JP2000509390A - シクロアルキルジアリールホスフィンの合成 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 アルカリ金属ジアリールホスフィドをアルキル基が２−位にあるモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルキルメシラート又はトシラートと、これらの反応物が可溶性である液体反応媒体中で反応させることにより、リン原子に結合した２つのアリール基及び１つのアルキル−置換シクロアルキル基を有するホスフィンが生成する。このプロセスは、そのようなホスフィンの製造のための先行既知のプロセス技術に伴う複雑性を避けている。ホスフィンは貴金属触媒を作るためのリガンドとして有用である。

Description

【発明の詳細な説明】 シクロアルキルジアリールホスフィンの合成 技術的分野 本発明はトリアリールホスフィンからシクロアルキルジアリールホスフィンを 製造するための有効なプロセスに関する。 背景 シクロアルキルジアリールホスフィンは貴金属触媒を作るためのリガンドとし てかなり有用な化学生成物の群を構成している。メンチルジフェニルホスフィン 及びネオメンチルジフェニルホスフィンは、遷移金属錯体に不飽和有機基質との ジアステレオマー的相互作用のための可能性を与え、かくして不斉合成を可能に するリガンドの例である。これに関し、Ｊ．Ｄ．Ｍｏｒｒｉｓｏｎ ａｎｄ Ｗ ．Ｆ．Ｍａｓｌｅｒ，Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７４，Ｖｏｌ．３９，Ｎｏ． ２，ｐａｇｅｓ ２７０−２７２に注意されたい。ネオメンチルジフェニル−ホ スフィンはナプロキセン、ケトプロフェン及びイブプロフェンなどのある種の医 薬品の合成において有用な貴金属触媒の調製のために特に重要である。 ２つのアリール基及び異質の第３のヒドロカルビル基を有する第３級ホスフィ ンの生成の既知の方法は、テトラヒドロフランなどのエーテル中でリチウムジア リールホスフィドを塩化ベンジルなどのハロ炭化水素と結合させることを含む。 Ａ．Ｍ．Ａｇｕｉａｒ，Ｊ．Ｂｅｉｓｌｅｒ ａｎｄ Ａ．Ｍｉｌｌｓ，Ｊ．Ｏ ｒｇ．Ｃｈｅｍ ．１９６２，Ｖｏｌ．２７，ｐａｇｅｓ １００１−１００５を 参照されたい。反応は反応性 アリールリチウム共生成物を共−形成し、それが合成手順を複雑にし得るので、 著者等（Ａｇｕｉａｒ ｅｔ ａｌ．）はこの共生成物を選択的に除去する方法 を開発した。彼らは反応塊に等量の塩化ｔｅｒｔ−ブチルを加え、アリールリチ ウムと選択的に反応させてイソブチレン、芳香族炭化水素及び塩化リチウムを生 成させることによりこれを行った。それにもかかわらずこの方法には余分の反応 物及び併発する反応が含まれた。 テトラヒドロフラン中のハロ炭化水素とのリチウムジアリールホスフィドの反 応における他の複雑化因子は、系中の１つ又はそれ以上の成分がテトラヒドロフ ランと相互作用する傾向があり、それにより用いられる条件下で環の開裂などの 副反応が起こり得ることである。さらにリチウムジアリールホスフィドと塩化メ ンチルの間の反応は遅く、低から中の収率を与え、長い反応時間を必要とし、そ れが今度は環の開裂などの環状エテーテル溶媒とのもっと不利な相互作用が起こ る機会を助長する。 発明の概略 本発明に従い、２つのアリール基及び１つのアルキル−置換シクロアルキル基 を有する第３級ホスフィンの製造のための新規で非常に有効なプロセスを提供す る。この新規なプロセスは上記の先行既知のプロセス技術に伴う複雑性を避けて いる。 本発明の１つの実施態様に従うと、アルカリ金属ジアリールホスフィドをアル キル基が２−位にあるモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルキ ルメシラート又はトシラートと、これらの反応物が可溶性である適した液体反応 媒体中で反応させ、ジアリールモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シク ロアルキル第３級ホスフィンを生成 させる。第３の基を導入して第３級ホスフィンを生成させるためにクロロ−置換 反応物の使用を含む既知のプロセスと異なり、本プロセスはクロロ−置換反応物 と、第３級ホスフィンが生成する時に共生成するアリールリチウムの間の競争的 反応の可能性を除去している。かくして本発明はジアリールモノアルキル−もし くはポリアルキル−置換シクロアルキル第３級ホスフィン生成物の収率及び質の 両方における向上を可能にする。 他のその実施態様において本発明は、２つのアリール基及び１つのモノアルキ ル−もしくはポリアルキル−置換シロクアルキル基を有する第３級ホスフィンの 生成の２−段階プロセスを提供する。