JP2000504710A - ピリジルフェニルエーテル及びピリジルベンジルエーテル、その製造、その製造用中間体、及びその使用方法 - Google Patents

ピリジルフェニルエーテル及びピリジルベンジルエーテル、その製造、その製造用中間体、及びその使用方法

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JP2000504710A JP9529007A JP52900797A JP2000504710A JP 2000504710 A JP2000504710 A JP 2000504710A JP 9529007 A JP9529007 A JP 9529007A JP 52900797 A JP52900797 A JP 52900797A JP 2000504710 A JP2000504710 A JP 2000504710A
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Abstract

(57)【要約】 式I: [但し、Qが、C(CO2 CH3 )=CHCH3 、C(CO2 CH3 )=CHOCH3 、C(CONH2 )=NOCH3 、C(CO2 CH3 )=NOCH3 、C(CONHCH3 )=NOCH3 又はN(OCH3 )−CO2 CH3 を表し;nが0又は1を表し;Rl が水素又は炭素原子を介して結合した有機基を表し;R2 が、水素、シアノ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を介して結合した有機基を表し;R3 が、水素、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル又はC1 〜C2 ハロアルキルを表し;xが、0、1又は2を表し;R4 が、シアノ、ニトロ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子を介して結合した有機基を表し;yが、0、1、2又は3を表し;R5 が、シアノ、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル又はC1 〜C4 アルコキシを表す。]で表されるピリジルフェニルエーテル又はピリジルベンジルエーテル、又はその塩もしくはそのN−オキシド;その製造方法、その製造方法のための中間体及びその用途。

Description

【発明の詳細な説明】 ピリジルフェニルエーテル及びピリジルベンジルエーテル、その製造、 その製造用中間体、及びその使用方法 本発明は、式I: [但し、Qが、C(CO2 CH3 )=CHCH3 、C(CO2 CH3 )=CHO CH3 、C(CONH2 )=NOCH3 、C(CO2 CH3 )=NOCH3 、 C(CONHCH3 )=NOCH3 又はN(OCH3 )−CO2 CH3 を表し; nが0又は1を表し; R1 が水素又は炭素原子を介して結合した有機基を表し; R2 が、水素、シアノ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もしくは 窒素原子を介して結合した有機基を表し; R3 が、水素、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル又はC1 〜C2 ハロアルキルを 表し; xが、0、1又は2を表し、且つxが2を表す場合はR4 が互いに異なってい ても良く; R4 が、シアノ、ニトロ、ハロゲン又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もしく は窒素原子を介して結合した有機基を表し; yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5 が互いに 異なっていても良く; R5 が、シアノ、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル又 はC1 〜C4 アルコキシを表す。] で表されるピリジルフェニルエーテル又はピリジルベンジルエーテル、又はその 塩もしくはそのN−オキシドに関する。 更に、本発明は、上記化合物の製造するための方法及び中間体、及び有害菌類 及び有害動物の防除のために上記化合物を使用する方法に関する。 殺菌性、又は殺菌性及び殺虫性を有するが、ピリジル部分の置換基が本発明の 化合物とは異なる、ピリジルフェニルエーテル及びピリジルベンジルエーテルに ついては、下記の文献(即ち、EP−A254426、EP−A278595、 EP-A363818、EP-A350691、EP-A398692、EP−A 407873、EP−A477631、EP−A513580、JP−A04/ 182461、WO−A93/15046)に記載されている。 本発明は、活性度が改善され且つ作用の適用範囲が拡大した化合物を提供する ことにある。 本発明者等は、上記目的が、冒頭に記載した化合物Iにより達成されることを 見出した。また、これらの化合物を製造するための方法及び中間体、並びに有害 動物及び有害菌類の防除にこれらの化合物を使用する方法についても見出した。 化合物Iは、それ自体文献に公知の方法により、種々な経路で得ることができ る。 例えば、基Qの合成は、冒頭で引用した文献に開示されており、一般に、又特 にその中に記載された方法で行われる。 化合物Iを合成する場合、通常、式IIa のピリジン誘導体を、式IIIaのフェノ ール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式IVa の対応するエ ーテルに転化し、次いでIVをO−置換ヒドロキシルアミン(R1 −O−NH2 ) 又はその塩と反応させてIを得る手順が実施される。 式IIa の上記L1 が求核的に置換可能な脱離基、例えばハロゲン(例、弗素、 塩素、臭素又は沃素)、又はアルキルスルホナート或いはアリールスルホナート (例、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホ ナート又はメチルフェニルスルホナート)、を表す。 1a)IIa とIIIaとの反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下で0〜13 0℃、好ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセ トン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド及び アセトンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナト リムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウム tert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、 例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロ ピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン(collidine) 、ルチジン(lutidine)及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び 2環アミンを挙げることができる。炭酸カリウム、水素化ナトリウム及びカリウ ムtert−ブチラートが特に好ましい。一般に、塩基は 触媒量で用いられる が、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望により溶剤として使 用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、IIIa に対してIIa を過剰に使用することが有利な場合がある。 1b)IVa とO−置換ヒドロキシルアミン又はその塩との反応は、O−置換ヒ ドロキシルアミンがその塩から遊離している場合には、通常、不活性溶剤中、0 〜80℃、好ましくは20〜60℃の範囲で、酸の存在或いは不存在下、又は塩 基の存在或いは不存在下で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メ タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール 及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ ド及びピリジンを挙げることができる。特に、メタノール及びピリジンが好まし い。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナト リムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウム tert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、 例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロ ピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げること ができる。特にピリジン及び水酸化ナトリウムが好ましい。一般に、塩基は触媒 量で用いられるが、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望によ り溶剤として使用することもできる。 使用される酸、酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化水 素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウム 、塩化鉄(III) 、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、及び有機酸( 例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙げ ることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、IVa に対してヒドロキシルアミン又はその塩を過剰に使用することが有利な場合があ る。 同様に、化合物Iは、まず式IIa のピリジン誘導体を、O−置換ヒドロキシル アミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させて式Vaの対応する化合物に転 化し、次いでVaをIIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反 応させてIとすることにより得られる。 反応は、一般に、また特に上記方法により行われる。 nが1の場合の化合物Iは、式IIb のピリジンアルコールを式IIIbのベンジル 化合物と反応させて式IVb の対応するベンジルエーテルに転化し、そして次いで IVb をO−置換ヒドロキシルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させ てIとすることにより得ることが好ましい。 式IIIbにおけるL2 は、求核的に置換可能な脱離基、例えばハロゲン(例、塩 素、臭素又は沃素)、又はアルキルスルホナート或いはアリールスルホナート( 例、メチルスルホナート、トリフルオロメチルスルホナート、フェニルスルホナ ート又はメチルフェニルスルホナート)、を表す。 2a)IIb とIIIbとの反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下で0〜13 0℃、好ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。 特に、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジメチルスルホキシド及び アセトンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナト リムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウム tert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、 例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロ ピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げること ができる。炭酸カリウム、水素化ナトリウム及びカリウムtert−ブチラート が特に好ましい。一般に、塩基は 触媒量で用いられるが、等モルあるいは過剰 で用いることができ、あるいは所望により溶剤として使用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、IIIb に対してIIb を過剰に使用することが有利である場合がある。 2b)IVb とO−置換ヒドロキシルアミン又はその塩との反応は、通常及び特 に、前記1b)の項で記載した条件で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メ タノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール 及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミ ド及びピリジンを挙げることができる。特に、メタノール及びピリジンが好まし い。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナト リムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウム tert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、 例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロ ピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げること ができる。特にピリジン及び水酸化ナトリウムが好ましい。一般に、塩基は触媒 量で用いられるが、等モルあるいは過剰で用いることができ、あるいは所望によ り溶剤として使用することもできる。 使用される酸、酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化水 素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウ ム、塩化鉄(III) 、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及び塩化亜鉛(II)、及び有機酸 (例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙 げることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、IIIb に対してIIb を過剰に使用することが有利な場合がある。 同様に、nが1の場合の化合物Iは、まず式IIaのピリジンアルコールを、O− 置換ヒドロキシルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させて式Vbの対 応する化合物に転化し、次いでVbを式IIIbのベンジル化合物と不活性溶剤中で反 応させてIとすることにより得られる。 反応は、一般に、また特に上記方法により行われる。 上記方法で化合物Iの製造に必要で、且つ冒頭で述べた文献に知られていない 式IIIa及びIIIbの出発物質は、これらの公報に記載の方法に従う同様な方法で製 造することができる。 式IIa の出発物質は、式VIa の適宜置換されたピリジンを式VIIaの活性カルボ ン酸と不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下に反応させることにより得られる( 参照、J.Organomet.Chem.56 (1973),53-66; Chem.Ber.125 (1992), 1169-1190)。 式VIa のY1 は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に臭素 及び沃素を表す。 式VII のL3 は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩素 ;またはアミド或いはエステル基を表す。化合物VIIaの代わりに対応するシアニ ドR2 −C≡Nを使用することもできる。 この反応は、通常、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下で−75〜40℃、 好ましくは−75〜0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、ジエチルエーテル及びテトラヒドロフランが好ましい。これらの混合物 も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、有機金属化合物、特にアルキルアルカリ金属( 例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニルリチウム)、ハロゲン化アル キルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム)を挙げることができる。特に n−ブチルリチウムが好ましい。一般に、塩基を等モルまたは過剰に使用するこ とができる。 一般に、出発材料を、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、VIa に対してVIIaを過剰に使用することが有利な場合がある。 他の方法では、化合物IIa は、一般式VIIIa のハロゲン化ピリジンカルボニル を有機金属化合物(R2 −M;Mは金属イオン当量である)と不活性溶剤中で反 応させることによっても得られる[参照、DE−A3838243、EP−A4 46872]。 特に好適な金属はリチウム、マグネシウム、銅及び亜鉛である。 式VIIIa のL4 は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩 素を表す。 この反応は、通常、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下で−80〜20℃、 好ましくは−75〜0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )を挙げることができる。特に、ジエチルエーテル及びテトラヒドロフランが好 ましい。これらの混合物も使用することができる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、VIII a に対して有機金属化合物を過剰に使用することが有利な場合がある。 他の方法によれば、化合物IIa は、一般式VIIIa のハロゲン化ピリジンカルボ ニルを式IXのマロン酸エステルと不活性溶剤中で反応させて対応するトリケトン VIIIb に転化し、次いでVIIIb を反応させてIIa とすることによっても得られる [参照、Tetrahedron 48 (22)(1992),9233]. 式VIIIb 及び IX のRX は、R2 の基である。 式VIIIb 及び IX のRは、互いに独立してC1 〜C4 アルキル、特にメチル及 びエチルを表す。 3a)VIIIa と IX との反応は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在下、及びル イス酸(例、塩化マグネシウム)の存在もしくは不存在下に、0〜120℃、好 ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。 特に、トルエンが好ましい。これらの混合物も使用することができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウ ム、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属 アミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカ リ金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウ ム)、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合 物、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェ ニルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウ ム)及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナ トリムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウ ムtert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基 、例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプ ロピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリ ジン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げるこ とができる。特に水酸化ナトリウム及びトリエチルアミンが好ましい。一般に、 塩基は等モル量で用いられるが、過剰でも用いることができ、あるいは所望によ り溶剤として使用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、VIII a に対してIXを過剰に使用することが有利である場合がある。 3b)VIIIb と IIaとの脱炭酸は、通常、不活性溶剤中、塩基の存在又は不存 在下に、60〜200℃、好ましくは100〜160℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp−キ シレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化ベンゼン)、ニトリル(例、アセトニ トリル及びプロピオニトリル)、アルコール(例、メタノール、エタノール、n −プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール及びtert−ブタノール )、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる 。特に、水及びジメチルスルホキシドが好ましい。これらの混合物も使用するこ とができる。 