JP2000513450A - 比濁計及び濁度計の組合せ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 自動化学分析器に使用される比濁計及びこれと濁度計との組合せ装置は、Ｓ波要素及びＰ波要素を有する偏光レーザビームを発生するレーザを含む。ビームは、既知の割合の一方の偏光要素を反応容器に指向させるビーム分割器により分割される。反応容器において、レーザビームの第１の偏光要素は比濁化学分析に使用されるが、ビームの残りの部分はビーム分割器を経てレーザ制御光検出器に向かう。ビームの残りの部分がレーザ制御光検出器に到達する前に、比濁化学分析に用いない偏光要素が反射されて除去される。レーザ制御光検出器は、レーザの出力制御のためにビームの濾波されない部分を使用する。組合せ装置は、また、レーザビームの波長より長い波長の光ビームを発生する発光ダイオードを含む。その光ビームは、反応容器を経て濁度計光検出器に照射される。第２のビーム分割器は、反応容器と濁度計光検出器との間に配置されて、レーザビームの残余の部分を反射させる。これにより、レーザビームの残余の部分が反応容器に反射されてくることが防止される。

Description

【発明の詳細な説明】 発明の名称 比濁計及び濁度計の組合せ装置 技術分野 本発明は、自動化された臨床化学分析器の分野に関し、特に自動臨床化学分析 器に使用可能の比濁計及び濁度計の組合せ装置に関する。 発明の背景 多くの異なる自動化された臨床化学分析器が知られている。そのような自動臨 床化学分析器は、単純で主として手動操作の機器から、非常に複雑で殆ど全自動 化機器までの広範囲にわたる。成功した臨床化学分析器の１つとして、手術用分 析機器のように比濁計及び／又は濁度計を用いる臨床化学分析器がある。そのよ うな化学分析器は、種々の液体化学溶液の分析、特に医学病院設備及び医学研究 実験室に関する液体化学溶液の分析に非常に能率的であることを基礎にしている 。 比濁計及び濁度計の両者において、光源は光を透明試料容器内の液体試料に照 射する。液体溶液内の微粒子物質又は他の混濁源は、入射光を散乱させるように 作用する。その散乱光量は、試料の少なくとも１つのパラメータに精密に関係す る。比濁計は、一般に、比較的短い波長（例えば、５００ｎｍ〜８００ｎｍ）の 光を発生する光源を使用し、非常に小さい微粒子の検出に効果的である。一方、 濁度計は、一般に、長い波長（例えば、８００ｎｍ〜１１００ｎｍ）の光を発生 する光源を使用し、大きい微粒子物質の検出に効果的である。自動化学分析器に 使用される比濁計及び濁度計の原理は、米国特許第５，２９６，１９５号に詳細 に開示されている。 比濁計及び濁度計の組合せ装置を使用する精巧で有能な現在の自動化学分析器 は、いくつかの問題を有する。第１の問題は、そのような装置に共通に使用する レーザの制御である。特に、そのようなレーザは、Ｐ波成分及びＳ波成分を有す る高度に偏光された光線を発生する。多くの場合、それらの偏光成分の１つだけ からの拡散を分析装置において測定する。あいにく、従来の装置は、両偏光成分 を含むレーザビームからの総エネルギーを制御することによりレーザから出力さ れるパワーを調整するように試みられている。この方法におけるレーザビームを 制御する試みは、総ビーム内の２つの偏光成分の相対的百分率の変化が制御機構 により感知されないため、不十分である。したがって、分析装置で実際に使用す る偏光部分の光エネルギーは、試験毎に変化する。これは、分析プロセスの信頼 性及び正確さに悪影響を与える。 従来のそのような自動分析装置の第２の問題は、レーザからの偏光されたいく つかの光が濁度計受光器の収束レンズで反射されて分析容器に再度入射すること である。この偏光されたいくつか光は、分析容器内の試料により散乱され、比濁 計受光器で測定される。これは、比濁計受光器が誤った高い読みを記録する結果 を招く。この現象は、また、分析プロセスの信頼性及び正確さに悪影響を与える 。 したがって、従来技術以上に信頼性及び正確さを高めることが比濁計分析装置 及び比濁計／濁度計の組合せ装置のために必要である。 発明の開示 本発明は上記の必要性を満たす。本発明に係る比濁計は、(a)可変可能のエネ ルギー強度と第１及び第２の偏光小部分を（すなわち、偏光された小部分）有す るレーザビームを発生するレーザと、(b)光エネルギーを検出して、検出した光 エネルギー量に対応する制御信号を発生するレーザ制御光検出器と、(c)レーザ ビームの第１の偏光小部分を透明の反応容器に指向させると共に、レーザビーム の第２の偏光小部分を第１の光検出器に指向させる第１のビーム分割器であって 第１の偏光小部分の第２の部分の光エネルギーが第１の偏光小部分の総光エネル ギー出力に対する既知の関数となるように構成された第１のビーム分割器と、(d )反応容器内の液体に懸濁された物質によるレーザビームの第１の部分の第１の 偏光小部分からの散乱光エネルギーを検出するように配置された比濁計光検出器 と、(e)第１のビーム分割器とレーザ制御光検出器との間に配置されて、レーザ ビームの第２の部分の第１の偏光小部分に本質的に影響を与えることなく、レー ザビームの第２の部分の第１の偏光小部分を濾波して除去するように適応された 偏光 フィルタと、(f)レーザ制御光検出器により発生された制御信号を使用してレー ザビームの第１の偏光小部分を制御する制御回路とを含む。 本発明に係る、比濁計及び濁度計を組み合わせた組合せ装置は、(a)第１の波 長を有するレーザビームを発生するレーザと、(b)レーザビームを固有の光路に 沿って透明の反応容器に指向させる第１のビーム分割器と、(c)反応容器内の液 体に懸濁された物質によるレーザビームからの散乱光エネルギーを検出するよう に配置された比濁計光検出器と、(d)第２の波長を有する光ビームを発生して、 その光ビームを光路に沿って反応容器に通すように指向させる発光ダイオードと 、(e)発光ダイオードに対し反応容器と反対側の光路に配置された濁度計光検出 器と、(f)反応容器と濁度計光検出器との間に配置されて、光ビームを濁度計光 検出器に収束させるレンズと、(g)反応容器とレンズとの間に配置されて、レー ザビームをレンズから離す方向へ反射させる第２のビーム分割器とを含む。 特に、反応容器は反応キュベットとすることができる。また、レーザは、ほぼ ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間、より好ましくはほぼ６５０ｎｍから７００ ｎｍの間の波長を有する可視のダイオードレーザとすることができる。 好ましい実施例において、レーザビームの第１の部分の第１の偏光小部分の割 合は、レーザビームの出力における総強度の偏光小部分の、ほぼ５０％からほぼ ９９％、好ましくはほぼ９０％から９７％、より好ましくは９５％から９７％で ある。 実施例において、第１の偏光小部分はＳ波小部分であり、第２の偏光小部分は Ｐ波小部分である。他の実施例において、第１の偏光小部分はＰ波小部分であり 、第２の偏光小部分がＳ波小部分である。 特に発光ダイオードは、ほぼ８５０ｎｍから１０５０ｎｍの間の波長の光を発 生することができる。 本発明は、また、上記のようなレート比濁計及び比濁計／濁度計組合せ装置に 関する。 本発明は、さらに、上記したような比濁計及び比濁計／濁度計組合せ装置を組 み込んだ自動化学分析器に関する。 本発明は、製作コスト及び操作の困難性を過度に高めることなしに、特有の信 頼性及び正確さを有する比濁計及び比濁計／濁度計組合せ装置を提供する。 図面簡単な説明 これら及び他の特徴と利点については、以下の説明、請求の範囲及び図面から 明らかとなろう。 図１は本発明の特徴を有する自動分析装置の一実施例を示す平面図である。 図２は本発明の特徴を有する自動分析装置の一実施例を示す正面図である。 図３は本発明の特徴を有する試料回転体の一実施例を示す斜視図である。 図４Ａは本発明の特徴を有する希釈セクションの一実施例を示す斜視図である 。 図４Ｂは図４Ａの希釈セクションの平面図である。 図４Ｃは図４Ｂに示す希釈セクションの４Ｃ−４Ｃ線に沿って得た断面図であ る。 図４Ｄは図４Ａ〜図４Ｃに示す希釈セクションの底面図である。 図５Ａは本発明に有効な反応キュベット・モジュールの一実施例を示す斜視図 である。 図５Ｂは図５Ａに示す反応キュベット・モジュールの断面図である。 図６Ａは本発明の特徴を有する試料プローブ・アーム組立体の一実施例を示す 斜視図である。 図６Ｂは図６Ａに示す試料プローブ・アーム組立体をその一部を除去して示す 図である。 図６Ｃは本発明に有効な試料かき混ぜロッドの一実施例を示す正面図である。 図６Ｄは図６Ｃに示す試料かき混ぜロッドの側面図である。 図７Ａは本発明の特徴を有する反応物プローブ・アーム組立体の一実施例を示 す斜視図である。 図７Ｂは図７Ａに示す反応物プローブ・アーム組立体をその一部を除去して示 す図である。 図７Ｃは本発明に有効な反応物かき混ぜロッドの一実施例を示す正面図である 。 図７Ｄは図７Ｃに示す反応物かき混ぜロッドの側面図である。 図８は本発明に有効なキュベット洗浄ステーションの一実施例を示す斜視図で ある。 図９Ａは本発明の特徴を有する廃棄物トラップ組立体の一実施例をその一部を 破断して示す斜視図である。 図９Ｂは図９Ａに示す完全に組み立てられた廃棄物トラップ組立体の断面図で ある。 図９Ｃは図９Ａ及び図９Ｂに示す廃棄物トラップ組立体に有効なバルブの詳細 を示す断面図である。 図９Ｄは図９Ａ〜図９Ｃに示す廃棄物トラップ組立体に有効なフレキシブルデ ィスクの平面図である。 図１０は本発明の特徴を有する試料容器ラックの一実施例を示す斜視図である 。 図１１は本発明の特徴を有する比濁計／濁度計組合せ装置の一実施例を示す概 略図である。 発明の具体的な説明 以下は、本発明の１つの実施例の詳細とそれを変形した他のいくつか具体例に ついての説明である。しかし、本発明はそれら特定の実施例及び具体例に限定さ れない。当業者であれば、多くの他の具体例を容易に認識することができる。本 発明の完全な形態を認識するためには、請求の範囲に向けられるべきである。 比濁計及び濁度計を結合させた比濁計／濁度計組合せ装置２１０を図１１に示 す。比濁計は、レーザ２１２と、レーザ制御光検出器２１４と、比濁計光検出器 ２１６と、第１のビーム分割器２１８と、偏光フィルタ２２０と、制御回路２２ ２とを含む。 レーザ２１２は、典型的には、ほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長 の光を発生する可視光ダイオード・レーザとすることができる。好ましい１つの 実施例においては、レーザ２１２は、ほぼ６５０ｎｍからほぼ７００ｎｍの間の 光、より好ましくはほぼ６７０ｎｍの波長の光を発生する。 レーザ２１２は、典型的には、ほぼ１ミリワットからほぼ１０ミリワットの間 の総光エネルギーを発生することができる。本発明において使用可能の及び商業 的に入手可能のレーザは、ToshibaモデルＮｏ．ＴＯＬＤ９２２５６７０のレー ザ・ダイオードとして日本の東芝により製造されているものとすることができる 。 レーザ２１２により発生されたレーザビーム２２４は、第１及び第２の偏光小 部分（すなわち、偏光された第１及び第２の小部分）を有する。第１の偏光小部 分はＳ波成分であり、第２の偏光小部分はＰ波成分であるとすることができる。 他の実施例においては、第１の偏光小部分はＰ波成分であり、第２の偏光小部分 はＳ波成分である。 レーザ制御光検出器２１４は、レーザ２１２から発生された光エネルギーの一 部を検出し、検出した光エネルギー量に対応する制御信号を発生する。レーザ制 御光検出器２１４は、HamamatsuモデルＮｏ．Ｓ１２２３−０１ＰＩＮのシリコ ン高感度ホトダイオードとして日本の浜松により製造されているような高感度シ リコン・ホトダイオード検出器とすることができる。 第１のビーム分割器２１８は、レーザビーム２２４の第１の部分２２６を特有 の光路２２９に沿って透明の試料容器又は反応容器２２８に指向させ、レーザビ ーム２２４の第２の部分２３０をレーザ制御光検出器２１４に指向させるように 配置されている。第１のビーム分割器２１８は、レーザビーム２２４の第２の部 分２３０のエネルギーがレーザビーム２２４の総エネルギー出力に対して既知の 関数であるように、構成されていることが重要である。 