このプロセスは： ａ）アルキル基が２−位にあるモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シク ロアルカノールをメシルハライド又はトシルハライドと、これらの反応物が可溶 性である液体反応媒体中で反応させ、モノアルキル−もしくはポリアルキル−置 換シクロアルキルメシラート又はトシラートを生成させ； ｂ）該メシラート又はトシラートの少なくとも一部をアルカリ金属ジアリールホ スフィドと、これらの反応物が可溶性である液体反応媒体中で反応させ、該ホス フィンを生成させる ことを含む。 本発明のさらに別の実施態様は、ジアリールモノアルキル−もしくはポリアル キル−置換シクロアルキル第３級ホスフィンの製造のための３−段階プロセスで ある。この場合プロセスは以下の： ａ）アルカリ金属をトリアリールホスフィンと、ホスフィンが可溶性で ある液体反応媒体中で反応させてアルカリ金属ジアリールホスフィドを生成させ ； ｂ）アルキル基が２−位にあるモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シク ロアルカノールをメシルハライド又はトシルハライドと、これらの反応物が可溶 性である液体反応媒体中で反応させ、モノアルキル−もしくはポリアルキル−置 換シクロアルキルメシラート又はトシラートを生成させ；そして ｃ）該メシラート又はトシラートの少なくとも一部を該アルカリ金属ジアリール ホスフィドの少なくとも一部と、これらの反応物が可溶性である液体反応媒体中 で反応させ、２つのアリール基及び１つのモノアルキル−もしくはポリアルキル −置換シクロアルキル基を有する第３級ホスフィンを生成させる 段階を含む。 上記の実施態様のそれぞれにおいて「可溶性」という用語は、可溶性であると 特定される反応物が、用いられる反応温度において少なくとも合理的な反応速度 で反応が進行するのを可能にするのに必要な程度まで液体反応媒体中に溶解する ことができることを意味する。該用語は、特定の反応物がすべての割合で可溶性 でなければならないことを意味しているのではなく、一般に反応媒体中における その溶解度が高い程良いことを意味している。 本発明の特徴の中に、反応がいずれの触媒も必要とせずに起こるということが ある。かくして反応における触媒の使用は完全に随意又は任意である。触媒の使 用が望ましい場合、触媒量の第３級アミンを触媒として用いることができる。 本発明の他の実施態様及び特徴は、続く記載及び添付の請求の範囲からさらに 明らかになるであろう。 発明のさらなる記載アルカリ金属ジアリールホスフィド（ＭＤＡＰ） 本発明のプロセスにおいて用いられるアルカリ金属ジアリールホスフィドは式 Ｍ⁺ −ＰＲ¹Ｒ² により示されることができ、式中、Ｒ¹及びＲ²は同一か又は異なり、典型的にそ れぞれ最高２４個の炭素原子を含有するであろうアリール基である。アリール基 は１つの環又は複数の環を有することができ、フェニル、１−ナフチル、２−ナ フチル、２−ビフェニリル、３−ビフェニリル、４−ビフェニリル、アセナフチ ル、フェナントリル、テトラヒドロナフチルなどの芳香族基を含む。アリール基 は置換されているか又は非置換であることができ、置換されている場合、金属性 アルカリ金属（リチウム、ナトリウム及びカリウム）に対して不活性な１つ又は それ以上の置換基、例えば１つ又はそれ以上の：アルキル基、アルケニル基、ヒ ドロカルビルオキシ基、ヒドロカルビルチオ基、ヒドロカルビルカルボニル基、 ヒドロカルビルオキシヒドロカルビル基、ジヒドロカルビルアミノ基及び複素芳 香族基ならびにこれらの２つ又はそれ以上の組み合わせを含むことができる。好 ましくはアリール基はフェニル基であり、そのそれぞれは非置換であるか又はそ れぞれ炭素数が最高４のアルキル置換基を最高３個有する。２つのアリール基が 同じであるホスフィドが好ましく、最も好ましいのはリチウムジフェニルホスフ ィド、ナトリウムジフェニルホスフィド、カリウムジフェニルホスフィド及びナ トリウム ジフェニルホスフィドとカリウムジフェニルホスフィドの混合物である。アルキル−置換シクロアルキルメシラート又はトシラート（ＡＣＭ又はＡＣＴ） モノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルキルメシラート又はト シラートは、環にそれぞれメシラート（ＣＨ₃ＳＯ₂Ｏ−）又はトシラート（ｐ− ＣＨ₃Ｃ₆Ｈ₅ＳＯ₂Ｏ−）部分が結合したアルキル−置換シクロアルカンである。 それらはアルキル基が２−位にあり、適切にモノアルキル−もしくはポリアルキ ル−置換されたシクロアルカノールをメシルハライド又はトシルハライドと、こ れらの反応物が可溶性である液体反応媒体中で反応させ、モノアルキル−もしく はポリアルキル−置換シクロアルキルメシラート又はトシラートを生成させるこ とにより製造される。