JP2000513657A - タンディッシュ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 この発明は、そこを通る溶融金属の流れ特性を改良したタンディッシュを提供するものであって、タンディッシュ（１０）は出口と、緩衝パッドとダムとを備え、出口はタンディッシュの底にあって、注入領域（１４）からタンディッシュの長手方向に離れており、注入領域（１４）は取鍋からの溶融スチールの流れを受けるところに位置しており、緩衝パッド（１３、４０）は注入領域内のタンディッシュの底（１１）上に置かれ、緩衝パッド（１３、４０）は衝撃面（４２）を持った基部（４１）と、基部の周縁に沿って上方へ延びる側壁（４３）とから成り、側壁（４３）は流入するスチールの流れに向かうアンダーカット部分を持った内面（４８）を備えており、アンダーカット部分は流入する流れを受け入れて流れの方向を反転させるような形にされた表面を持っており、ダム（２０、２１）は、緩衝パッド（１３、４０）と出口との間に位置し、ダム（２０、２１）は１個又は２個以上の孔（２７、２８）を備えていてスチールの一部を通過させ、ダム（２０、２１）は、タンディッシュの底（１１）からタンディッシュ内のスチールの最高の高さの約４０％から６０％まで上方に延びている。

Description

【発明の詳細な説明】 タンディッシュ この発明は、タンディッシュに関するものであり、とくにタンディッシュから の溶融金属の流れを改良する手段を提供することに関するものである。 スチールの連続鋳造においては溶融したスチールが取鍋から中間容器のタンデ ィッシュへ注入され、タンディッシュから１個又は２個以上の連続鋳造用鋳型へ 注入される。例えば、タンディッシュは２個の鋳型、即ち２個のストランドタン ディッシュへスチールを供給することがある。 タンディッシュ内では、望ましくない非金属介在物がスチール中に巻き込まれ ることがよく知られているので、スチールがタンディッシュから出る前にそのよ うな介在物を取り除くことによって、スチールの品質を向上させようとする色々 な手段が提案されて来た。そのような手段は、タンディッシュ内で溶融スチール の表面上に「活性」なフラックスの層を使用することを含んでおり、そのフラッ クスが望ましくない介在物を捕捉する。また、そのような手段は、タンディッシ ュ内に色々なバッフル、ダム、堰を付設することを含んでいる。ここでの説明で はバッフルはスチール流に対する障害物であって、タンディッシュの底から溶融 スチールの最高の高さ以上に延びているものであり、ダムは、タンディッシュの 底から上方へ突出し、スチールがその上を通って流れなければならない障害物で あり、堰は、下方へ向かって溶融スチール中へ突出し、スチールがその下を通っ て流れなければならない障害物である。 そのようなバッフル、ダム及び堰は、スチール中の介在物を捕捉するために、 活性な材料例えばアルミナの表面層で作られるか、又はそのような表面層を含ん でいる。それらは、孔を持っていてスチールの一部を通過させてもよく、またス チールを上方へ流れさせて、表面層とさらによく接触するように適当な大きさを 持って適当な場所に付設される。 さらに、タンディッシュの底に耐浸蝕性の緩衝パッドを付設し、取鍋から流入 する溶融スチールの流れを受けることも知られている。 バッフル、ダム、堰及び緩衝パッドは、これらをまとめてここではタンディッ シュ付属物と総称することにする。 緩衝パッドは、浸蝕に耐えるようにするという主たる役目のほかに、またタン ディッシュ内で表面の乱流を最小に押さえるように設計されて来た。例えば米国 特許第５１６９５９１号明細書では、取鍋から流入する流れを受けるための底と 、底の周縁に沿って上方へ延びる側壁とを持った緩衝パッドが開示されている。 この上方へ延びる側壁は、取鍋から入ってくる流れに面するアンダーカット部分 を持った内面を含んでおり、アンダーカット部分は内面の長さに沿って延び、取 鍋から入ってくる流れによって起きる流動を受けて流動方向を反転させるような 形をした表面を持っている。 注入領域の乱流を減少させることにより、表面を覆っているフラックス層が破 壊されてスチールが空気に露出する危険が少なくなり、それによってスチールの 酸化と熱損失の程度が減少する。 