適当な塩基としては、一般に、無機化合物、例えばアルカリ金属水酸化物及び アルカリ土類金属水酸化物(例、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ リウム及び水酸化カルシウム)、アルカリ金属酸化物及びアルカリ土類金属酸化 物(例、酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カルシウム及び酸化マグネシウム )、アルカリ金属水素化物及びアルカリ土類金属水素化物(例、水素化リチウム 、水素化ナトリウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム)、アルカリ金属ア ミド(例、リチウムアミド、ナトリウムアミド及びカリウムアミド)、アルカリ 金属炭酸塩及びアルカリ土類金属炭酸塩(例、炭酸リチウム及び炭酸カルシウム )、更にアルカリ金属炭酸水素塩(例、炭酸水素ナトリウム)、有機金属化合物 、特にアルキルアルカリ金属(例、メチルリチウム、ブチルリチウム及びフェニ ルリチウム)、ハロゲン化アルキルマグネシウム(例、塩化メチルマグネシウム )及びアルカリ金属アルコラート及びアルカリ土類金属アルコラート(例、ナト リムメタノラート、ナトリウムエタノラート、カリウムエタノラート、カリウム tert−ブタノラート及びジメトキシマグネシウム)、そして更に有機塩基、 例えば第3級アミン(例、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリイソプロ ピルアミン及びN−メチルピペリジン)、ピリジン、置換ピリジン(例、コリジ ン、ルチジン及び4−ジメチルアミノピリジン)、及び2環アミンを挙げること ができる。特に水酸化ナトリウム及びナトリウムメタノラートが好ましい。一般 に、塩基は触媒量で用いられるが、等モル量或いは過剰で用いることができ、或 いは所望により、溶剤として使用することもできる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、VIII a に対してIXを過剰に使用することが有利である場合がある。 式IIb の出発材料は、式VIa の適当に置換されたピリジン誘導体をアルコラー ト(R’−O-+ ;R’はC1〜C4アルキル、M+ は当量のアルカリ金属カチ オン又はアルカリ土類金属カチオン、特にナトリウム又はカリウム)と、塩基の 存在下に反応させて式VIb の対応するアルキルピリジンエーテルに転化させ、次 いでVIb を、上記方法(VIa の反応)と同様にして式VIIaの活性化カルボン酸と 反応させることにより対応するエーテルIIc に転化させ、その後IIc を開裂して IIb とすることにより得られる。 4a)VIa とVIb とのエーテル化は、通常、不活性溶剤の存在下で、0〜12 0℃、好ましくは20〜80℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ter t−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン) 、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、ケトン(例、アセト ン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン及びtert−ブチルメチルケトン) 、更にジメチルスルホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。 特に、ジメチルホルムアミドが好ましい。これらの混合物も使用することができ る。 一般に、ピリジン誘導体VIa とアルコラートとは、互いに等モル量で反応させ る。高収率を得るため、VIa に対してアルコラートを過剰に、或いは溶剤として 使用することが有利な場合がある。 4b)エーテルVIb と活性化カルボン酸VIIaとの反応は、一般にまた特に、化 合物VIa から化合物IIa の製造で記載した条件下で行われる。 4c)IIc とIIb のエーテル開裂は、通常、不活性溶剤中、酸の存在下に、0 〜130℃、好ましくは600〜100℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、ハロゲン化炭化水素(例、塩化メチレン、クロロホルム及び塩化ベ ンゼン)、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、アルコール (例、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブ タノール及びtert−ブタノール)、更にジメチルスルホキシド、ジメチルホ ルムアミド及びピリジンを挙げることができる。特に、塩化メチレンが好ましい 。これらの混合物も使用することができる。 使用される酸及び酸性触媒としては、無機酸(例、フッ化水素酸、塩酸、臭化 水素酸、硫酸及び過塩素酸)、ルイス酸(例、三フッ化硼素、三塩化アルミニウ ム、塩化鉄(III) 、塩化錫(IV)、塩化チタン(IV)及ひ塩化亜鉛(II)、及び有機酸 (例、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、蓚酸、クエン酸及びトリフルオロ酢酸)を挙 げることができる。一般に、酸は 触媒量で用いられるが、等モル量或いは過剰 で用いることができ、或いは所望により、溶剤として使用することもできる。 更に、式IVa で表される中間体は、式Xaのエーテルを、 a)式VIIbの活性化カルボン酸と、不活性溶剤中、有機金属塩基の存在下に反 応させるか;或いは b)式XIの有機錫化合物を不活性溶剤中で反応させるか、 することにより得ることができる。 式XaのY1 は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に臭素及 び沃素を表す。 式VIIbのY2 は、ハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素及び沃素、特に塩素 を表す。 式XIの基RX は、相互に独立してアルキルを表す。 5a)エーテルXaと活性化カルボン酸VIIbとの反応は、一般に、また特に、化 合物VIaから化合物IIa の製造で記載した条件下で行われる。 5b)エーテルXaと有機錫化合物XIとの反応は、通常不活性溶剤中、触媒(例 、Pd[P(C6533 及びPdCl2 )の存在下に、−70〜40℃、 特に−70−0℃の範囲で行われる。 適当な溶剤としては、脂肪族炭化水素(例、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキ サン及び石油エーテル)、芳香族炭化水素(例、トルエン、o−,m−及びp− キシレン)、エーテル(例、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、te rt−ブチルメチルエーテル、ジオキサン、アニソール及びテトラヒドロフラン )、ニトリル(例、アセトニトリル及びプロピオニトリル)、更にジメチルスル ホキシド及びジメチルホルムアミドを挙げることができる。特に、テトラヒドロ フラン及びジエチルエーテルが好ましい。これらの混合物も使用することが できる。 一般に、出発材料は、互いに等モル量で反応させる。高収率を得るため、エー テルXaに対して有機錫化合物XIを過剰に使用することが有利である場合がある。 本発明の化合物Iの製造では、フェニル或いはベンジル部分(式III 、IV及び X)を含む出発材料及び中間体、及び式(I)のエーテルの場合に、基Qを既に 含んでいるか否か、またこの位置が冒頭で引用した文献に記載された方法に従う Qに転化することができる基によって占められているか否かについては一般に問 題ではない。重要な点は、基Qが、上記工程(式III 、IV、X及びI)のいずれ かで合成することができることである。 一般式II: で表される新規な中間体において、置換基R2 、R3 及びR4 、及びインデック スxは冒頭で述べたものと同義であり、そしてL及びZは下記の意味を有する: Lはヒドロキシル又は求核的に置換可能な脱離基を表し; Zは酸素又は基NOR1 (R1 は冒頭で述べたものと同義である)を表す。 一般式X: で表される新規な中間体において、置換基Q、R3 、R4 及びR5 、及びインデ ックスn、x及びyは上述の意味を有し、そしてYは下記の基:ハロゲン又は基 CO−R2 (R2 は冒頭で述べたものと同義である)を表す。 反応混合物は、それ自体公知の方法、例えば、反応混合物を水で希釈し、次い で層分離、所望により生成物のクロマトグラフィによる精製により、仕上げられ る。中間体と生成物は、無色又は淡褐色の粘ちょうな油状物として得られる場合 があり、それらは減圧下、比較的高温で揮発成分から精製或いは単離される。中 間体及び最終生成物を固形物として得た場合、それらは再結晶又は温浸により精 製することもできる。 化合物Iは、そのC=C結合、C=N結合に起因して、製造中にE/Z異性体 混合物として得ることができるが、例えば、この混合物は結晶化あるいはクロマ トグラフィ分析による慣用法で個々の化合物に分離することができる。 しかしながら、合成により異性体混合物が得られた場合、個々の異性体は、使 用のための調製中或いは使用時に、時々互いに部分的に転化する(例えば、光、 酸或いは塩基に曝す時)場合もあるので、異性体の分離は一般に絶対に必要とい うものではない。このような同様の転化は使用後、例えば、植物の処理中、処理 した植物中、あるいは防除すべき有害菌類及び有害動物(害虫)内でも、起こり 得る。 C=NOR1 の二重結合に関して、化合物IのE異性体がその活性の点から好 ましい(OR1 基に関してR2 基づく立体配座)。 上記多数の式で使用された記号の定義において、共通の用語は、下記の基を一 般に表すものである: ハロゲン: 弗素、塩素、臭素及び沃素; アルキル基: 炭素原子数1〜4、1〜6、1〜8又は1〜10の直鎖又は分岐炭化水素基、 例えばC1 〜C6 アルキル(例、メチル、エチル、プロピル、1−メチルエチル 、ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル、1,1−ジメチルエチル 、ペンチル、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチルブチル、2,2 −ジメチルプロピル、1−エチルプロピル、ヘキシル、1,1−ジメチルプロピ ル、1,2−ジメチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3 −メチルペンチル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジ メチルブチル、1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3− ジメチルブチル、3,3−ジメチルブチル、1−エチルブチル、2−エチルブチ ル、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−トリメチルプロピル、1− エチル−1−メチルプロピル及び1−エチル−2−メチルプロピル); ハロアルキル基: 炭素原子数1−10の直鎖又は分岐アルキル基(上記のような)で、且つこの 基の水素原子のいくつか又は全てが上記ハロゲンで置換された基、例えばC1 〜 C2 ハロアルキル(例、クロロメチル、ブロモメチル、ジクロロメチル、トリク ロロメチル、フルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、クロロ フルオロメチル、ジクロロフルオロメチル、クロロジフルオロメチル、1−クロ ロエチル、1−ブロモエチル、1−フルオロエチル、2−フルオロエチル、2, 2−ジフルオロエチル、2,2,2−トリフルオロエチル、2−クロロ−2−フ ルオロエチル、2−クロロ−2,2−ジフルオロエチル、2,2−ジクロロ−2 −フルオロエチル、2,2,2−トリクロロエチル及びペンタフルオロエチル) ; アルコキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1−10の直鎖 又は分岐アルキル基; ハロアルコキシ基: 炭素原子数1〜10の上記の直鎖又は分岐アルキル基で、且つこの基の水素原 子のいくつか又は全てが上記ハロゲンで置換され、そして酸素原子(−O−)を 介して骨格に結合するアルキル基; アルキルチオ基; 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10又は1 〜4の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1−10の直 鎖又は分岐アルキル基; ジアルキルアミノ基: 窒素原子を介して骨格に結合する、互いに独立に、上記の炭素原子数1−10 の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 の直鎖又は分岐アルキル基; アルコキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 の直鎖又は分岐アルコキシ基; アルキルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 のアルキルチオ基; アルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜10 のアルキルアミノ基; ジアルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のジアルキルアミノ基 ; アルキルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数 1〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1 〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子 数1〜10の直鎖又は分岐アルキル基; アルキルスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキル基; アルコキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルコキシ基; アルキルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキルチオ基; アルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐アルキルアミノ基; ジアルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数1〜1 0の直鎖又は分岐ジアルキルアミノ基; アルケニル基: 任意の位置に二重結合を有する炭素原子数2〜4、2〜6、2〜8又は2〜1 0の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基、例えばC2 〜C6 アルケニル(例、エテ ニル、1−プロペニル、2−プロペニル、1−メチルエテニル、1−ブテニル、 2−ブテニル、3−ブテニル、1−メチル-1−プロペニル、2−メチル−1− プロペニル、1−メチル−2−プロペニル、2−メチル−2−プロペニル、1− ペンテニル、2−ペンテニル、3−ペンテニル、4−ペンテニル、1−メチル− 1−ブテニル、2−メチル−1−ブテニル、3−メチル−1−ブテニル、1−メ チル−2−ブテニル、2−メチル−2−ブテニル、3−メチル−2−ブテニル、 1−メチル−3−ブテニル、2−メチル−3−ブテニル、3−メチル−3−ブテ ニル、1,1−ジメチル−2−プロペニル、1,2−ジメチル−1−プロペニル 、1,2−ジメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−プロペニル、1−エチ ル−2−プロペニル、1−ヘキセニル、2−ヘキセニル、3−ヘキセニル、4− ヘキセニル、5−ヘキセニル、1−メチル−1−ペンテニル、2−メチル−1− ペンテニル、3−メチル−1−ペンテニル、4−メチル−1−ペンテニル、1− メチル−2−ペンテニル、2−メチル−2−ペンテニル、3−メチル−2−ペン テニル、4−メチル−2−ペンテニル、1−メチル−3−ペンテニル、2−メチ ル−3−ペンテニル、3−メチル−3−ペンテニル、4−メチル−3−ペン テニル、1−メチル−4−ペンテニル、2−メチル−4−ペンテニル、3−メチ ル−4−ペンテニル、4−メチル−4−ペンテニル、1,1−ジメチル−2−ブ テニル、1,1−ジメチル−3−ブテニル、1,2−ジメチル−1−ブテニル、 1,2−ジメチル−2−ブテニル、1,2−ジメチル−3−ブテニル、1,3− ジメチル−1−ブテニル、1,3−ジメチル−2−ブテニル、1,3−ジメチル −3−ブテニル、2,2−ジメチル−3−ブテニル、2,3−ジメチル−1−ブ テニル、2,3−ジメチル−2−ブテニル、2,3−ジメチル−3−ブテニル、 3,3−ジメチル−1−ブテニル、3,3−ジメチル−2−ブテニル、1−エチ ル−1−ブテニル、1−エチル−2−ブテニル、1−エチル−3−ブテニル、2 −エチル−1−ブテニル、2−エチル−2−ブテニル、2−エチル−3−ブテニ ル、1,1,2−トリメチル−2−プロペニル、1−エチル−1−メチル−2− プロペニル、1−エチル−2−メチル−1−プロペニル及び1−エチル−2−メ チル−2−プロペニル; ハロアルケニル基: 任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不 飽和炭化水素基(上記のような)で、且つこの基の水素原子のいくつか又は全て がハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルケニルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐の 不飽和炭化水素基; ハロアルケニルオキシ基: 炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基(上記のような)で 、この基の水素原子のいくつか又は全てが上記ハロゲン(特に、弗素、塩素及び 臭素)で置換された基; アルケニルチオ基: 硫黄(−S−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接していない 任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐の不飽 和炭化水素基; アルケニルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接して いない任意の位置に1個の二重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐 の不飽和炭化水素基; アルケニルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1個 の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基; アルケニルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基; アルケニルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基; アルケニルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜10 の直鎖又は分岐のアルケニルアミノ基; アルケニルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する、上記の任意の位 置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水 素基; アルケニルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置 に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素 基; アルケニルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の任意の 位置に1個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化 水素基; アルケニルスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1 個の二重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不飽和炭化水素基; アルケニルオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基; アルケニルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基; アルケニルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐のアルケニルアミノ基; アルキニル基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜4、2〜6、2〜8及び 2〜10の直鎖又は分岐炭化水素基、例えばC2 〜C6 アルキニル(例、エチニ ル、1−プロピニル、2−プロピニル、1−ブチニル、2−ブチニル、3−ブチ ニル、1−メチル−2−プロピニル、1−ペンチニル、2−ペンチニル、3−ペ ンチニル、4−ペンチニル、1−メチル−2−ブチニル、1−メチル−3−ブチ ニル、2−メチル−3−ブチニル、3−メチル−1−ブチニル、1,1−ジメチ ル−2−プロピニル、1−エチル−2−プロピニル、1−ヘキシニル、2−ヘキ シニル、3−ヘキシニル、4−ヘキシニル、5−ヘキシニル、1−メチル−2− ペンチニル、1−メチル−3−ペンチニル、1−メチル−4−ペンチニル、2− メチル−3−ペンチニル、2−メチル−4−ペンチニル、3−メチル−1−ペン チニル、3−メチル−4−ペンチニル、4−メチル−1−ペンチニル、4−メチ ル−2−ペンチニル、1,1−ジメチル−2−ブチニル、1,1−ジメチル−3 −ブチニル、1,2−ジメチル−3−ブチニル、2,2−ジメチル−3−ブチニ ル、3,3−ジメチル−1−ブチニル、1−エチル−2−ブチニル、1−エチル −3−ブチニル、2−エチル−3−ブチニル及び1−エチル−1−メチル−2− プロピニル; ハロアルキニル基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐の不 飽和炭化水素基(上記のような)で、且つこれら基の水素原子のいくつか又は全 てがハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルキニルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐不 飽和炭化水素基; ハロアルキニルオキシ基: 任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐のア ルキニルオキシ基(上記のような)で、且つこれら基の水素原子のいくつか又は 