JP2000505415A - 耐熱性の透過性被覆ガラス製品 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 耐熱性の透過性ガラス製品は、薄いシリコン保護フィルムの間にサンドイッチされた金属製の赤外線反射金属フィルムを有する内側サンドイッチ構造体とともに形成され、このサンドイッチ構造体は、ガラス基板上に蒸着される透過性の誘電体フィルムとこの多層フィルムとの間に挟まれて１つのガラス基板として形成される。１つまたは両方の透過性誘電性フィルムは、また、シリコンを含有することもできる。

Description

【発明の詳細な説明】 耐熱性の透過性被覆ガラス製品 （技術分野） 本発明は、ガラス基板の透過性被覆に関するものであり、特にガラスの調質や 曲げの最中に遭遇するような高温度に耐えることができる被膜を有するガラス基 板に関する。 （背景技術） ガラスシートは、被覆されたシートの光学的特性を変えるために、透過性で、 金属を含有する多くのフィルムで被覆される。特に好ましくは、可視光を容易に 透過し、他の光線、特に赤外線波長域の透過を最小にする能力を特徴とする。 これらの特性は、可視特性を損なうことなく、熱放射移動を最小にするために 有用で、またこのタイプのガラスは、建築用ガラス、自動車用フロントガラス等 に有効である。 通常、高透過性で低熱放射性を有する被覆は、金属酸化物フィルムのような、 非反射誘電フィルム間に設けられる、高赤外線反射率の１あるいはそれ以上の薄 い金属フィルムからなる多層フィルムからなる。この金属フィルムは、銀でもよ く、金属酸化物フィルムは、種々の金属の酸化物及び亜鉛、スズ、チタニウム等 を含む金属合金でよい。通常、ここに記載されるフィルムのタイプは、周知のマ グネトロン蒸着技術によって商業生産ベースでのガラス基板に蒸着される。 自動車用フロントガラスのような所望の形状にガラスが曲げられるように、あ るいはガラスを調質するために、ガラスシートを融点あるいその近くの温度まで 加熱することがしばしば必要である。被覆されたガラス製品は、しばしば数時間 の間、高温に耐えねばならない。知られているように、調質は、自動車用フロン トガラスとしての使用を意図するガラスに特に重要である；破壊に際して、フロ ントガラスは、大きく、危険な鋭い破片よりむしろ、望ましくは、非常に多くの 小さな破片に粉砕される破片模様を呈する。摂氏６００度のようなそしてそれ以 上の温度が要求される。赤外線反射フィルムのような銀を用いる多層フィルムは 、銀フィルムの劣化なしにそのような温度にしばしば耐えることができない。 この問題を避けるために、ガラスシートは、被覆される前に加熱され、曲げら れ、あるいは調質され、その後、所望の金属や金属酸化物被覆が加えられる。特 に、曲線ガラス製品のために、この工程は通常、一様でない被覆を生じ、コスト も高い。 高温での損傷から光線反射金属フィルムを保護するための他の報告は、チタニ ウムのような金属酸化物の保護フィルム間に銀フィルムをはさみ込むことであり 、この保護フィルムは、被覆されたガラスが高温に加熱されるとき、保護金属フ ィルムが酸化するような、十分な厚さである。通常、金属酸化物が金属それ自体 より透過性である限りは、そのような被覆を保持するガラスシートの透過率は、 熱を増加する傾向にある。参考文献として、フッファ(Huffer)他の米国特許第４ ７９０９２２号及びフィンリー(Finley)の米国特許第４８０６２２０号がある。 米国特許第５３４４７１８号［ハーティグ(Hartig)他］は、銀がニッケルある いはニクロム間にはさみ込まれる多層フィルムの使用を記述しており、はさみ込 まれたものは、Ｓｉ₃Ｎ₄のフィルム間にはさみ込まれ、そのガラス製品は特殊な 透過率と熱放射率を有する。