この発明は、注入領域の乱流の危険を減少させ、タンディッシュ 内で定常状態での鋳造のために流れ模様を改善し、その結果介在物の除去がまた 改良され、スラグ／フラックス被覆層の崩壊と、取鍋交換時の巻き込みの量が少 なくなるという、タンディッシュへのタンディッシュ付属物配置の改善を提供す ることを目的としている。 従って、この発明は、一面ではタンディッシュを提供するものであって、その タンディッシュは出口と緩衝パッドとダムとを持っており、出口は、タンディッ シュの底にあって、注入領域からタンディッシュの長手方向に離れており、注入 領域は取鍋から溶融スチールの流れを受けるところに位置しており、緩衝パッド は注入領域のタンディッシュの底上にあって、衝撃面を持った基部と、基部の周 縁に沿って上方へ延びる側壁とから成り、側壁は流入するスチールの流れに向か うアンダーカット部分を持った内面を備えていて、アンダーカット部分は流入す るスチールの流れを受け止めてその流れの方向を反転させるような形をした表面 を備えており、ダムは緩衝パッドと出口との間に位置しており、ダムは１個又は ２個以上の孔を持っていて、スチールの一部分を通過させ、ダムはタンディッシ ュ内のスチールの最高位の高さの約４０％から６０％だけタンディッシュの底か ら上方へ延びているものである。 この発明は、別の一面ではタンディッシュ用付属物の形をした一揃いの部品を 提供するものであって、その一揃いはこのすぐ前のパラグラフで述べたような緩 衝パッドとダムとから成るものである。 タンディッシュは、２個の出口を注入領域の両側に１個ずつ長手方向に離して 位置させ、ダムは注入領域と各出口との間に付設されることが好ましい。 各ダムは、一対の孔を幅方向に一様な間隔をおいて位置させるこ とが好ましく、またその孔は、タンディッシュの底上で底から底に最も近い端ま での距離を、２５mmからダムの高さの５０％までとして付設されることが好まし い。孔は円形断面であってもよく、即ちダムを貫通する通路が円柱状であっても よいが、このことは重要でなく、孔は例えば楕円又はその他の形であってもよい 。 孔はダムを水平に貫通していてもよいが、好ましい具体例では孔は下方に傾い ていて、例えば注入領域側からダムの出口側へ水平位置に対して３０°から６０ °の角度で傾いている。この場合には、上に述べた孔の中心の高さは、ダムの上 流側、即ち緩衝パッド側で測られる。 孔は、例えばタンディッシュの幅全体にわたるダムであって、そのダムが高さ ４０cmでタンディッシュが８０cmの溶融スチールの深さを持つものに対して、直 径を５ないし１５cmのものとすることができる。 緩衝パッドは、例えば前述の米国特許第５１６９５９１号明細書に開示された タイプのものであってもよい。その代わりに、緩衝パッドは、１９９４年１１月 ９日に出願された我々の米国特許出願第０８／３３８１２３号に記載されたよう な修正された緩衝パッドであってもよい。その出願には、基部とエンドレスの外 側側壁とを持った緩衝パッドが記載され、外側側壁は基部から上方へ延びて溶融 金属の流れを受けるための上部開口を持った内部空間を包囲しており、外側側壁 は開口へ向かって内側上方へ延びる少なくとも第１部分と、好ましくは第１部分 へ向かって外側上方へ延びる第２部分とを持った環状の内側面を含んでおり、そ の場合基部の衝撃面に衝突する溶融金属の下方へ向く流れは、環状の内側面へ向 かって外側へ 向けられ、その後に流入する溶融金属の流れに向かって上方内側へ向けられる。 また、そこには基部と、基部から上方へ延びるエンドレスの側壁と、基部の衝撃 面に実質的に垂直で側壁に接続されてその中に不均一開口を形成している上端面 とを持った緩衝パッドが記載されており、不均一開口は長い幅と、長い幅に垂直 な短い幅とを持ち、側壁は内面を持っており、その結果衝撃面に接触する溶融金 属は外側へ流れ、その後内側へ曲げられ、側壁の内面によって上方へ向けられ、 その後開口から流出する。この後者の具体例では、開口はタンディッシュの長い 辺と一直線に並ぶように配置される。 