全てがハロゲン(特に、弗素、塩素及び臭素)で置換された基; アルキニルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接してい ない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐不 飽和炭化水素基; アルキニルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記のヘテロ原子に隣接して いない任意の位置に1個の三重結合を有する炭素原子数3〜10の直鎖又は分岐 不飽和炭化水素基; アルキニルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1個 の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素基; アルキニルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルオキシ基; アルキニルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルチオ基; アルキニルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜1 0の直鎖又は分岐アルキニルアミノ基; アルキニルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する、上記の任意の位 置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素 基; アルキニルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置 に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素基 ; アルキニルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の任意の 位置に1個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水 素基; アルキニルスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の任意の位置に1 個の三重結合を有する炭素原子数2〜10の直鎖又は分岐不飽和炭化水素基; アルキニルオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルオキシ基; アルキニルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルチオ基; アルキニルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の炭素原子数3〜 10の直鎖又は分岐アルキニルアミノ基; シクロアルキル基: 炭素環員3〜6、3〜8、3〜10及び3〜12を有する単環の飽和炭化水素 基、例えばC3 〜C8 シクロアルキル(例、シクロプロピル、シクロブチル、シ クロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル及びシクロオクチル); シクロアルコキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を有 する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を有 する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環員を 有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルコキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルコキシ基; シクロアルキルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルキルチオ基; シクロアルキルアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素環 員を有する単環のシクロアルキルアミノ基; シクロアルキルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する、上記の3〜12 の炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の 炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する、上記の3〜1 2の炭素環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルキルスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環の飽和炭化水素基; シクロアルコキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環のシクロアルコキシ基; シクロアルキルチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環のシクロアルキルチオ基; シクロアルキルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する、上記の3〜12の炭素 環員を有する単環のシクロアルキルアミノ基; 炭素原子とは別に、環員として酸素、硫黄又は窒素から選ばれるヘテロ原子を 含んでも良い飽和もしくは部分的に不飽和の環式基:上記の3〜12個の炭素環 員を有するシクロアルキル、又は炭素原子とは別に、環員として1〜3個の窒素 原子及び/又は1個の酸素又は硫黄原子、又は1個又は2個の酸素及び/又は硫 黄原子を含む5員又は6員の複素環基(ヘテロシクリル)、 例えば、2−テトラヒドロフラニル、3−テトラヒドロフラニル、2−テトラ ヒドロチエニル、3−テトラヒドロチエニル、2−ピロリジニル、3−ピロリジ ニル、3−イソオキサゾリジニル、4−イソオキサゾリジニル、5−イソオキサ ゾリジニル、3−イソチアゾリジニル、4−イソチアゾリジニル、5−イソチア ゾリジニル、3−ピラゾリジニル、4−ピラゾリジニル、5−ピラゾリジニル、 2−オキサゾリジニル、4−オキサゾリジニル、5−オキサゾリジニル、2−チ アゾリジニル、4−チアゾリジニル、5−チアゾリジニル、2−イミダゾリジニ ル、4−イミダゾリジニル、1,2,4−オキサジアゾリジン−3−イル、1, 2,4−オキサジアゾリジン−5−イル、1,2,4−チアジアゾリジン−3− イル、1,2,4−チアジアゾリジン−5−イル、1,2,4−トリアゾリジン −3−イル、1,3,4−オキサジアゾリジン−2−イル、1,3,4−チアジ アゾリジン−2−イル、1,3,4−トリアゾリジン−2−イル、2,3−ジヒ ドロフラ−2−イル、2,3−ジヒドロフラ−3−イル、2,4−ジヒドロフラ −2−イル、2,4−ジヒドロフラ−3−イル、2,3−ジヒドロチエン−2− イル、2,3−ジヒドロチエン−3−イル、2,4−ジヒドロチエン−2−イル 、2,4−ジヒドロチエン−3−イル、2,3−ピロリン−2−イル、2,3− ピロリン−3−イル、2,4−ピロリン−2−イル、2,4−ピロリン−3−イ ル、2,3−イソオキサゾリン−3−イル、3,4−イソオキサゾリン−3−イ ル、4,5−イソオキサゾリン−3−イル、2,3−イソオキサゾリン−4−イ ル、3,4−イソオキサゾリン−4−イル、4,5−イソオキサゾリン−4−イ ル、2,3−イソオキサゾリン−5−イル、3,4−イソオキサゾリン−5−イ ル、4,5−イソオキサゾリン−5−イル、2,3−イソチアゾリン−3−イル 、3,4−イソチアゾリン−3−イル、4,5−イソチアゾリン−3−イル、2 ,3−イソチアゾリン−4−イル、3,4−イソチアゾリン−4−イル、4,5 −イソチアゾリン−4−イル、2,3−イソチアゾリン−5−イル、3,4−イ ソチアゾリン−5−イル、4,5−イソチアゾリン−5−イル、2,3−ジヒド ロピラゾール−1−イル、2,3−ジヒドロピラゾール−2−イル、2,3−ジ ヒドロピラゾール−3−イル、2,3−ジヒドロピラゾール−4−イル、2,3 −ジヒドロピラゾール−5−イル、3,4−ジヒドロピラゾール−1−イル、3 ,4−ジヒドロピラゾール−3−イル、3,4−ジヒトロピラゾール−4−イル 、3,4−ジヒドロピラゾール−5−イル、4,5−ジヒドロピラゾール−1− イル、4,5−ジヒドロピラゾール−3−イル、4,5−ジヒドロピラゾール− 4−イル、4,5−ジヒドロピラゾール−5−イル、2,3−ジヒドロオキサゾ ール−2−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−3−イル、2,3−ジヒドロ オキサゾール−4−イル、2,3−ジヒドロオキサゾール−5−イル、3,4− ジヒドロオキサゾール−2−イル、3,4−ジヒドロオキサゾール−3−イル、 3,4−ジヒドロオキサゾール−4−イル、3,4−ジヒドロオキサゾール−5 −イル、2−ピペリジニル、3−ピペリジニル、4−ピペリジニル、1,3−ジ オキサン−5−イル、2−テトラヒドロピラニル、4−テトラヒドロピラニ ル、2−テトラヒドロチエニル、3−テトラヒドロピリダジニル、4−テトラヒ ドロピリダジニル、2−テトラヒドロピリミジニル、4−テトラヒドロピリミジ ニル、5−テトラヒドロピリミジニル、2−テトラヒドロピラジニル、1,3, 5−テトラヒドロトリアジン−2−イル及び1,2,4−テトラヒドロトリアジ ン−3−イル; ヘテロシクリルオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基; ヘテロシクリルチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基; ヘテロシクリルアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素環基 ; ヘテロシクリルカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複素 環基; ヘテロシクリルオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルオキ シ基; ヘテロシクリルチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルチオ 基; ヘテロシクリルアミノカルボニル基: アミノカルボニル基(−NHCO−)を介して骨格に結合する上記の5員又は 6員の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する上記の5員又は6 員の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員 の複素環基; ヘテロシクリルカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の5員又は 6員の複素環基; ヘテロシクリルスルホニル基: スルホニル基(-SO2 −)を介して骨格に結合する上記の5員又は6員の複 素環基; ヘテロシクリルオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルオ キシ基; ヘテロシクリルチオスルホニル基: スルホニル基(-SO2 −)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルチ オ基; ヘテロシクリルアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記のヘテロシクリルア ミノ基; アリール基: 6〜14の炭素環員を有する単一核(単一環)〜三核の芳香族環基、例えば、 フェニル、ナフチル及びアントラセニル; アリールオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環基 ; アリールチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環基 ; アリールアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香族環 基; アリールカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳香 族環基; アリールオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールオキシ基; アリールチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールチオ基; アリールアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のアリ ールアミノ基; アリールカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三 核の芳香族環基; アリールカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核 の芳香族環基; アリールカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜 三核の芳香族環基; アリールスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核の芳 香族環基; アリールオキシスルホニル基: スルホニル基(−S02 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールオキシ基; アリールチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールチオ基; アリールアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のア リールアミノ基; 炭素原子とは別に、環員として酸素、硫黄又は窒素から選ばれるヘテロ原子を 含んでも良い芳香族環基:上記のアリール或いは単一核もしくは二核のヘテロア リール、例えば 1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄原子を 有する5員のヘテロアリール:5員のヘテロアリール基で、環員として、炭素環 員以外に1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄 原子を有しても良い基(例えば、2−フリル、3−フリル、2−チエニル、3− チエニル、2−ピロリル、3−ピロリル、3−イソオキサゾリル、4−イソオキ サゾリル、5−イソオキサゾリル、3−イソチアゾリル、4−イソチアゾリル、 5−イソチアゾリル、3−ピラゾリル、4−ピラゾリル、5−ピラゾリル、2− オキサゾリル、4−オキサゾリル、5−オキサゾリル、2−チアゾリル、4−チ アゾリル、5−チアゾリル、2−イミダゾリル、4−イミダゾリル、1,2,4 −オキサジアゾール−3−イル、1,2,4−オキサジアゾール−5−イル、1 ,2,4−チアジアゾール−3−イル、1,2,4−チアジアゾール−5−イル 、1,2,4−トリアゾール−3−イル、1,3,4−オキサジアゾール−2− イル、1,3,4−チアジアゾール−2−イル及び1,3,4−トリアゾール− 2−イル)、 1〜3個の窒素原子、又は1個の窒素原子及び1個の酸素又は硫黄原子を有す る5員のベンゾ縮合ヘテロアリール:5員のヘテロアリール基で、炭素原子の他 に、環員として1〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子及び1個の硫黄又 は酸素原子を有しても良く、そして2個の隣接する炭素環員又は隣接する1個の 窒素と1個の炭素環員が、ブタ−1,3−ジエン−1,4−ジイル基により橋か けされた基、 1〜4個の窒素原子を有する窒素を介して結合する5員のヘテロアリール基、 又は1〜3個の窒素原子を有し、窒素を介して結合するベンゾ縮合した5員のヘ テロアリール基:5員のヘテロアリール環基で、炭素原子の他に、環員として1 〜4個の窒素原子、又は1〜3個の窒素原子を有してもよく、そして2個の隣接 する炭素環員又は隣接する1個の窒素と1個の炭素環員がブタ−1,3−ジエン −1,4−ジイル基により橋かけされたもので、そしてこれらの環は窒素環員の 1個を介して骨格に結合している基、 1〜3個の窒素原子又は1〜4個の窒素原子を有する6員のヘテロアリール基 :6員のヘテロアリール環基で、炭素原子の他に、環員として1〜3個の窒素原 子又は1〜4個の窒素原子を有しても良い基(例、2−ピリジニル、3−ピリジ ニル、4−ピリジニル、3−ピリダジニル、4−ピリダジニル、2−ピリミジニ ル、4−ピリミジニル、5−ピリミジニル、2−ピラジニル、1,3,5−トリ アジン−2−イル及び1,2,4−トリアジン−3−イル); ヘテロアリールオキシ基: 酸素原子(−O−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳香 族環基; ヘテロアリールチオ基: 硫黄原子(−S−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳香 族環基; ヘテロアリールアミノ基: アミノ基(−NH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテロ芳 香族環基; ヘテロアリールカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロ芳香族環基; ヘテロアリールオキシカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールオキシ基; ヘテロアリールチオカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールチオ基; ヘテロアリールアミノカルボニル基: カルボニル基(−CO−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘテ ロアリールアミノ基; ヘテロアリールカルボニルオキシ基: カルボニルオキシ基(−CO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三 核のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールカルボニルチオ基: カルボニルチオ基(−COS−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核 のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールカルボニルアミノ基: カルボニルアミノ基(−CONH−)を介して骨格に結合する上記の単一核〜 三核のヘテロ芳香族環基; ヘテロアリールスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロ芳香族環基; ヘテロアリールオキシスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールオキシ基; ヘテロアリールチオスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールチオ基; ヘテロアリールアミノスルホニル基: スルホニル基(−SO2 −)を介して骨格に結合する上記の単一核〜三核のヘ テロアリールアミノ基; アルキレン基: 1〜5個のCH2 −基から構成される2価の非分岐鎖、例えば、CH2 、CH2 CH2 、CH2 CH2 CH2 、CH2 CH2 CH2 CH2 及びCH2 CH2 C H2 CH2 CH2 ; オキシアルキレン基: 2〜4個のCH2 −基から構成される2価の非分岐鎖で、且つ2価の一方が酸 素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OCH2 CH2 、OCH2 CH2 C H2 、及びOCH2 CH2 CH2 CH2 ; オキシアルキレンオキシ基: 1〜3個のCH2 −基から構成される2価の非分岐鎖で、且つ2価の両方が酸 素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OCH2 O、OCH2 CH2 O及び OCH2 CH2 CH2 O; アルケニレン基: 1〜3個のCH2 基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖、例えば、CH=CHCH2 、CH2 CH=CHCH2 、CH=CH CH2 CH2 、CH2 CH=CHCH2 CH2 及びCH=CHCH2 CH2 CH2 ; オキシアルケニレン基: 0〜2個のCH2 基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖で、2価の一方は酸素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OC H=CH、OCH=CHCH2 、OCH2 CH=CH、OCH2 CH=CHCH2 、OCH=CHCH2 CH2 及びOCH2 CH2 CH=CH; オキシアルケニレンオキシ基: 0〜2個のCH2 基を有し、任意の位置に1個のCH=CH−基を有する2価 の非分岐鎖で、2価の両方が酸素原子を介して骨格に結合する基、例えば、OC H=CHO、OCH=CHCH2 O、OCH2 CH=CHCH2 O及びOCH= CHCH2 CH2 O; 有機基: 非置換又は置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテ ロシクリル、アリール又はヘテロアリール。 アルキル、アルケニル及びアルキニル基に関する場合の、用語「非置換又は置 換(の)」は、これらの基が、部分的又は完全にハロゲン化されても良いか[即 ち、これらの基の水素原子の幾つか或いは全てが上述の同一又は異なったハロゲ ン(好ましくは弗素、塩素又は臭素)で置換されていても良い]、及び/又は下 記の1〜3個(好ましくは1個)の基で置換されていても良いことを表す意図で 使用されている。