JP2001011616A - Alloy target for magneto-optical recording, its production and regenerating method therefor - Google Patents

Alloy target for magneto-optical recording, its production and regenerating method therefor

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JP2001011616A
JP2001011616A JP2000141291A JP2000141291A JP2001011616A JP 2001011616 A JP2001011616 A JP 2001011616A JP 2000141291 A JP2000141291 A JP 2000141291A JP 2000141291 A JP2000141291 A JP 2000141291A JP 2001011616 A JP2001011616 A JP 2001011616A
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target
alloy
magneto
optical recording
alloy powder
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Yukio Kawaguchi
行雄 川口
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the magnetic permeability of an alloy target for magneto- optical recording composed of a rare earth metal-transition metal alloy, moreover to reduce the content of oxygen in the target and furthermore to facilitate the regeneration of the alloy target for magneto-optical recording. SOLUTION: This alloy target for magneto-optical recording is a planar body contg. R (one or more kinds among Tb, Dy, Gd, Sm, Nd, Ho, Tm and Er) and T (transition metals such as Fe, Co and Ni), having a substantially homogeneous sintered structure and having <=3 magnetic permeability and >=8 mm thickness. This is produced by a process of melting rapid cooling pulverizing baking under pressure by a high frequency furnace or a crucible furnace. After the use of this target, mechanical pulverizing is executed to obtain regenerated alloy powder, this regenerated alloy powder and the alloy powder before the baking under pressure in the above process are mixed, and this is baked under pressure and therefore can be made into a target once more.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光磁気記録材料と
して使用される希土類金属−遷移金属合金からなるスパ
ッタターゲットと、その製造方法と、その再生方法とに
関する。
The present invention relates to a sputter target composed of a rare earth metal-transition metal alloy used as a magneto-optical recording material, a method for producing the same, and a method for reproducing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】光磁気記録媒体の記録層には、Tb−F
e−Co等の希土類金属−遷移金属合金からなる非晶質
材料が好ましく用いられている。このような記録層は、
通常、マグネトロンスパッタ法により形成される。マグ
ネトロンスパッタ法では、ターゲット裏面側に配置され
た磁界発生手段からの磁束をターゲットを通してその表
面側に漏洩させる必要がある。このため、ターゲットの
透磁率が高いと、ターゲット中を通る磁束が増えてしま
い、漏洩磁束による十分な磁界強度が得られない。した
がって、透磁率の高いターゲットでは、厚さを薄くして
漏洩磁束を確保する必要がある。
2. Description of the Related Art A recording layer of a magneto-optical recording medium has a Tb-F
An amorphous material made of a rare earth metal-transition metal alloy such as e-Co is preferably used. Such a recording layer is
Usually, it is formed by a magnetron sputtering method. In the magnetron sputtering method, it is necessary to leak the magnetic flux from the magnetic field generating means disposed on the back side of the target to the front side through the target. Therefore, when the magnetic permeability of the target is high, the magnetic flux passing through the target increases, and a sufficient magnetic field strength due to the leakage magnetic flux cannot be obtained. Therefore, in a target having a high magnetic permeability, it is necessary to secure a leakage magnetic flux by reducing the thickness.

【0003】しかし、ターゲットが薄いと、ターゲット
1枚当たりのスパッタ可能時間が短くなってしまう。こ
のため、スパッタ室を開放してターゲットを交換し、再
び真空引きを行う頻度が高くなり、生産性低下によるコ
ストアップを招く。また、焼結法によりターゲットを製
造する場合、製品化のためには焼結後に表面付近の酸化
領域を研削する必要がある。研削量は、ターゲットの厚
さによらず1mm程度であるため、ターゲットを薄くする
ほどスパッタに寄与せずに捨てられる領域の比率が高く
なり、これによってもコスト高となってしまう。
[0003] However, if the target is thin, the sputtering time per target becomes short. For this reason, the frequency of performing the evacuation again by opening the sputtering chamber and exchanging the target is increased, which leads to an increase in cost due to a reduction in productivity. When a target is manufactured by a sintering method, it is necessary to grind an oxidized region near the surface after sintering for commercialization. Since the amount of grinding is about 1 mm regardless of the thickness of the target, the thinner the target, the higher the proportion of the area that is discarded without contributing to the sputtering, which also increases the cost.

【0004】光磁気記録媒体の記録層形成のためのター
ゲットやその製造方法に関しては、例えば以下に示すよ
うな提案がなされている。
With respect to a target for forming a recording layer of a magneto-optical recording medium and a method of manufacturing the same, for example, the following proposals have been made.

【0005】(i)特公昭64−2177号公報には、
希土類金属と遷移金属とをアーク溶解炉で溶解して合金
インゴットとし、この合金インゴットを粉砕し、得られ
た合金粉末をホットプレスにより成形することにより、
合金ターゲット材を製造する方法が記載されている。同
公報では、有機溶媒中での湿式微粉砕を行っているが、
最終的な粉末粒度が平均粒径1〜10μmと小さいた
め、粉末の酸化が進み、特性劣化が生じてしまう。ま
た、同公報では、合金インゴットをアーク溶解により製
造しているが、アーク溶解では、アークをスキャンさせ
ることにより原料粉末の溶解を行うため、アーク通過後
に溶融金属が徐冷されることになり、この結果、Feの
析出が生じてしまう。このため、ターゲットの透磁率が
高くなるのでターゲットを厚くすることができなくな
り、ターゲット1枚あたりの寿命が短くなる。なお、同
公報の実施例では、厚さ1.2〜1.3mmのターゲット
を作製している。
(I) Japanese Patent Publication No. 64-2177 discloses that
By melting a rare earth metal and a transition metal in an arc melting furnace to form an alloy ingot, pulverizing the alloy ingot, and molding the obtained alloy powder by hot pressing,
A method for producing an alloy target material is described. In this publication, wet pulverization in an organic solvent is performed,
Since the final particle size of the powder is as small as 1 to 10 μm, oxidation of the powder proceeds, and the characteristics are deteriorated. Also, in the same publication, the alloy ingot is manufactured by arc melting, but in the arc melting, since the raw material powder is melted by scanning the arc, the molten metal is gradually cooled after passing the arc, As a result, precipitation of Fe occurs. For this reason, the magnetic permeability of the target becomes high, so that the target cannot be made thick, and the life per target becomes short. In the example of the publication, a target having a thickness of 1.2 to 1.3 mm is manufactured.

【0006】(ii)特公平1−19448号公報には、
微細に分割された希土類金属と、微細に分割された鉄族
金属とを混合し、得られた混合物にその中の金属成分系
の液相発現温度未満の温度において熱間成形を施して緻
密な成形体を形成し、次いで、成形体中に存在する金属
成分系の液相発現温度以上の温度で短時間加熱すること
により、希土類金属と鉄族金属との金属間化合物と、鉄
族金属単体との混合組織を有するターゲット材を製造す
る方法が記載されている。このターゲット材は、希土類
金属30〜50重量%を含み、残部が鉄族金属である。
同公報では、組成が安定し、かつ酸素濃度の低い光磁気
記録媒体を生成する、高強度のスパッタリング用ターゲ
ット材を提供できることを効果としている。
(Ii) Japanese Patent Publication No. 1-19448 discloses that
The finely divided rare earth metal and the finely divided iron group metal are mixed, and the resulting mixture is subjected to hot forming at a temperature lower than the liquid phase manifestation temperature of the metal component system in the resulting mixture to obtain a dense mixture. A compact is formed, and then heated for a short time at a temperature equal to or higher than the liquid phase development temperature of the metal component system present in the compact, thereby forming an intermetallic compound of a rare earth metal and an iron group metal, and an iron group metal simple substance. A method for producing a target material having a mixed structure with the following. This target material contains 30 to 50% by weight of a rare earth metal, and the balance is an iron group metal.
The effect of the publication is to provide a high-strength sputtering target material that produces a magneto-optical recording medium having a stable composition and a low oxygen concentration.

【0007】しかし、同公報記載のターゲット材には、
鉄族金属単体からなる相が存在するため、透磁率が高く
なってしまう。このため、ターゲット材を厚くすること
ができなくなり、ターゲット材1枚あたりの寿命が短く
なる。同公報の実施例では、厚さ2mmを超えるターゲッ
ト材は作製していない。また、同公報記載の方法では希
土類金属を粉砕する必要があるが、希土類金属は展延性
が高く粉砕が困難であるため、粉砕に際して酸素が混入
しやすい。実際、同公報の実施例ではターゲット材の酸
素含有量が1.5原子%以上となっており、少ないとは
いえない。
[0007] However, the target materials described in the publication include:
Since there is a phase composed of a simple substance of the iron group metal, the magnetic permeability increases. For this reason, it becomes impossible to increase the thickness of the target material, and the life per target material is shortened. In the example of the publication, a target material having a thickness of more than 2 mm was not manufactured. Further, in the method described in the publication, it is necessary to pulverize the rare earth metal, but since the rare earth metal has high ductility and is difficult to pulverize, oxygen is easily mixed in the pulverization. In fact, in the example of the publication, the oxygen content of the target material is 1.5 atomic% or more, which is not small.