出口と注入領域とに対するダムの最適な位置と大きさとは、勿論、タンディッ シュごとに異なるが、例えばタンディッシュ付属物を設計し位置決めする手段と してよく数学的手段及び／又は水模型を使用する平均的な技術者ならば、容易に 決定できることである。 この発明は、タンディッシュにおける流れを相当に改善することが判明した。 その流れの利益は次のものを含んでいる。 ｉ） 最小滞留時間の延長 ii） 停滞空間の減少 iii） 中間滞留時間の延長 iv） 表面指向流の増加 これらの特徴は、すべて介在物除去の改善を助長している。滞留時間の延長が スチールからの介在物除去の可能性を大きくしていることは明らかである。停滞 空間の減少は、流れが静止し、そのために温度の均一化が少なくなり、また介在 物の除去が少なくなりそうな、タンディッシュの領域を減少させる。表面指向流 の増加は、スチールと活性フラックス被覆層との間の接触を改善し、それによっ て介在物の収集を増大させる。 ｖ） 乱流の減少、とくに取鍋から空のタンディッシュへの注入時、及 び一連の鋳造期間中の取鍋変更時に乱流の減少によって、スチールの再酸化の減 少が達成される。こうして特定なタイプの緩衝パッドを使用すると、タンディッ シュ内へ注入されるスチールの振動エネルギーが弱められ、こうして減少した乱 流はスチールが空気中に露出するのを少なくし、それによって酸化物からなる介 在物、例えば溶融スチール注入時に普通生じるアルミナ及び酸化鉄の生成を減少 させる。 vi） タンディッシュの出口から出て行く取鍋スラグ中で還元が達成さ れる。 vii） 一連の鋳造期間中、過渡的なスチールの混合等級品（すなわち、 異なった化学組成のスチール）中で還元が達成され、それによって歩留りが改善 される。 viii） タンディッシュ全体にわたって活性なタンディッシュフラックス の表面層を用いることができ、それによって介在物の取り出しが改善される。 さらに、この発明は、従来の注入パッド／バッフル方式、又は注入パッド／ダ ム／堰方式に比べると、必要なタンディッシュ付属物材料において還元の達成を 可能にしている。 この発明の具体例をほんの一例の積もりで添付図面を参照しながらこれから説 明するが、その場合、 第１図は、タンディッシュの長手方向断面の模型例であって、こ の発明で用いられるダムを使用しないこととして、注入領域におけるスチールの 流れに対する緩衝パッドの影響を示している。 第２図は、第１図と同様な図であって、この発明のダムと緩衝パッドとの両者 を含ませて、スチールの流れに対する影響を示している。 第３図は、この発明で用いられる１つのダムの立面図である。 第４図は、第３図のIV−IV線の断面図である。 第５図は、この発明で用いられる緩衝パッドの平面図である。 第６図は、第５図のVI−VI線断面図である。 第７図は、第５図のVII−VII線断面図である。 第１図において、タンディッシュ１０は底１１と端壁１２とを持っている。緩 衝パッド１３はタンディッシュの底１１の中央部に付設されている。緩衝パッド はあとで第５、６及び７図を参照してさらに詳しく説明する。 （図示していない）取鍋からの注入チューブ１４が緩衝パッドの真上に付設さ れ、その結果タンディッシュへ注入されるスチールは緩衝パッドに衝突する。タ ンディッシュは、２個の出口領域１５と１６をそれぞれタンディッシュの長手方 向の端の方へ離して設けているが、そこではタンディッシュの底における実際の 出口を示していない。 矢印は、0．3スケールのタンディッシュ模型上で水を使って実施することによ って得られたものであって、スチールの流れる方向を示している。液体の流れが 実際に静止している多くの「停滞領域」が現れ、これらは番号１７（液体の表面 に近い一対の領域で、タンディッシュの各端に近い領域）、番号１８（一対の領 域であってタ ンディッシュの各端において端壁と底との間の隅にある領域）、及び番号１９（ 一対の領域で、緩衝パッドと出口領域との間にあるタンディッシュの底上の領域 ）を付されている。 第２図では、同様な参照番号が同様なタンディッシュ部分を示しており、タン ディッシュ付属物は２個のダム２０及び２１を付加することによって完成されて おり、各ダムは緩衝パッド１３からそれぞれの出口までの距離の約６０から８０ ％のところに付設されている。