メシラート又はトシラートのシクロアルキル基は好ましく は環中に５〜８個の炭素原子を有し、シクロアルキル環のメシラート又はトシラ ート官能基に対してオルト位の１つの上で置換している炭素数が最高１２の直鎖 状もしくは分枝鎖状アルキル基を有する。必要なこのオルト−アルキル置換の他 に、シクロアルキル環は、それらが所望の反応を損なったり又は妨げたりしない という意味で無害な他の置換基を含有することができる。そのような追加の置換 基はメシラート又はトシラート官能基を過度に立体的に妨げないいずれの位置に あることもできるが、そのような置換基は好ましくはメシラート又はトシラート 官能基に対してメタもしくはパラ位にある。そのような無害の置換基の例にはア ルキル基、アルケニル基、ヒドロカルビルオキシ基、ヒドロカルビルチオ基、ヒ ドロカルビルカルボニル基、ヒドロカルビルオキシヒドロカルビル基及び複素芳 香族基、ジヒドロカルビルアミノ基ならびにこれらの ２つ又はそれ以上の組み合わせが含まれる。本発明の実行において典型的に、こ の反応物は分子中に合計で最高２４個の炭素原子、好ましくは最高１８個の炭素 原子を含有するであろう。シクロアルキル環の大きさに関し、最も好ましくは該 環は６−員環である。オルト−アルキル置換基は好ましくは第２級アルキル基で あり、それは好ましくは最高６個の炭素原子を含有する。特に好ましい反応物は メンチルメシラート及びメンチルトシラートである。反応媒体 アルカリ金属ジアリールホスフィド及びモノアルキル−もしくはポリアルキル −置換シクロアルキルメシラート又はトシラートの間の反応のために、これらの 反応物が可溶性であり、用いられている温度条件で液体の状態で存在するいずれ の適切に不活性な液体反応媒体も、本発明の実行において用いるのに適している 。好ましくは反応媒体は１０℃又はそれ未満で液体状態のままでなければならな い。かくして反応媒体は１種又はそれ以上のエーテル類、炭化水素、ケトン類、 第３級アミン類、カルボン酸エステル類及び／又は他の適切に不活性な液体を含 むことができる。適したエーテル類にはモノエーテル類及びポリエーテル類が含 まれ、エーテル類は飽和又は不飽和であることができ、それらは環状又は非環状 であることができるが、いずれの場合も所望の反応と抵触するか又はそれを妨げ る官能基を含んでいてはならない。ポリエーテルの例には１，２−ジメトキシエ タン、ジグライム、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフルフリルエチルエーテ ル、テトラヒドロフルフリルｎ−ブチルエーテル及び類似のポリエーテル類が含 まれる。好ましくはエーテルは１種又はそれ以上の飽和ヒドロカルビルモノエー テル類あるいは分 子中に少なくとも１つの芳香族基を有する１種又はそれ以上のヒドロカルビルモ ノエーテル類である。例にはジアルキルエーテル類、ジシクロアルキルエーテル 類、ジアリールエーテル類、モノアルキルモノアリールエーテル類、モノシクロ アルキルモノアリールエーテル類、モノアルキルモノシクロアルキルエーテル類 及び飽和環状モノエーテル類あるいはこれらのいずれかの混合物が含まれる。特 に好ましいのはテトラヒドロフラン及びアルキル−置換テトラヒドロフランであ る。 リチウムジアリールホスフィドはエーテル類、特にテトラヒドロフランなどの 環状エーテル類及びそのアルキル同族体（ａｌｋｙｌ ｃｏｎｇｅｎｅｒｓ）と 、おそらく開裂反応を介して相互作用する傾向があることに注意しなければなら ない。対照的にナトリウム及びカリウムジアリールホスフィドは、認識し得る程 度にはこの有害な傾向を示さない。かくしてエーテル反応媒体中で、特に、特に 好ましいテトラヒドロフラン及びアルキル−置換テトラヒドロフラン媒体中でア ルカリ金属ジアリールホスフィドを生成させるかあるいはアルカリ金属ジアリー ルホスフィドを反応物として用いる場合、リチウムジアリールホスフイドではな くてナトリウムジアリールホスフィド又はカリウムジアリールホスフィドあるい は２つの混合物を生成させるか又は用いる（場合次第で）ことが重要である。他 方、リチウムジアリールホスフィドを生成させる場合及びそれを用いて反応を行 う場合、炭化水素反応媒体、特にアルキル芳香族炭化水素反応媒体の使用が薦め られる。 炭化水素溶媒を用いる場合、それは脂肪族、環状脂肪族又は芳香族炭化水素あ るいはこれらの型の２つ又はそれ以上の混合物を含み得る。種類として好ましい のは液体芳香族炭化水素であり、それは１つ又はそれ 以上の環を含むことができ、１つより多い環が存在する場合、環は縮合又は非縮 合環であることができる。