第１の部分２２６の割合は、レーザビーム２２４の総光エネルギー出力のほぼ ５０％からほぼ９９％の間である。しかし、レーザビーム２２４の第１の部分２ ２６の好ましい値はレーザビーム２２４の出力のほぼ９０％からほぼ９９％の間 であり、より好ましい値は同出力のほぼ９５％からほぼ９７％の間の値である。 比濁計光検出器２１６は、反応容器２２８内の液体に懸濁する物質によるレー ザビーム２２４の第１の部分２２６の第１の偏光小部分からの散乱された光エネ ルギー（すなわち、散乱光エネルギー）を検出する位置に配置されている。第１ の偏光小部分がレーザビーム２２４のＳ波成分であることから、比濁計光検出器 ２１６は、第１の部分２２６が反応容器２２８に入るように、レーザビーム２２ ４の第１の部分２２６に対し９０度に配置されている。 レーザ制御光検出器２１４と同様に、比濁計光検出器２１６は、浜松モデルＮ ｏ．Ｓ１２２３−０１ＰＩＮのシリコン高感度ホトダイオードとして日本の浜松 により製造されているような高感度シリコン・ホトダイオード検出器とすること ができる。 第１のビーム分割器２１８は、レーザ２１２により発生された波長を有する光 を分割するように構成されたダイクロイック・ビーム分割器である。第１のビー ム分割器２１８は、レーザビーム２２４の第２の部分２３０の光エネルギーがレ ーザビーム２２４の総光エネルギー出力の予め定められた一定の関数となるよう に、構成されている。 偏光フィルタ２２０は、第１のビーム分割器２１８とレーザ制御光検出器２１ ４との間に配置されている。偏光フィルタ２２０は、レーザビーム２２４の第２ の部分２３０の第１の偏光小部分に本質的に悪影響を与えることなく、レーザビ ーム２２４の第２の部分２３０の第２の偏光小部分を濾波して取り除くように適 合されている。偏光フィルタ２２０は、ポラロイド社によりPolaroidモデルＮｏ ．ＨＮ２２×．０３５”の厚さとして製造されているような適宜な偏光器とする ことができる。 制御回路２２２は、レーザ制御光検出器２１４により発生された制御信号を使 用して、レーザビーム２２４の第１の偏光小部分の総出力を従来技術と同様に制 御するように設計されている。制御回路２２２は、レーザ制御光検出器２１４か らの制御信号をレーザビーム制御器２３４に供給する制御回路部を含む。レーザ ビーム制御器２３４は、レーザビーム２２４の総エネルギー出力を増加又は減少 させることができる。これにより、レーザ制御器２３４は、レーザビーム２２４ の第１の部分２２６における第１の偏光小部分を所定のレベルに制御する。 したがって、レーザビーム２２４の第１の部分２２６がレーザビーム２２４の 総エネルギー出力の既知の関数であるから、レーザビーム２２４の第２の部分２ ３０の第１の偏光小部分の総光エネルギーは一定値に維持される（レーザビーム ２２４のその部分は試料容器２２８内の試料の分析に使用される。）。 本発明は、また、レーザ２１２、比濁計光検出器２１６、第１のビーム分割器 ２１８、発光ダイオード２３６、濁度計光検出器２３８、収束レンズ２４０及び 第２のビーム分割器２４２を含むレート比濁計及びレート濁度計組合せ装置に関 する。 発光ダイオード２３６は、レーザビーム２２４の波長と異なる波長を有する光 ビーム２４４を発生するように、設計されかつ構成されている。発光ダイオード ２３６は、その光ビーム２４４が光路２２９に沿って反応容器２２８を経るよう にその光ビーム２４４を指向させるように配置されている。典型的な実施例にお いては、発光ダイオード２３６は、ほぼ８５０ｎｍからほぼ１０４０ｎｍの間の 波長を有する光ビーム２４４を発生する。好ましい１つの実施例において、光ビ ーム２４４の波長はほぼ９４０ｎｍである。発光ダイオード２３６は、当該技術 分野に有効な既知の発光ダイオードを用いることができる。本発明に好適な発光 ダイオードは、日本の浜松によりHamamatsuモデルＮｏ．Ｌ２３８８（波長９４ ０ｎｍ）として販売されている赤外線発光ダイオードとすることができる。 濁度計光検出器２３８は、レーザ制御光検出器２１４及び比濁計光検出器２１ ６と同様に、日本の浜松によりHamamatsuモデルＮｏ．Ｓ１２２３−０１ＰＩＮ のシリコン高感度ホトダイオードとして販売されているような高感度シリコンダ イオードとすることができる。 集束レンズ２４０は、反応容器２２８と濁度計光検出器２３８との間に配置さ れており、発光ダイオード２３６により発生された光ビーム２４４を濁度計光検 出器２３８に収束させる。 第２のビーム分割器２４２は、反応容器２２８と集束レンズ２４０との間に配 置されている。第２のビーム分割器２４２は、レーザビーム２２４の第１の部分 ２２６を集束レンズ２４０から離れる方向へ、好ましくは受光器２４８に反射す るように、設計されかつ配置されている。 動作時、レーザ２１２は、一対のレーザビーム集束レンズ２５０を経て第１の ビーム分割器２１８に向かうレーザビーム２２４を発生するように励起される。 第１のビーム分割器２１８は、レーザビーム２２４を第１の部分２２６と第２の 部分２３０とに分割する。 レーザビーム２２４の第１の部分２２６は、分析すべき試料を収納している透 明の反応容器２２８に向けて光路２２９に沿って反射される。レーザビーム２２ ４の第１の部分２２６の第１の偏光小部分は、反応容器２２８において、比濁計 光検出器２１６の方向に散乱される。そのような散乱２５１の強さは、比濁計光 検出器２１６により検出され、分析試料固有のパラメータと相互に関係付ける適 宜な制御器（図示せず）に供給される。 散乱されないレーザビーム２２４の残部は、反応容器２２８から出て光路２２ ９に沿って集束レンズ２４０に向かう。しかし、レーザビーム２２４の残部は、 これが集束レンズ２４０に到達する前に、第２のビーム分割器２４２により集束 レンズ２４０から離れる方向へ、好ましくは受光器２４８に反射される。 レーザビーム２２４の第２の部分２３０は、第１のビーム分割器２１８を通り 、レーザ制御光検出器２１４の方向に向かう。しかし、レーザビーム２２４の第 ２の部分２３０は、これがレーザ制御光検出器２１４に到達する前に、第１の偏 光小部分に本質的に影響を与えることなく、第２の部分２３０の偏光された全て の第２の偏光小部分を濾波して除去する偏光フィルタ２２０を通過する。したが つて、レーザ制御光検出器２１４に到達する光はレーザビーム２２４の第２の部 分２３０の第１の偏光小部分だけである。この光はレーザ制御光検出器２１４に より検出され、その光エネルギーに対応する信号は制御回路部２２２を介してレ ーザ制御器２３４に転送される。 同時期に、発光ダイオード２３６から発生された光は、第１のレンズ２５２を 通り、次いで第１のビーム分割器２１８を通って光路２２９に沿って進む。発光 ダイオード２３６からの光２４４の一部は反応容器２２８内の試料により散乱さ れる。しかし、発光ダイオード２３６からの光２４４の大部分は、光路２２９に 沿って進んで、収束レンズ２４０を通り濁度計光検出器２３８に向かう。発光ダ イオード２３６からの非散乱光の大きさは濁度計光検出器２３８において検出さ れ、その検出信号は分析試料の第２のパラメータと相互に関係付ける適宜な分析 装置（図示せず）に転送される。 第２のビーム分割器２４２が残りのレーザビーム２２６を集束レンズ２４０か ら離れる方向へ反射するから、残りのわずかなレーザビーム２２６が集束レンズ ２４０で反射して第２のビーム分割器２４２を通り、反応容器２２８に再度入る にすぎない。したがって、比濁計検出器２１６により測定された散乱光量は調査 すべき分析試料の第１のパラメータを正しく反映している。 本発明に係る比濁計及び濁度計の組合せ装置２１０は、従来の同種の装置を越 えるように効果的に増大した信頼性及び正確さを有する自動化された分析装置（ すなわち、自動分析装置）に組み込むことができる。そのような装置１０は図１ 及び図２に示されている。自動分析装置１０は、本体１２と、試料ステーション １４と、反応物ステーション１６と、ランダム・アクセス分析ステーション１８ とを含む。 本体１２は、分析装置１０に使用する各種の作動要素のためのハウジングを提 供するキャビネットである。本体１２は、軽量鋼のような軽量金属から製作され ている。本体１２は、分析装置１０の各種の作動要素を完全に覆うキャノピー( 図示せず)を含む。 試料ステーション１４は、複数の試料容器２０を保有するすなわち保持するこ とができるような寸法及び規模に形成されている。試料ステーション１４は、少 なくとも１つの試料取り出し位置２２を有する。 試料ステーション１４は、図３に示すように、旋回する試料回転体２４を含む ことが好ましい。試料回転体２４は、軽量金属又は成形プラスチックから作られ ている。試料回転体２４は、複数の試料容器２０と、１以上の希釈剤容器２６と 、複数の希釈セクション２８とを保有することができるような寸法及び規模に形 成されている。 図示の実施例において、試料回転体２４は、複数の試料容器ラック３０を回転 させるように試料回転体２４の外壁３２に形成された回転体リテーナ組立体４０ を含む。そのような回転体リテーナ組立体４０は、図示の実施例のように弾力性 を有するクリップとすることができる。 試料容器ラック３０は、試料容器ラック３０の前壁４１にバーコード情報を表 示するバーコード・カード３７を保持するための試料容器ラック・リテーナ組立 体３９を含むことが好ましい。そのような試料容器ラック・リテーナ組立体３９ は、図１０に示す実施例のように、１以上のスロットとすることができる。しか し、バーコードを表示したカード３７を試料容器ラック３０の前壁４１に取り付 ける他の多くの手段として、クランプ、クリップ、フォーク状のプロング、スナ ップ、ボタン、ホック及びループ・ファスナー、ピン等を用いてもよい。試料容 器ラック・リテーナ組立体３９は、工具を用いることなく、操作者が試料容器３ ０の前壁４１に対するバーコード・カード３７の着脱を迅速にかつ容易に行うこ とができることが好ましい。 この実施例において、各試料容器ラック３０は、９つの試料容器２０を垂直の 状態に収容することができる。 図３に示す試料回転体２４は、４つの希釈容器保持位置３６と、４つの希釈セ クション保持位置３８とを有する。希釈セクション２８は、図４Ａから図４Ｃに 示すように、複数の希釈剤カップ４２を含む。各希釈セクション２８は、成形プ ラスチックから製作されている。各希釈セクション２８は、清掃を容易にするた めに試料回転体２４に対し容易に着脱可能であることが好ましい。希釈セクショ ン２８は、工具を使用することなく、試料回転体２４に対し容易にかつ速やかに 着脱することができる。図示の実施例は、希釈セクション２８を希釈セクション 位置にスナップ状に嵌合させる弾力性のある弾性結合部４４を有する。 各希釈剤カップ４２は、ほぼ０．０１ミリ・リットルから１．０ミリ・リット ルの液体を収容する。図４Ｃに示すように、各希釈剤カップ４２は、希釈剤カッ プ狭ウエル４６を底部に形成するように底部において幅狭状にテーパー付けられ ており、それによりその中に少量の液体を希釈剤カップ４２から容易に取り出せ るように水溜まりの形に貯留する。各希釈剤カップ狭ウエル４６は、ほぼ１０マ イクロ・リットルからほぼ１００マイクロ・リットルの間とすることができる。 この特徴は、反応廃棄物を最小にする。この特徴は、希釈剤カップ４２が疎水性 のプラスチックから製作されている点で特に重要である。そのような場合、希釈 剤カップ４２内の少量の液体を水溜まりの形に代わりに水滴の形にする傾向があ り、液体を希釈剤カップ４２から取り出すことを困難にする。 試料回転体２４は、試料回転体２４に配置された各試料容器２０を１つの試料 取り出し位置２２の下に又はそれから離す方向へ択一的に配置することができる ように、モータ（図示せず）により移動可能である。 試料ステーション１４は、さらに、試料容器ラック３０の前壁４１に配置され たバーコード・カード３７上の及び又は試料ステーション１４内の試料容器２０ 上のバーコード情報を読みとる試料ステーション・バーコード・リーダ４７を含 むことが好ましい。 反応物ステーション１６は、複数の反応容器４８を保持するような寸法及び規 模とされており、また１以上の反応物取り出し位置５０を有する。