【0008】(iii)特公平2−48623号公報に
は、希土類金属を10〜50原子%含み、残部が実質的
に遷移金属であって、少なくとも3種の相からなる混合
組織であり、各相が希土類金属と遷移金属との金属間化
合物相である光磁気記録用合金ターゲットが記載されて
いる。この合金ターゲットは、還元拡散法により製造し
た合金粉末を焼結することにより作製されたものであ
る。同公報では、割れにくい、緻密である、組成が均一
である、酸素含有量が十分低い、安価である、などの利
点を有する合金ターゲットが提供できるとしている。
(Iii) Japanese Patent Publication No. 2-48623 discloses a mixed structure comprising 10 to 50 atomic% of a rare earth metal and the balance being substantially a transition metal and comprising at least three phases. An alloy target for magneto-optical recording in which the phase is an intermetallic compound phase of a rare earth metal and a transition metal is described. This alloy target is produced by sintering an alloy powder produced by a reduction diffusion method. The publication states that it is possible to provide an alloy target having advantages such as being hard to crack, dense, having a uniform composition, having a sufficiently low oxygen content, and being inexpensive.

【0009】しかし、3種の相が存在するということ
は、遷移金属濃度のより高い相が存在するということで
ある。遷移金属濃度の高い相は透磁率が高いため、ター
ゲットを厚くすることができなくなり、ターゲット1枚
あたりの寿命が短くなる。同公報には3種の相の存在比
率は記載されていないが、同公報の実施例では厚さ4.
5mmを超えるターゲットは作製していないことから、透
磁率が高くなると考えられる。また、同公報では、遷移
金属単体相と、これを包囲して被覆する金属間化合物相
とからなる合金粉末を還元拡散法により製造し、これを
焼結してターゲットを作製する。この方法では、使用済
みターゲットを粉砕し、これをターゲット原料として再
度用いることができないので、原料コストの低減が難し
い。
However, the presence of the three phases means that there is a phase with a higher transition metal concentration. Since the phase having a high transition metal concentration has high magnetic permeability, the target cannot be thickened, and the life per target becomes short. The publication does not disclose the proportions of the three types of phases, but in the examples of the publication, the thickness is 3.
Since a target exceeding 5 mm was not manufactured, it is considered that the magnetic permeability is increased. In the same publication, an alloy powder composed of a transition metal single phase and an intermetallic compound phase surrounding and covering the transition metal phase is produced by a reduction diffusion method, and this is sintered to produce a target. In this method, the used target is pulverized and cannot be reused as a target raw material, so that it is difficult to reduce the raw material cost.

【0010】(iv)特公平3−6218号公報には、希
土類金属粒子と、遷移金属粒子と、両者の反応拡散層と
からなる焼結複合ターゲット材が記載されている。同公
報では、抗折力が大きく、耐衝撃性が良好であり、酸素
含有量が少なく、スパッタリング速度が大きいことを効
果としている。
(Iv) Japanese Patent Publication No. 3-6218 discloses a sintered composite target material comprising rare earth metal particles, transition metal particles, and a reaction diffusion layer of both. According to the publication, the effect is that the transverse rupture strength is large, the impact resistance is good, the oxygen content is small, and the sputtering rate is high.

【0011】しかし、同公報記載の焼結複合ターゲット
材は、遷移金属粒子を多量に含むため、透磁率が大きく
なってしまう。このため、ターゲット材を厚くすること
ができなくなり、ターゲット材1枚あたりの寿命が短く
なる。同公報の実施例では、厚さ5mmを超えるターゲッ
ト材は作製していない。また、同公報記載の製造方法で
は、希土類金属粒子を原料とするため、希土類金属を粉
砕する必要があるが、希土類金属は展延性が高く粉砕が
困難であるため、粉砕に際して酸素が混入しやすい。
[0011] However, the sintered composite target material described in the publication contains a large amount of transition metal particles, so that the magnetic permeability increases. For this reason, it becomes impossible to increase the thickness of the target material, and the life per target material is shortened. In the example of the publication, a target material having a thickness of more than 5 mm was not manufactured. Further, in the production method described in the publication, it is necessary to pulverize the rare-earth metal in order to use the rare-earth metal particles as a raw material, but since the rare-earth metal has high ductility and is difficult to pulverize, oxygen is easily mixed in during the pulverization. .

【0012】(v)特公平3−54189号公報には、
マグネトロンスパッタ装置での使用によって形成された
ターゲット材表面の凹凸を埋めることにより、ターゲッ
ト材を再生する方法が記載されている。具体的には、ま
ず、ターゲット材と同材質の補充粉末で凹凸を充填す
る。次に、熱間静水圧プレスまたは熱間鍛造を行って補
充粉末を高密度化した成形体とする。続いて熱処理を行
うことにより、ターゲット材と前記成形体とを強固に拡
散接合する。このようにして再生されたターゲット材
は、使用済みターゲット材部分と粉末成形体部分とこれ
らの境界部に形成された拡散接合部とからなるが、同公
報では、全体として未使用のターゲット材と品質的に同
じであるとしている。
(V) Japanese Patent Publication No. 3-54189 discloses that
A method of regenerating a target material by filling irregularities on the surface of the target material formed by use in a magnetron sputtering apparatus is described. Specifically, first, the irregularities are filled with a supplementary powder of the same material as the target material. Next, hot isostatic pressing or hot forging is performed to obtain a compact having a replenishment powder of high density. Subsequently, by performing a heat treatment, the target material and the compact are firmly bonded by diffusion. The target material thus reclaimed is composed of a used target material portion, a powder compact, and a diffusion bonding portion formed at the boundary between these portions. The quality is the same.

【0013】しかし、同公報記載の方法では、実際には
各部における組成のばらつきに起因するスパッタ膜の組
成ずれが生じやすい。
However, in the method described in the publication, the compositional deviation of the sputtered film due to the compositional variation in each part is liable to actually occur.