用いられる条件下で炭化水素が液体状態で存在すれば 、芳香環上に１つ又はそれ以上のアルキル置換基があることができる。適した液 体芳香族炭化水素の例にはベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン又は １，２，３，４−テトラヒドロナフタレンが含まれる。反応媒体はトルエン又は ブチルベンゼンなどの１つの芳香族炭化水素から成ることができるかあるいはそ れはアルキル芳香族炭化水素の混合物、例えばｏ−、ｍ−及びｐ−キシレンの混 合物、ＢＴＸ、トルエンとエチルベンゼンの混合物あるいはｍ−及びｐ−キシレ ンとペンタエチルベンゼンの混合物であることができる。アルキル芳香族炭化水 素溶媒を用いる場合、用いられるアルキル芳香族化合物の少なくとも５０体積パ ーセントが１つ又はそれ以上の液体芳香族炭化水素から成り、残りがあるならそ の実質的に全部が最も好ましくは１種又はそれ以上の環状脂肪族炭化水素（好ま しくは主にか又は全部が環状パラフィン性炭化水素）及び／又は１種又はそれ以 上の脂肪族炭化水素（好ましくは主にか又は全部がパラフィン性炭化水素）であ ることを保証するのが好ましい。少量のアルキル化されていない芳香族炭化水素 、例えばベンゼン、ナフタレン及びビフェニルが媒体中に存在することができる 。毒物学的理由のために、芳香族炭化水素、特にベンゼンを含有するものへの人 間の暴露を最小にすることに理性的な注意が払われなければならないのはもちろ んである。 反応媒体の形成において用いるための他の適した不活性溶媒の例にはアセトン 、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、３− メチルシクロヘキサノン、４−メチルシクロヘキサノ ン、２，５−ジメチルシクロヘキサノン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ ン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ−メチルピロール、ピリジン、２−ピコリン 、３−ピコリン、４−ピコリン、２−エチルピリジン、３−エチルピリジン、２ −エチルピリジン、４−メトキシピリジン、酢酸エチル、酢酸アミル、酢酸ベン ジル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、ヘキサ ン酸メチル、シュウ酸ジエチル、安息香酸エチル及び他の類似の材料が含まれる 。（ａ）２種又はそれ以上のケトン類あるいは（ｂ）２種又はそれ以上の第３級 アミン類あるいは（ｃ）２種又はそれ以上のカルボン酸エステル類あるいは（ｄ ）１種又はそれ以上のケトン類と１種又はそれ以上の第３級アミン類あるいは（ ｅ）１種又はそれ以上のケトン類と１種又はそれ以上のカルボン酸エステル類あ るいは（ｆ）１種又はそれ以上の第３級アミン類と１種又はそれ以上のカルボン 酸エステル類あるいは（ｇ）１種又はそれ以上のケトン類と１種又はそれ以上の 第３級アミン類及び１種又はそれ以上のカルボン酸エステル類の混合物を用いる ことができる。同様に、この節において挙げた型のいずれの個別の溶媒又は溶媒 の混合物も、１種もしくはそれ以上のエーテル又は１種もしくはそれ以上の炭化 水素あるいは１種もしくはそれ以上のエーテル及び１種もしくはそれ以上の炭化 水素の組み合わせと混合することができる。ＭＤＡＰ及びＡＣＭ又はＡＣＴの間の反応のための条件 アルカリ金属ジアリールホスフィド及びモノアルキル−もしくはポリアルキル −置換シクロアルキルメシラート又はトシラートの間の反応のための条件は苛酷 である必要はない。５０°〜１００℃の範囲内の温度が通常十分である。好まし い範囲は６０°〜７０℃である。反応は好ま しくは大気圧において行われるが、これは必須ではない。例えばプロセスにおい て用いるために選択される反応温度より低い沸点を有する溶媒を用いる場合、溶 媒を液体の状態に保つのに十分な過圧下で反応を行わなければならない。同様に 、適した状況下（例えば高沸点反応媒体の使用）で減圧を用いることができる。 割合は重要ではないが、通常それは等モルに比較的近く、例えばアルカリ金属ジ アリールホスフィドの１モル当たりに１〜１．２モルのアルキル−置換シクロア ルキルメシラート又はトシラートである。反応は乾燥不活性雰囲気下で行われな ければならない。２−及び３−段階プロセス−ＡＣＭ又はＡＣＴの製造 上記の通り、本発明のある実施態様の場合、適切にアルキル−置換されたシク ロアルカノールとメタンスルホニルハライド（メシルハライド）又はｐ−トリル スルホニルハライド（トシルハライド）の液相反応によりモノアルキル−もしく はポリアルキル−置換シクロアルキルメシラート（ＡＣＭ）又はトシラート（Ａ ＣＴ）が製造される。