上記の基の例: シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、アミノカ ルボニル、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチオ、ア ルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル 、アルキルカルボニルオキシ、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカ ルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、アルキル カルボニル−N−アルキルアミノ及びアルコキシカルボニル−N−アルキルアミ ノ(これらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好ましく、特に 1〜4個有することが好ましい); シクロアルキル、シクロアルコキシ、シクアルキルチオ、シクロアルキルアミ ノ、シクロアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロシクリル(複素環基)、ヘテ ロシクリルオキシ、ヘテロシクリルチオ、ヘテロシクリルアミノ又はヘテロシク リル−N−アルキルアミノ(これらは非置換或いは慣用基で置換されており、こ れらの環は、3〜12員の環員を有し、好ましくは3〜8員、特に3〜6員の環 員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好 ましく、特に1〜4個有することが好ましい); アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリール−N− アルキルアミノ、アリールアルコキシ、アリールアルキルチオ、アリールアルキ ルアミノ、アリールアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロアリール、ヘテロア リールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール− N−アルキルアミノ、ヘテロアリールアルコキシ、ヘテロアリールアルキルチオ 、ヘテロアリールアルキルアミノ及びヘテロアルキル−N−アルキルアミノ(こ れらは非置換或いは慣用基で置換されており、アリール基は、6〜10員の環員 を有し、特に6員の環員を有し(フェニル)、またヘテロアリール基は5又は6 員の環員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有するこ とが好ましく、特に1〜4個有することが好ましい)。 環式(飽和、不飽和或いは芳香族の)基に関する場合の、用語「非置換又は置 換(の)」は、これらの基が、部分的又は完全にハロゲン化されても良いか[即 ち、これらの基の水素原子の幾つか或いは全てが上述の同一又は異なったハロゲ ン(好ましくは弗素、塩素又は臭素、特に弗素又は塩素)で置換されていても良 い]、及び/又は下記の1〜4個(特に1〜3個)の基で置換されていても良い ことを表す意図で使用されている。上記の基の例: シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、アミノ、カルボキシル、アミノカルボニル、 アルキル、ハロアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルケニルオキシ、ハ ロアルケニルオキシ、アルキニル、ハロアルキニル、アルキニルオキシ、ハロア ルキニルオキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、アルキルチオ、ハロアルキルチ オ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルコキシカル ボニル、アルキルカルボニルオキシ、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルア ミノカルボニル、アルキルカルボニルアミノ、アルコキシカルボニルアミノ、ア ルキルカルボニル−N−アルキルアミノ及びアルコキシカルボニル−N−アルキ ルアミノ(これらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好ましく 、特に1〜4個有することが好ましく、またこれらの基の上記アルケニル又はア ルキニル基は炭素原子を2〜8個有し、好ましくは2〜6個、特に2〜4個有す る); 及び/又は1〜3個の(特に1個)の下記の基: シクロアルキル、シクロアルコキシ、シクアルキルチオ、シクロアルキルアミ ノ、シクロアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロシクリル(複素環基)、ヘテ ロシクリルオキシ、ヘテロシクリルチオ、ヘテロシクリルアミノ又はヘテロシク リル−N−アルキルアミノ(これらは非置換或いは慣用基で置換されており、こ れらの環は、3〜12員の環員を有し、好ましくは3〜8員、特に3〜6員の環 員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有することが好 ましく、特に1〜4個有することが好ましい); アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリールアミノ、アリール−N− アルキルアミノ、アリールアルコキシ、アリールアルキルチオ、アリールアルキ ルアミノ、アリールアルキル−N−アルキルアミノ、ヘテロアリール、ヘテロア リールオキシ、ヘテロアリールチオ、ヘテロアリールアミノ、ヘテロアリール− N−アルキルアミノ、ヘテロアリールアルコキシ、ヘテロアリールアルキルチオ 、ヘテロアリールアルキルアミノ及びヘテロアルキル−N−アルキルアミノ (これらは非置換或いは慣用基で置換されており、アリール基は、6〜10員の 環員を有し、特に6員の環員を有し(フェニル)、またヘテロアリール基は5又 は6員の環員を有し、そしてこれらの基のアルキル基は炭素原子を1〜6個有す ることが好ましく、特に1〜4個有することが好ましい); 及び/又は1〜3個の(特に1個)の下記の基: ホルミル、 CRiii =NORiv[Riii が水素、アルキル、シクロアルキル及びアリール を表し、そしてRivがアルキル、アルケニル、ハロアルケニル、アルキニル及び アリルアルキルを表し(上記アルキルは炭素原子数1〜6を有することが好まし く、特に1〜4であり、上記シクロアルキル基、アルケニル基及びアルキニル基 は炭素原子数3〜8を有することが好ましく、特に3〜6である)、そしてアリ ールが特に非置換又は慣用基で置換されたフェニル基である。]、又は NRV −CO−D−Rvi[RVが水素、ヒドロキシル、C1 〜C6 アルキル、 C2 〜C6 アルケニル、C2 〜C6 アルキニル、C1 〜C6 アルコキシ、C2 〜 C6 アルケニルオキシ、C2 〜C6 アルキニルオキシ、C1 〜C6 アルコキシC1 〜C6 アルキル、C1 〜C6 アルコキシC1 〜C6 アルコキシ及びC1 〜C6 アルコキシカルボニルを表し、Rviが水素、C1 〜C6 アルキル、C2 〜C6 ア ルケニル、C2 〜C6 アルキニル、C3 〜C6 シクロアルキル、C3 〜C6 シク ロアルケニル、アリール、アリールC1 〜C6 アルキル、ヘテロアリール及びヘ テロアリールC1 〜C6 アルキルを表し、Dが直接結合、酸素又は窒素を表し、 そしてこの窒素がRviで記載された基の1個を結合して有しても良い。]、及び /又は 上記環式基において、環式基の2個の隣接炭素原子が、結合してC3 〜C5 ア ルキレン、C3 〜C5 アルケニレン、オキシC2 〜C4 アルキレン、オキシC1 〜C3 アルキレンオキシ、オキシC2 〜C4 アルケニレン、オキシC2 〜C4 ア ルケニレンオキシ又はブタジエンジイル基を有していても良く、そしてこれらの 架橋基は部分的或いは完全にハロゲン化され、及び/又は1〜3個、特に1又は 2個の下記の基:C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル、C1 〜C4 ア ルコキシ、C1 〜C4 ハロアルコキシ及びC1 〜C4 アルキルチオを結合して有 していても良い。 慣用基は、特に下記の置換基:ハロゲン、シアノ、C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル、C1 〜C4 アルコキシ、C1〜C4 ハロアルコキシ、C1 〜C4 アルキルアミノ、ジC1 〜C4 アルキルアミノ及びC1 〜C4 アルキルチ オを意味すると理解すべきである。 式Iの特に好ましい化合物は、QがC(CO2 CH3 )=CHCH3 、C(C O2 CH3 )=CHOCH3 、C(CO2 CH3 )=NOCH3 、C(CONH CH3 )=NOCH3 又はN(OCH3 )−CO2 CH3 を表す化合物である。 式Iの特に好ましい化合物は、R1 が水素、又は下記の基:非置換もしくは置 換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、ア リール又はヘテロアリールを表す化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R1 が水素のものである。 更に好ましい化合物Iは、R1 が非置換又は置換のC1 〜C6 アルキルのもの である。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R1 が非置換又は置換のC3 〜C6 アルケ ニルのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R1 が非置換又は置換のC3 〜C6 アルキ ニルのものである。 他の特に好ましい化合物Iは、R1 がC1 〜C6 ハロアルキルのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R1 がC3 〜C6 ハロアルケニルのものであ る。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R1 がアリールC1 〜C2 アルキル(アリ ル基は非置換でも置換されていてもよい)のものである。 特に好ましい化合物Iは、R1 がアリールC1 〜C2 アルキル(アリル基は、 部分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び/又は下記の置換基:C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル及びC1 〜C4 アルコキシの内1〜3 個の基を有していても良い)のものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R1 がC3 〜C6 シクロアルキルC1 〜 C2 アルキル(シクロアルキル基は非置換でも置換されていてもよい)のもので ある。 特に好ましい化合物Iは、R1 がC3 〜C6 シクロアルキルC1 〜C2 アルキ ル(シクロアルキル基は、部分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び /又は1〜3個のC1 〜C4 アルキルを有していても良い)のものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R1 がヘテロアリールC1 〜C2 アルキル( ヘテロアリール基は非置換でも置換されていてもよい)のものである。 特に好ましい化合物Iは、R1 がヘテロアリールC1 〜C2 アルキル(ヘテロ アリル基は、部分的に或いは完全にハロゲン化されていても、及び/又は下記の 置換基:C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル及びC1 〜C4 アルコキ シの内1〜3個の基を有していても良い)のものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R2 が水素、または下記の置換基:非 置換もしくは置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテ ロシクリル、アリール又はヘテロアリール(これらの基は直接(炭素原子を介し て)或いは酸素、硫黄或いは窒素原子を介して骨格に結合している)の内の1個 を表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R2 が非置換又は置換C1 〜C6 アルキルのもので ある。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R2 が非置換又は置換C2 〜C6 アル ケニルのものである。 同様に特に好ましい化合物Iは、R2 が非置換又は置換C2 〜C6 アルキニル のものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R2 がC3 〜C6 シクロアルキルのもので ある。 他の化合物Iは、R2 がアリールのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、R2 がヘテロアリールのものである。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R3 が水素、C1 〜C3 アルキル又はC1 〜C4 ハロアルキル、特に水素、メチル、フッ素、塩素、エチル、イソプロピル 及びトリフルオロメチルを表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R3 が水素のものである。 さらに特に好ましい化合物Iは、R3 がハロゲン、特に弗素、塩素及び臭素、 のものである。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R3 がメチルのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R3 がC1 ハロアルキル、特にトリフルオ ロメチルのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、xが0、1又は2を表す(xが2の場合、R4 が異なっても良い)場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、xが0又は1のものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R4 がシアノ、ニトロ、ハロゲン、ま たは下記の置換基:非置換もしくは置換のアルキル、アルケニル、アルキニル、 シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリール(これらの基は 直接(炭素を介して)或いは酸素、硫黄もしくは窒素原子を介して骨格に結合し ている)の内の1個を表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R4 がハロゲン、特に弗素、塩素及び臭素、のもの である。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R4 がC1 〜C2 アルキルであるものであ る。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R4 がC1 〜C2 アルコキシであるもので ある。 さらに、特に好ましい化合物Iは、R4 がシアノのものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R4 がニトロのものである。 更に、特に好ましい化合物Iは、yが0、1、2又は3を表す(yが2又は3 の場合、R5 が異なっても良い)場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、yが0又は1のものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5 がシアノ、ハロゲン、C1 〜C3 アルキル、C1 〜C2 ハロアルキル又はC1 〜C3 アルコキシ、特にシアノ、弗 素、塩素、メチル、エチル、イソプロピル、トリフルオロメチル、メトキシ又は エトキシを表す場合の化合物である。 特に好ましい化合物Iは、R5 がメチルのものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5 がメトキシのものである。 同様に、特に好ましい化合物Iは、R5 が弗素のものである。 その他、特に好ましい化合物Iは、R5 が塩素のものである。 他の特に好ましい化合物Iは、R5 がトリフルオロメチルのものである。 さらにまた、特に好ましい化合物Iは、R5 がOCH2 Oのものである。 特に、その用途に点から、下記の表にまとめられた化合物Iが好ましい。さら にまた、1個の置換基として表に記載された基は、それ自体、基の組合せを考慮 しない、問題の置換基の特に好ましい態様である。 [表1] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表2] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表3] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。[表4] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表5] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表6] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表7] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表8] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表9] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表10] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表11] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表12] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表13] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表14] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表15] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表16] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表17] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表18] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表19] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表20] R2 がメチル、R3 が水素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表21] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表22] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表23] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表24] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表25] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表26] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表27] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表28] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表29] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表30] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表31] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表32] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表33] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表34] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表35] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表36] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表37] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表38] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表39] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表40] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合 物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表41] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表42] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表43] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表44] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表45] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表46] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表47] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表48] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表49] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表50] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表51] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表52] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表53] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表54] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表55] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表56] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表57] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表58] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表59] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表60] R2 