Ｎｉ：Ｃｒ（５０：５０）合金が使用されるとき、 蒸着中のＣｒは部分的にＣｒの窒化物に変換され、可視光線の透過率が増加する 。しかし、可視光線を透過するためのニッケル、クロミウム(chromium)及びクロ ミウム窒化物の能力は、顕著ではないが、結果として、ニクロム(nichrome)のフ ィルムを含むガラス製品の透過率は、所望のものよりやや少ない。 （発明の開示） 発明の第１の実施形態は、ガラス上に多層フィルムを作ることによって製造さ れる所望の高耐熱性ガラス製品に関するものであり、この多層フィルムには、銀 等の赤外線反射フィルムが、金属またはシリコン半導体からなる薄い保護フィル ム間にはさみ込まれ、そのような構造は、シリコン窒化物等の窒化物からなるフ ィルムの間にサンドイッチされ、その結果、保護フィルムの一方あるいは両方は 、窒化物フィルムの一方あるいは双方に含まれる元素を含んでいる。 保護フィルムと窒化物フィルムが共通して備えている好ましい元素は、シリコ ンである。本発明の多層フィルムを含むガラス製品が摂氏６００度あるいはそれ 以上の高温、例えば摂氏７００度〜７５０度に加熱されるとき、ガラス製品の可 視光線に対する透過率は、わずかに増加する。 保護フィルムの厚さは、赤外線反射層の接着性が加熱処理によって過度に減少 しないように選択される。以下の説明に拘束されることなく、薄い保護フィルム に隣接する窒化物フィルム、特に外側の窒化物フィルムからの窒素は、高い調質 温度まで上げられたとき、窒素を遊離させ、そのように解放された窒素は、保護 フィルムと窒化物を形成するために結合するようにみえる。また、外側の保護フ ィルムからいくらかの酸化物が発生する。この点で、保護フィルムは、赤外線反 射金属フィルムが窒化あるいは酸化されることから保護することに役立つ。 シリコンが保護フィルムのために使用されるとき、保護フィルムは少なくとも 部分的にシリコン窒化物に変換されるようにみえる。シリコン窒化物はシリコン 元素より透過性があり、結果として、ガラス製品全体の透過率は、もし事実とし て透過率が高温にさらされることによってまったく変わるのであれば、改善され る。 さらに、窒化物フィルム及び保護フィルムの双方の元素成分（例えば、シリコ ン）が同じであれば、保護フィルムと窒化物フィルム間の激しいインターフェー スは、より避けられそうであり、保護フィルムからの窒化物の分離による失敗の 見込みを減少させ、多層の一様性を増加させる。しかし、もし保護フィルムがシ リコンを含み、シリコン含有フィルムが非常に薄いのであれば、その時は、多層 フィルムの耐久性はしばしば減少する。シリコン含有層、特に、反射層上の保護 フィルムは、多層フィルムが良好な耐久性を維持しつつ高温処理に耐えることが できるような厚さで蒸着される。この現象は、赤外線反射層の両側にある反応し ないシリコン金属の保持力によると思われる。 他の実施例において、窒化物フィルムは、酸化物フィルムに置き換えられる。 例えば、そのようなフィルムは、金属またはシリコン等の半導体の薄い保護層の 間に、または、金属酸化物の層またはシリコン酸化物（例ＳｉＯ₂）等の半導体 層の間に、あるいは、あまり好ましくはないがチタニウム酸化物（Ｔｉｏ_x）の ような酸化物］の間に挟まれた挟まれた銀からなる。 多層フィルムのこれらのタイプは、限界的に適切な多層フィルムを製造できる とはいえ、上記実施形態では、酸化物よりも窒化物を用いる方が好ましい。 （図面の簡単な説明） 第１図は、本発明のフィルム積層体の断面を示す概略図であり、第２図は、図 １のフィルム積層体の変形例を示す断面概略図である。 （発明を実施するための最良の形態） 図１に示された多層フィルムを参照すると、ガラスシートは、１２で示されて いる。ガラスシートの表面１４の上には、順次、窒化物フィルム(nitride film) １６、薄い保護フィルム１８、赤外線反射金属フィルム２０、薄い保護フィルム ２２、及び窒化物フィルム２４が蒸着されている。