この反応が完了したら、次いでＡＣＭ又はＡＣＴをアルカ リ金属ジアリールホスフィド（ＭＤＡＰ）と、好ましくは同じ反応媒体中でか又 は少なくとも同じ種類の別の反応媒体中で、そして最も好ましくは同じ反応容器 中で反応させることができる。この２−段階プロセスの有利な特徴は、この反応 の副生成物が有機の性質であり、かくして所望の第３級ホスフィン最終生成物を 生成させるためのアルカリ金属ジアリールホスフィドとの反応のためにモノアル キル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルキルハライドを製造する場合に生 成する無機廃棄物（例えば二ハロゲン化亜鉛）より容易に廃棄（例えば燃焼によ り）されることである。さらに、第２ 段階からの溶媒を第１段階に再循環させ、それにより原料コストならびに廃棄物 の処理の大きさ及びコストを下げることができる。 この反応で用いられるシクロアルカノールは、ヒドロキシル基に対するオルト −位が炭素数が最高１２の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基で置換されている モノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルカノールである。好まし くはこのアルキル置換基は炭素数が最高６の第２級アルキル基である。必要なこ のオルトーアルキル置換の他に、シクロアルキル環は、それが所望の反応を損な ったり又は妨げたりしないという意味で無害である他の置換基を含有することが できる。無害な置換基に関するさらなる詳細に関し、この反応の生成物であるモ ノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルキルメシラート又はトシラ ート反応物と関連する上記の議論が参照されるべきである。シクロアルカノール 環自身は好ましくは５〜８個の炭素原子、最も好ましくは６個の炭素原子を有す る。適したシクロアルカノールの例には２−イソプロピルシクロペンタノール、 ２−イソプロピルシクロヘキサノール、２−イソプロピルシクロヘプタノール、 ２−イソプロピルシクロオクタノール、２−ｓｅｃ−アミルシクロペンタノール 、２−ｓｅｃ−ブチルシクロ−ヘキサノール、２−エチル−シクロヘプタノール 、２−メチルシクロオクタノール、２−オクチル−３−メチルシクロペンタノー ル、２−デシル−４−ｓｅｃ−ブチルシクロ−ヘキサノール、２−ドデシル−５ −エチルシクロヘプタノール、２，６−ジメチルシクロオクタノール、２，３， ５−トリメチルシクロ−オクタノール及びそれらの同族体が含まれる。メントー ルはメシラート及びトシラートの生成において用いるために特に好ましいシクロ アルカノールである。 用いられるメシルハライド又はトシルハライドは好ましくはクロリドであるが 、ブロミド及びヨーダイドを用いることができる。 モノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルカノール及びメシルハ ライド又はトシルハライドの間の反応が行われる液体反応媒体は、これらの反応 物が可溶性のものである。反応のハロゲン化水素共生成物と錯形成させるために 第３級アミンを用いることができる。 この反応のための反応媒体の形成において用いるために好ましい溶媒は、上記 の型のエーテル類及び炭化水素である。しかしケトン類、第３級アミン類及び／ 又はカルボン酸エステル類あるいは上記のような種々の混合溶媒系を用いること ができる。 モノアルキル−もしくはポリアルキル−置換シクロアルカノール及びメシルハ ライド又はトシルハライドの間の反応のための温度は通常−１０℃〜２０℃の範 囲内、好ましくは０℃〜５℃の範囲内に含まれる。 本発明に従うこの反応の実行における反応物の割合は典型的に、アルキル−置 換シクロアルカノール反応物の１モル当たり１〜１．２モルのメシルハライド又 はトシルハライドである。2 および3段階法−MDAPの形成 本発明の１つの態様では、アルカリ金属ジアリールホスフィド反応物 (MDAP) が、炭化水素および/またはエーテル反応媒質、好ましくはエーテル反応媒質の ような適当な反応媒質中のアルカリ金属を用いて、トリアリールホスフインを開 裂することにより形成される。エーテルおよび炭化水素媒質は、上記のものでよ い。上記の記載から、形成されるMDAPがリチウムジアリールホスフイドならば、 リチウムジアリールホスフィドとかなり相互反応するエーテル反応媒質の使用を 避け、そして代わり に炭化水素媒質、好ましくはアルキル芳香族炭化水素媒質のような他の幾つかの 適当な媒質を使用することが重要であると想起されるだろう。 