（この距離はタンディッシュの設計と鋳造条件に よって、例えば４０％から８０％というように変えられる。）各ダムは、その構 造をあとで第３図及び第４図を参照して詳しく説明するが、タンディッシュにお ける普通作業時のスチールの最高高さの約５０％だけ上方へ延びる高さを持って いる。 また、0．3スケールで水を使用した模型によって得られた矢印により、スチー ルの流れ模様が示されている。また、比較的流れが静止している６個の「停滞」 領域が現れたが、図面から分かるように、その領域は相当小さい容積を持ってい た。一対の領域２２は、液体表面でタンディッシュの各端に見られた。第２の一 対の領域２３は、第１図の領域１８に対応する位置に見られた。第３の一対の領 域２４は、各ダム２０及び２１の下流側に見られた。 全体として見れば、スチールの流れ模様は非常に改善されていたので、介在物 除去改善の期待を持つことができた。 第３図と第４図では、ダム２１（これはダム２０と同一である）が上流側の面 ２５、即ち注入領域と緩衝パッド１４に最も近い面を持っている。ダムは、特定 のタンディッシュの壁に合致するように、下端２６に向かってテーパーが付けら れ、タンディッシュはその底 上に下端２６が乗るように作られている。２個の孔２７、２８がダムを貫通し、 上流側から下流側へ水平面に対して４５°で下方へ向かう通路２９を形成してい る。 ２個の留め金３０と３１とが、ダム２１を製造する際にダム内に鋳込まれてお り、ダムをタンディッシュ内の望みのところへ吊り下げて運ぶことができるよう になっている。 第５、６及び７図に示した緩衝パッド４０は、溶融スチールの流入する流れを 受けるための衝撃面４２を持った基部４１を備えている。それはほぼ直角四辺形 の構造を持ち、その周縁に連続して延びる直立側壁４３を備えている。側壁は内 部空間４４を包囲しており、内部空間４４は流入する流れを受け入れるための上 部開口４５を備えている。開口４５は一様でなくて直角四辺形であり、緩衝パッ ドがタンディッシュの底上に付設されるときに、直角四辺形の長辺がタンディッ シュの長手方向に延びるように付設される。側壁４３は内面４８を備えており、 内面４８は最初衝撃面４２から外側へ上方に延び、その後内側へ上方に開口４５ まで延びるような形にされている。側壁は開口４５を包囲する上端面４９で終わ りその内面でアンダーカット部分を有効に提供しており、衝撃面４２に衝突して 流入するスチール流によって作られるスチールの流れを受けてこの流れを反転さ せる。 図示したように、パッドは４個の留め金５０を備えていて、タンディッシュ内 にそれを付設するのを容易にしている。また、これらの留め金は、その製造の際 に緩衝パッド内に鋳込まれていた。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】平成８年１０月１１日（１９９６．１０．１１） 【補正内容】 第２頁（差し換え分） あり、堰は、下方へ向かって溶融スチール中へ突出し、スチールがその下を通っ て流れなければならない障害物である。 そのようなバッフル、ダム及び堰は、スチール中の介在物を捕捉するために、 活性な材料例えばアルミナの表面層で作られるか、又はそのような表面層を含ん でいる。それらは、孔を持っていてスチールの一部を通過させてもよく、またス チールを上方へ流れさせて、表面層とさらによく接触するように適当な大きさを 持って適当な場所に付設される。 さらに、タンディッシュの底に耐浸蝕性の緩衝パッドを付設し、取鍋から流入 する溶融スチールの流れを受けることも知られている。 バッフル、ダム、堰及び緩衝パッドは、これらをまとめてここではタンディッ シュ付属物と総称することにする。 緩衝パッドは、浸蝕に耐えるようにするという主たる役目のほかに、またタン ディッシュ内で表面の乱流を最小に押さえるように設計されて来た。例えば米国 特許第５１６９５９１号明細書では、取鍋から流入する流れを受けるための底と 、底の周縁に沿って上方へ延びる側壁とを持った緩衝パッドが開示されている。 この上方へ延びる側壁は、取鍋から入ってくる流れに面するアンダーカット部分 を持った内面を含んでおり、アンダーカット部分は内面の長さに沿って延び、取 鍋から入ってくる流れによって起きる流動を受けて流動方向を反転させるような 形をした表面を持っている。