がメチル、R3 が塩素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表61] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表62] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表63] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表64] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表65] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表66] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表67] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表68] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表69] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表70] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表71] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表72] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表73] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表74] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表75] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表76] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表77] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表78] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表79] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表80] R2 がメチル、R3 が弗素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表81] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表82] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表83] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表84] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表85] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表86] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表87] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表88] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表89] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表90] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表91] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表92] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表93] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表94] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表95] R2 メチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物の R1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表96] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表97] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表98] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表99] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表100] R2 がメチル、R3 が臭素、R4 が水素、R5 yが水素であり、そして各化合物 のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 [表101] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化 合物。 [表102] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化 合物。 [表103] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化 合物。 [表104] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化 合物。 [表105] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化 合物。 [表106] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化 合物。 [表107] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化 合物。 [表108] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化 合物。 [表109] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化 合物。 [表110] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される 化合物。 [表111] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化 合物。 [表112] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化 合物。 [表113] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化 合物。 [表114] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化 合物。 [表115] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化 合物。 [表116] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化 合物。 [表117] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化 合物。 [表118] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化 合物。 [表119] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化 合物。 [表120] R2 がメチル、R3 がトリフルオロメチル、R4 が水素、R5 yが水素であり、 そして各化合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される 化合物。 [表121] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.1で表される化合物。 [表122] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.2で表される化合物。 [表123] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.3で表される化合物。 [表124] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.4で表される化合物。 [表125] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.5で表される化合物。 [表126] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.6で表される化合物。 [表127] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.7で表される化合物。 [表128] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.8で表される化合物。 [表129] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.9で表される化合物。 [表130] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IA.10で表される化合物。 [表131] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.1で表される化合物。 [表132] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.2で表される化合物。 [表133] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.3で表される化合物。 [表134] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.4で表される化合物。 [表135] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.5で表される化合物。 [表136] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.6で表される化合物。 [表137] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.7で表される化合物。 [表138] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.8で表される化合物。 [表139] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.9で表される化合物。 [表140] R2 がメチル、R3 がメチル、R4 がメチル、R5 yが水素であり、そして各化 合物のR1 が表Aの1個の基に相当する一般式IB.10で表される化合物。 化合物Iは殺菌剤として好適である。 化合物Iは、広範囲な植物病理学的菌類、特に子嚢菌類、藻菌類または担子菌 類に対して優れた作用を示し、秀でている。これらは組織的に活性である場合も あり、茎葉または土壌殺菌剤として植物保護に使用可能である。 これらは種々の農作物、例えばコムギ、ライ麦、大麦、オート麦、稲、トウモ ロコシ、芝、綿花、大豆、コーヒー、サトウキビ、ブドウ、果実および観賞用植 物、および野菜、例えばキュウリ、豆類、ウリ、並びにこれら植物の種子におけ る多種細菌を防除するために特に重要である。 上記化合物は次のような植物病菌類の防除に特に適している。 穀物類のエリシペ・グラミニス(Erysiphe graminis;うど ん粉病)、 ウリ科のエリシペ・キコラケアラム(Erysiphe cichorace arum)およびスフェロテカ・フリギネア (Sphaerotheca fuliginea)、 リンゴのポドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaera leuco tricha)、 ブドウのウンキヌラ・ネカトル(Uncinula necator)、 穀物類のプッキニア(Puccinia)種、 綿花、稲およびシバのリゾクトニア種(Rhizoctonia)、 穀物類およびサトウキビのウスチラゴ(Ustilago)種、 リンゴのベンツリア・イネクアリス(Venturia inaeqalis ;腐敗病)、 穀物類のヘルミントスポリウム種(Helminthosporium)、 コムギのセプトリア・ノドルム(Septoria nodorum)、 イチゴ、ブドウ、野菜及び観賞用植物のボトリチス・キネレア (Botrytis cinerea;灰色カビ)、 ナンキンマメのセルコスポラ・アラキジコラ(Cercospora ara chdicola)、 コムギおよびオオムギのプシュードケルコスポレラ・ヘルポトリコイデス (Pseudocercosporella herpotrichoides )、 イネのピリクラリア・オリザエ(Pyricularia orizae) ジャガイモおよびトマトのフィトピトラ・インフェスタンス (Phytophthora infestans)、 種々の植物のフサリウム(Fusarium)およびベルチキルリウム (Verticillium)種、 ブドウのプラスモパラ・ビチコラ(Plasmopara viticola )、及び果実および野菜のアルテルナリア (Alternaria)種。 さらに、化合物Iは、資材(例、木材、紙、繊維あるいは布地)の保護に、ま た貯蔵保護における有害菌類の防除に好適である。 化合物Iは、有害菌類(細菌)、または有害菌類による被害から保護されるべ き植物、種子、資材または土壌を殺菌有効量の有効成分で処理することにより施 与される。これらは、細菌により資材、植物または種子に被害がもたらされる以 前または以後に施与される。 これらは、例えば溶液、エマルジョン、懸濁液、ダスト剤、粉末、ペースト及 び顆粒等の慣用処方(組成物)に加工することができる。処方は全く使用目的次 第であるが、いずれにせよ化合物Iの微細且つ均一な分配が保証されるべきであ る。 処方は、公知の方法で、例えば有効成分を溶剤および/またはキャリヤーで、 場合により乳化剤および分散助剤を使用して増量することにより得られるが、こ の際希釈剤として水を使用する場合には、補助溶媒として別の有機溶媒を使用す ることができる。このための好適な助剤としては、主として溶剤、例えば芳香族 化合物(例、キシレン)、塩素化芳香族化合物(例、クロロベンゼン)、パラフ ィン(例、石油留分)、アルコール(例、メタノール、ブタノール)、ケトン( 例、シクロヘキサノン)、アミン(例、エタノールアミン、ジメチルホルムアミ ド)および水;キャリヤー、例えば磨砕天然鉱物(例、カオリン、クレー、タル ク、白亜)、磨砕合成鉱物(例、高分散性シリカ、珪酸塩);乳化剤、例えば非 イオン性および陰イオン性乳化剤(例、ポリオキシエチレン−脂肪アルコールエ ーテル、アルキルスルホナート及びアリールスルホナート)及び分散剤、例えば リグニン−亜硫酸廃液及びメチルセルロースが該当する。 殺菌剤組成物は、一般に有効成分を0.1〜95重量%、好ましくは0.5〜 90重量%の量で含む。 所望の効果に応じて、植物保護で使用する際の施与率は、1ha(ヘクター ル)あたり有効成分0.01〜2.0kgの範囲である。 種子を処理する場合、種子1kgにあたりに0.001〜0.1g、特に0. 01〜0.05gの量の有効成分が一般的に必要とされる。 資材の保護あるいは貯蔵保護で使用する際、その施与率は、使用面積及び所望 の効果に応じて異なる。資材保護の一般の施与率は、例えば処理資材1m3 あた り有効成分0.001g〜2.0kgの範囲、好ましくは0.005g〜1.0 kgの範囲である。 本発明の試薬は、殺菌剤として、他の有効成分、例えば除草剤、殺虫剤、生長 抑制剤、殺菌剤または肥料と共に用いることも可能である。 各種殺菌剤を混合することにより、得られる殺菌効果の範囲が拡大する場合も 多い。 以下に本発明の化合物とともに使用可能な化合物を列挙するが、これは組み合 わせの可能性を示すためのものであって、これらに限定するものではない。 硫黄、 ジチオカルバマート及びその誘導体、例えば 鉄(III) ジメチルジチオカルバマート、 亜鉛ジメチルジチオカルバマート、 亜鉛エチレンビスジチオカルバマート、 マンガンエチレンビスジオカルバマート、 マンガン−亜鉛−エチレンジアミン−ビス−ジチオカルバマート、 テトラメチルチウラムジスルフィド、 亜鉛−(N,N−エチレンビスジチオカルバマート)のアンモニア錯化合物、 亜鉛(N,N’−プロピレンビスジチオカルバマート)のアンモニア錯化合物 、 亜鉛(N,N’−プロピレンビスジチオカルバマート)、 N、N’−ポリプロピレンビス(チオカルバモイル)ジスルフィド; ニトロ誘導体、例えば ジニトロ−(1−メチルヘプチル)フェニルクロトナート、 2−sec−ブチル−4,6−ジニトロフェニル−3,3−ジメチルアクリ ラート、 2−sec−ブチル−4,6−ジニトロフェニルイソプロピルカルボナート、 ジイソプロピル5−ニトロイソフタラート; 複素環式物質、例えば 2−ヘプタデシル−2−イミダゾリンアセタート、 2,4−ジクロロ−6−(o−クロロアニリノ)−s−トリアジン、 O,O−ジエチルフタルイミドホスホノチオエート、 5−アミノ−1−[ビス(ジメチルアミノ)ホスフィニル]−3−フェニル− 1,2,4−トリアゾール、 2,3−ジシアノ−1,4−ジチオアントラキノン、 2−チオ−1,3−ジチオロ−[4,5−b]−キノキサリン、 1−(ブチルカルバモイル)−2−ベンズイミダゾール−カルバミン酸メチル エステル、 2−メトキシカルボニルアミノベンズイミダゾール、 2−(2−フリル)ベンズイミダゾール、 2−(4−チアゾーリル)ベンズイミダゾール、 N−(1,1,2,2−テトラクロロエチルチオ)テトラヒドロフタルイミド 、 N−トリクロロメチルチオテトラヒドロフタルイミド、 N−トリクロロメチルチオフタルイミド、 N−ジクロロフルオロメチルチオ−N',N'−ジメチル−N−フェニルスルフ ァアミド、 5−エトキシ−3−トリクロロメチル−1,2,3−チアジアゾール、 2−チオシアナートメチルチオベンゾチアゾール、 1,4−ジクロロ−2,5−ジメトキシベンゼン、 4−(2−クロロフェニルヒドラゾノ)−3−メチル-5−イソキサゾロン、 ピリジン−2−チオール−1−オキシド、 8−ヒドロキシキノリン及びその銅塩、 2,3−ジヒドロ−5−カルボキシアニリド−6−メチル1,4−オキサチ イン、 2,3−ジヒドロ−5−カルボキシアニリド−6−メチル-1,4−オキサチ イン−4,4−ジオキシド、 2−メチル−5,6−ジヒドロ−4H−ピラン−3−カルボキシアニリド、 2−メチルフラン−3−カルボキシアニリド、 2,5−ジメチルフラン−3−カルボキシアニリド、 2,4,5−トリメチルフラン−3−カルボンキシアニリド、 シクロヘキシル−2,5−ジメチルフラン−3−カルボキシアミド、 N−シクロヘキシル−N−メトキシ−2,5−ジメチルフラン−3−カルボキ シアミド、 2−メチルベンズアニリド、 2−ヨードベンズアニリド、 N−ホルミル−N−モルホリン−2,2,2−トリクロロエチルアセタール、 ピペラジン−1,4−ジイルビス(2,2,2−トリクロロエチル)ホルムア ミド、 1−(3,4−ジクロロアニリノ)−1−ホルミルアミノ−2,2,2−トリ クロロエタン、 2,6−ジメチル−N−トリデシルモルホリン及びその塩、 2,6−ジメチル-N−シクロドデシルモルホリン及びその塩、 N−[3−(p−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロピル]−シス −2,6−ジメチルモルホリン、 N−[3−(p−tert−ブチルフェニル)−2−メチルプロピル]ピペリ ジン、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−エチル−1,3−ジオキソラ ン−2−イルエチル]−1H−1,2,4−トリアゾール、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)−4−n−プロピル−1,3−ジオ キソラン−2−イルエチル]−1H−1,2,4−トリアゾール、 N−(n−プロピル)−N−(2,4,6−トリクロロフェノキシエチル)− N’−イミダゾリル尿素、 1−(4−クロロフェノキシ)−3,3−ジメチル−1−(1H−1,2,4 −トリアゾール−1−イル)−2−ブタノン、 1−(4−クロロフェノキシ)−3,3−ジメチル−1−(1H−1,2,4 −トリアゾール−1−イル)−2−ブタノール、 α−(2−クロロフェニル)−α−(4−クロロフェニル)−5−ピリミジン メタノール、 5−ブチル−2−ジメチルアミノ−4−ヒドロキシ−6−メチル−ピリミジン 、 ビス(p−クロロフェニル)−3−ピリジンメタノール、 1,2−ビス−(3−エトキシカルボニル−2−チオウレイド)ベンゼン、 1,2−ビス−(3−メトキシカルボニル−2−チオウレイド)ベンゼン;及 び、種々の殺菌剤、例えば ドデシルグアニジンアセタート、 3−[3−(3,5−ジメチル−2−オキシシクロヘキシル)−2−ヒドロキ シエチル]グルタルイミド、 ヘキサクロロベンゼン、 メチルN−(2,6−ジメチルフェニル)−N−2−フロイル−DL−アラニ ナート、 DL−N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−(2’−メトキシアセシル) アラリンのメチルエステル、 N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−クロロアセチル−D,L−2−アミ ノブチロラクトン、 DL−N−(2,6−ジメチルフェニル)−N−(フェニルアセチル)アラニ ンのメチルエステル、 5−メチル-5−ビニル−3−(3,5−ジクロロフェニル)−2,4−ジオ キソ−1,3−オキサゾリジン、 3−[3,5−ジクロロフェニル−(5−メチル−5−メトキシメチル]−1 ,3−オキサゾリジン−2,4−ジオン、 3−(3,5−ジクロロフェニル)−1−イソプロピルカルバモイルヒダント イン、 N−(3,5−ジクロロフェニル)−1,2−ジメチルシクロプロパン−1, 2−ジカルボキシイミド、 2−シアノ−[N−(エチルアミノカルボニル)−2−メトキシイミノ]アセ トアミド、 1−[2−(2,4−ジクロロフェニル)ペンチル]−1H−1,2,4−ト リアゾール、 2,4−ジフルオロ−α−(1H−1,2,4−トリアゾリル−1−メチル) ベンズヒドリルアルコール、 N−(3−クロロ−2,6−ジニトロ−4−トリフルオロメチルフェニル)− 5−トリフルオロメチル−3−クロロ−2−アミノピリジン、 1−((ビス−(4−フルオロフェニル)メチルシニル)メチル)−1H−1 ,2,4−トリアゾール; ストロビルリン(strobilurin)、例えば メチルE−メトキシイミノ[α−(o−トリルオキシ)−o−トリル]アセテ ート、 メチルE−2−{2−[6−(2−シアノフェノキシ)ピリミジン−4−イル オキシ]フェニル}−3−メトキシアクリラート、 N−メチル-E−メトキシイミノ−[α−(2−フェノキシフェニル)]アセ トアミド、 N−メチル−E−メトキシイミノ[α−(2,5−ジメチルフェノキシ)−o −トリル]アセトアミド; アニリノピリミジン、例えばN−(4,6−ジメチルピリミジン−2−イル) アニリン、 N−[4−メチル−6−(1−プロピニル)ピリミジン−2−イル]アニリン 、 N−(4−メチル−6−シクロプロピルピリミジン−2−イル)アニリン; フェニルピロール、例えば 4−(2,2−ジフルオロ−1,3−ベンゾジオキソール−4−イル)−ピ ロール−3−カルボニトリル; 桂皮酸アミド、例えばN−3−(4−クロロフェニル)−3−(3,4−ジメ トキシフェニル)−アクリル酸モルホリン。 