アルカリ金属とトリアリールホスフィンとの間の反応が完了すると、次に反応 物MDAPを、モノアルキル−またはポリアルキル−置換されたシクロアルキルメシ ラート(ACM)またはトシラート(ACT)と、好ましくは同じ反応媒質中で、そして最 も好ましくは同じ反応容器中で反応させる。この2段階法は、本発明の別の態様 を構成する。さらに上記に指摘したように、ACMまたはACT自体は、上記のように モノアルキル−またはポリアルキル−置換されたシクロアルカノールとメシルハ リドまたはトシルハリドとの間の反応により形成され得る。したがって別の好適 な態様様では、すべての3つの反応(アルカリ金属ホスフィドの製造、シクロアル キルメシラートまたはトシラートの製造およびアルカリ金属ホスフィドとシクロ アルキルメシラートまたはトシラートとの反応)を、同じ種類の反応媒質(好まし くはテトラヒドロフランまたはアルキル−置換されたテトラヒドロフラン、この 場合アルカリ金属はナトリウムおよび／またはカリウムである)中で行い、これ により分離手順を最小にするか、または少なくとも簡単にし、そして純度が増し た最終生成物を提供できる。溶媒の再使用は、本発明のこれら2段階および3段階 法で利用できる。 アルカリ金属との反応に出発材科として使用するトリアリールホスフインは、 同じまたは異なり、そして少なくともその2つが上記R¹およびR²に対応するアリ ール基を有することができる。すなわち本発明の実施において使用する第3級ホ スフイン反応物の3つのアリール基は、典型的には最高24個の炭素原子をそれぞ れ含む。さらに詳細には、上記R¹およびR²の記載を参照にすべきである。 アルカリ金属は好ましくは、リボン形または小片または不活性液体中の分散物 のような細かく分割された状態のような、適切な高い表面物理形態である。 この開裂反応を行うにあたり、温度は20℃〜80℃の範囲、そして好ましくは40 ℃〜60℃の範囲に維持される。反応を減圧または加圧で行っても特別な利点(ま たは害)はないので、反応は大気圧で行う。トリアリールホスフィンに対するア ルカリ金属の割合は、好ましくは1グラムモルのトリアリールホスフインあたり2 〜4グラム原子のアルカリ金属の範囲に維持される。 以下の実施例は説明のために与えられ、そして限定するものではない。 実施例ナトリウムジフエニルホスフイドの製造 乾燥テトラヒドロフラン(THF)(200mL)中のトリフエニルホスフイン(25グラム、0 .095モル)溶液を、新たに切ったナトリウム(8.77グラム、0.３81グラム原子)を 用いて、窒素雰囲気下で15時間還流する。ナトリウムジフエニルホスフイド(NaD PP)が赤い溶液として生成する。このように行った反応で、NaDPPへの転換は95% より高かった。メントールメシラートの製造 メタンスルホニルクロライド(11.97グラム、0.104モル)を、メントール(14.82 グラム、0.095モル)およびトリエチルアミン(11.53グラム、0.14モル)の冷溶液( 20mLの乾燥THF中)に滴下する。反応は高度に発熱性なので、反応容器を水浴中に 維持して内部温度を0〜5℃に維持する。反応は試薬を加えた後15分内に完了し、 そしてベージュ色の沈殿が生成する。この混合物に、50mLの氷冷水を加えて反応 を止める。有機層を分離し、 20mLの氷冷塩水で洗浄し、無水Na₂SO₄で乾燥し、そして濾過する。濾液をさらに 精製せずに続く反応に使用できる。このように行った反応で、メンチルメシラー トの収量は95%より高かった。ネオメンチルジフエニルホスフイン(NMDPP)の製造 ＴＨＦ中のNaDPP溶液を、火炎乾燥フラスコ中に入れる。これに22.23グラム(0 .095モル)のメンチルメシラートを加え、そして混合物を65℃に加熱する。この 温度で3時間後、反応物を室温に冷却し、そして水で反応を止める。有機層を分 離し、そして希釈して溶媒を除去する。次に粗生成物を、還流中の無水メタノー ルに溶解し、そして冷却してネオメンチルジフェニルホスフィン(NMDPP)を白色 結晶として得る。このように至適化せずに行った実験で、NMDPPの収率は80%であ った。 説明を目的とし、そして検討し易くするために本明細書では1つ以上の製法を 使用する。これに関して、アルカリ金属ジアリールホスフイドに関して与えた製 法はイオン形で表したが、この方法を行うためにいつでもアルカリ金属ジアリー ルホスフイドのイオン化が必要である解釈されるべきではないと理解され、そし て考えられる。むしろアルカリ金属ジアリールホスフイド、そして実際には他の 具体的な反応物が、どのような化学形でも、それらは溶媒または反応媒体中に一 緒に存在し、特定の反応のための具体的な条件下で想定され、または得られるこ とを意図している。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．