【0014】[0014]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、希土
類金属−遷移金属合金からなる光磁気記録用合金ターゲ
ットの透磁率を低くすることである。本発明の他の目的
は、このような光磁気記録用合金ターゲットの酸素含有
量を低減することである。本発明の他の目的は、光磁気
記録用合金ターゲットの再生を容易にすることである。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to reduce the magnetic permeability of a magneto-optical recording alloy target comprising a rare earth metal-transition metal alloy. Another object of the present invention is to reduce the oxygen content of such an alloy target for magneto-optical recording. Another object of the present invention is to facilitate reproduction of an alloy target for magneto-optical recording.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
(1)〜(9)のいずれかの構成により達成される。 (1) 光磁気記録用の記録材料をマグネトロンスパッ
タ法により形成するときに用いられるターゲットであっ
て、R(Rは、Tb、Dy、Gd、Sm、Nd、Ho、
TmおよびErの少なくとも1種から選択される希土類
金属元素である)を20〜30原子%含み、残部が実質
的にT(Tは、遷移金属元素であり、Fe、Coおよび
Niの少なくとも1種を必ず含む)であり、実質的に均
質な焼結組織からなり、透磁率が3以下であり、厚さが
8mm以上の板状体である光磁気記録用合金ターゲット。 (2) 厚さが10mm以上である上記(1)の光磁気記
録用合金ターゲット。 (3) 前記T中にCrが含まれる上記(1)または
(2)の光磁気記録用合金ターゲット。 (4) 酸素含有量が1000ppm以下である上記
(1)〜(3)のいずれかの光磁気記録用合金ターゲッ
ト。 (5) Fe3Tb型結晶相が結晶相全体の88体積%
以上を占める上記(1)〜(4)のいずれかの光磁気記
録用合金ターゲット。 (6) 上記(1)〜(5)のいずれかの光磁気記録用
合金ターゲットを製造する方法であって、前記Rと前記
Tとを、R/(R+T)が20〜30原子%となるよう
に調合し、得られた調合物を高周波炉またはるつぼ炉で
溶解し、次いで急冷して急冷合金を得、この急冷合金を
非酸化性雰囲気中において機械粉砕して合金粉末を得、
この合金粉末を不活性ガス雰囲気中または真空中で加圧
焼成することにより焼結する光磁気記録用合金ターゲッ
トの製造方法。 (7) 前記合金粉末の90重量%以上が粒径45〜4
25μmである上記(6)の光磁気記録用合金ターゲッ
トの製造方法。 (8) 上記(1)〜(5)のいずれかの光磁気記録用
合金ターゲットを使用した後、非酸化性雰囲気中におい
て機械粉砕して再生合金粉末を得、一方、前記Rと前記
Tとを調合し、得られた調合物を高周波炉またはるつぼ
炉で溶解し、次いで急冷して急冷合金を得、この急冷合
金を非酸化性雰囲気中において機械粉砕して合金粉末を
得、この合金粉末と前記再生合金粉末との混合物を不活
性ガス雰囲気中または真空中で加圧焼成することにより
焼結する工程を有する光磁気記録用合金ターゲットの再
生方法。 (9) 前記調合物のR/(R+T)が、前記再生合金
粉末のR/(R+T)の1.02〜1.08倍である上
記(8)の光磁気記録用合金ターゲットの再生方法。
This and other objects are achieved by any one of the following constitutions (1) to (9). (1) A target used when a recording material for magneto-optical recording is formed by a magnetron sputtering method, and R (R is Tb, Dy, Gd, Sm, Nd, Ho,
20 to 30 atomic% of a rare earth metal element selected from at least one of Tm and Er, and the balance substantially T (T is a transition metal element and at least one of Fe, Co and Ni) ), An alloy target for magneto-optical recording which is a plate-like body having a substantially homogeneous sintered structure, a magnetic permeability of 3 or less, and a thickness of 8 mm or more. (2) The alloy target for magneto-optical recording according to (1), wherein the thickness is 10 mm or more. (3) The alloy target for magneto-optical recording according to (1) or (2), wherein Cr is contained in the T. (4) The alloy target for magneto-optical recording according to any one of (1) to (3), wherein the oxygen content is 1000 ppm or less. (5) Fe 3 Tb type crystal phase accounts for 88% by volume of the entire crystal phase
The alloy target for magneto-optical recording according to any one of (1) to (4) above. (6) The method for producing an alloy target for magneto-optical recording according to any one of the above (1) to (5), wherein R and T are such that R / (R + T) is 20 to 30 atomic%. And melted in a high frequency furnace or crucible furnace, then quenched to obtain a quenched alloy, mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain an alloy powder,
A method for producing an alloy target for magneto-optical recording, wherein the alloy powder is sintered by pressurizing in an inert gas atmosphere or under vacuum. (7) 90% by weight or more of the alloy powder has a particle size of 45 to 4
(6) The method for producing an alloy target for magneto-optical recording according to the above (6), which is 25 μm. (8) After using the alloy target for magneto-optical recording according to any one of the above (1) to (5), the alloy alloy is mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain a reclaimed alloy powder. Is melted in a high-frequency furnace or crucible furnace, and then quenched to obtain a quenched alloy.The quenched alloy is mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain an alloy powder. A method for reproducing an alloy target for magneto-optical recording, comprising a step of sintering a mixture of the above-mentioned and the above-mentioned reproduction alloy powder by sintering under pressure in an inert gas atmosphere or vacuum. (9) The method for reproducing an alloy target for magneto-optical recording according to the above (8), wherein R / (R + T) of the mixture is 1.02 to 1.08 times R / (R + T) of the reproduced alloy powder.

【0016】[0016]

【作用および効果】本発明では、希土類金属と遷移金属
とを高周波溶解により溶湯とし、これを急冷した後、粉
砕し、次いで、加圧しながら焼成することにより焼結
し、ターゲットを得る。本発明では希土類金属と遷移金
属との溶解に高周波炉またはるつぼ炉を利用するため、
アーク溶解を利用する従来の方法と異なり、遷移金属単
体の析出は実質的に認められない。また、合金化の際に
急冷するため、遷移金属相の析出やその成長がほとんど
ない。このため、本発明のターゲットは希土類金属−遷
移金属合金の単一焼結組織となり、透磁率が低くなる。
In the present invention, a rare earth metal and a transition metal are melted by high frequency melting to form a molten metal, which is quenched, pulverized, and then fired under pressure to obtain a target. In the present invention, in order to use a high-frequency furnace or a crucible furnace for melting the rare earth metal and the transition metal,
Unlike the conventional method using arc melting, precipitation of a single transition metal is not substantially observed. In addition, since the alloy is rapidly cooled during alloying, there is almost no precipitation or growth of a transition metal phase. For this reason, the target of the present invention has a single sintered structure of a rare earth metal-transition metal alloy, and has low magnetic permeability.

【0017】また、本発明では粉砕時に大径の粒子とす
るため、酸素の混入が少なくなるので、酸素含有量の少
ないターゲットが実現する。
Further, in the present invention, since particles having a large diameter are obtained at the time of pulverization, mixing of oxygen is reduced, so that a target having a low oxygen content is realized.

【0018】また、加圧焼成の条件を適宜選択すること
により、焼成による透磁率上昇および酸素含有量増加を
抑え、かつ焼結密度を高くできるので、低透磁率、低酸
素含有量で、しかも割れにくいターゲットが実現する。
Further, by appropriately selecting the conditions of the pressure sintering, it is possible to suppress the increase in the magnetic permeability and the oxygen content due to the sintering and to increase the sintering density. A hard-to-break target is realized.

【0019】本発明のターゲット再生方法では、本発明
のターゲットを使用した後、まず、粉砕し、再生合金粉
末を得る。この再生合金粉末を、上述した本発明のター
ゲットの製造工程に投入し、急冷合金を粉砕して得られ
た新規な合金粉末と再生合金粉末とを混合する。以降は
上述した製造工程にしたがって加圧焼成を行い、再生タ
ーゲットを得る。本発明のターゲットは実質的に均質な
焼結組織からなるため、使用済ターゲットの粉砕により
得られた合金粉末と新規な合金粉末とが実質的に同一の
組織構造を有する。このため、ターゲットの再生が極め
て容易であり、再生による特性の劣化や変化もほとんど
ない。
In the target regenerating method of the present invention, after using the target of the present invention, the target is first pulverized to obtain a regenerated alloy powder. The reclaimed alloy powder is introduced into the above-described target manufacturing process of the present invention, and a new alloy powder obtained by pulverizing the quenched alloy is mixed with the reclaimed alloy powder. Thereafter, pressure baking is performed in accordance with the above-described manufacturing process to obtain a reproduction target. Since the target of the present invention has a substantially homogeneous sintered structure, the alloy powder obtained by pulverizing the used target and the novel alloy powder have substantially the same structure. Therefore, reproduction of the target is extremely easy, and there is almost no deterioration or change in characteristics due to reproduction.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】ターゲット 本発明のターゲットは、光磁気記録用の記録材料をマグ
ネトロンスパッタ法により形成する際に用いられるもの
である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Target The target of the present invention is used when a recording material for magneto-optical recording is formed by a magnetron sputtering method.

【0021】本発明のターゲットは、R(Rは、Tb、
Dy、Gd、Sm、Nd、Ho、TmおよびErの少な
くとも1種から選択された希土類金属元素である)を2
0〜30原子%、好ましくは20〜26原子%含む。残
部は、実質的にT(Tは、遷移金属元素であり、Fe、
CoおよびNiの少なくとも1種を必ず含む)である。
希土類金属の含有量が多すぎると、粉砕しにくいため製
造工程において酸化されやすくなり、光磁気記録媒体の
記録層としたときの特性が低くなってしまう。一方、希
土類金属の含有量が少なすぎると、光磁気記録材料とし
て良好な特性が得られなくなり、また、遷移金属の比率
が高くなるので、透磁率上昇を招く。
The target of the present invention is R (R is Tb,
A rare earth metal element selected from at least one of Dy, Gd, Sm, Nd, Ho, Tm, and Er)
0 to 30 atomic%, preferably 20 to 26 atomic%. The balance is substantially T (T is a transition metal element, Fe,
At least one of Co and Ni).
If the content of the rare earth metal is too large, it is difficult to be crushed, so that it is liable to be oxidized in the manufacturing process, and the characteristics of the recording layer of the magneto-optical recording medium deteriorate. On the other hand, if the content of the rare earth metal is too small, good characteristics cannot be obtained as a magneto-optical recording material, and the ratio of the transition metal increases, leading to an increase in magnetic permeability.

【0022】T中のFe+Co+Niの比率は、好まし
くは85原子%以上、より好ましくは90原子%以上で
ある。この比率が低すぎると、光磁気記録材料としての
特性が低くなる。また、T中のFeの比率は、好ましく
は80原子%以上である。この比率が低すぎても、光磁
気記録材料としての特性が低くなる。Fe、Co、Ni
以外の遷移金属元素としては、Crが好ましい。Crは
耐食性向上および粉砕性向上に有効なので、Tは、F
e、Co、NiおよびCrからなることが好ましい。
The ratio of Fe + Co + Ni in T is preferably at least 85 at%, more preferably at least 90 at%. If this ratio is too low, the characteristics as a magneto-optical recording material will be low. The ratio of Fe in T is preferably at least 80 atomic%. If this ratio is too low, the characteristics as a magneto-optical recording material will be low. Fe, Co, Ni
As a transition metal element other than, Cr is preferable. Since Cr is effective in improving corrosion resistance and pulverizability, T
e, Co, Ni and Cr are preferable.