図面に示された種々のフィル ム及び複数のフィルムの厚さは、その寸法通りではないことが理解されるであろ う。 本発明の多層フィルムの各フィルムは、通常の手段によりガラス基板１２の上 に蒸着される。好ましい蒸着方法は、チャピン(Chapin)の米国特許第４，１６６ ，０１８号に記載されている、直流マグネトロンによるスパッタリングを含み、 その技術は、本明細書に参考として含まれる。マグネトロンによるスパッタリン グ蒸着(sputter deposition)は、ガラス基板を一連の低圧ゾーンを通過させて移 送し、その中で、多層フィルムに作り上げる種々のフィルムが順次積み重ねられ る。 金属フィルムは、メタル源またはターゲットから飛散される。１つの金属フィ ルムは、アルゴン等の不活性ガス雰囲気内の金属ターゲットからのスパッタリン グにより形成され、一方、シリコン窒化物等の窒化物フィルムは、反応性雰囲気 内のシリコンターゲットを利用して、スパッタリングされる。このように蒸着さ れるフィルムの厚さは、コーティング室を通過するガラス基板の搬送速度を変え ることおよびその出力とスパッタリング率を変えることによって制御される。 薄い保護フィルムと窒化物フィルムをガラス基板上に蒸着させる別の方法は、 プラズマによる化学蒸着法を必要とする。この参考文献として、ジョンコック(J ohncock)等の米国特許第４，６１９，７２９号、及びハジェンス(Hudgens)等の 米国特許第４，７３７，３７９号において知られた方法がある。 プラズマによる化学蒸着法は、プラズマを介してガス源の分解を必要とし、そ して、ガラス基板等の固体表面上にフィルムを形成する。フィルムの厚さは、ガ ラス基板がプラズマゾーンを通過するときの基板の搬送速度を変えることにより 、また、出力及びガス流の速度を変えることにより調整される。 赤外線反射金属フィルムとして、銀から作られたフィルムが好ましい。銀の厚 さは、８０Å〜１７０Åの範囲とするのが適当であることが見い出されたが、約 １０５Å〜１２０Åの範囲の厚さが好ましい。銀の層の厚さは、表面の導電率及 び色に対する要求に従って選択される。 窒素及び酸素は、ガラスの調質(tempering)温度において、銀製フィルムと接 触して反応するのを防止しなければならない。また、薄い保護フィルムも窒素と 酸素と化学的に反応して、これらを取り込んで窒化物や酸化物を形成することか ら、高い温度で、銀製の反射フィルムとの反応を防止しなければならない。 シリコンは、高温において、窒素及び酸素と容易に反応して、窒化物及び酸化 物を形成する。このシリコンの窒化物や酸化物は、可視光線を大いに透過させる 。それゆえ、シリコンは、銀製フィルムのいずれか一方側に蒸着する薄い保護フ ィルム内に使用することが好ましい。シリコンの合金もまた考慮できる。 シリコンを含有する薄い保護フィルム１８，２２は、高温度での退化から銀製 フィルムを保護するのに十分な厚さが必要であるが、調質後の可視光線の透過率 を不正に減少させたり、あるいは発散率を減少させるほど大きくない厚さに蒸着 される。 本発明の多層フィルムを有するガラス基板が、高い温度に上昇させられると、 多層フィルムの可視光線の透過率は、わずかに上昇する。透過率における変化が 生じる程度でわずかに上昇する。透過率のわずかな増加は、少なくとも部分的な 窒化または酸化によりもたらされるか、あるいは、銀製フィルムをサンドイッチ する薄い保護フィルムとの両方によるものと考えられる。 保護フィルムに対する８Å程度の厚さは、許容可能な結果を与える。３Å〜１ ５Åの範囲にある厚さが使用可能であり、６Å〜１０Åの範囲の厚さが、好まし く、さらに、７Å〜９Åの範囲の厚さが最も好ましい。 