズマディス
プレイパネル。