【0023】また、ターゲット中には、不可避的不純物
として例えばAl、Si、Ca、Mg、C、S等の少な
くとも1種が含まれていてもよい。これらの元素の合計
含有量は、0.1原子%以下であることが好ましい。
The target may contain at least one of unavoidable impurities such as Al, Si, Ca, Mg, C, and S. The total content of these elements is preferably 0.1 atomic% or less.

【0024】本発明のターゲットは、希土類金属相およ
び遷移金属相は実質的に含まず、希土類金属−遷移金属
合金の結晶粒からなる単一組織の焼結体である。
The target of the present invention is a single-structure sintered body substantially free of a rare earth metal phase and a transition metal phase, and composed of crystal grains of a rare earth metal-transition metal alloy.

【0025】ターゲットを構成する希土類金属−遷移金
属合金は、主としてFe3Tb型結晶相である。このほ
か、ターゲット中には、通常、Fe23Tb6型結晶相ま
たはFe2Tb型結晶相が含まれる。Fe23Tb6型結晶
相は、一般にTb含有量が少ない場合(25原子%程度
以下)に出現し、Fe2Tb型結晶相は、一般にTb含
有量が多い場合(25原子%程度以上)に出現する。全
結晶相中のFe3Tb型結晶相の比率は、好ましくは8
8体積%以上であり、より好ましくは92体積%以上で
ある。ターゲット断面を走査型電子顕微鏡により観察す
ると、Fe3Tb型結晶相からなるマトリックス相中
に、Fe23Tb6型結晶相またはFe2Tb型結晶相が分
散した組織構造が認められる。これらの相の同定および
定量は、X線回折およびターゲット断面のEPMA(電
子線プローブマイクロアナリシス)によって行うことが
できる。X線回折では、Fe3Tb型、Fe23Tb6型、
Fe 2Tb型以外の結晶相は、実質的に認められない。
Rare earth metal-transition gold constituting the target
Alloys mainly consist of FeThreeIt is a Tb type crystal phase. This
Or, the target usually contains Fetwenty threeTb6Type crystal phase
Or FeTwoA Tb type crystal phase is included. Fetwenty threeTb6Type crystal
The phase generally has a low Tb content (about 25 atomic%).
Below), and FeTwoThe Tb-type crystal phase generally contains Tb.
Appears when the amount is large (about 25 atomic% or more). all
Fe in the crystalline phaseThreeThe ratio of the Tb type crystal phase is preferably 8
8% by volume or more, more preferably 92% by volume or more
is there. Observe the cross section of the target with a scanning electron microscope.
Then, FeThreeIn the matrix phase composed of Tb type crystal phase
And Fetwenty threeTb6Type crystal phase or FeTwoTb type crystal phase
Dispersed tissue structure is observed. Identification of these phases and
The quantification was performed by X-ray diffraction and EPMA (electron
What can be done by the probe microanalysis)
it can. In X-ray diffraction, FeThreeTb type, Fetwenty threeTb6Type,
Fe TwoSubstantially no crystal phases other than Tb type are observed.

【0026】なお、EPMAによる測定結果から、ター
ゲット中に含まれるCo、Ni、Crは、上記各結晶相
のFeサイトを置換していると考えられる。
From the results of the EPMA measurement, it is considered that Co, Ni, and Cr contained in the target have replaced the Fe sites of the respective crystal phases.

【0027】本発明のターゲットでは、X線回折におい
てα−Fe相の存在が認められないことが好ましい。
In the target of the present invention, it is preferable that the presence of an α-Fe phase is not recognized in X-ray diffraction.

【0028】本発明では、後述するように粒成長が生じ
ない程度の温度で焼成することが好ましいので、ターゲ
ットの平均結晶粒径は、原料として用いる合金粉末の径
を反映したものとなる。
In the present invention, since it is preferable to perform firing at a temperature at which grain growth does not occur, as described later, the average crystal grain size of the target reflects the diameter of the alloy powder used as a raw material.

【0029】なお、本発明のターゲットには、結晶粒界
はほとんど存在しない。
The target of the present invention has almost no crystal grain boundaries.

【0030】本発明のターゲットの透磁率は、3以下、
好ましくは2.5以下である。透磁率が高すぎると、マ
グネトロンスパッタの際にターゲット表面から漏洩する
磁束が少なくなってしまうので、ターゲットを厚くでき
なくなり、その結果、前述したように光磁気記録媒体の
生産性を低下させてしまう。現在、市販されているター
ゲットは、最小のものでも透磁率が5程度であるが、本
発明のターゲットでは透磁率が3以下なので、本発明の
ターゲットでは厚さを従来の2倍以上としたときにも、
マグネトロンスパッタの際にターゲット上において同等
以上の磁界強度を得ることができる。
The magnetic permeability of the target of the present invention is 3 or less,
Preferably it is 2.5 or less. If the magnetic permeability is too high, the magnetic flux leaking from the target surface during magnetron sputtering is reduced, so that the target cannot be thickened, and as a result, the productivity of the magneto-optical recording medium decreases as described above. . At present, the smallest commercially available target has a magnetic permeability of about 5, but the target of the present invention has a magnetic permeability of 3 or less. Also,
At the time of magnetron sputtering, the same or higher magnetic field strength can be obtained on the target.

【0031】なお、本発明のターゲットの透磁率は1以
上であり、通常は1.5以上である。
The magnetic permeability of the target of the present invention is 1 or more, usually 1.5 or more.

【0032】本発明のターゲットは板状体であり、その
厚さは特に限定されないが、本発明のターゲットは透磁
率が低いので、厚くすることができる。具体的には、厚
さ8mm以上であってもマグネトロンスパッタ時にターゲ
ット上の漏洩磁界強度を大きくでき、厚さ10mm以上で
あっても十分な漏洩磁界強度が得られる。ただし、十分
な漏洩磁界強度を得るためには、ターゲット厚さを12
mm以下とすることが好ましい。ターゲットの平面形状
は、円、楕円、方形等のいずれであってもよい。ターゲ
ットの直径ないし短径は、通常、120〜260mm程度
である。
The target of the present invention is a plate-like body, and its thickness is not particularly limited. However, the target of the present invention has a low magnetic permeability and can be made thick. Specifically, even if the thickness is 8 mm or more, the leakage magnetic field intensity on the target can be increased during magnetron sputtering, and even if the thickness is 10 mm or more, a sufficient leakage magnetic field intensity can be obtained. However, in order to obtain a sufficient leakage magnetic field strength, the target thickness must be 12
mm or less is preferable. The planar shape of the target may be any of a circle, an ellipse, and a square. The diameter or minor diameter of the target is usually about 120 to 260 mm.

【0033】本発明のターゲットは、後述する方法によ
り製造されるので、製造工程における酸素の混入が少な
い。このため、酸素含有量を1000ppm以下にでき、
600ppm以下にすることも容易である。
The target of the present invention is manufactured by a method described later, so that oxygen is less mixed in the manufacturing process. Therefore, the oxygen content can be reduced to 1000 ppm or less,
It is easy to make it 600 ppm or less.

【0034】ターゲットの焼結密度は、好ましくは95
%以上、より好ましくは98%以上である。後述する製
造方法によれば、このように高い焼結密度が容易に得ら
れる。本発明のターゲットは焼結密度が高いことから十
分な機械的強度が得られるので、スパッタ装置に設置す
る際のターゲットボンディング工程において割れにく
い。なお、この場合の焼結密度とは、理論密度に対する
焼結体の密度の比率である。
The sintered density of the target is preferably 95
% Or more, more preferably 98% or more. According to the manufacturing method described later, such a high sintering density can be easily obtained. Since the target of the present invention has sufficient mechanical strength due to its high sintering density, it is unlikely to crack in the target bonding step when it is installed in a sputtering apparatus. The sintering density in this case is the ratio of the density of the sintered body to the theoretical density.

【0035】ターゲットの製造方法 次に、本発明のターゲットを製造する方法について説明
する。
Next, a method of manufacturing the target of the present invention will be described.

【0036】合金化工程 まず、希土類金属と遷移金属とを、これらの比率が上記
したターゲット組成となるように調合する。
Alloying Step First, a rare earth metal and a transition metal are prepared so that the ratio thereof becomes the above-mentioned target composition.