式Iの化合物は、さらに、昆虫類、蜘蛛形類、線形動物類などの有害生物を防 除するために適している。これらは、作物保護における殺虫剤、及び衛生学、貯 蔵材料保護、及び獣医学における殺虫剤として使用することができる。 害虫には次のものがある。すなわち、 鱗翅目(Lepidoptera)の害虫には例えばアグロテス・イプシロン (Agrotis ypsilon)、アグロテス・セゲタム(Agrotis segetum)、アラバマ・アルジラセア(Alabama argill acea)、アンチカルシア・ゲマタリス(Anticarsia gemma talis)、アルジレスチア・コンジュゲラ (Arggresthia conjugella)、オートグラファ・ガマ( Autographa gamma)、ブパラス・ピニアリウス (Bupalus piniarius)、カコエシア・ムリナナ (Cacoecia murinana)、カプア・レチキュラナ(Capua reticulana)、ケイマトビア・ブルマタ(Cheimatobia brumata)、チョリストネウラ・フミフェラナ (Choristoneura fumiferana)、チヨリストネウラ・ オクシデンタリス(Choristoneura occidentalis) 、シルピス・ウニプンクタ(Cirphisunipuncta)、チデイア・ ポモネーラ(Cydia pomonella)、デンドロリマス・ピニ(De ndrolimus pini)、ダイアファニア・ニチダリス(Diapha nia nitidalis)、ダイアトラエア・グルンディオセーラ (Diatraea grndiosella)、エアリアス・インスラナ (Earias insulana)、エラスモパルパス・リグノセーラス (Elasmopalpus lignosellus)、オイポエシリア・ア ムピグエーラ(Eupoecilia ambiguella)、エベトリア・ ブーリアナ(Evetria bouliana)、フェルチア・サブテーラネ ア(Feltia subterranea)、ガレリア メロネーラ (Galleria mellonella)、グラホリタ・フネブラナ (Grapholita funebrana)、グラホリタ・モレスタ、 (Grapholita molesta)、ヘリオテス・アルミゲラ (Heliothis armigera)、ヘリオテス・ピレセンス (Heliothis virescens)、ヘリオテス・ジー (heliothis zea)、ヘールラ・アンダリス(Hellula u ndalis)、ヒベルニア・デフォリアリア(Hibernia defol iaria)、ヒファントリア・クネア(Hyphantria cunea) 、ヒポノムータ・マリネラス(Hyponomeuta malinellus )、ケイフェリア・リコペルシセーラ (Keifferia lycopersicella)、ラムブディナ・フィ セラリア(Lambdina fiscellaria)、ラフィグマ・エクシ グア(Laphygma exigua)、ロイコプテラ・カフィーラ (Leucoptera coffeella)、ロイコプテラ・シテルラ (Leucoptera scitella)、リソコレーチス・ブランカルデ ーラ(Lithocolletis blancardella)、ロベシア・ ボトラナ(Lobesia botrana)、ロクソステーゲ・スティクティ カリス(Loxostege sticticalis)、リマントリア・ディ スパー(Lymantria dispar)、リマントリア・モナチャ (Lymantria monacha)、リオネチア・クレルケーラ (Lyonetia clerkella)、マラコソマ・ノイストリア (Malacosoma neustria)、マメストラ・ブラシ−カエ (Mamestra brassicae)、オルギィア・シュードツガタ (Orgyia pseudotsugata)、オストリニア・ヌビラリス (Ostrinia nubilalis)、パノリス・フラメア (Panolis flamea)、ペクチノフォラ・ゴシィピエーラ (Pectinophora gossypiella)、ペリドロマ・サウシ ア(Peridroma Saucia)、ファレラ・ブスファーラ (Phalera bucephala)、フトリマエア・オペルキュレーラ (Phthorimaea operculella)、フィロチスティス・シ トレーラ(Phyllochitis citrella)、ピエリス・ブラシ ーカ(Pieris brassicae)、プラティペナ・スカルブラ (Plathypena scarbra)、プルテーラ・キシロステーラ (Plutella xylostella)、シュードプルシア・インクルデ ンス(Pseudoplusia includens)、フィアシオニア・フ ルストラナ (Phyacionia frustrana)、スクロビパルプ ラ・アブソルタ(Scrobipalpula absoluta)、シトトロ ガ・セレレーラ(Sitotroga cerelella)、スパルガノティ ス・ピレリアナ(Sparganothis pilleriana)、スポド プテラ・フルジペルダ(Spodoptera frugiperda)、スポ ドプテラ・リトラリス(Spodoptera littoralis)、スポ ドプテラ・リチュラ(Spodoptera litura)、タウマトポエア ・ピティオカムパ(Thaumatopoea pityocampa)、トリ トリックス・ビリダナ(Tortrix viridana),トリコプルシア ・ニ(Trichoplusia ni)、ザイラフェラ・カナデンシス (Zeiraphera canadensis)が属する。 鞘翅目(Coleoptera)としては例えばアグリラス・シヌアタス (Agrilus sinuatus)、アグリオテス・リネアタス (Agriotes lineatus)、アグリオテス・オブスキュラス (Agriotes obscurus)、アンフィマーラス・ソルスティティ アリス(Amphimallus solstitialis)、アニサンドラ ス・ディスパー(Anisandrus dispar),アンソノムス・グラ ンデイス(Anthonomus grandis)、アンソノムス・ポモラム (Anthonomus pomorum)、アトマリア・リネアリム (Atomaria linearis)、ブラストファグス・ピニペルダ (Blastophagus piniperda)、ブリトファガ・ウンダタ (Blitophaga undata)、ブルカス・ルフィマヌス (Bruchus rufimanus)、ブルカス・ピソラム (Bruchus pisorum)、ブルカス・ベチュラエ(Bruchus betulae)、ブルカス・レンティス(Bruchus lentis) 、カシィーダ・ネビュローサ(Cassida nebulosa)、セロトマ ・トリフルカタ(Cerotoma trifurcata)、シュートリーン カス・アッシミリス (Ceuthorrhynchus assimilis)、シュートリーンカ ス・ナピ(Ceuthorrhynchus napi)、チャエトクネマ・テ ィビアリル(Chaetocnema tibialis)、コノデラス・ベス ペルティナス(Conoderus vespertinus)、クリオセリス ・アスパラギー(Crioceris asparagi)、ダイアブロティカ ・ロンジコロニス(Diabrotica longicornis)、ダイア ブロティカ・12−プンクタタ(Diabrotica 12− punctata)、ダイアブロティカ・ビルジフェラ(Diabrotica virgifera)、エピラシュナ・バリベスティス(Epilachna varivestis)、エピトリックス・ヒルティペニス(Epitrix hirtipennis)、オイティノボスラス・ブラシリエンシス (Eutinobothrus brasiliensis)、ヒロビウス・ア ビエティス(Hylobius abietis)、ヒペラ・ポスティカ (Hypera postica)、ヒペラ・ブルネイペニス(Hypera brunneipennis)、イプス・ティポグラファス(Ips typo graphus)、レマ・ビリネアタア(Lema bilineata)、レ マ・メラノプス(Lema melanopus)、レプチノタルサ・デセムリ ネアタ(Leptinotarsa decemlineata)、リモニウス ・カリフォルニカス (Limonius californicus)、リソルホプトラス・オリゾ フィラス(Lissorhoptrus oryzophilus)、メラノタ ス・コミュニス(Melanotus communis)、メリゲテス・アエ ネウス(Meligethes aeneus)、メロロンタ・ヒポカスタニ (Melolontha hippocastani)、メロロンタ・メロロン タ(Melolontha melolontha)、オンレマ・オリーザ (Onlema oryzae)、オルティオリーンカス・サルカタス (Ortiorrhynchus sulcatus)、オルテゥオリーンカス ・オバタス(Ortiorrhynchus ovatus)、ファエドン・コ ックレアリア(Phaedon cochleariae)、ピロトレタ・クリ ソセファラ(Phyllotreta chrysocephala)、フィロ フィガ・エスピー(Phyllophaga sp.)、フィロペルサ・ホルテ ィコラ(Phyllopertha horticola)、フィロトレタ・ネ モラム(Phyllotreta nemorum)、フィロトレタ・ストリオ ラタ(Phyllotreta striolata)、ポピーリア・ジャポニ カ(Popillia japonica)、シトナ・リネアタス (Sitona lineatus)、シトフィラス・グラナリア (Sitophilus granaria)が属する。 双翅目(Diptera)としてはアエデス・アエジプティ(Aedes a egypti)、アエデス・ベクサンス(Aedes vexans)、アナス トレファ・ルーデンス(Anastrepha ludens)、アノフェレス ・マクリペニス(Anopheles maculipennis)、セラティ ティス・カピタタ(Ceratitis capitata)、クリソミヤ・ベ ジーアナ(Chrysomya bezziana)、クリソミヤ・ホミニポラ ックス(Chrysomya hominivorax)、クリソミヤ・マセー ラリア(Chrysomya macellaria)、コンタリニア・ソルジ ヒコラ(Contarinia sorghicola)、コルディロビア・ア ンスロポファガ(Cordylobia anthropophaga)、キュ レックス・ピピエンス(Culex pipiens)、ダカス・キュキュルビ テア(Dacus cucurbitae)、ダカス・オレアレ(Dacus oleae)、ダシネウラ・ブラシーカ(Dasineura brassic ae)、ファニア・ カニキュラリス(Fannia canicularis)、ガステロフィラス ・インティティナリス(Gasterophilus intestinali s)、グロシア・モルシタンス(Glossia morsitans)、ヘマ トビア・イリタンス(Haematobia irritans)、ハプロディ プロシス・エケストリス (Haplodiplosis equestris)、ヒーレミア・プラチュ ラ(Hylemyia platura)、ヒポデルマ・リネアタ (Hypoderma lineata)、リリオミザ・サチバエ (Liriomyza sativae)、リリオミザ・トリフォリィ (Liriomyza trifolii)、ルシリア・カプリナ (Lucilia caprina)、ルシリア・クプリナ(Lucilia cuprina)、ルシリア・セリカタ(Lucilia sericata) 、リコリア・ペクトラリス(Lycoria pectoralis)、マエテ ィオラ・デストラクター(Mayetiola destructor)、ムス カ・ドメスティカ(Musca domestica)、ムシーナ・スタビュラ ンス(Muscina stabulans)、オエストラス・オビス(Oes trus ovis)、オッシネーラ・フリット(Oscinella fri t)、ペゴミア・ヒソシャーミ(Pegomya hysocyami)、フォ ルビア・アンティカ (Phorbia antiqua)、フォルビア・ブラシーカ (Phorbia brassicae)、フォレビア・コアルクタタ (Phorbia coarctata)、ラゴレティス・セラシ (Rhagoletis cerasi)、ラゴレティス・ポモネーラ (Rhagoletis pomonella)、タバナス・ボビヌス (Tabanus bovinus)、ティプラ・オレラセア(Tipula oleracea)、ティプラ・パルドサ(Tipula paludosa) が属する。 総翅目(Thysanoptera)として例えばフランクリニエーラ・フス カ(Frankliniella fusca)、フランクリニエーラ・オクシ デンタリス(Frankliniella occidentalis)、フラ ンクリニエーラ・トリティシ(Frankliniella tritici) 、シルトスリップス・シトリ(Scirtothrips citri)、スリ ップス・オリザエ(Thrips oryzae)、スリップス・パルミ(Th rips palmi)、スリップス・タバシ (Thrips tabaci)が属する。 膜翅目(Hymentoptera)としては例えばアサリア・ロザエ (Athalia rosae)、アタ・セファロテス(Atta cepha lotes)、アタ・セックスデンス(Atta sexdens)、アタ・テ キサナ(Atta texana)、ホプロカンパ・ミヌタ(Hoplocam pa minuta)、ホプロカンパ・テスチュディネア(Hoplocamp a testudinea)、モノモリウム・ハァラオニス(Monomori um pharaonis)、ソレノプシス・ゲミナタ(Solenopsis geminata)、ソレノプシス・インビクタ(Solenopsis i nvicta)が属する。 異翅亜目(Heteroptera)としては例えばアクロステルナム・ヒラ レ(Acrosternum hilare)、ブリサッス・ロイコプテラス (Blissus leucopterus)、シルトペルティス・ノタタス (Cyrtopeltis notatus)、ディスデルカス・シングラタス (Dysdercus cingulatus)、デイスデルカス・インテルメ ディアス(Dysdercus intermedius)、オイリーガスター ・インテグリセプス(Eurygaster integriceps)、オイ チスタス・インピクティベントリス(Euchistus impictive ntris)、レプトグローサス・フィロープス(Leptoglossus phyllopus)、リーガス・リネオラリス(Lygus lineola ris)、リーガス・プラテンシス(Lygus pratensis)、ネザ ラ・ビリデゥラ(Nezara viridula)、ピエズマ・カドラタ(P iesma quadrata)、ソルベア・インスラリス(Solubea insularis)、ティアンタ・ペルディトール(Thyanta per ditor)が属する。 同翅亜目(Homoptera)には例えばアシルトシフォン・オノブリーシ ス(Acyrthosiphon onobrychis)、アデルゲス・ラリ シス(Adelges laricis)、アフィドラ・ナスチュルティ(Ap hidula nasturtii)、アフィス・ファバエ(Aphis fa bae)、アフィス・ポミ(Aphis pomi)、アフィス・サンブシ(A phis sambuci)、ブラチーカウダス・カルデゥイ (Brachycaudus cardui)、ブレブコリンネ・ブラシイーカ (Brevicoryne brassicae)、セロシィファ.ゴシィープ イ(Cerosipha gossypii)、ドレフュシア・ノルドマンニィ アナエ(Dreyfusia nordmannianae)、ドレフュシア・ ピセェア(Dreyfusia piceae)、ドレフュシア・ラジコラ (Dreyfusia radicola)、ディサウラコルツム・プソイドソ ラニ(Dysaulacorthum pseudosolani)、エムポア スカ・ファベイー(Empoasca fabei)、マクロシフム・アベナエ (Macrosiphum avenae)、マクロシフム・オイフォルビア (Macrosiphum euphorbiae)、マクロシフム.ロザエ (Macrosiphum rosae)、メグーラ・ビシア(Megoura viciae)、メトポロフィウム・ディルホダム (Metopolophium dirhodum)、ミゾデス・ペルシカエ (Myzodes persicae)、ミザス・セラシー(Myzus ce rasi)、ニラパルバタ・ルゲンス(Nilaparvata lugens )、ペムフィガス・バルサリウス(Pemphigus bursarius) 、ペルキンシェラ・サッカリシィデ (Perkinsiella saccharicida)、フォロドン・フム リー(Phorodon humuli)、プシーラ・マリ (Psylla mali)、プシーラ・ピリ(Psylla piri)、ロパロミーズス・ア スカロニカス(Rhopalomyzus ascalonicus)、ロパロ シィフム・マイディス(Rhopalosiphum maidis)、サパフ ィス・マラ(Sappaphis mala)、サパフィス・マリー (Sappaphis mali)、シザフィス・グラミナム (Schizaphis graminum)、シゾネウラ・ラヌジイノサ (Schizoneura lanuginosa)、トリアロイロデス・バポ ラリオラム(Trialeurodes vaporariorum)、ビテウ ス・ビティフォリー(Viteus vitifolii)が属する。 等翅目(Isoptera)には例えばカロテルメス・フラビコーリス (Calotermes flavicollis)、ロイコテルミス・フラビ ペス(Leucotermes flavipes)、レティキュリテルメス・ ルシフグス(Reticulitermes lucifuqus)、テルメス ・ナタレンシス(Termes natalensis)が属する。 直翅目(Orthoptera)には例えばアチタ・ドメスチカ (Acheta domestica)、ブラッタ・オリエンタリス (Blatta orientalis)、ブラッタ・ジェルマニカ (Blatta germanica)、フォルフィキュラ・アウリキュラリア (Forficula auricularia)、グリーロタルパ・グリーロ タルパ(Gryllotalpa gryllotalpa)、ロカスタ・ミグ ラトリア(Locusta migratoria)、メラノプラス・ビリッタ タス(Melanoplus brittatus)、メラノプラス・フェムル −ルブラム(Melanoplus femurrubrum)、メラノプラス ・メキシカナス(Melanoplus mexicanus)、メラノプラス ・サングイニペス(Melanoplus sanguinipes)、メラノ プラス・スプレタス(Melanoplus spretus)、ノマダリクス ・セプテムファシィアータ(Nomadacris septemfascia ta)、ペリプラネタ・アメリカーナ (Periplaneta americana)、シストセルサ・アメリカー ナ(Schistocerca americana)、シストセルサ・ペレグ リナ(Schistocerca peregrina)、スタウロノタス・マ ロッカナス(Stauronotus maroccanus)、タキシネス・ アシーナモラス(Tachycines asynamorus)が属する。 蛛形類(Acarina)例えばアムブリオンマ・アメリカナム (Amblyomma americanum)、アムブリオンマ・バリエガタ ム(Amblyomma variegatum)、アルガス・ペルシカス (Argas persicus)、ブーフィラス・アンヌラタス (Boophilus annulatus)、ブーフィラス・デコロラタス (Boophilus decoloratus)、ブーフィラス・ミクロプラ ス(Boophilus microplus)、ブレビパルパス・フェニシス (Brevipalpus phoenicis)、ブリオビア・プラエティオ サア(Bryobia praetiosa)、デルマセントール・シルバラム (Dermacentor silvarum)、エオテトラニーカス・カルピ ニ(Eotetranychus carpini)、エリオフェス・シエルド ニ(Eriphyes sheldoni)、ヘイアロムマ・トランカタム (Hyalomma truncatum)、イクソデス・リシナス (Ixodes ricinus)、イクソデス・ルビカンダス(Ixodes rubicundus)、オルニトドラス・マウバタ (Ornithodorus moubata)、オトビンス・メグニニ (Otobins megnini)、パラテラニーカス・ピロサス (Parateranychus pilosus)、デルマニーサス・ガリー ナエ(Dermanyssus gallinae)、フィロカプトラッタ・オ レイボラ(Phyllocaptrata oleivora)、ポリファゴタ ルソネムス・ラタス(Polyphagotarsonemus latus) 、プソロプテス・オビス(Psoroptes ovis)、リピセファラス・ アペンディキュラタス(Rhipicephalus appendicula tus)、リピセファラス・エヴェルトシー(Rhipicephalus e vertsi)、サクソプテス・スカビエイ(Saccoptes scabi ei)、テトラニカス・シンナバリナス (Tetranychus cinnabarinus)、テトラニカス・カン ザワイ(Tetranychus kanzawai)、テトラニカス・パシフ ィカス(Tetranychus pacificus)、テトラニカス・テラ リウス(Tetranychus telarius)、テトラニカス・ウルチ ィカエ(Tetranychus urticae)が属する。 