銀製フィルムの下にある（即ち、銀製フィルムとガラス基板との間にある）シ リコン層の保護フィルムは、その厚さが６Å〜８Åの範囲であることが好ましく 、また、銀製フィルム上のシリコン保護フィルムは、その厚さが８Å〜１０Å の範囲であることが好ましい。これらのシリコン層は、１０Åよりも厚くなると 、透過性が減少し、さらに、調質後の発散率が、好ましくないあるいは受け入れ 不能なレベルに増加する。 窒化物フィルム１６，２４は、いずれの側にあっても「内側サンドイッチ」（ 薄い保護フィルムの間に銀製フィルムを挟むことにより形成された）と呼ぶこと ができ、好ましくは、シリコン窒化物である。このシリコン窒化物は、可視光線 の透過率が高くなるという利点があり、また、多層フィルムとして、化学的及び 物理的に耐久性を与える利点がある。 この窒化物フィルムは、反射防止フィルムとして役立つ。シリコン窒化物フィ ルム２４は、「内側サンドイッチ」の上に蒸着され、最終製品として望まれる色 に基づく厚さとして、好ましくは３５０Åから約６００Åの範囲にあることが望 ましい。シリコン窒化物フィルム１６は、ガラス基板と内側サンドイッチとの間 に位置し、厚さが、所望の色に基づいて、２５０Åから約５００Åの範囲とする ことができる。 本発明の多層フィルムは、上記したように、マグネトロンのスパッタリング装 置を利用して、窒化物フィルムを形成するために、第１の低圧室内に窒素を含有 する反応性雰囲気内のターゲットからシリコン等の窒素反応物質をガラス基板上 にスパッタリングし、そして、非反応性の（例えば、アルゴン）雰囲気を含む１ つまたはそれ以上の低圧室にガラス基板を搬送して、薄い保護フィルムを蒸着し 、続いて銀製フィルムや他の赤外線反射金属フィルム、さらに、第２保護フィル ムを蒸着する。こうして、第１の窒化物フィルムの上に「内側サンドイッチ」を 形成することができる。 ガラス基板は、反応性窒素雰囲気を含む別の低圧室内に搬送され、そして、内 側サンドイッチ構造体上の窒化物フィルムを蒸着させるターゲットからスパッタ リング処理される。 薄い保護フィルムはシリコンで作られ、また内側サンドイッチのいずれかの側 に形成される窒化物フィルムは、シリコン窒化物で作られる場合、加熱処理する 前に被覆されたガラス製品は、一般的に可視光線（光源Ｃ）が約７８％〜８１％ 透過する透過率を有する。被覆されたガラス基板が７００℃の温度に熱処理さ れ、続いて空冷された場合、可視光線の透過率は、約８０％〜８５％、即ち、約 ２％〜５％の増加となって、わずかに増加することがわかる。 調質後、ガラス製品を撓ませ、あるいは、高温度での曲げに関して、反射フィ ルムとなる金属膜と、保護フィルム及び誘電体フィルムの合成物が選択され、フ ィルムの厚さも制御されので、光源Ｃでの可視光線の透過率が約８０％以上を示 し、好ましくは、８５％となり、高温の熱処理により、可視光線に対する透過率 がわずかに増加する。 以下の説明により制限されることなく、シリコン窒化物等の窒化物フィルムが マグネトロンのスパッタリングまたは化学的蒸着法あるいは同等の方法により、 形成されるとき、生じたシリコン窒化物は、フィルムに蒸着される際に、窒化ガ スの吸着作用または吸収作用あるいはその両方をもたらす無定形構造を有する。 多層フィルムがガラスの調質温度に加熱されると、窒化物フィルムからの窒素 ガスがこれらのフィルムから逃げ出し、さらに、このような高温度において、銀 製の赤外線反射フィルムと非常に反応しやすくなる。これは、反応性窒素ガスが 、窒化物フィルムから大量に放射され、銀の層をサンドイッチした薄い保護フィ ルムによって捕捉されるからであると考えられる。 一般的に調質は、空気内に酸化雰囲気を生じさせるので、ある程度の反応性酸 素ガスが最も外側の窒化物層を貫き、反応性窒素ガスと共に、酸素ガスは、保護 フィルムの上にある酸素ガスが捕捉されてその要素と酸化物を形成する。 