【0037】次いで、調合物を高周波炉またはるつぼ炉
(反射炉)で溶解する。本発明では、高周波炉を用いる
ことがより好ましい。高周波炉では、コイル内に金属を
入れ、コイルに高周波電流を流すことにより金属に渦電
流を発生させる。金属はその電気抵抗によって発熱して
溶解し、金属溶湯となる。一方、前述したアーク溶解で
は、アークをスキャンすることにより加熱するため金属
全体を溶湯状とすることはできない。高周波溶解では金
属全体を溶融させることができ、このため急冷が可能で
あり、また、金属溶湯が自然に撹拌されることになるの
で、異相の析出の少ない均質な合金が得られる。るつぼ
炉では、ヒータにより金属全体を加熱するため、高周波
炉に近い均質な合金が得られる。高周波炉およびるつぼ
炉における金属の溶解は、窒素ガスやArガス等の非酸
化性雰囲気中で行う。
Next, the preparation is melted in a high-frequency furnace or crucible furnace (reflection furnace). In the present invention, it is more preferable to use a high-frequency furnace. In a high-frequency furnace, an eddy current is generated in a metal by putting a metal in a coil and flowing a high-frequency current through the coil. The metal generates heat due to its electric resistance and is melted to become a molten metal. On the other hand, in the above-described arc melting, the entire metal cannot be made into a molten metal because it is heated by scanning the arc. In the high-frequency melting, the entire metal can be melted, which allows rapid cooling, and the molten metal is naturally stirred, so that a homogeneous alloy with less precipitation of different phases can be obtained. In a crucible furnace, since the entire metal is heated by a heater, a homogeneous alloy close to that of a high-frequency furnace can be obtained. The melting of the metal in the high-frequency furnace and the crucible furnace is performed in a non-oxidizing atmosphere such as nitrogen gas or Ar gas.

【0038】次に、金属溶湯を急冷する。急冷方法とし
ては、例えば鋳造法や噴霧法(ガスアトマイズ法、単ロ
ール法、遠心ディスク法等)などを利用すればよいが、
これらのうちでは、低コスト化が容易な鋳造法が好まし
い。鋳造法では、上部が開放された冷却可能なセラミッ
ク製るつぼ、または水平割型、垂直割型に金属溶湯を流
し込み、金属溶湯を急冷する。るつぼや割型内の空間
は、厚さが10〜50mm程度の薄板状であることが好ま
しい。急冷速度は、鋳造物にクラックが入って薄板状が
維持できない程度に高速であることが好ましい。
Next, the molten metal is rapidly cooled. As the quenching method, for example, a casting method or a spraying method (gas atomizing method, single roll method, centrifugal disk method, etc.) may be used,
Among these, a casting method that is easy to reduce the cost is preferable. In the casting method, a molten metal is poured into a coolable ceramic crucible having an open top, or a horizontal split mold or a vertical split mold, and the molten metal is rapidly cooled. The space in the crucible or split mold is preferably a thin plate having a thickness of about 10 to 50 mm. It is preferable that the quenching speed is so fast that the casting is cracked and a thin plate cannot be maintained.

【0039】急冷は、窒素ガスやArガス等の非酸化性
雰囲気中で行う。本発明では金属溶湯を急冷して合金化
するので、α−Fe相の生成およびその成長が抑えら
れ、透磁率の極めて低い合金が得られる。
The quenching is performed in a non-oxidizing atmosphere such as nitrogen gas or Ar gas. In the present invention, since the molten metal is quenched and alloyed, the formation and growth of the α-Fe phase are suppressed, and an alloy having extremely low magnetic permeability can be obtained.

【0040】なお、急冷合金の酸素含有量を低減するた
めに、急冷合金表面に存在する酸素含有量の多い領域
を、研削により除去することが好ましい。研削深さは、
表面から深さ1mm程度以下で十分である。
In order to reduce the oxygen content of the quenched alloy, it is preferable to remove a region having a large oxygen content on the surface of the quenched alloy by grinding. Grinding depth is
A depth of about 1 mm or less from the surface is sufficient.

【0041】粉砕工程 次いで、急冷合金を機械的に粉砕し、合金粉末とする。
粉砕は、窒素ガスやArガス等の非酸化性雰囲気中で行
う。粉砕は、粒径が好ましくは45〜425μm、より
好ましくは100〜200μmの合金粉末が全体の90
重量%以上、好ましくは95重量%以上を占めるように
行う。粒径が小さすぎると粉砕時の酸化によりターゲッ
ト中の酸素含有量が多くなりすぎる。一方、粒径が大き
すぎると焼結しにくくなるので、後述する焼成工程にお
いて焼成温度を高くする必要が生じ、これによりα−F
e相の析出が生じて透磁率が高くなってしまい、好まし
くない。粉砕手段は特に限定されず、ジョークラッシャ
ー、ロールクラッシャー、コーンクラッシャー、ハンマ
ーミル、スタンプミル等の粗粉砕機、およびディスクミ
ル、ブラウンミル、ボールミル、アトライター、ジェッ
トミル等の微粉砕機等のいずれを用いてもよい。粉砕
後、必要に応じ、ふるい等により分級する。
The milling step is then mechanically pulverizing the rapidly solidified alloy, an alloy powder.
The pulverization is performed in a non-oxidizing atmosphere such as nitrogen gas or Ar gas. In the pulverization, the alloy powder having a particle size of preferably 45 to 425 μm, more preferably 100 to 200 μm is 90 μm in total.
It is performed so as to account for at least 95% by weight, preferably at least 95% by weight. If the particle size is too small, the oxygen content in the target becomes too large due to oxidation during pulverization. On the other hand, if the particle size is too large, sintering becomes difficult, so that it is necessary to raise the firing temperature in the firing step described below, which results in α-F
The e-phase is precipitated and the magnetic permeability is increased, which is not preferable. The crushing means is not particularly limited, and may be any of a coarse crusher such as a jaw crusher, a roll crusher, a cone crusher, a hammer mill, a stamp mill, and a fine crusher such as a disc mill, a brown mill, a ball mill, an attritor, a jet mill, and the like. May be used. After pulverization, if necessary, classify by sieving or the like.

【0042】焼成工程 次に、合金粉末をArガス等の不活性ガス雰囲気中また
は真空中で加圧焼成することにより、焼結体を得る。加
圧焼成には、ホットプレス法や熱間静水圧プレス法を用
いることが好ましい。加圧焼成の際の圧力および温度
は、緻密な焼結体が得られ、しかもα−Fe相の生成や
その成長が抑えられるように決定すればよい。焼成温度
は、液相焼結が生じない温度とすることが好ましい。ま
た、ターゲットの割れを防ぐために、粒成長が生じない
温度で焼成することが好ましい。
Firing Step Next, a sintered body is obtained by firing the alloy powder under pressure in an inert gas atmosphere such as Ar gas or in a vacuum. It is preferable to use a hot press method or a hot isostatic press method for the pressure firing. The pressure and the temperature at the time of the pressure sintering may be determined so that a dense sintered body can be obtained and the generation and growth of the α-Fe phase can be suppressed. The firing temperature is preferably a temperature at which liquid phase sintering does not occur. In addition, in order to prevent cracking of the target, it is preferable to fire at a temperature at which grain growth does not occur.

【0043】具体的には、ホットプレス法を用いる場合
には、加圧力は好ましくは400kgf/cm2以上であり、
焼成温度は好ましくは900〜1200℃であり、前記
焼成温度に保持する時間は好ましくは5〜60分間であ
り、焼成温度まで昇温するときの速度は好ましくは10
℃/分間以上である。また、熱間静水圧プレス法を用い
る場合には、加圧力は好ましくは500kgf/cm2以上で
あり、焼成温度は好ましくは600〜1000℃であ
り、前記焼成温度に保持する時間は好ましくは20〜6
0分間であり、焼成温度まで昇温するときの速度は好ま
しくは20℃/分間以上である。加圧力が小さすぎる
と、焼結密度が低くなってしまう。このとき、焼結密度
を確保しようとして焼成温度を高くしすぎると、ターゲ
ットの酸素含有量が増えてしまい、また、α−Feの析
出により透磁率の上昇を招く。一方、焼成温度が低すぎ
ると焼結密度が低くなってしまい、ターゲットの機械的
強度が不十分となる。昇温速度および焼成時間を上記範
囲とするのは、焼結密度を高くしてターゲットを割れに
くくするためである。なお、加圧力の上限は特にない
が、ホットプレス法において成形用型枠として一般的な
カーボン型を用いる場合には、通常、600kgf/cm2
下とすることが好ましい。また、熱間静水圧プレス法で
は、2000kgf/cm2以下とすることが好ましい。
Specifically, when the hot press method is used, the pressing force is preferably 400 kgf / cm 2 or more,
The firing temperature is preferably 900 to 1200 ° C., the time for maintaining the firing temperature is preferably 5 to 60 minutes, and the rate at which the temperature is raised to the firing temperature is preferably 10 minutes.
° C / min or more. When using a hot isostatic pressing method, the pressing force is preferably 500 kgf / cm 2 or more, the firing temperature is preferably 600 to 1000 ° C., and the time for maintaining the firing temperature is preferably 20. ~ 6
It is 0 minutes, and the rate at which the temperature is raised to the firing temperature is preferably 20 ° C./minute or more. If the pressure is too small, the sintered density will be low. At this time, if the sintering temperature is too high in order to secure the sintering density, the oxygen content of the target increases, and the precipitation of α-Fe causes an increase in the magnetic permeability. On the other hand, if the firing temperature is too low, the sintering density will be low, and the mechanical strength of the target will be insufficient. The reason for setting the heating rate and the firing time in the above ranges is to increase the sintering density and make the target less likely to crack. There is no particular upper limit on the pressing force, but when a general carbon mold is used as a molding frame in the hot press method, it is usually preferably 600 kgf / cm 2 or less. In the hot isostatic pressing method, the pressure is preferably set to 2000 kgf / cm 2 or less.