２つのアリール基および１つのアルキル−置換されたシクロアルキル基を有 する第三級ホスフィンの製造法であって、アルカリ金属ジアリールホスホィドを 、アルキル基が２−位にあるモノアルキル−もしくはポリアルキル−置換された シクロアルキルメシラートまたはトシラートと、これらの反応物が可溶な液体反 応媒質中で該ホスフィンが生成するように反応させることを含んで成る方法。 ２．反応媒質は、少なくともその大部分がエーテルである反応媒質であり、ここ で該エーテルは少なくとも１つの飽和ヒドロカルビルモノエーテルであるか、ま たは少なくとも１つの分子中に芳香族基を有する少なくとも１つのヒドロカルビ ルモノエーテルであり、そして上記アルカリ金属ジアリールホスフィドのアルカ リ金属がナトリウムもしくはカリウムまたはナトリウムおよびカリウムの組み合 わせである、請求の範囲第１項に記載の方法。 ３．上記エーテルがジアルキルエーテル、ジアリールエーテル、モノアルキルモ ノアリールエーテルまたは飽和環式モノエーテルである、請求の範囲第２項に記 載の方法。 ４．上記エーテルが、(i)テトラヒドロフランもしくは(ii)少なくとも１つのア ルキル−置換されたテトラヒドロフラン、または(i)および(ii)の混合物である 、請求の範囲第１項に記載の方法。 ５．上記シクロアルキルメシラートまたはトシラートが、少なくとも１つのさら なるアルキル基をシクロアルキル環上に有する、請求の範囲第１項に記載の方法 。 ６．上記シクロアルキルメシラートまたはトシラートが、６−員環およ び１つのさらなるアルキル基を環上の５−位に有する、請求の範囲第１項に記載 の方法。 ７．上記ジアリールホスフイドを、アルキル基が２−位にあるモノアルキル−ま たはポリアルキル−置換されたシクロアルキルメシラートと反応させる、請求の 範囲第１項に記載の方法。 ８．上記メシラートがメンチルメシラートである、請求の範囲第７項に記載の方 法。 ９．ホスフィドのアリール基が同じアリール基である、請求の範囲第７項に記載 の方法。 １０．ホスフィドのアリール基が両方ともフエニル基である、請求の範囲第７項 に記載の方法。 １１．上記ジァリールホスフィドを、アルキル基が２−位にあるモノアルキル− またはポリアルキル−置換されたシクロアルキルトシラートと反応させる、請求 の範囲第１項に記載の方法。 １２．上記トシラートがメンチルトシラートである、請求の範囲第１１項に記載 の方法。 １３．ホスフイドのアリール基が同じアリール基である、請求の範囲第１１項に 記載の方法。 １４．ホスフイドのアリール基が両方ともフェニル基である、請求の範囲第１１ 項に記載の方法。 １５．アルカリ金属ジアリールホスフイドは、フェニル基が非置換であるか、ま たは各々が最高４個の炭素原子を有する最高３個のアルキル置換基を有するナト リウムまたはカリウムジフエニルホスフイドである、請求の範囲第１項に記載の 方法。 １６．反応媒質は少なくとも大部分が飽和環式モノエーテルから成り、上記シク ロアルキルメシラートまたはトシラートは、２−位の上記アルキル基が最高６個 の炭素原子を有する第二アルキル基であり、そしてもう１つのアルキル基が３− 、４−または５−位であるジアルキルシクロヘキシルメシラートまたはトシラー トである、請求の範囲第１５項に記載の方法。 １７．エーテルが、(i)テトラヒドロフランもしくは(ii)少なくとも１つのアル キル−置換されたテトラヒドロフラン、または(i)および(ii)の混合物である、 請求の範囲第１６項に記載の方法。 １８．ジアリールホスフイドをメンチルメシラートと反応させる、請求の範囲第 １７項に記載の方法。 １９．アルカリ金属ジアリールホスフイドが、ナトリウムジフェニルホスフイド またはカリウムジフエニルホスフィド、またはそれらの混合物であり、そしてエ ーテルがテトラヒドロフランである、請求の範囲第１８項に記載の方法。 ２０．２つのアリール基および１つのモノアルキル−またはポリアルキル−置換 されたシクロアルキル基を有する第三級ホスフィンの製造法であって、 a)アルキル基が２−位のモノアルキル−またはポリアルキル−置換されたシクロ アルカノールを、メシルハリドまたはトシルハリドとこれらの反応物が可溶性の 液体反応媒質中で反応させて、モノアルキル−またはポリアルキル−置換された シクロアルキルメシラートまたはトシラートを形成し、そして b)該メシラートまたはトシラートの少なくとも一部をアルカリ金属ジア リールホスフイドと、これらの反応物が可溶性である液体反応媒質中で該ホスフ インが生成するように反応させる、 工程を含んで成る上記方法。 ２１．b)の反応が、a)で使用した液体反応媒質の少なくとも主要な量の中で行わ れる、請求の範囲第２０項に記載の方法。 ２２．