緩衝パッドから流れる溶融金属は、緩衝パッドとタ ンディッシュ出口との間に付設されたバッフルの孔を通過することができる。 注入領域の乱流を減少させることにより、表面を覆っているフラックス層が破 壊されてスチールが空気に露出する危険が少なくなり、 第３頁（差し換え分） それによってスチールの酸化と熱損失の程度が減少する。 この発明は、注入領域の乱流の危険を減少させ、タンディッシュ内で定常状態 での鋳造のために流れ模様を改善し、その結果介在物の除去がまた改良され、ス ラグ／フラックス被覆層の崩壊と、取鍋交換時の巻き込みの量が少なくなるとい う、タンディッシュへのタンディッシュ付属物配置の改善を提供することを目的 としている。 従って、この発明は、一面ではタンディッシュを提供するものであって、その タンディッシュは出口と緩衝パッドとダムとを持っており、出口は、タンディッ シュの底にあって、注入領域からタンディッシュの長手方向に離れており、注入 領域は取鍋から溶融スチールの流れを受けるところに位置しており、緩衝パッド は注入領域のタンディッシュの底上にあって、衝撃面を持った基部と、基部の周 縁に沿って上方へ延びる側壁とから成り、側壁は流入するスチールの流れに向か うアンダーカット部分を持った内面を備えていて、アンダーカット部分は流入す るスチールの流れを受け止めてその流れの方向を反転させるような形をした表面 を備えており、ダムは緩衝パッドと出口との間に位置しており、ダムは１個又は ２個以上の孔を持っていて、スチールの一部分を通過させ、これによってスチー ルの一部分はダムを通り抜けることができ、スチールの一部分はダムの上を通過 することができ、ダムはタンディッシュ内のスチールの標準的な最高位の高さの 約４０％から６０％だけ、タンディッシュの底から上方へ延びていることを特徴 とするものである。 この発明は、別の一面ではタンディッシュ用付属物の形をした一揃いの部品を 提供するものであって、その一揃いはこのすぐ前のパラグラフで述べたような緩 衝パッドとダムとから成るものである。 第３Ａ頁（差し換え分） タンディッシュは、２個の出口を注入領域の両側に１個ずつ長手方向に離して 位置させ、ダムは注入領域と各出口との間に付設されることが好ましい。 各ダムは、一対の孔を幅方向に一様な間隔をおいて位置させるこ 補正した請求の範囲 1. 出口と、緩衝パッド（１３、４０）と、ダム（２０、２１）とを持ったタン ディッシュであって、上記出口はタンディッシュの底（１１）にあって、注入領 域（１４）からタンディッシュの長手方向に離れており、注入領域（１４）は取 鍋から溶融スチールの流れを受けるところに位置しており、緩衝パッド（１３、 ４０）は注入領域のタンディッシュの底（１１）上にあって、衝撃面（４２）を 持った基部（４１）と、基部（４１）の周縁に沿って上方へ延びる側壁（４３） とから成り、側壁（４３）は流入するスチールの流れに向かうアンダーカット部 分を持った内面（４８）を備えていて、アンダーカット部分は流入する流れを受 け止めてその流れの方向を反転させるような形をした表面を備えており、ダム（ ２０、２１）は緩衝パッド（１３、４０）と出口との間に位置しており、ダム（ ２０、２１）は１個又は２個以上の孔（２７、２８）を持っていてスチールの一 部分を通過させ、これによってスチールの一部分はダムを通り抜けることができ 、スチールの一部分はダムの上を通過することができ、ダム（２０、２１）はタ ンディッシュ内のスチールの標準的な最大作業高さの約４０％から６０％の高さ だけ、タンディッシュの底（１１）から上方へ延びていることを特徴とするタン ディッシュ。 2. ２個の出口が、タンディッシュの長手方向に離れて注入領域（１４）の両側 に１個ずつ存在し、ダム（２０、２１）が注入領域と各出口との間に設けられて いる、請求項１に記載のタンディ ッシュ。 3. 各ダム（２０、２１）が、その幅方向に一様な間隔をおいて一対の孔（２７ 、２８）を備えており、タンディッシュ底（１１）上に付設されて、底（１１） から底に最も近い端への距離をダムの上流側で測定して、２５mmからダム（２０ 、２１）の高さの５０％までとしている、請求項１又は２のタンディッシュ。 