円虫類として例えば根状虫線虫には、例えばメロイドギーネ・ハプラ (Meloidogyne hapla)、メロイドギーネ・インコグニタ (Meloidogyne incognita)、メロイドギーネ・ジャバニ カ(Meloidogyne javanica)が属する。 包嚢形成線虫には、例えばグロボデラ・ロストチーエンシス (Globodera rostochiensis)、ヘテロデラ・アベナエ (Heterodera avenae)、ヘテロデラ・グリシナエ (Heterodera glycinae)、ヘテロデラ.シヤッティー (Heterodera schatii)、ヘテロデラ・トリフォロリー (Heterodera triflolii)、幹および葉線虫には、例えば ベロノライムス・ロンジカウダタス(Belonolaimus longic audatus)、ジチレンカス・デストラクター (Ditylenchus destructor)、ジチレンカス・ディプサ シ(Ditylenchus dipsaci)、ヘリオコチレンカス・マルチ シンクタス(Heliocotylenchus multicinctus) 、ロンジドラス・エロンガタス (Longidorus elongatus)、ラドフォラス・シミリス (Radopholus similis)、ロチレンカス・ロブスタス (Rotylenchus robustus)、トリコドラス・プリミティバ ス(Trichodorus primitivus)、チレンコリーンカス・ クレイトニ(Tylenchorynchus claytoni)、チレンコ リーンカス・ドビウス(Tylenchorynchus dubius)、プ ラチーレンカス・ネグレクタス(Pratylenchus neglectu s)、プラチーレンカス・ペネトランス (Pratylenchus penetrans)、プラチーレンカス・キュ ルビタタス(Pratylenchus curvitatus)、プラチーレ ンカス・グッディイー(Pratylenchus goodeyi)が属する 。 有効成分は、それだけで、あるいは公知の配合助剤を用いて得られる処方(組 成物)の形又はそれらから得られる処方形態で、適用することができる。例えば 直接的に噴霧可能な溶液、粉末、懸濁液もしくは分散液、エマルジョン、油性分 散液、ペースト、ダスト剤、散布剤または顆粒の形で、噴霧法、ミスト法、ダス ト法、散布法または散水法によって施与することができる。施与形態は、完全に 使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の有効成分の可能な 限りの微細分配が保証されるべきである。 直接使用できる調製物の有効成分の濃度は、比較的広い範囲で変更することが できる。一般に、0.0001〜10%の範囲、好ましくは0.01〜1%の範 囲である。 有効成分は、超低量(ULV)法により非常に良好に施与されるが、95重量 %を上回る有効成分を含有する調製物または添加剤を全く含有しない有効成分を 用いることも可能である。 屋外の条件で、有効成分の有害生物を防除するための施与率は、0.1〜2. 0kg/ha.(ヘクタール)が一般的で、0.2〜1.0kg/ha.が好ま しい。 直接噴霧可能の溶液、乳濁液、ペーストまたは油分散液を製造するために、中 位乃至高位の沸点の鉱油留分、例えば燈油またはディーゼル油、更にコールター ル油等、並びに植物性または動物性の油、脂肪族、環状および芳香族炭化水素、 例えばトルエン、キシレン、パラフィン、テトラヒドロナフタリン、アルキル置 換ナフタリンまたはその誘導体、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタ ノール、クロロホルム、四塩化炭素、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、 クロルベンゼン、イソホロン等、強極性溶剤、例えばN,N−ジメチルホルムア ミド、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、水が好適に使用される。 水性施与形態は、乳濁液濃縮物、ペースト、または湿潤可能な粉末(噴霧可能 粉末、油性分散液)から水の添加により製造することができる。乳濁液、ペース トまたは油分散液の製造は、物質をそのまま、または油または溶剤中に溶解して 、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または乳化剤により水中に均質に混合することに より行うことができる。あるいは有効物質、湿潤剤、粘着付与剤、分散剤または 乳化剤および所望により溶剤または油よりなる濃縮物を製造することもでき、こ れは水にて希釈するのに適する。 好適な界面活性剤としては次のものが挙げることができる:リグニンスルホン 酸、フェノールスルホン酸、ナフタリンスルホン酸、ジブチルナフタリンスルホ ン酸のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩及びアンモニウム塩;アルキルアリ ールスルホナート、アルキルスルファート、脂肪アルコールスルファート、脂肪 酸及びそのアルカリ金属塩及びアルカリ土類金属塩;硫酸化脂肪アルコールグリ コールエーテルの塩;並びにスルホン化ナフタリンおよびナフタリン誘導体とホ ルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタリン或はナフタリンスルホン酸とフェノ ールおよびホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフ ェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノール、エトキシル化オクチ ルフェノール、エトキシル化ノニルフェノール、アルキルフェニルポリグリコー ルエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポ リエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコール/エチレン オキシド縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル 、またはポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ラウリルアルコールポリグリ コールエーテルアセタート、ソルビットエステル、リグニン−亜硫酸廃液および メチルセルロース。 粉末剤、散布剤及びダスト剤は活性物質と固体担体物質とを混合または一緒に 磨砕することにより製造することができる。 一般に、処方は、有効成分を、0.01〜95重量%、好ましくは0.1〜9 0重量%の量で含む。有効成分は90−100%の純度(NMRスペクトルによ る)のもの、好ましくは95〜100%の純度のものが使用される。 例えば、下記のように処方することができる: I.5重量部の本発明の化合物を、微粒状カオリン95重量部と密に混相する 。かくして有効成分5重量%を含有するダスト剤が得られる。 II.30重量部の本発明の化合物を、粉末状シリカゲル92重量部およびこの シリカゲルの表面上に吹きつけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密 に混和する。かくして良好な接着性を有する有効成分の製剤が得られる(有効成 分含有量は23重量%)。 III.10重量部の本発明の化合物を、キシレン90重量部、エチレンオキシ ド8乃至10モルをオレイン酸N−モノエタノールアミド1モルに付加した付加 生成物6重量部、ドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩2重量部およびエ チレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加した付加生成物2重量部よりな る混合物中に溶解する(有効成分含有量は9重量%)。 IV.20重量部の本発明の化合物を、シクロヘキサノン60重量部、イソブタ ノール30重量部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフェノール1モルに 付加した付加生成物5重量部およびエチレンオキシド40モルをヒマシ油1モル に付加した付加生成物5重量部よりなる混合物中に溶解する(有効成分含有量は 16重量%)。 V.80重量部の本発明の化合物を、ジイソブチルナフタリン−α−スルホン 酸のナトリウム塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルホン酸のナトリウ ム塩10重量部及び粉末状シリカゲル7重量部と充分に混和し、かつハンマーミ ル中において磨砕する(有効成分含有量は80重量%)。 VI.90重量部の本発明の化合物Iを、N−メチル−α−ピロリドン10重量 部と混合し、極めて小さい滴の形での使用に好適な溶液が得られる(有効成分含 有量は90重量%)。 VII.20重量部の本発明の化合物を、シクロヘキサノン40重量部、イソブ タノール30重量部、エチレンオキシド7モルをイソオクチルフェノール1モル に付加した付加生成物20重量部およびエチレンオキシド40モルをヒマシ油1 モルに付加した付加生成物10重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を 水100000重量部に注ぎかつ細分散することにより有効成分0.02重量% を含有する水性分散液が得られる。 VIII.20重量部の本発明の化合物Iを、ジイソブチルナフタリン−α−スル ホン酸のナトリウム塩3重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルホン酸のナト リウム塩17重量部および粉末状シリカゲル60重量部と充分に混和し、かつハ ンマーミル中において磨砕する。この混合物を水20000重量部に細分散する ことにより有効成分0.1重量%を含有する噴霧液が得られる。 粒状体(例えば被覆粒状体、含浸粒状体および均質粒状体)は、有効物質を固 体担体物質に結合させることにより製造することができる。 固体担体物質の例としては、鉱物土(例えば、珪酸、シリカゲル、珪酸塩、タ ルク、カオリン、アタクレー(attaclay)、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰 質黄色粘土、クレイ、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸 化マグネシウム、磨砕合成物質)、及び肥料(例えば,硫酸アンモニウム、燐酸 アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素)及び植物性生成物(例えば、穀物粉、 樹皮、木材およびクルミ穀粉、セルロース粉末)および他の固形担体物質である 。 種々のタイプの油、除草剤、殺虫剤、他の殺菌剤または殺バクテリア剤を、有 効成分に、加えることができる。所望により施与(タンク混合)直前に加えるこ とができる。これらの薬剤は、本発明の薬剤と1:10−10:1の範囲(重量 比)で混合することができる。 [合成例] 下記の合成例で示される記録は、適宜に出発物質を部分変更することにより他 の化合物Iを得るために使用することができる。得られた化合物とその物理デー タは下記の表に示す。 [実施例1] メチルE−2−メトキシイミノ−2−[(2−[6−(メトキシイミノエター 1’−イル)−ピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセテート( 化合物No.2) 第1工程:2−エトキシ−6−ブロモピリジン 20gの2,6−ジブロモピリジンを、130mlのジメチルホルムアミドに 導入した。6.4gのナトリウムエタノラートを加えた。反応混合物を55℃に て2時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却した後、それを約900m1の50 %濃度塩化アンモニウム水溶液に注いだ。混合物をメチルtert−ブチルエー テルを用いて4回抽出した。有機層を集め、50%濃度炭酸水素ナトリウム水溶 液で三回洗浄し、次いで硫酸マグネシウム上で乾燥した。溶剤を除去した後、残 った16.8gの2−エトキシ−6−ブロモピリジンを、さらに精製すること無 しに次の工程で使用した。 第2工程:2−エトキシ−6−アセチルピリジン 16.8gの2−エトキシ−6−ブロモピリジンを、−75℃にて220ml のテトラヒドロフランに導入した。54.4mlのn−ブチルリチウム(1.6 モルn−ヘキサン溶液)を、この温度で滴下した。攪拌を−75℃で2時間続け 、この温度で7.6gのN,N−ジメチルアセトアミドを滴下した。混合物を− 75℃で更に攪拌し、その後−10℃に暖めた。次いで、この温度にて、まず約 170mlの20%濃度塩化アンモニウム水溶液を、次いで200mlの水を滴 下した。混合物をメチルtert−ブチルエーテルで3回抽出した。有機層を集 め、3回水洗し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶剤を除去した後、残渣 を、シクロヘキサン/メチルtert−ブチルエーテル(8:1)を用いてシリ カゲル上でクロマトグラフィ分析(分離)を行った。こうして、無色固体の5. 5gの2−エトキシ−6−アセチルピリジン(融点:36〜37℃)を得た。 第3工程:2−ヒドロキシ−6−アセチルピリジン 48.5gの2−エトキシ−6−アセチルピリジンを、l45mlの臭化水素 溶液(30%濃度氷酢酸溶液)に導入し、混合物を95℃に加熱した。更に17 6mlの臭化水素溶液(30%濃度氷酢酸溶液)をこの温度で滴下した。この混 合物を95℃で3時間攪拌し、その後室温に冷却した。これを氷水に注ぎ、50 %濃度水酸化ナトリウム水溶液でpH7に中和した。次いで、混合物をメチルt ert−ブチルエーテルで3回抽出した。水層を濃縮した。残渣をアセトンで4 回攪拌(抽出)した。アセトン層を集め、濃縮し、無色固体の38.5gの2− ヒドロキシ−6−アセチルピリジン(融点:115〜117℃)を得た。 第4工程:2−ヒドロキシ−6−(メトキシイミノエタ−l’−イル)ピリジ ン 4.1gの2−ヒドロキシ−6−アセチルピリジン及び3.8gのメトキシア ミン塩酸塩を、60mlのメタノールに導入し、混合物を5%水酸化ナトリウム 水溶液を用いてpH5に調整した。この混合物を60℃で3時間攪拌し、その後 室温で14時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣を、酢酸エチルを用いて シリカゲル上でクロマトグラフィ分析を行った。こうして、無色固体の4gの2 −ヒドロキシ−6−(メトキシイミノエタ−1’−イル)ピリジン(融点:10 2〜103℃)を得た。 第5工程:表題化合物 4gの2−ヒドロキシ−6−(メトキシイミノエタ−1’−イル)ピリジン、 6.9gのメチルE−2−メトキシイミノ−2−[2−(ブロモエチル)フェニ ル]アセテート及び5gの炭酸カリウムを、80mlのジメチルホルムアミド中 に加えて、600℃で2時間攪拌し、その後室温で14時間攪拌した。残渣をメ チルtert−ブチルエーテル中に採取した。それを水洗し、硫酸ナトリウム上 で乾燥し、再濃縮した。粗生成物を20mlの熱イソプロパノール中に溶解した 。その溶液が室温まで冷えたとき、沈殿が始まった。40mlのn−ヘキサンを 添加した。沈殿した生成物をろ過し、乾燥した。無色固体の表題化合物6.4g (融点:110〜101℃)を得た。 [実施例2] N−メチル-E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[6−(メトキシイミノ エタ−1’−イル)−ピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセテ ート(化合物No.1) 経路A: 5.2gのメチルエステル(実施例1の表題化合物)を、50mlのテトラヒ ドロフランに溶解し、10.9gの40%濃度メチルアミン水溶液を添加した。 混合物を60℃で5時間攪拌した。このバッチは冷却した後、濃縮した。残渣を 100mlのメチルtert−ブチルエーテルに採取した。有機層を水洗し、硫 酸ナトリウム上で乾燥し、次いで蒸発乾涸した。こうして、無色固体の表題化合 物4.9g(融点:63〜64℃)を得た。 経路B: 第1工程:2−ブロモ−6−アセチルピリジン 29.7gの2,6−ジブロモピリジンを、300mlのジエチルエーテル中 で、86.1mlのn−ブチルリチウム(1.6モルn−ヘキサン溶液)及び1 2gのN,N−ジメチルアセトアミドと反応させて、2−ブロモ−6−アセチル ピリジンを得た。この反応は、文献[J.Organomet.Chem.56 (1973),53-66; Chem.Ber.125 (1992),1169-1190]に記載されている。 第2工程:2−ブロモ−6−(メトキシイミノエタ−1’−イル)−ピリジン 2gの2−ブロモ−6−アセチルピリジン及び1.25gのメトキシアミン塩 酸塩を、20mlのピリジンに加え、室温(約25℃)で14時間攪拌した。反 応混合物をメチルtert−ブチルエーテルに採取した。有機層をまず10%濃 度塩酸で洗浄し、その後水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで蒸発乾涸し た。残った2.3gの2−ブロモ−6−(メトキシイミノエタ−1’−イル)− ピリジンを、さらに精製すること無しに次の第3工程で使用した。 第3工程:表題化合物 1.1gのN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[2−(ヒドロキシメ チル)フェニル]アセトアミドを10mlのジメチルホルムアミドに溶解した溶 液を、室温で、0.14gの水素化ナトリウムを溶解した5mlのジメチルホル ムアミドに滴下した。攪拌を超音波槽で10分間続けた。次いで、1.15gの 2−ブロモ−6−(メトキシイミノエタ−1’−イル)ピリジンを12mlのジ メチルホルムアミドに溶解した溶液を滴下した。混合物を120℃にて4時間攪 拌した。このバッチを冷却した後、濃縮した。残渣をメチルtert−ブチルエ ーテルに採取した。有機層を水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで蒸発乾 涸した。残渣を、シクロヘキサン/メチルtert−ブチルエーテル(1:2) を用いてシリカゲル上でクロマトグラフィ分析を行った。こうして、無色固体の 0.35gの表題化合物(融点:63〜64℃)を得た。 [実施例3] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3−メチル-5−(エ トキシイミノエタ−1’−イル)−ピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェ ニル]アセトアミド(化合物No.17) 第1工程:2−ブロモ−3−メチル-5−アセチルピリジン 12.2gの2−ブロモ−3−メチル-5−ヨードピリジン[J.Org.Chem.60 (1995),5358 に記載のように製造]を120mlのジエチルエーテルに導入し た。28.1mlのn−ブチルリチウム(1.6モルn−ヘキサン溶液)を−7 5℃で滴下した。混合物を−75℃で1時間攪拌し、その後−40℃で30分間 攪拌した。3.9gのジメチルアセトアミドを−75℃で滴下した。混合物を− 75℃で15分間攪拌し、その後−40℃で2時間攪拌した。反応混合物を− 10℃に暖め、約100mlの20%濃度の塩化アンモニウム水溶液を加えた。 有機層を分離した。水層をメチルtert−ブチルエーテルで3回抽出した。有 機層を集め、3回水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで濃縮した。残渣を 、シクロヘキサン/酢酸エチル(1:1)を用いてシリカゲル上でクロマトグラ フィ分析を行った。こうして、無色固体の2−ブロモ−3−メチル−5−アセチ ルピリジン(融点:114〜115℃)5.3gを得た。 第2工程:N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3−メチル −5−アセチルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセトアミド 3.1gのN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[2−(ヒドロキシメ チル)フェニル]アセトアミドを25mlのジメチルホルムアミドに溶解した溶 液を、0.39gの水素化ナトリウムを5mlのジメチルホルムアミドに溶解し た溶液に、室温にて滴下した。攪拌を超音波槽内で15分間続けた。次いで、3 gの2−ブロモ−3−メチル−5−アセチルピリジンを40mlのジメチルホル ムアミドに溶解した溶液を滴下した。混合物を60℃で3時間攪拌した。このバ ッチを冷却した後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに採取した。有機層を水洗し、 硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで蒸発乾涸した。残渣を、シクロヘキサン/メ チルtert−ブチルエーテル(1:2)を用いてシリカゲル上でクロマトグラ フィ分析を行った。こうして、無色固体の2.6gのN−メチル−E−2−メト キシイミノ−2−[(2−[3−メチル−5−アセチルピリジン−2−イル)] オキシメチル)フェニル]アセトアミド(融点:97〜99℃)を得た。 第3工程:表題化合物 第2工程で得られたN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3 −メチル−5−アセチルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセ トアミド1gと、0.57gのエトキシアミン塩酸塩を、10mlのメタノール に溶解した。反応混合物を10%濃度の塩酸を用いてpH5に調整した。混合物 を60℃で2時間攪拌し、更に室温で12時間攪拌した。反応混合物を濃縮した 。