a)およびb)の液体反応媒質が、主にエーテル反応媒質であり、そして該ア ルカリ金属ジアリールホスフイドのアルカリ金属が、ナトリウムもしくはカリウ ム、またはナトリウムおよびカリウムの組み含わせである、請求の範囲第２０項 に記載の方法。 ２３．上記シクロアルカノールがメントールであり、そして上記エーテル反応媒 質が、(i)テトラヒドロフランもしくは(ii)少なくとも１つのアルキル−置換さ れたテトラヒドロフラン、あるいは(i)および(ii)の混合物から本質的に成る、 請求の範囲第２２項に記載の方法。 ２４．２つのアリール基および１つのモノアルキル−またはポリアルキル−置換 されたシクロアルキル基を有するジアリールシクロアルキル第三級ホスフインの 製造法であって、 a)アルカリ金属をトリアリールホスフィンと、トリアリールホスフィンが可溶性 の液体反応媒質中で反応させて、アルカリ金属ジアリールホスフイドを形成し、 b)アルキル基が2−位であるモノアルキル−またはポリアルキル−置換されたシ クロアルカノールを、メシルハリドまたはトシルハリドと、これらの反応物が可 溶性の液体反応媒質中で反応させて、モノアルキル−またはポリアルキル−置換 されたシクロアルキルメシラートまたはトシラートを形成し、そして C)該メシラートまたはトシラートの少なくとも一部をアルカリ金属ジアリールホ スフイドの一部と、これらの反応物が可溶性である液体反応媒質中で該ジアリー ルシクロアルキルホスフインが生成するように反応させる、 工程を含んで成る上記方法。 ２５．c)で使用した液体反応媒質を、a)またはb)、あるいはa)およびb)の両方で 再使用する、請求の範囲第２４項に記載の方法。 ２６．a)、b)およびｃ)の液体反応媒質は、少なくとも大部分がエーテル反応媒 質であり、そして上記アルカリ金属ジアリールホスフイドのアルカリ金属がナト リウムまたはカリウムあるいはナトリウムおよびカリウムの組み合わせである、 請求の範囲第２４項に記載の方法。 ２７．a)、b)およびc)の液体反応媒質は、少なくとも大部分がエーテル反応媒質 であり、該反応媒質の各々が実質的に同じ種類のエーテル、または他の２つの該 反応媒質のそれぞれのエーテルの混合物から成り、そして上記アルカリ金属ジア リールホスフィドのアルカリ金属がナトリウムもしくはカリウムまたはナトリウ ムおよびカリウムの組み合わせである、請求の範囲第２４項に記載の方法。 ２８．アルカリ金属がナトリウムまたはカリウムであり、トリアリールホスフイ ンがトリフエニルホスフインであり、シクロアルカノールがポリアルキル−置換 されたシクロヘキサノールであり、メシルハリドまたはトシルハリドが、それぞ れメシルクロライドまたはトシルクロライドであり、そしてa)、b)およびc)の液 体反応媒質は、少なくとも大部分がエーテル反応媒質である、請求の範囲第２４ 項に記載の方法。 ２９．ポリアルキル−置換されたシクロヘキサノールがメントールであ る、請求の範囲第２８項に記載の方法。 ３０．メントールをメシルクロライドと、(i)テトラヒドロフランもしくは(ii) アルキル−置換されたテトラヒドロフラン、または(i)および(ii)の混合物中で 反応させる、請求の範囲第２９項に記載の方法。 ３１．２つのアリール基および1つのモノアルキル−またはポリアルキル−置換 されたシクロアルキル基を有するジアリールシクロアルキル第三級ホスフインの 製造法であって、 a)アルカリ金属をトリアリールホスフィンと、トリアリールホスフィンが可溶性 の液体反応媒質中で反応させて、アルカリ金属ジアリールホスフイドを形成し、 そして b)該アルカリ金属ジアリールホスフィドの少なくとも一部を、アルキル基がシク ロアルキル基の２−位にあるモノアルキル−またはポリアルキル−置換されたシ クロアルキルメシラートまたはトシラートと、これらの反応物が可溶性の液体反 応媒質中で、該ジアリールシクロアルキルホスフィンが形成するように反応させ る、 工程を含んで成る上記方法。 ３２．b)の反応が、a)で使用した液体反応媒質の少なくとも主要な量の中で行わ れる、請求の範囲第３１項に記載の方法。 ３３．a)およびb)の液体反応媒質がエーテル反応媒質であり、そして上記アルカ リ金属ジアリールホスフイドのアルカリ金属がナトリウムもしくはカリウムまた はナトリウムおよびガリウムの組み合わせである、請求の範囲第３１項に記載の 方法。 ３４．上記のエーテル反応媒質が、(i)テトラヒドロフランもしくは(ii)少なく とも１つのアルキル−置換されたテトラヒドロフランまたは(i) および(ii)の混合物から本質的に成る、請求の繭囲第３３項に記載の方法。 ３５．トリアリールホスフィンがトリフエニルホスフィンであり、そしてメシラ ートまたはトシラートがメンチルメシラートまたはメンチルトシラートである、 請求の範囲第３４項に記載の方法。