4. 孔（２７、２８）が円形又は楕円形の断面を持っている請求項１、２又は３ に記載のタンディッシュ。 5. ダム（２０、２１）の注入領域側（１４）から出口側（１５、１６）へ向か って、孔（２７、２８）が下方に傾斜してダム（２０、２１）を貫通している、 請求項１−４の何れかに記載のタンディッシュ。 6. 孔（２７、２８）が水平位置に対して３０°から６０°傾斜している請求項 ５に記載のタンディッシュ。 7. 緩衝パッド（４０）が上方に延びる側壁（４３）を持っており、側壁（４３ ）がその周縁に連続して延びており、側壁（４３）が内部空間（４４）を包囲し 内部空間が上部開口（４５）を備えて流入する流れを受け入れ、上部開口（４５ ）が長い幅と、この長い幅に垂直な短い幅とを持っており、開口の長い幅がタン ディッシュの長い幅と同じ方向に並んでいる、請求項１−６の何れかに記載のタ ンディッシュ。 8. タンディッシュ（１０）の付属物である一揃いの部品であって、その一揃い は緩衝パッド（１３、４０）とダム（２０、２１）とから成り、緩衝パッド（１ ３、４０）は注入領域内のタンディッシュ底上に付設されるべきもので、基部（ ４１）、衝撃面（４２） 及び基部の周縁に沿って上方へ延びる側壁（４３）を持っており、側壁はアンダ ーカット部分を持った内面（４８）を備えていて、タンディッシュ内へ流入して 来るスチール流を受けてその流れの方向を反転させるものであり、上記ダム（２ ０、２１）は緩衝パッド（１３、４０）とタンディッシュの出口との間のタンデ ィッシュ内に付設可能であって、ダムは１個又は２個以上の孔（２７、２８）を 持っていて、スチールの一部を通過させ、これによってスチールの一部分はダム を通り抜けることができ、スチールの一部分はダムの上を通過することができ、 ダム（２０、２１）はタンディッシュ内でタンディッシュの底（１１）からスチ ールの標準的な最大作業高さの約４０％から６０％までの高さだけ上方に延びる 高さを持っている一揃いの部品。 9. ダム（２０、２１）が一対の孔（２７、２８）をダムの幅方向に一様な距 離をおいて持っており、ダムがタンディッシュ内の所望の位置にあるときに、タ ンディッシュ底（１１）から底に一番近い孔（２７、２８）の端までの距離が、 ダムの上流側で測定して２５mmからダム（２０、２１）の高さの５０％までとな るように、ダムが付設されている請求項８に記載の一揃いの部品。 10. 孔が、タンディッシュ内の注入領域に向くダム（２０、２１）の面から、 出口領域に向く面へ向かって、水平位置に対して下方へ傾斜している請求項８又 は９に記載の一揃いの部品。 11. 孔（２７、２８）が水平位置に対して３０°から６０°まで傾斜している 、請求項１０に記載の一揃いの部品。 12. 緩衝パッド（４０）が上方に延びる側壁（４３）を備え、側壁（４３）が その周縁の周りに連続して延びており、側壁が内部空 間（４４）を包囲して内部空間が流入する流れを受け入れる上部開口（４５）を 備えており、上部開口（４５）が長い幅と、この長い幅に垂直な短い幅とを持っ ており、開口の長い幅がタンディッシュの長い幅と平行に並んでいる、請求項８ から１１の何か１つに記載の一揃いの部品。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＡＵ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，Ｆ Ｉ，ＪＰ，ＭＸ，ＴＲ，ＵＳ 【要約の続き】 高さの約４０％から６０％まで上方に延びている。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 出口と、緩衝パッド（１３、４０）と、ダム（２０、２１）とを持ったタン ディッシュであって、上記出口はタンディッシュの底（１１）にあって、注入領 域（１４）からタンディッシュの長手方向に離れており、注入領域（１４）は取 鍋から溶融スチールの流れを受けるところに位置しており、緩衝パッド（１３、 ４０）は注入領域のタンディッシュの底（１１）上にあって、衝撃面（４２）を 持った基部（４１）と、基部（４１）の周縁に沿って上方へ延びる側壁（４３） とから成り、側壁（４３）は流入するスチールの流れに向かうアンダーカット部 分を持った内面（４８）を備えていて、アンダーカット部分は流入する流れを受 け止めてその流れの方向を反転させるような形をした表面を備えており、ダム（ ２０、２１）は緩衝パッド（１３、４０）と出口との間に位置しており、ダム（ ２０、２１）は１個又は２個以上の孔（２７、２８）を持っていてスチールの一 部分を通過させ、ダム（２０、２１）はタンディッシュ内のスチールの最高位の 高さの約４０％から６０％だけ、タンディッシュの底（１１）から上方へ延びて いるタンディッシュ。 