【0044】なお、加圧焼成に際しては、加圧した後、
昇温し、焼成温度に所定時間保持した後、圧力を解放し
て冷却することが好ましい。
In the firing under pressure, after pressing,
It is preferable that after the temperature is raised and the firing temperature is maintained for a predetermined time, the pressure is released and cooling is performed.

【0045】焼成後、焼結体表面付近に存在する組成的
および組織的に不均質な領域を研削により除去し、スパ
ッタ用ターゲットを完成させる。このときの研削深さ
は、1mm程度以下で十分である。
After firing, the compositionally and structurally inhomogeneous region near the surface of the sintered body is removed by grinding to complete the sputtering target. At this time, a grinding depth of about 1 mm or less is sufficient.

【0046】ターゲット再生方法 本発明のターゲットを再生する方法を説明する。 Target Reproducing Method A method of reproducing a target according to the present invention will be described.

【0047】まず、使用済のターゲットから、ボンディ
ング材を除去し、ターゲットだけの状態とする。
First, the bonding material is removed from the used target, leaving only the target.

【0048】粉砕工程 次いで、使用済ターゲットを粉砕し、合金粉末とする。
以下、この合金粉末を再生合金粉末という。この粉砕
は、ターゲット製造の際の粉砕工程と同様にして行う。
すなわち、粉砕雰囲気や好ましい粒径範囲などの各種条
件は、ターゲット製造の際の粉砕工程と同様である。
The milling step is then pulverized spent target, an alloy powder.
Hereinafter, this alloy powder is referred to as reclaimed alloy powder. This pulverization is performed in the same manner as in the pulverization step in manufacturing the target.
That is, various conditions such as a pulverizing atmosphere and a preferable particle size range are the same as those in the pulverizing step in manufacturing the target.

【0049】混合工程 次いで、再生合金粉末を、ターゲット製造の際の粉砕工
程において得られた合金粉末(以下、新規合金粉末とい
う)と混合し、混合物を得る。再生合金粉末と新規合金
粉末との混合比率は特に限定されないが、通常、混合物
中における新規合金粉末の比率を10〜80重量部とす
ることが好ましい。再生合金粉末は新規合金粉末に比べ
希土類金属の酸化度が高いため、再生合金粉末の比率が
高すぎるとターゲットとして特性が不十分となる。な
お、再生合金粉末の酸化による影響を軽減するため、新
規合金粉末における希土類金属の比率を、ターゲットの
目標組成よりも高くしておくことが好ましい。具体的に
は、新規合金粉末のR/(R+T)を、再生合金粉末の
R/(R+T)の1.02〜1.08倍とすることが好
ましい。
Mixing Step Next, the reclaimed alloy powder is mixed with the alloy powder obtained in the pulverizing step in manufacturing the target (hereinafter, referred to as a new alloy powder) to obtain a mixture. Although the mixing ratio of the reclaimed alloy powder and the new alloy powder is not particularly limited, it is usually preferable that the ratio of the new alloy powder in the mixture be 10 to 80 parts by weight. Since the regenerated alloy powder has a higher degree of oxidation of the rare earth metal than the new alloy powder, if the ratio of the regenerated alloy powder is too high, the characteristics as a target become insufficient. In order to reduce the influence of the oxidation of the reclaimed alloy powder, the ratio of the rare earth metal in the new alloy powder is preferably higher than the target composition of the target. Specifically, it is preferable that R / (R + T) of the new alloy powder be 1.02 to 1.08 times R / (R + T) of the recycled alloy powder.

【0050】焼成工程 混合後、加圧焼成し、焼結体を得る。加圧焼成の際の好
ましい条件は、ターゲット製造の際の焼成工程における
ものと同様である。最後に焼結体表面を研削し、再生タ
ーゲットを完成させる。
After the sintering step, the mixture is sintered under pressure to obtain a sintered body. Preferred conditions for the firing under pressure are the same as those in the firing step in the production of the target. Finally, the surface of the sintered body is ground to complete the reproduction target.

【0051】[0051]

【実施例】実施例1 Tb25原子%、Fe65原子%、Co5原子%および
Cr5原子%を調合して、合計2kgの原料とした。この
原料を高周波溶解した後、平面寸法が200mm×200
mmのセラミック製鋳型に流し込んで急冷し、急冷合金を
得た。高周波溶解および急冷は、窒素ガスフロー雰囲気
中で行った。
EXAMPLE 1 25 atomic% of Tb, 65 atomic% of Fe, 5 atomic% of Co and 5 atomic% of Cr were mixed to obtain a total of 2 kg of raw material. After the raw material was melted by high frequency, the plane size was 200 mm x 200
The mixture was poured into a ceramic mold having a size of 0.1 mm and rapidly cooled to obtain a rapidly cooled alloy. The high frequency melting and quenching were performed in a nitrogen gas flow atmosphere.

【0052】次に、急冷合金の表面を0.5mmの深さま
で研削して除去した。この結果、急冷合金全体の酸素含
有量は、200ppm以下となった。
Next, the surface of the quenched alloy was removed by grinding to a depth of 0.5 mm. As a result, the oxygen content of the entire quenched alloy became 200 ppm or less.

【0053】次いで、急冷合金をスタンプミルで3mm以
下の径まで粉砕した後、ディスクミルのWC製回転円盤
の隙間を0.4mmとし、その隙間に急冷合金を投入して
粉砕を行った。この粉砕により、粒径10〜500μm
の合金粉末が得られた。これを目の開きが45μmのふ
るいと425μmのふるいとで分級した。なお、粉砕
は、窒素ガスフロー雰囲気中で行った。
Next, after the quenched alloy was pulverized by a stamp mill to a diameter of 3 mm or less, the gap of the WC rotary disk of the disc mill was set to 0.4 mm, and the quenched alloy was charged into the gap to perform pulverization. By this pulverization, a particle size of 10 to 500 μm
Was obtained. This was classified using a sieve having an opening of 45 μm and a sieve having a diameter of 425 μm. The pulverization was performed in a nitrogen gas flow atmosphere.

【0054】合金粉末の粒度分布と、対応する酸素量お
よびTb量との測定結果を、表1に示す。
Table 1 shows the measurement results of the particle size distribution of the alloy powder and the corresponding amounts of oxygen and Tb.

【0055】[0055]

【表1】 [Table 1]

【0056】表1から、合金粉末のTb含有量は粒径に
依存せず、極めて安定していることがわかる。また、4
5μmを下回る合金粉末では、酸素量が多すぎることが
わかる。
Table 1 shows that the Tb content of the alloy powder is extremely stable without depending on the particle size. Also, 4
It can be seen that the amount of oxygen is too large for the alloy powder less than 5 μm.

【0057】次に、カーボン型に合金粉末を充填し、5
00kgf/cm2で加圧しながら15℃/分間の速度で昇温
し、Ar雰囲気中において1050℃で20分間ホット
プレスした。加圧を解除した後、冷却し、焼結体を得
た。
Next, a carbon mold is filled with alloy powder,
The temperature was increased at a rate of 15 ° C./min while applying a pressure of 00 kgf / cm 2 , and hot-pressed at 1050 ° C. for 20 minutes in an Ar atmosphere. After releasing the pressure, the mixture was cooled to obtain a sintered body.

【0058】この焼結体の外周面および表裏面を1mmの
深さまで研削して除去し、ターゲットを得た。このター
ゲットは、直径127mm、厚さ10mmであった。
The outer peripheral surface and the front and back surfaces of the sintered body were removed by grinding to a depth of 1 mm to obtain a target. This target had a diameter of 127 mm and a thickness of 10 mm.

【0059】このターゲットは、透磁率が2.3であ
り、酸素含有量が550ppmであり、焼結密度が95%
であった。また、このターゲットでは、スパッタターゲ
ットのボンディング工程における成膜に際し、割れ等の
問題は発生しなかった。
This target has a magnetic permeability of 2.3, an oxygen content of 550 ppm, and a sintered density of 95%.
Met. Further, with this target, there was no problem such as a crack when forming a film in the bonding step of the sputter target.