他の更なるフィルムが、本発明の多層フィルムに使用することができる。特に 、１つまたはそれ以上のフィルムがガラス基板の表面と第１の窒化物フィルムと の間に下塗り層として、また、他の窒化物フィルムの上に使用することができる 。 好ましくは、「内側サンドイッチ」構造体は、２つの薄い保護フィルムの間に 銀製フィルムを挟んだものからからなり、この銀とシリコンのフィルムは、隣接 、即ち、接触しており、ガラス基板に近接するシリコンフィルムは、他のシリコ ンフィルムよりもより厚くなっている。 好ましい実施形態では、「内側サンドイッチ」構造体をその間に受け入れる金 属窒化物フィルムが、それぞれ薄い保護フィルムに接触しており、その結果、多 層フィルムは、順次、次のフィルムが隣接するフィルムに互いに接触して、シリ コン窒化物−シリコン銀製−シリコン−シリコン窒化物の形となっている。この 最も好ましい実施形態において、本発明の多層フィルムは、以下のものを含む。 (1)シリコン窒化物の第１フィルムは、その厚さが２５０Å〜４５０Åの範囲で ある。 (2)第２のシリコンフィルムは、第１フィルムの上に蒸着され、その厚さが５Å 〜７Åの範囲である。 (3)第３の銀製フィルムは、第２のシリコンフィルムの上に蒸着され、その厚さ が１０５Å〜１２０Åの範囲である。 (4)第４の保護シリコンフィルムは、その厚さが８Å〜１０Åの範囲である。 (5)第５のシリコン窒化物フィルムは、その厚さが３５０Å〜６００Åの範囲で ある。 必要ならば、第２フィルムないし第４フィルムは繰り返され、所望の透過率と 発散率を得るための厚さのフィルムに適当に調整される。この実施形態では、図 ２に示すように、第６のシリコンフィルム２６、第７の銀製フィルム２８、第８ のシリコンフィルム２８、および第９のシリコン窒化物フィルム３０が付加され ている。 実施例 市販の直流マグネトロンのスパッタリング被膜形成装置(Airco)を用いて、厚 さが３ｍｍの洗浄したガラスシートが一連のスパッタリング被覆の低圧室を通過 すると、ガラス表面上に連続した層のフィルムを蒸着する。フィルムの厚さは、 スパッタリング率によって決定される。アルゴンと窒素からなる低圧の雰囲気を 含む１つの被覆室では、シリコンが飛散してガラス表面上に直接厚さが３２０Å の第１フィルムを形成する。このシリコン窒化物フィルムの上には、直接、薄い （６Å）第２のシリコンフィルムがシリコンターゲットにより蒸着され、続いて 厚さが１１０Åの第３の銀製フィルムが、銀メタルターゲットにより蒸着され、 さらに、薄い（８Å）第４のシリコンフィルムが、シリコンターゲットにより蒸 着される。これらのシリコンおよび銀のフィルムは、低圧のアルゴン雰囲気内で 蒸着される。 第４のシリコンフィルムの上に直接、第１のフィルムに関して上述したように 、シリコン窒化物でなりかつ厚さが４９０Åの第５のフィルムが蒸着される。こ うしてできたガラス製品は、熱処理炉で７３０℃に加熱され、直ちに空冷される 。標準加熱と焼き戻しのサイクルは２分３０秒〜３分である。 調質前に測定された透過率は、７８％であり、調質後は、８２％であった。電 気的な表面抵抗は、ほぼ発散率に比例して変化するが、４つのプローブ抵抗計（ 時々、４ポイント測定と呼ばれる。）を用いて測定された。抵抗率は、単位面積 あたり約６．５〜約１０オームの範囲が望ましい。調質前と調質後の表面抵抗は 、単位面積あたり１１〜１２オームが８〜９オームの範囲の値に減少することが 示された。これは発散率の滅少を意味する。 単一の銀製フィルムまたは他の赤外線反射フィルムを有する本発明の多層フィ ルムでは、４ポイントの抵抗は、単位面積当たり１０オームを越えないことが望 ましい。２つの銀製フィルムまたは他の赤外線反射フィルムを有する本発明の多 層フィルムでは、４ポイントの抵抗は、単位面積当たり５オームを越えないこと が望ましく、２．