2. ２個の出口が、タンディッシュの長手方向に離れて注入領域（１４）の両側 に１個ずつ存在し、ダム（２０、２１）が注入領域と各出口との間に設けられて いる、請求項１に記載のタンディッシュ。 3. 各ダム（２０、２１）が、その幅方向に一様な間隔をおいて一 対の孔（２７、２８）を備えており、タンディッシュ底（１１）上に付設されて 、底（１１）から底に最も近い端への距離をダムの上流側で測定して、２５mmか らダム（２０、２１）の高さの５０％までとしている、請求項１又は２のタンデ ィッシュ。 4. 孔（２７、２８）が円形又は楕円形の断面を持っている請求項１、２又は３ に記載のタンディッシュ。 5． ダム（２０、２１）の注入領域側（１４）から出口側（１５、１６）へ向 かって、孔（２７、２８）が下方に傾斜してダム（２０、２１）を貫通している 、請求項１−４の何れかに記載のタンディッシュ。 6. 孔（２７、２８）が水平位置に対して３０°から６０°傾斜している請求項 ５に記載のタンディッシュ。 7. 緩衝パッド（４０）が上方に延びる側壁（４３）を持っており、側壁（４３ ）がその周縁に連続して延びており、側壁（４３）が内部空間（４４）を包囲し 内部空間が上部開口（４５）を備えて流入する流れを受け入れ、上部開口（４５ ）が長い幅と、この長い幅に垂直な短い幅とを持っており、開口の長い幅がタン ディッシュの長い幅と同じ方向に並んでいる、請求項１−６の何れかに記載のタ ンディッシュ。 8. タンディッシュ（１０）の付属物である一揃いの部品であって、その一揃い は緩衝パッド（１３、４０）とダム（２０、２１）とから成り、緩衝パッド（１ ３、４０）は注入領域内のタンディッシュ底上に付設されるべきもので、基部（ ４１）、衝撃面（４２）及び基部の周縁に沿って上方へ延びる側壁（４３）を持 っており、側壁はアンダーカット部分を持った内面（４８）を備えていて、 タンディッシュ内へ流入して来るスチール流を受けてその流れの方向を反転させ るものであり、上記ダム（２０、２１）は緩衝パッド（１３、４０）とタンディ ッシュの出口との間のタンディッシュ内に付設可能であって、ダムは１個又は２ 個以上の孔（２７、２８）を持っていて、スチールの一部を通過させ、ダム（２ ０、２１）はタンディッシュ内でタンディッシュの底（１１）からスチールの最 高位の高さの約４０％から６０％までの高さだけ上方に延びる高さを持っている 一揃いの部品。 9. ダム（２０、２１）が一対の孔（２７、２８）をダムの幅方向に一様な距 離をおいて持っており、ダムがタンディッシュ内の所望の位置にあるときに、タ ンディッシュ底（１１）から底に一番近い孔（２７、２８）の端までの距離が、 ダムの上流側で測定して２５mmからダム（２０、２１）の高さの５０％までとな るように、ダムが付設されている請求項８に記載の一揃いの部品。 10． 孔が、タンディッシュ内の注入領域に向くダム（２０、２１）の面から、 出口領域に向く面へ向かって、水平位置に対して下方へ傾斜している請求項８又 は９に記載の一揃いの部品。 11． 孔（２７、２８）が水平位置に対して３０°から６０°まで傾斜している 、請求項１０に記載の一揃いの部品。 12． 緩衝パッド（４０）が上方に延びる側壁（４３）を備え、側壁（４３）が その周縁の周りに連続して延びており、側壁が内部空間（４４）を包囲して内部 空間が流入する流れを受け入れる上部開口（４５）を備えており、上部開口（４ ５）が長い幅と、この長い幅に垂直な短い幅とを持っており、開口の長い幅がタ ンディッシュの長い幅と平行に並んでいる、請求項８から１１の何か１ つに記載の一揃いの部品。