本発明の装置 に使用可能の好ましい反応容器４８は、”反応物カートリッジ”なる名称で同時 期に出願された米国特許出願に詳細に記載されており、その全体が具体的に示さ れている。反応物ステーション１６は、反応物取り出し部５０を介する反応容器 ４８の反応物ステーション１６に対する着脱を選択的に行うことができるように 、本体１２内で移動可能である。 試料ステーション１４と同様に、反応物ステーション１６は、軽量金属又は成 形プラスチックから製作された反応物回転体５２を含むことが好ましい。反応物 回転体５２は、反応物ステーション・モータ（図示せず）により回転される。 反応物ステーション１６は、ほぼ１５度Ｃの温度に冷却されていることが好ま しい。そのような温度は、冷却反応物の寿命を保護し、反応物の蒸発を最小にす る。 反応物ステーション１６は、さらに、反応物ステーション１６内の反応容器２ ０及び／又は反応物回転体２４の外部のバーコード情報を読み取るための反応物 ステーション・バーコード・リーダ５３を含むことが好ましい。 ランダム・アクセス分析ステーション１８は、比濁計及び濁度計の技術におい て知られている複数の反応キュベット５４を保持するような寸法及び規模とされ ている。ランダム・アクセス分析ステーション１８は、少なくとも１つのキュベ ット混合位置５６と、１つのランダム・アクセス分析ステーション分析位置５８ と、キュベット洗浄位置６０と含む。 試料ステーション１４及び反応物ステーション１６と同様に、ランダム・アク セス分析ステーション１８は、ランダム分析ステーション・モータ（図示せず） により回転されるランダム・アクセス分析ステーション回転体６２を含むことが 好ましい。 図示の実施例においては、反応キュベット５４はキュベット・モジュール６４ に配置されており、各キュベット・モジュール６４は３つのキュベット５４を含 むことができる。キュベット・モジュール６４を図５Ａ及び図５Ｂに示す。各キ ュベット・モジュール６４は、ランダム・アクセス分析ステーション回転体６２ に容易に堅固に取り付けることができるプロング６６を有する。高価な反応物の コストを最小にするためには、キュベット５４を可能な限り小さくすることが重 要である。 最良の適用においては、ランダム・アクセス分析ステーション１８をほぼ３７ 度Ｃのような一定の高温で作動可能であることが好ましい。これを遂行するため には、ランダム・アクセス分析ステーション１８がそのステーション１８を上方 に通る加熱空気を循環させる手段を含むことが好ましい。 ランダム・アクセス分析ステーション１８は、さらに、ランダム・アクセス分 析ステーション分析器６８を含む。この分析器６８は、ランダム・アクセス分析 ステーション分析位置５８の近く、好ましくは直前に配置されており、またラン ダム・アクセス分析ステーション１８内のキュベット５４内に配置された試料の 少なくとも１つのパラメータを決定する。好ましい実施例においては、ランダム ・アクセス分析ステーション分析器６８は、本発明の比濁計及び濁度計組合せ装 置３１０である。 ランダム・アクセス分析ステーション１８は、さらに、機上制御試料７８を含 むことが好ましい。そのような機上制御試料７８は、装置１０の通常の動作の間 ランダム・アクセス分析ステーション分析器６８の自動校正をするように装置に プログラムすることを作業者に許す。この特徴は、従来の同種の装置を越えて信 頼性及び正確さを最大にする。この特徴は、また、ランダム・アクセス分析ステ ーション分析器６８の校正のために装置１０を周期的に運転中止にする必要がな くなることにより、処理能力を増大させる。本発明に使用可能の好適な機上制御 試料は”非液体拡散標準”なる名称で同時期に出願された米国特許出願に詳細に 記載されている。 分析装置１０は、さらに、図６Ａから図６Ｄに示す試料プローブ・アーム組立 体８０を含む。試料プローブ・アーム組立体８０は、試料プローブ・アーム８２ と、中空の試料プローブ８４と、試料かき混ぜロッド８６とを含む。試料プロー ブ８４は、内部チャンバ８８と、開放下端９０と、開放上端９２とを有する。試 料プローブの圧力変更組立体９２は、内部チャンバ８８を加圧（正圧）の状態及 び真空（負圧）の状態に選択的におく。圧力変更組立体９２は、シリンジ９４を 含むことが好ましい。 試料プローブ８４は、試料プローブ・アーム８２内に縦に垂直に配置されてお り、また試料プローブ・モータ９６により下部試料プローブ位置と上部プローブ 位置との間を移動可能である。 試料かき混ぜロッド８６は、下端９８と、上端１００と、かき混ぜパドル１０ ２とを有する。試料かき混ぜロッド８６は、試料プローブ・アーム８２に縦に垂 直に配置されており、また試料かき混ぜロッド・モータ１０４により下部試料か き混ぜロッド位置と上部試料かき混ぜロッド位置との間を移動可能である。試料 かき混ぜロッド８６は試料かき混ぜロッド回転モータ１０５により回転される。 試料かき混ぜロッド８６の上下移動は、試料プローブ８４の上下移動から独立 させることが好ましい。これは、プローブ８４の上下移動と同じ時間でかき混ぜ ロッド８６を上げ下げすることができるにすぎない従来の同種の装置を越える速 度及び柔軟性を提供する。 試料かき混ぜロッド８６と試料プローブ・アーム８４とは、ラック・ピニオン 組立体１０６を使用して上げ下げすることが好ましい。そのようなラック・ピニ オン組立体１０６は、取り付けるべき試料プローブ８４及び反応物プローブ８６ のすぐ下に配置された下端９０及び９８を接近させるように試料プローブ８４及 び試料かき混ぜロッド８６を互いに充分に接近させる。 試料プローブ８４と試料かき混ぜロッド８６とは、互いにわずかな角度αを有 する状態に試料プローブ・アーム８２に配置されている。角度αは、ほぼ２．４ 度とほぼ２．６度との間であることが好ましい。試料プローブ８４と試料かき混 ぜロッド８６とは、試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８６の両者がそれ らの下部位置にあるとき、試料プローブ８４の下端９０と試料かき混ぜロッド８ ６の下端９８との距離がほぼ１．７ｍｍからほぼ５．３ｍｍの間、好ましくは１ ．７ｍｍからほぼ３．５ｍｍの間、より好ましくはほぼ１．７ｍｍからほぼ３ｍ ｍの間であるような角度を有する。試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８ ６をそれらの下端９０及び９８の位置が互いに接近するように構成することによ り、試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８６は、従来の分析装置で使用し たものよりも充分に小さい反応キュベット５４内で効果的に使用することができ る。 そのように小さい反応キュベット５４を使用すると、重要な反応物の節約になり 、また極少量の試料で臨床分析を実行することができる。 図７Ａから図７Ｄに示すように、本発明の装置は、さらに、反応物プローブ・ アーム組立体１０８を含む。反応物プローブ・アーム組立体１０８は、反応物プ ローブ・アーム１１０と、中空の反応物プローブ１１２と、回転可能の反応物か き混ぜロッド１１４とを含む。反応物プローブ１１２は、内部チャンバ１１６と 、開放下端１１８と、開放上端１２０とを有する。反応物プローブの圧力変更組 立体１２２は、内部チャンバ１１６を加圧（正圧）の状態及び真空（負圧）の状 態に選択的におく。圧力変更組立体はシリンジ１２４を含むことが好ましい。 反応物プローブ１１２は、反応物プローブ・アーム１１０に縦に垂直に配置さ れており、また下部反応物プローブ位置と上部反応物プローブ位置との間を反応 物プローブ・モータ１２６により移動可能である。 反応物かき混ぜロッド１１４は、下端１２８と、上端１３０と、かき混ぜロッ ド・パドル１３２とを有する。反応物かき混ぜロッド１１４は、反応物プローブ ・アーム１１０に縦に垂直に配置されており、また下部反応物かき混ぜロッド位 置と上部反応物かき混ぜロッド位置との間を反応物かき混ぜロッドモータ１３２ により移動可能である。試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８６と同様に 、反応物かき混ぜロッド１１４の上下移動を反応物プローブ１１２の上下移動に 追従させることが好ましい。 また、反応物かき混ぜロッド１１４と反応物プローブ１１２とは、ラック・ピ ニオン組立体１３４を使用して上げ下げすることが好ましい。そのようなラック ・ピニオン組立体１３４は、取り付けるべき反応物プローブ１１２及び反応かき 混ぜロッド１１４のすぐ下に配置された下端１１８及び１２８を接近させるよう に反応物プローブ１１２及び反応物かき混ぜロッド１１４を互いに充分に接近さ せる。 試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８６と同様に、反応物プローブ１１ ２と反応物かき混ぜロッド１１４とは、互いにわずかな角度βを有する状態に反 応物プローブ・アーム１１０に配置されている。角度βは、ほぼ２．４度からほ ぼ２．６度の間であることが好ましい。反応物プローブ１１２と反応物かき混ぜ ロッド１１４とは、試料プローブ８４及び試料かき混ぜロッド８６が互いに角度 を有することと同じ理由で、角度を有する。すなわち、ほぼ１．７ｍｍからほぼ ５．３ｍｍの間、好ましくは１．７ｍｍからほぼ３．５ｍｍの間、より好ましく はほぼ１．７ｍｍからほぼ３ｍｍの間の距離に反応物プローブ１１２の下端１１ ８及び反応物かき混ぜロッド１１４の下端９８を接近させる。このように反応物 プローブ１１２及び反応物かき混ぜロッド１１４の下端１１８及び１２８の位置 を互いに接近させることにより、反応物プローブ１１２及び反応物かき混ぜロッ ド１１４は非常に小さい反応キュベット５４内で使用することができる。 試料プローブ・アーム８２及び反応物プローブ・アーム１０２の両者は、液体 レベルに対する両プローブ８４及び１１２及び／又は両ロッド８６及び１１４の 高さ位置を決定するためのレベル制御器（図示せず）を含むことが好ましい。 本発明の装置は、さらに、本体１２に組み付けられるキュベット洗浄ステーシ ョン１３０を含む。キュベット洗浄ステーション１３０は、内部チャンバ１３４ と、開放下端１６と、開放上端１３８とを有する少なくとも１つの中空のキュベ ット洗浄ステーション・プローブ１３２を含む。キュベット洗浄ステーション１ ３０は、キュベット洗浄ステーション・プローブ１３２がキュベット洗浄位置６ ０のすぐ上となるように配置されている。 キュベット洗浄ステーション・プローブ１３２は、下部キュベット洗浄ステー ション・プローブ位置と上部キュベット洗浄ステーション・プローブ位置との間 をキュベット洗浄ステーション・モータ（図示せず）により移動可能である。 図８に示す実施例においては、キュベット洗浄ステーション・プローブ１３２ は、同軸的に配置された２つのキュベット洗浄ステーション・プローブ１３２ａ ，１３２ｂを含む。一方のプローブ１３２は、キュベットの内容物を吸い込み、 それを適宜な廃棄位置１３５に移すことに使用される。他方のプローブ１３２は 、洗浄液をキュベットに供給することに使用される。 本発明の装置は、さらに、(1)キュベット洗浄位置６０に配置されたキュベッ トを洗浄するために、洗浄液を洗浄液源からキュベット洗浄ステーション・プロ ーブ１３２に供給することと、(2)洗浄液を分析位置６０に配置されたキュベッ ト５４から除去するために、キュベット洗浄ステーション・プローブ１３２の内 部チャンバに負圧を提供し、その洗浄液を適宜な廃棄位置１３５に移すこととを 選択的に行わせるキュベット洗浄ステーション・プローブ供給及び廃棄組立体１ ３６を含む。 図９Ａから図９Ｄに示すように、好ましいキュベット洗浄ステーション・プロ ーブ供給及び廃棄組立体１３６は、廃棄物トラップ組立体１３８を含む。廃棄物 トラップ組立体１３８は、廃棄物トラップ貯留容器１４０と、この廃棄物トラッ プ貯留容器１４０の下に配置された廃棄物回収ボール１４２とを含む。縦に配置 された接続導管４４は、廃棄物トラップ容器１４０を廃棄物回収ボール１４２に 液体が移動可能に連通させる。接続導管１４４は、廃棄物トラップ貯留容器１４ ０内に回収された廃液を廃棄物回収ボール１４２に流す最上位口１４６を有する 。