【0060】このターゲットを、走査型電子顕微鏡、X
線回折およびEPMAにより分析した結果、走査型電子
顕微鏡写真においてマトリックス相として観察される相
対的に暗い領域がFe3Tb型結晶相であり、マトリッ
クス相中に分散されている相対的に明るい領域がFe2
Tb型結晶相であることがわかった。これらの結晶相の
うちFe3Tb型結晶相の比率は、97体積%であっ
た。EPMAによる分析では、Fe3Tb型結晶相にお
いて(Fe+Co+Cr):Tbはほぼ3:1であっ
た。この結果から、CoおよびCrがFeサイトを置換
していると考えられる。
This target was scanned with a scanning electron microscope, X
As a result of analysis by line diffraction and EPMA, a relatively dark region observed as a matrix phase in a scanning electron micrograph was a Fe 3 Tb type crystal phase, and a relatively bright region dispersed in the matrix phase was Fe 2
It was found to be a Tb type crystal phase. The proportion of the Fe 3 Tb type crystal phase among these crystal phases was 97% by volume. According to the analysis by EPMA, (Fe + Co + Cr): Tb was approximately 3: 1 in the Fe 3 Tb type crystal phase. From this result, it is considered that Co and Cr replace the Fe site.

【0061】このターゲットのX線回折チャートを図1
に示す。図1において、2θ=41°と2θ=42°と
の間に存在する回折ピークが、Fe3Tb結晶に由来す
るものである。なお、X線回折による分析では、α−F
e相の存在は認められなかった。
FIG. 1 shows an X-ray diffraction chart of this target.
Shown in In FIG. 1, the diffraction peak existing between 2θ = 41 ° and 2θ = 42 ° is derived from the Fe 3 Tb crystal. In the analysis by X-ray diffraction, α-F
The presence of e-phase was not observed.

【0062】このターゲットの面内方向および厚さ方向
における均質性を調べた。面内方向では、断面を20mm
角の32領域に分割して組成を測定し、各領域間でのT
b含有量のばらつきを調べた。また、厚さ方向では、厚
さ1mmごとの10領域に分割して組成を測定し、各領域
間でのTb含有量のばらつきを調べた。この結果、面内
方向32領域のTb含有量は24.864〜25.08
5原子%の範囲にあり、厚さ方向10領域のTb含有量
は24.847〜25.080原子%の範囲にあった。
すなわち、Tb含有量はいずれも25.0±0.2原子
%の範囲に収まっており、極めて均質であることがわか
った。また、Fe、CoおよびCrについても同様な測
定を行った結果、これらの元素についても同等の結果が
得られた。
The homogeneity of the target in the in-plane direction and the thickness direction was examined. In the in-plane direction, the cross section is 20mm
The composition was measured by dividing the area into 32 areas, and the T between each area was measured.
The variation in the b content was examined. Further, in the thickness direction, the composition was measured by dividing the region into 10 regions each having a thickness of 1 mm, and the variation in the Tb content between the regions was examined. As a result, the Tb content in the in-plane 32 regions is 24.864 to 25.08.
The Tb content was in the range of 5 at%, and the Tb content in 10 regions in the thickness direction was in the range of 24.847 to 25.080 at%.
That is, the Tb contents were all within the range of 25.0 ± 0.2 atomic%, which proved to be extremely homogeneous. The same measurement was performed for Fe, Co, and Cr, and similar results were obtained for these elements.

【0063】このターゲットを用いたマグネトロンスパ
ッタにより、直径63.5mmの基板上に光磁気記録膜を
形成してミニディスクを作製したところ、ターゲットを
交換することなく15万枚以上のミニディスクの製造が
可能であった。しかも、初期に形成された膜と末期に形
成された膜とで組成に変化はみられず、かつ、各膜はい
ずれも面内方向において均質であった。
When a magneto-optical recording film was formed on a substrate having a diameter of 63.5 mm by magnetron sputtering using this target to produce a mini-disc, 150,000 or more mini-discs were manufactured without replacing the target. Was possible. In addition, there was no change in the composition of the film formed at the beginning and the film formed at the end, and each film was homogeneous in the in-plane direction.

【0064】実施例2 原料組成を、Tb22原子%、Fe68原子%、Co5
原子%およびCr5原子%としたほかは実施例1と同様
にして、ターゲットを作製した。
Example 2 The composition of the raw materials was 22 atomic% of Tb, 68 atomic% of Fe,
A target was prepared in the same manner as in Example 1 except that the atomic% and the Cr atomic amount were 5 atomic%.

【0065】このターゲットは、透磁率が2.5であ
り、酸素含有量が500ppmであり、焼結密度が96%
であった。また、このターゲットでは、スパッタターゲ
ットのボンディング工程における成膜に際し、割れ等の
問題は発生しなかった。
This target has a magnetic permeability of 2.5, an oxygen content of 500 ppm, and a sintered density of 96%.
Met. Further, with this target, there was no problem such as a crack when forming a film in the bonding step of the sputter target.

【0066】このターゲットの面内方向断面の走査型電
子顕微鏡写真を図2に、厚さ方向断面の走査型電子顕微
鏡写真を図3に示す。X線回折およびEPMAによる分
析の結果、マトリックス相として観察される相対的に明
るい領域がFe3Tb型結晶相であり、マトリックス相
中に分散されている相対的に暗い領域がFe23Tb6
結晶相であることがわかった。これらの結晶相のうちF
3Tb型結晶相の比率は、94体積%であった。EP
MAによる分析では、Fe3Tb型結晶相において(F
e+Co+Cr):Tbはほぼ3:1であった。この結
果から、CoおよびCrがFeサイトを置換していると
考えられる。
FIG. 2 shows a scanning electron microscope photograph of a cross section in the in-plane direction of the target, and FIG. 3 shows a scanning electron microscope photograph of a cross section in the thickness direction. As a result of analysis by X-ray diffraction and EPMA, a relatively bright region observed as a matrix phase is a Fe 3 Tb type crystal phase, and a relatively dark region dispersed in the matrix phase is a Fe 23 Tb 6 type. It was found to be a crystalline phase. Of these crystal phases, F
The ratio of the e 3 Tb type crystal phase was 94% by volume. EP
According to the analysis by MA, in the Fe 3 Tb type crystal phase, (F
e + Co + Cr): Tb was approximately 3: 1. From this result, it is considered that Co and Cr replace the Fe site.

【0067】なお、X線回折による分析では、α−Fe
相の存在は認められなかった。
In the analysis by X-ray diffraction, α-Fe
No phase was observed.

【0068】このターゲットの面内方向および厚さ方向
における均質性を、実施例1と同様にして調べた。この
結果、Tb含有量はいずれも22.0±0.2原子%の
範囲に収まっており、極めて均質であることがわかっ
た。また、Fe、CoおよびCrについても同様な測定
を行った結果、これらの元素についても同等の結果が得
られた。
The homogeneity of the target in the in-plane direction and the thickness direction was examined in the same manner as in Example 1. As a result, the Tb content was within the range of 22.0 ± 0.2 atomic% in all cases, and it was found that the Tb content was extremely homogeneous. The same measurement was performed for Fe, Co, and Cr, and similar results were obtained for these elements.

【0069】このターゲットを用いたマグネトロンスパ
ッタにより、直径63.5mmの基板上に光磁気記録膜を
形成してミニディスクを作製したところ、ターゲットを
交換することなく15万枚以上のミニディスクの製造が
可能であった。しかも、初期に形成された膜と末期に形
成された膜とで組成に変化はみられず、かつ、各膜はい
ずれも面内方向において均質であった。
When a magneto-optical recording film was formed on a substrate having a diameter of 63.5 mm by magnetron sputtering using this target to produce a mini-disc, 150,000 or more mini-discs were manufactured without replacing the target. Was possible. In addition, there was no change in the composition of the film formed at the beginning and the film formed at the end, and each film was homogeneous in the in-plane direction.

【0070】比較例 比較のために、高周波溶解に替えてアーク溶解を利用し
て急冷合金を作製し、このほかは実施例1と同様にして
比較ターゲットを作製した。
Comparative Example For comparison, a quenched alloy was produced using arc melting instead of high-frequency melting, and a comparative target was made in the same manner as in Example 1 except for this.

【0071】このターゲットでは、X線回折およびEP
MAでの分析によりα−Fe相の存在が認められ、透磁
率が5と大きかった。
In this target, X-ray diffraction and EP
Analysis by MA showed the presence of the α-Fe phase, and the magnetic permeability was as large as 5.