５〜５オームの範囲であることが好ましい。 上述したように、シリコン含有の薄い保護フィルムの厚さの制御には注意を払 う必要があり、銀製フィルム層の上に蒸着するフィルムについては、特に注意し なければならない。 １つの実験において、保護フィルム層のいずれかが、特に薄い場合、多層フィ ルムの耐久性に害を及ぼすことが判明しており、銀製フィルムと保護フィルムの 間、あるいは銀製フィルムが挟まれた一方または両方の保護フィルムとの間の接 着の失敗により耐久性が落ちると考えられる。この実験において、上述した値で の最も好ましい銀製及びシリコン窒化物の厚さ、さらに、シリコンフィルムの厚 さは、市販の直流マグネトロンのスパッタリング被膜形成装置(Airco)の８４イ ンチ幅を用いて、スパッタリング出力が１ｋＷと２．８ｋＷの間で変わり、かつ ガラスの搬送速度が１分間につき３７５インチ移動する速度とした場合において に変化した。 耐水性は、湿った綿の手袋で擦った場合にコーティングが耐えられる程度を示 す。 本発明の好ましい実施形態について述べてきたが、種々の変更、適合、及び修 正は、本発明の技術的思想および請求の範囲から逸脱しない範囲で可能であるこ とは理解できるであろう。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，Ｓ Ｚ，ＵＧ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ， ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，Ｇ Ｅ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ， ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，Ｐ Ｌ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ， ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ガラス基板と、透過性の多層フィルムとを含み、この多層フィルムは、前記 ガラス基板上に被膜されかつ前記ガラス基板の外側から、透過性の赤外線反射 射金属フィルム、このフィルム上に置かれたシリコンフィルム、及び透過性の 誘電体フィルムを有し、前記シリコンフィルムの厚さにより、高熱処理の間、 このフィルムから酸素及び窒素の一方または両方を取り除いて前記赤外線反射 フィルムに反応しないシリコンを維持できるようにしたことを特徴とする透過 性の耐熱ガラス製品。 ２．前記透過性の誘電体フィルムは、シリコン窒化物からなることを特徴とする 請求の範囲第１項に記載の透過性ガラス製品。 ３．前記透過性の赤外線反射金属フィルムは、銀製であることを特徴とする請求 の範囲第１項に記載の透過性ガラス製品。 ４．赤外線反射フィルムとガラス基板との間に配置され、かつ前記赤外線反射フ ィルムに隣接しているシリコンフィルムを含んでいることを特徴とする請求の 範囲第１項に記載の透過性ガラス製品。 ５．ガラス基板と、このガラス基板上に被膜された透過性多層フィルムとを含み 、この多層フィルムは、前記ガラス基板の外側から、順次、透過性のシリコン 窒化物フィルム、シリコンフィルム、銀を含有する透過性の赤外線反射金属フ ィルム、シリコンフィルム、および透過性のシリコン窒化物フィルムからなる ことを特徴とする透過性の耐熱ガラス製品。 ６．前記銀を含有する層は、シリコンフィルムの間に挟まれ、前記銀を含有する フィルム上のシリコンフィルムは、前記銀を含有するフィルムとガラス基板と の間のシリコンフィルムよりも厚いことを特徴とする請求の範囲第５項に記載 の透過性ガラス製品。 ７．