接続導管１４４は、廃棄物回収ボール１４２から廃棄物トラップ貯留容器１４ ０への液体及び加圧空気の流れを防止するための接続導管逆止弁１４８を有する 。 廃棄物貯留容器１４０は、キュベット洗浄ステーション１３０からの洗浄液を 受け入れる流入口１５０を廃棄物トラップ貯留容器１４０に有する。廃棄物回収 ボール１４２は、廃棄物回収ボール１４２内の液体を適宜な廃棄物廃棄設備に排 出導管１５４を介して排出する流出口１５２を廃棄物回収ボール１４２の底部に 有する。排出導管１５４は、液体が排出導管１５４を介して廃棄物回収ボール１ ４２に逆流することを防止する排出導管逆止弁１５６を有する。 レベル・センサ１５８は、廃棄物回収ボール１４２内の液体のレベルを検出し て対応するレベル検出信号を発生するように、廃棄物回収ボール１４２内に配置 されている。動作時、廃棄物トラップ貯留容器１４０は、真空源に接続される。 また、廃棄物回収ボール１４２は、真空源と加圧空気源とにスイッチ１６０を介 して接続される。 廃棄物トラップ組立体１３８は、さらに、レベル・センサ１５８からの信号を 受けて、その信号を廃棄物回収ボール１４２を加圧（正圧）の状態及び真空（負 圧）の状態に選択的に制御するために使用する廃棄物トラップ制御器(図示せず) を含む。そのような制御器は、(i)廃棄物回収ボール１４２の液体レベルが予め 定められた設定点より下方のとき、廃棄物回収ボール１４２を負圧状態にさせて 、廃液を廃棄物トラップ貯留容器１４０から吸引し、(ii)廃棄物回収ボール１４ ２ の液体レベルが予め定められた設定点であるとき、廃棄物回収ボール１４２を加 圧状態にさせて、廃棄物回収ボール１４２内の廃液を排出導管１５４に排出させ る。 廃棄物トラップ組立体接続導管逆止弁１４８は、入り口導管部１６２と、入り 口導管部１６２に配置されてこれに液密的に連通された弁座１６４と、逆止弁１ ６４の下に配置されてこれに液密的に連通された出口導管部１６６と、弁座１６ ４内に緩く配置されたプラグ１６８とを含むことが好ましい。プラグ１６８は、 (1)入り口導管部１６２内の圧力が出口導管部１６６内の圧力以上であるとき、 入り口導管部１６２内の液体を出口導管部１６６に流下させるように、弁座１６ ４に対して堅固には保持されず、(2)入り口導管部１６２内の圧力が出口導管部 １６６内の圧力より低いとき、入り口導管部１６２内の液体が出口導管部１６６ に流出することを防止すると共に、出口導管部内の加圧空気が入口導管部１６４ を通って廃棄物トラップ貯留容器１４０に流れることを防止するように、弁座１ ６４に対して堅固に保持される。 プラグ１６８は図示のような可撓性のディスクであることが好ましい。可撓性 ディスクは、入り口導管部１６２から偏心された少なくとも１つの中央アパーチ ャ１７０を有することが好ましい。 廃棄物トラップ組立体１３８は、さらに、(a)廃棄物トラップ貯留容器１４０ 内に配置されて排気源すなわち真空源に接続される真空源入り口ポート１７２と 、(b)共通ポート１７６、常開ポート１７８及び常閉ポート１８０を有する３方 向弁１７４と、(c)共通ポート１７６及び廃棄物回収ボール１４２に連結されて 両者を液密的に連通させる第１の加圧導管１８１と、(d)常開ポート１７８及び 廃棄物トラップ貯留容器１４０に連結されて両者を液密的に連通させる第２の加 圧源導管部１８２と、(e)常閉ポート１８０及び加圧空気源に連結されて両者を 液密的に連通させる第３の加圧源導管部１８４とを含むことが好ましい。 この廃棄物トラップ組立体１３８は、従来の廃棄物トラップ組立体を越える重 要な利点を提供する。本発明の廃棄物トラップ組立体１３８は、１つの真空貯留 容器１４０及び１つの真空ポンプを必要とするだけである。また、廃棄サイクル は、液体廃棄のために中断する必要がない。さらに、従来のシステムで必要とし ていた外部廃棄ポンプは必要でない。これは、本発明の廃棄物トラップが組立体 の廃棄物排出の駆動のために空気圧を使用するからである。いくつかの従来のシ ステムは廃棄物トラップ組立体の廃棄物排出力に加圧空気を使用している。しか し、そのようなシステムは、貯留容器ないの液面レベルが３方向弁のスイッチを 入れるレベルになるたびに、貯留容器の内部が真空状態から加圧空気におき換え られて、真空状態から開放されるため、真空引きの無駄になる。これは、ｋ真空 状態への置き換えに１６秒以上を要するから、装置の処理速度を大きく低下させ る。また、大きな廃棄ポンプを必要とする。 本発明の分析装置１０は、モータ、分析器及びバーコード・リーダを制御する 制御器１８６を含むことが好ましい。制御器１８６は、分析器６８からの結果を 受けかつそれらの結果を操作者に効果的なフォーマットで知らせるようにプログ ラムされたコンピュータを含むことが好ましい。 動作時、分析器の好ましい実施例の操作者は、反応物キットからの予め混合さ れた反応物を反応物ステーション１６に装填する。反応物キットは、予め混合さ れた反応物を収納した１以上の反応容器４８と、反応物キット内の反応物に関す るバーコード情報を有するバーコード・カード３７とを含む。 反応容器４８を反応物ステーション１６に装填した後、操作者は、試料容器ラ ック・リテーナ組立体４０を使用して、反応物キットから試料容器ラック３０の 壁４１にバーコード・カード３７をおく。操作者は、バーコード・カード３７に 含まれるバーコード情報を制御器に読み取るように、試料ステーション・バーコ ード・リーダ４７に指令する。次いで、操作者は試料容器ラック３０からバーコ ード・カード３７を取り除く。 次いで、操作者は、分析すべき試料を収容している試料容器２０を試料回転体 ２０に装填する。試料容器２０は試料容器ラック３０に装填され、試料容器ラッ ク３０は試料回転体２４の外部視野計（ペリメータ）に取り付けられる。各試料 の識別及び各試料を分析する分析器の識別に関するバーコード情報を含むラベル が各試料容器２０に取り付けられる。操作者は、希釈剤容器２６を試料回転体２ ４におき、清潔な希釈セクション２８を試料回転体２４におく。操作者は、次い で、引き続くステップを装置１０に自動的に実行させる。 試料回転体２４は、周期的に停止されつつ、回転される。容器２０が試料ステ ーション・バーコード・リーダ４７の前に配置されるたびに、バーコード・リー ダ４７は、試料容器２０上のラベルのバーコード情報を読み取り、その情報を制 御器１８６に沿って送る。 試料プローブ・アーム８２は、試料ステーション・プローブ８４を試料取り出 し位置２２のすぐ上の位置に移動させる。試料プローブ８４は、試料プローブ８ ４が試料取り出し位置２２に配置された試料容器２０内の試料表面以下になった ことを試料プローブ・レベル制御器が感知するまで、上部位置から下げられる。 次いで、試料プローブ圧力変更組立体９２は、試料プローブ内部チャンバ８８ を真空に引くように作用する。これは、試料容器２０内の試料を試料プローブ内 部チャンバ８８に引き込むように、作用する。次いで、試料プローブ８４はその 上部位置に上げられ、試料プローブ・アーム８２は希釈剤カップ４２の１つを越 える位置に回転される。試料プローブ８４は希釈剤カップ４２内に下げられ、試 料プローブ圧力変更組立体９２は試料プローブ８４内の試料を希釈剤カップ４２ に放出させる。 次いで、試料プローブ・アーム８２は、試料プローブ８４を試料ステーション １４の１つの希釈剤容器２６のすぐ上の位置に回転させる。試料プローブ８４は 、試料プローブレベル制御器により感知されるように希釈剤容器２６内の希釈剤 面以下の位置に上部位置から下げられる。圧力変更組立体９２は試料プローブ内 部チャンバ８８内を真空に引くように作用し、希釈剤は試料プローブ８４に吸い 込まれる。次いで、試料プローブ８４はその上部位置に上げられ、試料プローブ ・アーム８２は希釈剤カップ４２の１つを越えた位置に試料プローブ８４を直ち に回転させる。試料プローブ８４は希釈剤カップ４２内に下げられ、圧力変更組 立体９２は試料プローブ８４を加圧して、希釈剤を希釈剤カップ４２内に排出さ せる。 次いで、試料かき混ぜロッド８６が希釈剤カップ４２内に下げられ、試料かき 混ぜロッド・モータ１０５が駆動されて試料と希釈剤とを混合させる。 次いで、試料プローブ８４が再度希釈剤カップ４２内に下げられ、希釈剤・試 料混合物が試料プローブ８４内に吸い込まれる。次いで、試料アーム８２が試料 プローブ８４をキュベット混合位置５６のキュベット５４のすぐ上の位置に回転 させ、試料プローブ８４がキュベット５４内に下げられ、希釈剤・試料混合物が 試料プローブ圧力変更組立体９２により試料プローブ８４からキュベット５４中 に放出される。 これらのステップの直前又は直後に、制御器８４は、反応物プローブ・アーム １１０を反応物取り出し位置２２内の適宜な反応物容器４８のすぐ上に移動させ 、反応物プローブ１１２は反応物容器４８内に下げられ、所定量の反応物は反応 物プローブ１１２内に取り込まれる。次いで、反応物プローブ１１２はその上部 位置に上げられ、反応物アーム１１０は反応物プローブ１１２をキュベット混合 位置５６のキュベット５４を越えて回転される。次いで、反応物プローブ１１２ がキュベット５４内に下げられて、反応物がキュベット５４内に放出される。 この時点において、試料かき混ぜロッド８６（又は、かき混ぜロッドがこの時 点でキュベット混合位置のすぐ上に移動されることに依存して反応物かき混ぜロ ッド１１４）がキュベット５４内に下げられ、回転用モータがかき混ぜロッドパ ドル１０２に希釈剤・試料混合物を撹拌させる。混合の後、かき混ぜロッド８６ はその上部位置に戻される。 次いで、制御器１８６は、ランダム・アクセス分析ステーション回転体６２を 駆動させて、希釈剤・試料混合物を有するキュベット５４をランダム・アクセス 分析ステーション分析位置５８を越えて回転させる。この分析位置５８において 、ランダム・アクセス分析ステーション分析器６８はキュベット５４の内容物を 分析し、その情報を制御器１８６に送る。制御器１８６は、これら多くの場合に キュベットをランダム・アクセス分析ステーション分析位置５８に通して、それ ら多くの場合のそれぞれにおいて内容物を分析させるように分析器６８に指令す ることが好ましい。同じ希釈剤・試料混合物を多量に分析することにより、制御 器１８６により最終的に報告される分析結果は非常に正確になる。 キュベット５４の内容物を分析した後、ランダム・アクセス分析器回転体６２ は、キュベット５４をキュベット洗浄位置６０に下げるように回転される。キュ ベット洗浄位置６０において、キュベット洗浄位置プローブ１３２波及ベット５ ４中に下げられ、キュベット５４の内容物はキュベット５４から排出されてキュ ベット洗浄ステーション・プローブ供給及び廃棄組立体１３６を使用して適宜な 廃棄処理をされる。次いで、キュベット５４は加圧された洗浄液で洗浄され、そ の液体はキュベット洗浄ステーション・プローブ供給及び廃棄組立体１３６を使 用して廃棄処理をされる。次いで、キュベット５４は他の分析作業のために清掃 されて待機する。 制御器１８６は、分析プロセスの各種の段階において多数の反応キュベット５ ４のトラックを維持するように、プログラムされていることが好ましい。制御器 １８６は、ランダム・アクセス分析ステーション回転体６２を高速で回転させ、 上記のような各種の動作を１以上実行するために多くの活動的なキュベット５４ を各種のキュベット位置に移動させる。この方法により、分析装置１０は短時間 で多量の分析を行うことができる。 装置の通常の動作の間、制御器１８６は、ランダム・アクセス分析ステーショ ン分析器６８に機上制御試料７８の内容物の分析を周期的に実行させる。この分 析結果が分析器６８の校正の実行プロセスであることを示唆すると、分析器６８ は自動的に再度校正プロセスを実行する。 本発明は、製造コスト又は操作の煩雑さを過度に増大させることなく、特有の 正確な信頼できる比濁計と比濁計／濁度計の組合せ装置とを提供する。 以上本発明の好ましい実施例について詳細に説明したが、上記の実施例は種々 の態様に変更することができる。それゆえに、本発明は上記好ましい実施例及び その説明に制限されない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ツー、ソンタイ アメリカ合衆国 92886 カリフォルニア 州 ヨーバ リンダ ヴィア ヴェンタナ 20720 (72)発明者 ワッツ、リチャード ピー アメリカ合衆国 91789 カリフォルニア 州 ダイヤモンド バー ダミエッタ ド ライヴ 20359