【0072】このターゲットについても、面内方向およ
び厚さ方向における均質性を実施例1と同様にして調べ
た。この結果、厚さ方向に分割された領域には24〜2
6原子%の範囲に収まらないものが存在し、ばらつきが
大きいことがわかった。これは、アーク溶解によりα−
Fe相が生成し、α−Fe相は粉砕されにくいため大径
のFeリッチ粉が粉砕時に生じ、加圧成型の際に型に投
入するとき大径のFeリッチ粉が下部に集まったためと
考えられる。
This target was examined for homogeneity in the in-plane direction and the thickness direction in the same manner as in Example 1. As a result, in the region divided in the thickness direction, 24 to 2
It was found that some of them did not fall within the range of 6 atomic%, and the dispersion was large. This is because α-
It is considered that a large diameter Fe-rich powder was generated at the time of pulverization because the Fe phase was formed and the α-Fe phase was hard to be pulverized, and the large diameter Fe-rich powder was gathered at a lower portion when being injected into a mold during pressure molding. Can be

【0073】このターゲットをマグネトロンスパッタに
使用したときに、上記実施例で作製した厚さ10mmの本
発明ターゲットと同等の漏洩磁界強度を得るためには、
ターゲットの厚さを6mmまで薄くする必要があった。
When this target is used for magnetron sputtering, in order to obtain the same leakage magnetic field strength as the 10 mm thick target of the present invention manufactured in the above embodiment,
It was necessary to reduce the thickness of the target to 6 mm.

【0074】実施例3 実施例1において15万枚のミニディスク製造に使用し
たターゲットを粉砕し、再生合金粉末とした。
Example 3 The target used in the production of 150,000 mini disks in Example 1 was pulverized to obtain a reclaimed alloy powder.

【0075】一方、原料組成を、Tb26原子%、Fe
64.2原子%、Co4.9原子%およびCr4.9原
子%としたほかは実施例1と同様にして合金粉末を得、
これを実施例1と同様にして分級して、新規合金粉末と
した。
On the other hand, when the raw material composition was Tb 26 atomic%, Fe
An alloy powder was obtained in the same manner as in Example 1, except that 64.2 atomic%, Co 4.9 atomic% and Cr 4.9 atomic% were used.
This was classified in the same manner as in Example 1 to obtain a new alloy powder.

【0076】再生合金粉末と新規合金粉末とを重量比で
1:1となるように混合し、得られた混合物を実施例1
と同様にしてホットプレスした後、研削し、ターゲット
とした。
The regenerated alloy powder and the new alloy powder were mixed at a weight ratio of 1: 1.
After hot pressing in the same manner as described above, grinding was performed to obtain a target.

【0077】このターゲットを用いてミニディスクの製
造を行ったところ、実施例1と同様に、初期に形成され
た膜と末期に形成された膜とで組成に変化はみられず、
かつ、各膜はいずれも面内方向において均質であった。
When a mini-disc was manufactured using this target, as in Example 1, no change was observed in the composition of the film formed at the beginning and the film formed at the end.
Each of the films was homogeneous in the in-plane direction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】ターゲットのX線回折チャートである。FIG. 1 is an X-ray diffraction chart of a target.

【図2】結晶構造を示す図面代用写真であって、本発明
のターゲットの面内方向断面の走査型電子顕微鏡写真で
ある。
FIG. 2 is a drawing substitute photograph showing a crystal structure, and is a scanning electron microscope photograph of an in-plane cross section of the target of the present invention.

【図3】結晶構造を示す図面代用写真であって、本発明
のターゲットの厚さ方向断面の走査型電子顕微鏡写真で
ある。
FIG. 3 is a drawing substitute photograph showing a crystal structure, and is a scanning electron microscope photograph of a cross section in the thickness direction of the target of the present invention.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C22C 38/00 304 C22C 38/00 304 G11B 11/105 546 G11B 11/105 546K ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C22C 38/00 304 C22C 38/00 304 G11B 11/105 546 G11B 11/105 546K

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光磁気記録用の記録材料をマグネトロン
スパッタ法により形成するときに用いられるターゲット
であって、R(Rは、Tb、Dy、Gd、Sm、Nd、
Ho、TmおよびErの少なくとも1種から選択される
希土類金属元素である)を20〜30原子%含み、残部
が実質的にT(Tは、遷移金属元素であり、Fe、Co
およびNiの少なくとも1種を必ず含む)であり、実質
的に均質な焼結組織からなり、透磁率が3以下であり、
厚さが8mm以上の板状体である光磁気記録用合金ターゲ
ット。
1. A target used when forming a recording material for magneto-optical recording by a magnetron sputtering method, wherein R (R is Tb, Dy, Gd, Sm, Nd,
A rare earth metal element selected from at least one of Ho, Tm and Er) in an amount of 20 to 30 atomic%, and the balance substantially T (T is a transition metal element; Fe, Co
And at least one of Ni), having a substantially homogeneous sintered structure, having a magnetic permeability of 3 or less,
An alloy target for magneto-optical recording, which is a plate having a thickness of 8 mm or more.
【請求項2】 厚さが10mm以上である請求項1の光磁
気記録用合金ターゲット。
2. The alloy target for magneto-optical recording according to claim 1, which has a thickness of 10 mm or more.
【請求項3】 前記T中にCrが含まれる請求項1また
は2の光磁気記録用合金ターゲット。
3. The alloy target for magneto-optical recording according to claim 1, wherein said T contains Cr.
【請求項4】 酸素含有量が1000ppm以下である請
求項1〜3のいずれかの光磁気記録用合金ターゲット。
4. The alloy target for magneto-optical recording according to claim 1, wherein the oxygen content is 1000 ppm or less.
【請求項5】 Fe3Tb型結晶相が結晶相全体の88
体積%以上を占める請求項1〜4のいずれかの光磁気記
録用合金ターゲット。
5. The Fe 3 Tb type crystal phase has a total crystal phase of 88%.
5. The alloy target for magneto-optical recording according to claim 1, which accounts for at least% by volume.
【請求項6】 請求項1〜5のいずれかの光磁気記録用
合金ターゲットを製造する方法であって、前記Rと前記
Tとを、R/(R+T)が20〜30原子%となるよう
に調合し、得られた調合物を高周波炉またはるつぼ炉で
溶解し、次いで急冷して急冷合金を得、この急冷合金を
非酸化性雰囲気中において機械粉砕して合金粉末を得、
この合金粉末を不活性ガス雰囲気中または真空中で加圧
焼成することにより焼結する光磁気記録用合金ターゲッ
トの製造方法。
6. The method for producing an alloy target for magneto-optical recording according to claim 1, wherein R and T are set so that R / (R + T) is 20 to 30 atomic%. The obtained mixture is melted in a high-frequency furnace or crucible furnace, and then quenched to obtain a quenched alloy.The quenched alloy is mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain an alloy powder,
A method for producing an alloy target for magneto-optical recording, wherein the alloy powder is sintered by pressurizing in an inert gas atmosphere or under vacuum.
【請求項7】 前記合金粉末の90重量%以上が粒径4
5〜425μmである請求項6の光磁気記録用合金ター
ゲットの製造方法。
7. A powder having a particle size of at least 90% by weight of the alloy powder.
7. The method for producing an alloy target for magneto-optical recording according to claim 6, wherein the thickness is 5 to 425 [mu] m.
【請求項8】 請求項1〜5のいずれかの光磁気記録用
合金ターゲットを使用した後、非酸化性雰囲気中におい
て機械粉砕して再生合金粉末を得、一方、前記Rと前記
Tとを調合し、得られた調合物を高周波炉またはるつぼ
炉で溶解し、次いで急冷して急冷合金を得、この急冷合
金を非酸化性雰囲気中において機械粉砕して合金粉末を
得、この合金粉末と前記再生合金粉末との混合物を不活
性ガス雰囲気中または真空中で加圧焼成することにより
焼結する工程を有する光磁気記録用合金ターゲットの再
生方法。
8. After using the alloy target for magneto-optical recording according to any one of claims 1 to 5, it is mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain a reclaimed alloy powder. The obtained mixture was melted in a high-frequency furnace or crucible furnace, and then quenched to obtain a quenched alloy.The quenched alloy was mechanically pulverized in a non-oxidizing atmosphere to obtain an alloy powder. A method for reproducing an alloy target for magneto-optical recording, comprising a step of sintering the mixture with the reproduced alloy powder by pressurizing and firing the mixture in an inert gas atmosphere or in a vacuum.
【請求項9】 前記調合物のR/(R+T)が、前記再
生合金粉末のR/(R+T)の1.02〜1.08倍で
ある請求項8の光磁気記録用合金ターゲットの再生方
法。
9. The method for reproducing an alloy target for magneto-optical recording according to claim 8, wherein R / (R + T) of the preparation is 1.02 to 1.08 times R / (R + T) of the reproduced alloy powder. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2003036633A1 (en) * 2001-10-25 2003-05-01 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Method of forming film on optical disk
WO2011052160A1 (en) * 2009-10-28 2011-05-05 株式会社アルバック Method for producing ito sintered body and method for producing ito sputtering target

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