ガラス表面の外側から、透過性の赤外線反射金属フィルム、シリコンを含有 する薄い保護フィルム、及び透過性の誘電体フィルムを蒸着してなる透過性多 層フィルムをガラス製品上に被膜し、 前記保護フィルムは、前記赤外線反射金属フィルムに隣接して、高熱処理の 間、酸素及び窒素の一方または両方を取り除いて前記赤外線反射フィルムに反 応しないシリコンを維持できる厚さを有するようにしたことを特徴とする、透 過性ガラス製品を製造するための方法。 ８．赤外線反射フィルムの下に直にシリコンを含有する保護フィルムを蒸着する ステップを有し、前記保護フィルムは、高熱処理の間、酸素及び窒素の一方ま たは両方を取り除いて前記赤外線反射フィルムに反応しないシリコンを維持で きる厚さを有するようにしたことを特徴とする請求の範囲第７項に記載の方法 。 ９．ガラス基板の外側から、第１の透過性の窒化物フィルム、第２のシリコン含 有フィルム、第３の透過性の赤外線反射金属フィルム、第４のシリコン含有フ ィルム、第５の透過性の窒化物フィルムを有する透過性の多層フィルムを前記 ガラス基板の表面に被覆し、 前記窒化物フィルムがシリコン窒化物からなり、前記被覆されたガラス製品 を加熱するステップを有することを特徴とする、熱処理された透過性のガラス 製品を製造する方法。 10．ガラス表面の外側から、透過性の赤外線反射金属フィルム、シリコンを含有 する薄い保護フィルム、透過性の誘電体フィルムを有する透過性のフィルム積 層体をガラス基板の前記表面に被覆し、 前記保護フィルムは、前記赤外線反射金属フィルムに隣接し、高熱処理の間 、酸素及び窒素の一方または両方を取り除いて前記赤外線反射フィルムに反応 しないシリコンを維持できる厚さを有するようにしたことを特徴とする、透過 性のガラス製品を製造する方法。 11．ガラス基板と、この基板上に蒸着された透過性の多層フィルムを有し、 この多層フィルムは、ガラス基板の外側から、第１の透過性の窒化物フィル ム、第２のシリコン含有フィルム、第３の透過性の赤外線反射金属フィルム、 第４のシリコン含有フィルム、第５の透過性の窒化物フィルムを有し、 前記金属窒化物フィルムは、シリコン窒化物であることを特徴とする、透過 性の耐熱ガラス製品。 12．透過性の金属窒化物フィルムの各々が、シリコン窒化物であることを特徴と する請求の範囲第１１項に記載の透過性ガラス製品。 13．透過性の赤外線反射金属フィルムは、銀であることを特徴とする請求の範囲 第１１項に記載の透過性ガラス製品。 14．透過性の赤外線反射金属フィルムは、３Å〜１５Åの範囲の厚さのシリコン を有することを特徴とする請求の範囲第１１項に記載の透過性ガラス製品。 15．ガラス基板と、この基板上に配置された透過性の多層フィルムとを含み、 この多層フィルムは、ガラス基板の外側から、２５０Å〜５００Åの範囲の厚 さを有する透過性のシリコン窒化物フィルム、シリコンメタルの第１保護フィ ルム、銀を含有する透過性の赤外線反射金属フィルム、シリコンメタルの第２ 保護フィルム、および、３５０Å〜６００Åの範囲の厚さを有する透過性のシ リコン窒化物フィルムを含むことを特徴とする、透過性の耐熱ガラス製品。 16．ガラス基板と、この基板上に配置された透過性の多層フィルムとを含み、 この多層フィルムは、透過性の赤外線反射金属フィルムの両側にシリコン含有 フィルムを蒸着したサンドイッチ構造体を形成し、さらに、ガラスを調質温度 に加熱したとき窒素が排出可能となる透過性フィルムを前記サンドイッチ構造 体の両側に被覆したことを特徴とする、透過性の耐熱ガラス製品。 17．ガラス基板と、この基板上に配置された透過性の多層フィルムとを含み、 この多層フィルムは、シリコンメタルの保護フィルムの間に隣接かつサンド イッチされた、厚さが３Å〜１５Åの銀製のフィルムを含んでいることを特徴 とする、透過性の耐熱ガラス製品。