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．(a)可変エネルギー強度を有すると共に第１及び第２の偏光小部分を有す るレーザビームを発生するレーザと、 (b)光エネルギーを検出して検出した光エネルギーの量に対応する制御信号を 発生するレーザ制御光検出器と、 (c)前記レーザビームの第１の部分を透明の反応容器に指向させ、前記レーザ ビームの第２の部分を前記レーザ制御光検出器に指向させる第１のビーム分割器 であって前記レーザビームの第１の部分の光エネルギーが前記レーザビームの総 光エネルギー出力の既知の関数であるように構成された第１のビーム分割器と、 (d)前記反応容器内の液体に懸濁された物質により前記レーザビームの第１の 部分の第１の変更小部分からの散乱光エネルギーを検出すべく配置された比濁計 光検出器と、 (e)前記第１のビーム分割器と前記レーザ制御光検出器との間に配置されて、 前記レーザビームの第２の部分の第１の偏光小部分に本質的に影響を与えること なく、前記レーザビームの第２の部分の第２の偏光小部分を濾波するように適応 された偏光フィルタと、 (f)前記レーザ制御光検出器により発生された制御信号を使用して前記レーザ ビームの第１の偏光小部分の総出力を制御する制御回路と、 を含むレート比濁計。 ２．前記レーザは可視のダイオード・レーザである、請求項１に記載の比濁計 。 ３．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生す る可視のダイオード・レーザである、請求項１に記載の比濁計。 ４．前記レーザはほぼ６５０ｎｍからほぼ７００ｎｍの間の波長の光を発生す る可視のダイオード・レーザである、請求項１に記載の比濁計。 ５．前記レーザはほぼ１ミリワットからほぼ１０ミリワットの間の総光エネル ギーを発生することができる可視のダイオード・レーザである、請求項１に記載 の比濁計。 ６．前記反応容器は反応キュベットである、請求項１に記載の比濁計。 ７．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネルギ ーのほぼ５０％からほぼ９９％の間である、請求項１に記載の比濁計。 ８．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネルギ ーのほぼ９５％とほぼ９７％との間である、請求項１に記載の比濁計。 １０．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項１に記載の比濁計。 １１．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＰ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＳ波小部分である、請求項１に記載の比濁計。 １２．(a)第１の波長を有するレーザビームを発生するレーザと、 (b)前記レーザビームを固有の光路に沿って透明な反応容器に指向させるよう に配置された第１のビーム分割器と、 (c)前記反応容器内の液体に懸濁された物質により前記レーザビームから散乱 された光エネルギーを検出するように配置されたレーザ制御光検出器と、 (d)第２の波長を有する光ビームを発生してその光ビームを前記光路を介して 前記反応容器に指向させる発光ダイオードと、 (e)前記発光ダイオードに対し前記反応容器と反対の側の前記光路に沿って配 置された比濁計光検出器と、 (f)前記反応容器と前記比濁計光検出器との間に配置されて、前記光ビームを 前記比濁計光検出器に収束させるレンズと、 (g)前記反応容器と前記レンズとの間に配置されて、前記レーザビームを前記 レンズから離れる方向へ反射する第２のビーム分割器と、 を含む、レート比濁計及びレート濁度計組合せ装置。 １３．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項１２に記載の組合せ装置。 １４．前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の波長 の光を発生することができる、請求項１２に記載の組合せ装置。 １５．前記レーザはほぼ１ミリワットからほぼ１０ミリワットの間の総光エネ ルギーを発生することができる可視のダイオード・レーザである、請求項１に記 載の組合せ装置。 １６.前記反応容器は反応キュベットである、請求項１に記載のレート比濁計 。 １７．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項１に記載の組合せ装置。 １８．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＰ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＳ波小部分である、請求項１に記載の組合わせ装置。 １９．(a)可変エネルギー強度を有すると共に第１及び第２の偏光小部分を有 する偏光レーザビームを発生するレーザと、 (b)光エネルギーを検出して、検出した光エネルギーの量に対応する制御信号 を発生するレーザ制御光検出器と、 (c)レーザビームを透明の反応容器に固有の光路を介して指向させると共にレ ーザビームを前記レーザ制御光検出器に指向させる第１のビーム分割器であって 前記レーザビームの光エネルギーが前記レーザビームの総光エネルギー出力の既 知の関数であるように構成された第１のビーム分割器と、 (d)前記反応容器内の液体に懸濁された物質により前記レーザビームの第１の 部分からの散乱光エネルギーを検出すべく配置された比濁計光検出器と、 (e)前記第１のビーム分割器と前記レーザ制御光検出器との間に配置されて、 前記第１の小部分に本質的に影響を与えることなく、前記レーザビームの第２の 部分の第２の小部分を濾波するように適応された偏光フィルタと、 (f)前記レーザ制御光検出器により発生された制御信号を使用して前記レーザ の総光エネルギー出力を制御する制御回路と、 (g)第２の波長を有する光ビームを発生して、その光ビームを前記反応容器に 通すべく前記光路に指向させる発光ダイオードと、 (h)前記発光ダイオードに対し前記反応容器と反対の側の前記光路に配置され た濁度計光検出器と、 (i)前記反応容器と前記濁度計光検出器との間に配置されて前記光ビームを前 記濁度計光検出器に収束させるレンズと、 (j)前記反応容器と前記レンズとの間に配置されて、前記レーザビームを前記 レンズから離れる方向へ反射する第２のビーム分割器と、 を含む、レート比濁計及びレート濁度計の組合せ装置。 ２０．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項１９に記載の組合せ装置。 ２１．前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の波長 の光を発生することができる、請求項１９に記載の組合せ装置。 ２２．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギーのほぼ５０％からほぼ９９％の間である、請求項１９に記載のレート比濁計 。 ２３．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギーのほぼ９５％からほぼ９７％の間である、請求項１９に記載のレート比濁計 。 ２４.前記反応容器は反応キュベットである、請求項１に記載のレート比濁計 。 ２５．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項１９に記載の組合せ装置。 ２６．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＰ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＳ波小部分である、請求項１９に記載の組合せ装置。 ２７．前記レーザビームの第１の部分の第１の偏光小部分の割合は前記レーザ ビームの総光エネルギーの第１の小偏光小部分のほぼ９０％からほぼ９９％の間 である、請求項１９に記載のレート比濁計。 ２８．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの 試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離す ことを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーシ ョン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を保 持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さら に当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれの 反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置から 離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞ れの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置 から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる反 応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うよ うに前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ って比濁計を備え、該比濁計が、i)第１及び第２の偏光小部分を有する可変光エ ネルギーの偏光レーザビームを発生するレーザと、ii)光エネルギーを検出して 検出した光エネルギー量に対応する制御信号を発生するレーザ制御光検出器と、 iii)レーザビームを透明の反応キュベットに指向させると共にレーザビームを前 記レーザ制御光検出器に指向させるように配置された第１のビーム分割器であっ て前記レーザビームの光エネルギーが前記レーザビームの総光エネルギーの既知 の関数であるように構成された第１のビーム分割器と、iv)前記反応キュベット 内の液体に懸濁された物質により前記レーザビームの第１の部分からの散乱光エ ネルギーを検出すべく配置された比濁計光検出器と、v）前記第１のビーム分割 器と前記レーザ制御光検出器との間に配置されて、前記第１の小部分に本質的に 影響を与えることなく、前記レーザビームの第２の部分の第２の小部分を濾波し て除去する偏光フィルタと、vi)前記レーザ制御光検出器により発生された制御 信号を使用して前記レーザの総光エネルギー出力を制御する制御回路とを含む、 分析器と、 (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベット 洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析ステーション分析位置に 移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダ ム・アクセス分析ステーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーショ ン・モータと、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する装置。 ２９．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項２８に記載のレート比濁計。 ３０．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギーのほぼ９０％からほぼ９９％の間である、請求項２８に記載のレート比濁計 。 ３１．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項２８に記載のレート比濁計。 ３２．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの 試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すこ とを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーショ ン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を保 持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さら に当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれの 反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置から 離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞ れの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置 から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる反 応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うよ うに前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ って比濁計を備え、該比濁計が、i)第１及び第２の偏光小部分を有する可変光エ ネルギーの偏光レーザビームを発生するレーザと、ii)光エネルギーを検出して 検出した光エネルギー量に対応する制御信号を発生するレーザ制御光検出器と、 iii)レーザビームを透明の反応キュベットに指向させると共にレーザビームを前 記レーザ制御光検出器に指向させるように配置された第１のビーム分割器であっ て前記レーザビームの第１の部分の光エネルギーが前記レーザビームの総光エネ ルギーの既知の関数であるように構成された第１のビーム分割器と、iv)前記反 応キュベット内の液体に懸濁された物質により前記レーザビームの第１の部分か らの散乱光エネルギーを検出すべく配置された比濁計光検出器と、v）前記第１ のビーム分割器と前記レーザ制御光検出器との間に配置されて、前記第１の小部 分に本質的に影響を与えることなく、前記レーザビームの第２の部分の第２の小 部分を濾波して除去する偏光フィルタと、vi)前記レーザ制御光検出器により発 生された制御信号を使用して前記レーザの総光エネルギー出力を制御する制御回 路とを含む、分析器と、 (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベット 洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析位置に移動させること並 びにそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダム・アクセス分析 ステーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーション・モータと、 (i)前記本体に配置された試料プローブ・アーム組立体であって試料プローブ ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の試料プローブ と、上端及び下端を有する長い回転可能の試料かき混ぜロッドとを有し、前記試 料かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた試料かき混ぜパドルを有し、前 記試料プローブ及び前記試料かき混ぜロッドが互いに接近して縦に配置されてお り、前記試料プローブが下部試料プローブ位置と上部試料プローブ位置との間を 縦に移動可能であり、前記試料かき混ぜロッドが下部試料かき混ぜロッド位置と 上部試料かき混ぜロッド位置との間を試料プローブから独立して移動可能であり 、前記試料プローブが前記試料取り出し位置のすぐ上になる第１の試料プローブ ・アーム位置と前記試料プローブが前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２ の試料プローブ・アーム位置との間を前記試料プローブ・アームが移動可能であ る、試料プローブ・アーム組立体と、 (j)前記試料プローブ・アームを前記第１及び第２の試料プローブ・アーム位 置の間で移動させる試料プローブ・アーム・モータと、 (k)前記試料プローブを前記下部試料プローブ位置と前記上部試料プローブ位 置との間で移動させる試料プローブ位置決めモータと、 (l)前記試料かき混ぜロッドを前記下部試料かき混ぜロッド位置と前記上部試 料かき混ぜロッド位置との間で移動させる試料かき混ぜロッド位置決めモータと 、 (m)前記試料かき混ぜロッドを回転させる試料かき混ぜロッド回転モータと、 (n)正圧と負圧とを前記試料プローブの内部チャンバに選択的に与える試料 プローブ圧力変更手段と、 (o)前記本体に配置された反応物プローブ・アーム組立体であって反応物プロ ーブ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の反応物プ ローブと、上端及び下端を有する長い回転可能の反応物かき混ぜロッドとを備え 、前記反応物かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた反応物かき混ぜパド ルを有し、前記反応物プローブ及び前記反応物かき混ぜロッドが互いに接近して 縦に配置されており、前記反応物プローブが下部反応物プローブ位置と上部反応 物プローブ位置との間を縦に移動可能であり、前記反応物かき混ぜロッドが下部 反応物かき混ぜロッド位置と上部反応物かき混ぜロッド位置との間を前記反応物 プローブから独立して移動可能であり、前記反応物プローブが前記反応物取り出 し位置のすぐ上になる第１の反応物プローブ・アーム位置と前記反応物プローブ が前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２の反応物プローブ・アーム位置と の間を前記反応物プローブ・アームが移動可能である、反応物プローブ・アーム 組立体と、 (p)前記反応物プローブ・アームを前記第１及び第２の反応物プローブ・アー ム位置との間で移動させる反応物プローブ・アーム・モータと、 (q)前記反応物プローブを下部反応物プローブ位置と上部反応物プローブ位置 との間で移動させる反応物プローブ位置決めモータと、 (r)前記反応物かき混ぜロッドを下部反応物かき混ぜロッド位置と上部反応物 かき混ぜロッド位置との間で移動させる反応物かき混ぜロッド位置決めモータと 、 (s)前記反応物かき混ぜロッドを回転させる反応物かき混ぜロッド回転モータ と、 (t)正圧と負圧とを前記反応物プローブの内部チャンバに選択的に与える反応 物プローブ圧力変更手段と、 (u)前記本体に配置されたキュベット洗浄ステーションであって内部チャンバ 、開放下端及び開放上端を有する中空のキュベット洗浄ステーション・プローブ を含み、また前記キュベット洗浄ステーション・プローブがキュベット洗浄位置 のすぐ上にあるように配置されたキュベット洗浄ステエーションと、 (v)前記キュベット洗浄ステーション・プローブを下部キュベット洗浄ステー ション・プローブ位置と上部キュベット洗浄ステーション・プローブ位置との間 で移動させるキュベット洗浄ステーション・プローブ位置決めモータと、 (w)ランダム・アクセス分析ステーション内に配置されたキュベットを前記キ ュベット洗浄位置で洗浄するために洗浄液源からの加圧洗浄液を前記キュベット 洗浄ステーション・プローブに提供すること及び前記分析位置で前記ランダム・ アクセス分析ステーションに配置されたキュベットから液体を排出させるため及 びその洗浄液を廃棄位置に送るために前記キュベット洗浄ステーション・プロー ブの内部チャンバに負圧を提供することを選択的に実行するキュベット洗浄ステ ーション・プローブ供給・廃棄組立体と、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する装置。 ３３．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項３２に記載の装置。 ３４．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギー出力のほぼ９０％からほぼ９９％の間である、請求項３２に記載の装置。 ３５．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項３２に記載の装置。 ３６．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの 試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すこ とを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーショ ン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を 保持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さ らに当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれ の反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置か ら離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと 、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞ れの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置 から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる反 応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うる ように前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ って比濁計及び濁度計の組合せ装置を備え、該組合せ装置が、i)第１の波長を有 するレーザビームを発生するレーザと、ii)前記レーザビームを固有の光路に沿 って透明な反応キュベットに指向させるように配置された第１のビーム分割器と 、iii)前記反応キュベット内の液体に懸濁された物質による前記レーザビームか らの散乱光エネルギーを検出すべく配置されたレーザ制御光検出器と、iv)第２ の波長を有する光ビームを発生してその光ビームを固有の光路に沿って前記キュ ベットに指向させる発光ダイオードと、v)前記発光ダイオードに対し前記反応キ ュベットと反対側の前記光路に配置された比濁計光検出器と、vi)前記反応キュ ベットと前記比濁計光検出器との間に配置されて、前記光ビームを前記比濁計光 検出器に収束させるレンズと、vii)前記反応キュベットと前記レンズとの間に配 置されて、前記レーザビームを前記レンズから離れる方向へ反射させる第２のビ ーム分割器とを含む、分析器と、 (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベット 洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析位置に移動させること並 びにそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダム・アクセス分析 ステーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーション・モータと、 (i)液体試料を前記試料取り出し位置から及び反応物を前記反応物取り出し位 置からそれぞれ前記ランダムアクセス分析ステーションのキュベットに移す試料 移送手段と、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する組合せ装置。 ３７．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項３６に記載の組合せ装置。 ３８．前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の波長 の光を発生する、請求項３６に記載の組合せ装置。 ３９．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項３６に記載の組合せ装置。 ４０．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの 試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すこ とを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーショ ン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を保 持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さら に当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれ の反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置か ら離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと 、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞ れの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置 から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる反 応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うよ うに前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ って比濁計及び濁度計の組合せ装置を備え、該組合せ装置が、i)第１の波長を有 するレーザビームを発生するレーザと、ii)前記レーザビームを固有の光路に沿 って透明な反応キュベットに指向させる第１のビーム分割器と、iii）前記反応 キュベット内の液体に懸濁された物質による前記レーザビームからの散乱光エネ ルギーを検出すべく配置されたレーザ制御光検出器と、iv)第２の波長を有する 光ビームを発生してその光ビームを前記光路に沿って指向させて前記反応キュベ ットに通す発光ダイオードと、v)前記発光ダイオードに対し前記反応キュベット と反対側の前記光路に配置された比濁計検出器と、vi）前記反応キュベットと前 記比濁計光検出器との間に配置されて、前記光ビームを前記比濁計光検出器に収 束させるレンズと、vii)前記反応キュベットと前記レンズとの間に配置されて、 前記レーザビームを前記レンズから離れる方向へ反射させる第２のビーム分割器 とを含む、分析器と (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベッ ト洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析位置に移動させること 並びにそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダム・アクセス分 析ステーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーション・モータと、 (i)前記本体に配置された試料プローブ・アーム組立体であって試料プローブ ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の試料プローブ と、上端及び下端を有する長い回転可能の試料かき混ぜロッドとを有し、前記試 料かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた試料かき混ぜパドルを備え、前 記試料プローブ及び前記試料かき混ぜロッドが互いに接近して縦に配置されてお り、前記試料プローブが下部試料プローブ位置と上部試料プローブ位置との間を 縦に移動可能であり、前記試料かき混ぜロッドが下部試料かき混ぜロッド位置と 上部試料かき混ぜロッド位置との間を試料プローブから独立して移動可能であり 、前記試料プローブが前記試料取り出し位置のすぐ上になる第１の試料プローブ ・アーム位置と前記試料プローブが前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２ の試料プローブ・アーム位置との間を前記試料プローブ・アームが移動可能であ る、試料プローブ・アーム組立体と、 (j)前記試料プローブ・アームを前記第１及び第２の試料プローブ・アーム位 置の間で移動させる試料プローブ・アーム・モータと、 (k)前記試料プローブを前記下部試料プローブ位置と前記上部試料プローブ位 置との間で移動させる試料プローブ位置決めモータと、 (l)前記試料かき混ぜロッドを前記下部試料かき混ぜロッド位置と前記上部試 料かき混ぜロッド位置との間で移動させる試料かき混ぜロッド位置決めモータと 、 (m)前記試料かき混ぜロッドを回転させる試料かき混ぜロッド回転モータと、 (n)正圧と負圧とを前記試料プローブの内部チャンバに選択的に与える試料プ ローブ圧力変更手段と、 (o)前記本体に配置された反応物プローブ・アーム組立体であって反応物プロ ーブ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の反応物プ ローブと、上端及び下端を有する長い回転可能の反応物かき混ぜロッドとを備え 、前記反応物かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた反応物かき混ぜパ ドルを有し、前記反応物プローブ及び前記反応物かき混ぜロッドが互いに接近し て縦に配置されており、前記反応物プローブが下部反応物プローブ位置と上部反 応物プローブ位置との間を縦に移動可能であり、前記反応物かき混ぜロッドが下 部反応物かき混ぜロッド位置と上部反応物かき混ぜロッド位置との間を前記反応 物プローブから独立して移動可能であり、前記反応物プローブが前記反応物取り 出し位置のすぐ上になる第１の反応物プローブ・アーム位置と前記反応物プロー ブが前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２の反応物プローブ・アーム位置 との間を前記反応物プローブ・アームが移動可能である、反応物プローブ・アー ム組立体と、 (p)前記反応物プローブ・アームを前記第１及び第２の反応物プローブ・アー ム位置との間で移動させる反応物プローブ・アーム・モータと、 (q)前記反応物プローブを下部反応物プローブ位置と上部反応物プローブ位置 との間で移動させる反応物プローブ位置決めモータと、 (r)前記反応物かき混ぜロッドを下部反応物かき混ぜロッド位置と上部反応物 かき混ぜロッド位置との間で移動させる反応物かき混ぜロッド位置決めモータと 、 (s)前記反応物かき混ぜロッドを回転させる反応物かき混ぜロッド回転モータ と、 (t)正圧と負圧とを前記反応物プローブの内部チャンバに選択的に与える反応 物プローブ圧力変更手段と、 (u)前記本体に配置されたキュベット洗浄ステーションであって内部チャンバ 、開放下端及び開放上端を有する中空のキュベット洗浄ステーション・プローブ を含み、また前記キュベット洗浄ステーション・プローブがキュベット洗浄位置 のすぐ上にあるように配置されたキュベット洗浄ステエーションと、 (v)前記キュベット洗浄ステーション・プローブを下部キュベット洗浄ステー ション・プローブ位置と上部キュベット洗浄ステーション・プローブ位置との間 で移動させるキュベット洗浄ステーション・プローブ位置決めモータと、 (w)ランダム・アクセス分析ステーション内に配置されたキュベットを前記キ ュベット洗浄位置で洗浄するために洗浄液源からの加圧洗浄液を前記キュベッ ト洗浄ステーション・プローブに提供すること及び前記分析位置で前記ランダム ・アクセス分析ステーションに配置されたキュベットから液体を排出させるため 及びその洗浄液を廃棄位置に送るために前記キュベット洗浄ステーション・プロ ーブの内部チャンバに負圧を提供することを選択的に実行するキュベット洗浄ス テーション・プローブ供給・廃棄組立体と、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する組合せ装置。 ４１．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項４０に記載の組合せ装置。 ４２．前記前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の 波長の光を発生する、請求項４０に記載の組合せ装置。 ４３．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項４０に記載の組合せ装置。 ４４．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの 試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すこ とを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーショ ン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を保 持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さら に当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれの 反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置から 離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それ ぞれの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位 置から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる 反応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うよ うに前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ って比濁計及び濁度計の組合せ装置を備え、該組合せ装置が、i)第１の波長を有 する可変光エネルギーの偏光レーザビームを発生するレーザと、ii)光エネルギ ーを検出して検出した光エネルギー量に対応する制御信号を発生するレーザ制御 光検出器と、iii)レーザビームを固有の光路に沿って透明な反応キュベットに指 向させると共に、レーザビームを前記レーザ制御光検出器に指向させる第１のビ ーム分割器であって前記レーザビームの第１の部分の光エネルギーが前記レーザ ビームの総光エネルギー出力の関数となるように構成された第１のビーム分割器 と、iv)前記反応キュベット内の液体に懸濁された物質による前記レーザビーム の第１の部分からの散乱光エネルギーを検出すべく配置された比濁計光検出器と 、v)前記第１のビーム分割器と前記レーザ制御光検出器との間に配置されて、前 記レーザビームの第１の部分に本質的に影響を与えることなく、前記レーザビー ムの第２の部分の第２の小部分を濾波して除去する偏光器と、vi)前記レーザ制 御光検出器により発生された制御信号を使用して前記レーザの総光エネルギー出 力を制御する制御回路と、vii)第２の波長を有する光ビームを発生して、その光 ビームを前記反応キュベットに通すべく前記光路に沿って指向させる発光ダイオ ードと、viii)前記発光ダイオードから前記反応キュベットと反対側の前記光路 に配置された濁度計光検出器と、ix)前記反応キュベットと前記濁度計光検出 器との間に配置されて前記光ビームを前記濁度計光検出器に収束させるレンズと 、x)前記反応キュベットと前記レンズとの間に配置されて前記レーザビームを前 記レンズから離れる方向へ反射させる第２のビーム分割器とを含む、分析器と、 (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベット 洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析位置に移動させること及 びそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダム・アクセス分析ス テーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーション・モータと、 (i)液体試料を前記試料取り出し位置から及び反応物を前記反応物取り出し位 置からそれぞれ前記ランダムアクセス分析ステーションのキュベットに移す試料 移送手段と、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する装置。 ４５．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項４４に記載の組合せ装置。 ４６．前記前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の 波長の光を発生する、請求項４４に記載の組合せ装置。 ４７．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項４４に記載の組合せ装置。 ４８．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギー出力のほぼ９０％からほぼ９９％の間である、請求項４４に記載の組合せ装 置。 ４９．(a)本体と、 (b)前記本体に配置された試料ステーションであって複数の試料容器を保持す る寸法及び規模とされていると共に試料取り出し位置を有しており、さらに当該 試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれの試料容器を 試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離すことを選択的 に行うように前記本体内で移動可能の試料ステーションと、 (c)前記試料ステーションが複数の試料容器を保持しているとき、それぞれ の試料容器を試料取り出し位置に移動させること及び試料取り出し位置から離す ことを選択的に行わせるように前記試料ステーションを移動させる試料ステーシ ョン・モータと、 (d)前記本体に配置された反応物ステーションであって複数の反応物容器を保 持する寸法及び規模とされていると共に反応物取り出し位置を有しており、さら に当該反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞれの 反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置から 離すことを選択的に行うように前記本体内で移動可能の反応物ステーションと、 (e)前記反応物ステーションが複数の反応物容器を保持しているとき、それぞ れの反応物容器を反応物取り出し位置に移動させること及び反応物取り出し位置 から離すことを選択的に行わせるように前記反応物ステーションを移動させる反 応物ステーション・モータと、 (f)前記本体に配置されたランダム・アクセス分析ステーションであって複数 のキュベットを保持する寸法及び規模とされていると共にキュベット混合位置及 びキュベット洗浄位置を有しており、さらに当該ランダム・アクセス分析ステー ションが複数のキュベットを保持しているとき、それぞれのキュベットを、前記 キュベット混合位置、前記キュベット洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステ ーション分析位置に移動させること並びにそれらから離すことを選択的に行うよ うに前記本体内で移動可能のランダム・アクセス分析ステーションと、 (g)前記キュベット内に配置された試料の少なくとも１つのパラメータを決定 すべく前記ランダム・アクセス分析ステーションの近くに配置された分析器であ つて比濁計及び濁度計の組合せ装置を備え、該組合せ装置が、i)第１の波長を有 する可変エネルギーのレーザビームを発生するレーザと、ii)光エネルギーを検 出して検出した光エネルギー量に対応する制御信号を発生するレーザ制御光検出 器と、iii)前記レーザビームの第１の部分を固有の光路に沿って透明な反応キュ ベットに指向させると共に、前記レーザビームの第２の部分を前記レーザ制御光 検出器に指向させる第１のビーム分割器であって前記レーザビームの第１の部分 の光エネルギーが前記レーザビームの総光エネルギー出力の関数となるように構 成された第１のビーム分割器と、iv)前記反応キュベット内の液体に懸濁され た物質による前記レーザビームの第１の部分からの散乱光エネルギーを検出すべ く配置された比濁計光検出器と、v)前記第１のビーム分割器と前記レーザ制御光 検出器との間に配置されて、前記レーザビームの第１の部分に本質的に影響を与 えることなく、前記レーザビームの第２の部分の第２の小部分を濾波して除去す る偏光器と、vi)前記レーザ制御光検出器により発生された制御信号を使用して 前記レーザの総光エネルギー出力を制御する制御回路と、vii)第２の波長を有す る光ビームを発生して、その光ビームを前記反応キュベットに通すべく前記光路 に沿って指向させる発光ダイオードと、viii)前記発光ダイオードに対し前記反 応キュベットと反対側の前記光路に配置された濁度計光検出器と、ix)前記反応 キュベットと前記濁度計光検出器との間に配置されて、前記光ビームを前記濁度 計光検出器に収束させるレンズと、x)前記反応キュベットと前記レンズとの間に 配置されて前記レーザビームを前記レンズから離れる方向へ反射させる第２のビ ーム分割器とを含む、分析器と、 (h)前記ランダム・アクセス分析ステーションが複数のキュベットを保持して いるとき、それぞれのキュベットを、前記キュベット混合位置、前記キュベット 洗浄位置及びランダム・アクセス分析ステーション分析位置に移動させること並 びにそれらから離すことを選択的に行わせるように前記ランダム・アクセス分析 ステーションを移動させるランダム・アクセス分析ステーション・モータと、 (i)前記本体に配置された試料プローブ・アーム組立体であって試料プローブ ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の試料プローブ と、上端及び下端を有する長い回転可能の試料かき混ぜロッドとを備え、前記試 料かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた試料かき混ぜパドルを有し、前 記試料プローブ及び前記試料かき混ぜロッドが互いに接近して縦に配置されてお り、前記試料プローブが下部試料プローブ位置と上部試料プローブ位置との間を 縦に移動可能であり、前記試料かき混ぜロッドが下部試料かき混ぜロッド位置と 上部試料かき混ぜロッド位置との間を試料プローブから独立して移動可能であり 、前記試料プローブが前記試料取り出し位置のすぐ上になる第１の試料プローブ ・アーム位置と前記試料プローブが前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２ の試料プローブ・アーム位置との間を前記試料プローブ・アームが移動可能で ある、試料プローブ・アーム組立体と、 (j)前記試料プローブ・アームを前記第１及び第２の試料プローブ・アーム位 置の間で移動させる試料プローブ・アーム・モータと、 (k)前記試料プローブを前記下部試料プローブ位置と前記上部試料プローブ位 置との間で移動させる試料プローブ位置決めモータと、 (l)前記試料かき混ぜロッドを前記下部試料かき混ぜロッド位置と前記上部試 料かき混ぜロッド位置との間で移動させる試料かき混ぜロッド位置決めモータと 、 (m)前記試料かき混ぜロッドを回転させる試料かき混ぜロッド回転モータと、 (n)正圧と負圧とを前記試料プローブの内部チャンバに選択的に与える試料プ ローブ圧力変更手段と、 (o)前記本体に配置された反応物プローブ・アーム組立体であって反応物プロ ーブ・アームと、内部チャンバ、開放下端及び開放上端を有する中空の反応物プ ローブと、上端及び下端を有する長い回転可能の反応物かき混ぜロッドとを備え 、前記反応物かき混ぜロッドの下端がそれに取り付けられた反応物かき混ぜパド ルを有し、前記反応物プローブ及び前記反応物かき混ぜロッドが互いに接近して 縦に配置されており、前記反応物プローブが下部反応物プローブ位置と上部反応 物プローブ位置との間を縦に移動可能であり、前記反応物かき混ぜロッドが下部 反応物かき混ぜロッド位置と上部反応物かき混ぜロッド位置との間を前記反応物 プローブから独立して移動可能であり、前記反応物プローブが前記反応物取り出 し位置のすぐ上になる第１の反応物プローブ・アーム位置と前記反応物プローブ が前記キュベット混合位置のすぐ上になる第２の反応物プローブ・アーム位置と の間を前記反応物プローブ・アームが移動可能である、反応物プローブ・アーム 組立体と、 (p)前記反応物プローブ・アームを前記第１及び第２の反応物プローブ・アー ム位置との間で移動させる反応物プローブ・アーム・モータと、 (q)前記反応物プローブを下部反応物プローブ位置と上部反応物プローブ位置 との間で移動させる反応物プローブ位置決めモータと、 (r)前記反応物かき混ぜロッドを下部反応物かき混ぜロッド位置と上部反応 物かき混ぜロッド位置との間で移動させる反応物かき混ぜロッド位置決めモータ と、 (s)前記反応物かき混ぜロッドを回転させる反応物かき混ぜロッド回転モータ と、 (t)正圧と負圧とを前記反応物プローブの内部チャンバに選択的に与える反応 物プローブ圧力変更手段と、 (u)前記本体に配置されたキュベット洗浄ステーションであって内部チャンバ 、開放下端及び開放上端を有する中空のキュベット洗浄ステーション・プローブ を備え、また前記キュベット洗浄ステーション・プローブがキュベット洗浄位置 のすぐ上にあるように配置されたキュベット洗浄ステエーションと、 (v)前記キュベット洗浄ステーション・プローブを下部キュベット洗浄ステー ション・プローブ位置と上部キュベット洗浄ステーション・プローブ位置との間 で移動させるキュベット洗浄ステーション・プローブ位置決めモータと、 (w)ランダム・アクセス分析ステーション内に配置されたキュベットを前記キ ュベット洗浄位置で洗浄するために洗浄液源からの加圧洗浄液を前記キュベット 洗浄ステーション・プローブに提供すること及び前記分析位置で前記ランダム・ アクセス分析ステーションに配置されたキュベットから液体を排出させるため及 びその洗浄液を廃棄位置に送るために前記キュベット洗浄ステーション・プロー ブの内部チャンバに負圧を提供することを選択的に実行するキュベット洗浄ステ ーション・プローブ供給・廃棄組立体と、 を含む、液体試料の少なくとも１つのパラメータを決定する装置。 ５０．前記レーザはほぼ６００ｎｍからほぼ８５０ｎｍの間の波長の光を発生 する可視のダイオード・レーザである、請求項４９に記載の組合せ装置。 ５１．前記前記発光ダイオードはほぼ８５０ｎｍからほぼ１０５０ｎｍの間の 波長の光を発生する、請求項４９に記載の組合せ装置。 ５２．前記偏光レーザビームの第１の偏光小部分は前記偏光レーザビームのＳ 波小部分であり、前記偏光レーザビームの第２の偏光小部分は前記偏光レーザビ ームのＰ波小部分である、請求項４９に記載の組合せ装置。 ５３．前記レーザビームの第１の部分の割合は前記レーザビームの総光エネル ギー出力のほぼ９０％からほぼ９９％の間である、請求項４９に記載の組合せ装 置。