残渣をメチルtert−ブチルエーテルに採取し、水洗し、再濃縮した。粗生 成物を少量のメチルtert−ブチルエーテルに溶解した。n−ペンタンを添加 することにより生成物を結晶として沈殿させた。こうして、無色固体の0. 8gの表題化合物(融点:97〜99℃)を得た。 [実施例4] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3−クロロ−5−(プ ロパ−l”−エン−3”−オキシイミノエタ−1’−イル)ピリジン−2−イル )]オキシメチル)フェニル]アセトアミド(化合物No.14) 第1工程:2,3−ジクロロ−5−アセチルピリジン 2,3−ジクロロ−5−アセチルピリジンを、文献(参照、DE−A3838 243、EP−A446872;Tetrahedron 48,22(1992)9233以下)に記載 されているように製造した。 第2工程:N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3−クロロ −5−アセチルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセトアミド 22.2gのN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[2−(ヒドロキシ メチル)フェニル]アセトアミドを200mlのジメチルホルムアミドに溶解し た溶液を、2.64gの水素化ナトリウムを50mlのジメチルホルムアミドに 溶解した溶液に、室温にて滴下した。攪拌を超音波槽内で20分間続けた。次い で、19gの2,3−ジクロロ−5−アセチルピリジンを150mlのジメチル ホルムアミドに溶解した溶液を滴下した。混合物を室温で14時間攪拌し、そし て50℃で5時間攪拌した。この反応混合物を冷却した後、それを1.5L(リ ットル)の水に採取し、メチルtert−ブチルエーテルで3回抽出した。有機 層を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで濃縮した。残渣を、イソ プロパノールから再結晶させた。こうして、無色固体の15.5gのN−メチル −E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3−クロロ−5−アセチルピリジン −2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセトアミド(融点:133〜134 ℃)を得た。 第3工程:表題化合物 第2工程で得られたN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[3 −クロロ−5−アセチルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセ トアミド1.5gと、0.66gのプロパ−1−エン−3−オキシアミン塩酸塩 とを、0.48gのピリジンに加え、12時間攪拌した。反応混合物を濃縮した 。残渣をメチルtert−ブチルエーテルに採取し、水洗し、硫酸ナトリウム上 で乾燥し、そして再濃縮した。粗生成物をn−ヘキサン/酢酸エチルから再結晶 させた。こうして、無色固体のl.25gの表題化合物(融点:77〜79℃) を得た。 [実施例5] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−(プロパ−1”イ ン−3”−オキシイミノエタ−1”−イル)ピリジン−2−イル)]オキシメチ ル)フェニル]アセトアミド(化合物No.28) 第1工程:2−クロロ−5−アセチルピリジン、又は2−ブロモ−5−アセチ ルピリジン 2−クロロ−5−アセチルピリジン又は2−ブロモ−5−アセチルピリジンを 、文献(参照、Chem.Ber.125(1992)1169-1190; Tetrahedron 48,22(1992 )9233 以下)に記載されているように製造し、そしてこれらの化合物のそれぞ れを第2工程で使用することができた。利用するのは、2−クロロ−5−アセチ ルピリジンとの反応の典型的な記載である。 第2工程:N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−アセチ ルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセトアミド 17.8gのN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[2−(ドロキシメ チル)フェニル]アセトアミドを120mlのジメチルホルムアミドに溶解した 溶液を、2.22gの水素化ナトリウムを20mlのジメチルホルムアミドに溶 解した溶液に、室温にて滴下した。攪拌を室温で20分間続け、そして超音波槽 内で40℃にて90分間続けた。次いで、12.4gの2−クロロ−5−アセチ ルピリジンを100mlのジメチルホルムアミドに溶解した溶液を滴下した。混 合物を45℃で3時間攪拌し、そして室温で12時間攪拌した。この反応混合物 を1Lの水に採取し、メチルtert−ブチルエーテルで3回抽出した。有機層 を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで濃縮した。残渣を、イソプ ロパノールから再結晶させた。こうして、無色固体の16.7gのN−メチル− E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−アセチルピリジン−2−イル)] オキシメチル)フェニル]アセトアミド(融点:132〜134℃)を得た。 第3工程:表題化合物 第2工程で得られたN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5 −アセチルピリジン−2−イル)]オキシメチル)フェニル]アセトアミド1. 4gを25mlのメタノールに溶解した溶液と、0.66gのプロパ−l−イン −3−オキシアミン塩酸塩を、0.48gのピリジンに加え、45℃で3時間攪 拌し、次いで室温で12時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。残渣をメチルt ert−ブチルエーテルに採取し、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして 再濃縮した。こうして、無色樹脂である1.54gの表題化合物を得た。 [実施例6] N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−(ベンジルオキシ イミノエタ−1’−イル)ピリジン−2−イル)]オキシ)フェニル]アセトア ミド(化合物No.22) 第1工程:N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−アセチ ルピリジン−2−イル)]オキシ)フェニル]アセトアミド 8.9gの2−クロロ−5−アセチルピリジン、9.9gのN−メチル−E− 2−メトキシイミノ−2−[2−(ヒドロキ)フェニル]アセトアミド及び9. 9gの炭酸カリウムを120mlのジメチルホルムアミドに加え、70℃で12 時間攪拌した。この反応混合物を0.5Lの水に採取し、メチルtert−ブチ ルエーテルで3回抽出した。有機層を集め、水洗し、硫酸ナトリウム上で乾燥し 、次いで濃縮した。残渣を、シクロヘキサン/酢酸エチル(1:2)を用いてシ リカゲル上でクロマトグラフィ分析を行った。こうして、無色固体の3.5gの N−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5−アセチルピリジン− 2−イル)]オキシ)フェニル]アセトアミド(融点:116〜117℃)を得 た。 第2工程:表題化合物 第1工程で得られたN−メチル−E−2−メトキシイミノ−2−[(2−[5 −アセチルピリジン−2−イル)]オキシ)フェニル]アセトアミド0.7gを 15mlのメタノールに溶解した溶液と、0.34gのベンジルオキシアミンと の反応混合物を、10%濃度の塩酸でpH5に調整した。この反応混合物を、4 5℃で3時間攪拌し、次いで室温で12時間攪拌した。反応混合物を濃縮した。 残渣をメチルtert−ブチルエーテルに採取し、水洗し、硫酸ナトリウム上で 乾燥し、そして再濃縮した。こうして、無色固体の0.8gの表題化合物(融点 :88〜89℃)を得た。 [有害菌類に対する作用例] 下記の試験により、一般式Iの化合物の殺菌作用を示す: 有効成分を、70重量%のシクロヘキサノン、20重量%のNekanil( 登録商標)LN(Lutensol(登録商標)AP6、エトキシル化アルキル フェノールを基礎とする乳化作用および分散作用を有する湿潤剤)および10重 量%のEmulphor(登録商標)EL(Emulan(登録商標)EL、エ トキシル化脂肪アルコールを基礎とする乳化剤)から成る混合物中の濃度20重 量%の乳濁液として調製し、所望の濃度に水で希釈した。 プラズモパラ・ビチコラ(Plasmopara viticola;ブドウ 蔓のうどん粉病)に対する作用 「Mueller−thurgau」種の鉢植えのブドウの蔓に、上記の有効 成分の調製液を、滴り落ちる程度に噴霧した(施与率:16ppm)。8日後、 植物にプラスモパラ・ビチコラの遊走子水性懸濁液を噴霧し、20〜30℃)高 大気湿度の環境に5日間保管した。評価する前に、植物を高大気湿度の環境に再 び16時間保管した。評価は目視で行った。 この試験において、本発明の化合物(即ち、本発明のI.1、I.2、I.3 、I.4、I.5、I.6、I.7、I.8、I.9、I.10、I.11、I .12、I.13、I.14、I.15、I.16、I.17、I.20、I. 23、I.24、I.25、I.26、I.27、I.28、I.29、I.3 2、I.33及びI.34)で処理された作物は、被害領域15%以下であり、 一方未処理の作物(対照)は被害領域は80%であった。 プッキニア・リコンディタ(コムギのさび菌)に対する作用 コムギ(Kanzler種)の葉にさび菌(プッキニア・リコンディタ)の胞 子を振りかけた。このように処理された植物を20〜22℃、相対湿度90〜9 5%で24時間培養し、次いで有効物質の水性調製液で処理した(施与率:63 ppm)。20〜22℃相対湿度65〜70%で更に8日間保管した後、菌の繁 殖の程度を測定した。目視にて評価を行った。 この試験において、本発明の化合物(即ち、本発明のI.1、I.3、I.6 、I.7、I.8、I.10、I.11、I.12、I.13、I.14、 I.15、I.16、I.17、I.22、I.23、I.24、I.25、I .26、I.28、I.29、I.31、I.32、I.33及びI.34)で 処理された作物は、感染領域15%以下であり、一方未処理の作物(対照)は感 染領域は60%であった。 [有害動物に対する作用例] 有害動物に対する一般式Iの化合物の作用を以下の実験で示した。 有効成分を a)0.1%濃度アセトン溶液、または b)70重量%のシクロヘキサノン、20重量%のNekanil(登録商標) LN(Lutensol(登録商標)AP6、エトキシル化アルキルフェノール を基礎とする乳化作用および分散作用を有する湿潤剤)および10重量%のEm ulphor(登録商標)EL(Emulan(登録商標)EL、エトキシル化 脂肪アルコールを基礎とする乳化剤)の混合物中に分散させた10%濃度エマル ジョンとして調製し、 a)の場合はアセトンで、b)の場合は水で希釈し、所望の濃度を得た。 実験の終了後、本発明の化合物が未処理対照に比較してなお80〜100%の 阻害率または致死率を与える、最低濃度(作用の限界または最低濃度)が、各場 合について測定された。 ネホテティックス・シンクティセプス(Nehotettix・cincti ceps)(ヨコバイ:green riceleafhopper)、接触作 用 円形のフィルターを有効成分の水性調製液で処理し、次いでこれに5匹のヨコ バイの成虫を配置した。24時間後、致死量を評価した。 この実験において、化合物I.23、I.24、I.25、I.26、I.2 7及びI.28の作用限界濃度は0.2mgであることがわかった。 アフィス・ファバエ(Aphis fabae:黒色豆アブラムシ)、接触作 用 極度の被害を被った矮小形豆(Vicia faba)を有効成分の水性調製 液で処理し、24時間後の致死率を評価した。 この実験において、化合物I.7及びI.11の作用限界濃度は200ppm であった。 テトラニカス・ウルチカエ(Tetranychus urticae)(ハ ダニ)、接触作用 成葉の第二の双葉を有する、鉢植えの矮小形豆類を有効物質の水性調製液で処 理した。24時間後、植物を高度に感染した葉の部分で感染させた。温室に12 日間保管した後、感染の程度を測定した。 この実験において、化合物I.10、I.11、I.12、I.13、I.1 4及びI.22が200ppm以下の作用限界濃度を示した。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】1998年3月2日(1998.3.2) 【補正内容】 請求の範囲 1.式I: [但し、Qが、C(CO2 CH3 )=CHCH3 、C(CO2 CH3 )=CHO CH3 、C(CONH2 )=NOCH3 、C(CO2 CH3 )=NOCH3 、 C(CONHCH3 )=NOCH3 又はN(OCH3 )−CO2 CH3 を表し; nが0又は1を表し; R1 が水素、又は非置換或いは置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル 、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール或いはヘテロアリールを表し; R2 が、水素、又は非置換或いは置換されたアルキル、アルケニル、アルキニル 、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリールを表し、且つ これらの基は骨格に直接(炭素原子を介して)又は酸素原子、硫黄原子或いは窒 素原子を介して結合しており; R3 が、水素、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル又はC1 〜C2 ハロアルキルを 表し; xが、0、1又は2を表し、且つxが2を表す場合はR4が互いに異なってい ても良く; R4が、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は非置換或いは置換されたアルキル、 アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール或いはヘ テロアリールを表し、且つこれらの基は骨格に直接(炭素原子を介して)又は酸 素原子、硫黄原子或いは窒素原子を介して結合しており; yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5 が互いに 異なっていても良く; R5 が、シアノ、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル又 はC1 〜C4 アルコキシを表す。] で表されるピリジルフェニルエーテル又はピリジルベンジルエーテル、又はその 塩もしくはそのN−オキシド。 2.式IIa : [但し、L1 が求核的に置換可能な脱離基を表す。]で表されるピリジン誘導体 を、式IIIa : で表されるフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式 IVa : で表される対応するエーテルに転化する工程と、次いでIVa をO−置換ヒドロキ シルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させてI を得る工程を含む請 求項1に記載の化合物Iの製造方法。 3.請求項2に記載の式IIa のピリジン誘導体を、O−置換ヒドロキシルアミン (R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させて式Va :で表される対応する化合物に転化させる工程と、次いでVaを請求項2に記載され た式IIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させてIを 得る工程を含む請求項1に記載の化合物1の製造方法。 4.式IIb : で表されるピリジンアルコールを、式IIIb : [但し、L2 が求核的に置換可能な脱離基を表す。]で表されるベンジル化合物 と不活性溶剤中で反応させて、式IVb : で表される対応するベンジルエーテルに転化する工程と、次いでIVb をO−置換 ヒドロキシルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させてI を得る工程 を含む、nが1の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 5.請求項4に記載の式IIb のピリジンアルコールを、O−置換ヒドロキシルア ミン(R1−O−NH2)又はその塩と反応させて式Vb :で表される対応する化合物に転化させる工程と、次いでVbを請求項4に記載の式 IIIbのベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させてIを得る工程を含む、nが1 の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 6.式Xa : [但し、Y1がハロゲン原子を表す。]で表されるエーテルを、 a)式VIIb : [但し、Y2がハロゲン原子、アミド基又はエステル基を表す。] で表される活性化カルボン酸、又は対応するシアニドR2−C≡Nと、不活溶剤 中で、有機金属塩基の存在下に反応させる工程、或いは b)式XI : [但し、RXが相互に独立してアルキルを表す。] で表される有機錫化合物と、不活性溶剤中で反応させる工程のいずれかの工程を 含む請求項2に記載の化合物IVa 製造方法。 7.式II: [但し、置換基R2 、R3 、R4 及びインデックスxが請求項1と同義であり、 Lがヒドロキシル、ハロゲン、アルキルスルホネート又はアリールスルホネー トを表し、 Zが基NOR1(R1が請求項1と同義である)を表す。]で表される化合物。 8.固体もしくは液体の担体と、請求項1に記載の式Iの化合物とを含む有害生 物又は有害菌類の防除に好適な組成物。 9.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害菌類を、又は菌類 感染から保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害菌 類の防除方法。 10.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害生物を、又はこ れらから保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害生 物の防除方法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07D 401/12 C07D 401/12 405/12 405/12 409/12 409/12 413/12 413/12 417/12 417/12 (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),UA(AM,AZ,BY ,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM),AU,BG ,BR,CA,CN,CZ,GE,HU,IL,JP, KR,LV,MX,NO,NZ,PL,RO,RU,S G,SI,SK,TR,UA,US (72)発明者 ザウター,フーベルト ドイツ国、D―68167、マンハイム、ネカ ルプロメナーデ、20 (72)発明者 グロテ,トーマス ドイツ国、D―67105、シファーシュタッ ト、ブレスラウァ、シュトラーセ、6 (72)発明者 ミュラー,ベルント ドイツ国、D―67227、フランケンタール、 ジャン―ガンス―シュトラーセ、21 (72)発明者 キルストゲン,ラインハルト ドイツ国、D―67434、ノイシュタット、 エルケンブレヒトシュトラーセ、23エー (72)発明者 ミュラー,ルート ドイツ国、D―67159、フリーデルスハイ ム、フォン―ヴィーザー―シュトラーセ、 1 (72)発明者 バイァ,ヘルベルト ドイツ国、D―68159、マンハイム、デー 3.4 (72)発明者 プトック,アルネ ドイツ国、D―67067、ルートヴィッヒス ハーフェン、アイヒェンシュトラーセ、23 (72)発明者 ラック,ミヒャエル ドイツ国、D―69123、ハイデルベルク、 ザントヴィンゲルト、67 (72)発明者 ハロイス,アルブレヒト ドイツ国、D―67063、ルートヴィッヒス ハーフェン、ボイテナー、シュトラーセ、 10 (72)発明者 レール,フランツ ドイツ国、D―67105、シファーシュタッ ト、ゼバスティアン―クナイプ―シュトラ ーセ、17 (72)発明者 ロレンツ,ギーゼラ ドイツ国、D―67434、ハムバッハ、エル レンヴェーク、13 (72)発明者 アマーマン,エーバーハルト ドイツ国、D―64646、ヘペンハイム、フ ォン―ガーゲルン―シュトラーセ、2 (72)発明者 シュトラトマン,ズィークフリート ドイツ国、D―67117、リムブルガーホー フ、ドナースベルクシュトラーセ、9 (72)発明者 ハリース,フォルカー ドイツ国、D―67227、フランケンタール、 イメンゲルテンヴェーク、29エー

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.式I: [但し、Qが、C(CO2 CH3 )=CHCH3、C(CO2 CH3 )=CHO CH3 、C(CONH2 )=NOCH3 、C(CO2 CH3 )=NOCH3 、 C(CONHCH3 )=NOCH3 又はN(OCH3 )−CO2 CH3 を表し; nが0又は1を表し; R1 が水素又は炭素原子を介して結合した有機基を表し; R2 が、水素、シアノ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もしく は窒素原子を介して結合した有機基を表し; R3 が、水素、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル又はC1 〜C2 ハロアルキルを 表し; xが、0、1又は2を表し、且つxが2を表す場合はR4 が互いに異なってい ても良く; R4 が、シアノ、ニトロ、ハロゲン、又は炭素原子、酸素原子、硫黄原子もし くは窒素原子を介して結合した有機基を表し; yが、0、1、2又は3を表し、且つyが2又は3を表す場合はR5 が互いに 異なっていても良く; R5 が、シアノ、ハロゲン、C1 〜C4 アルキル、C1 〜C4 ハロアルキル又 はC1 〜C4 アルコキシを表す。] で表されるピリジルフェニルエーテル又はピリジルベンジルエーテル、又はその 塩もしくはそのN−オキシド。 2.R1 が水素又は下記の基:即ち、非置換或いは置換されたアルキル、アルケ ニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリ ールから選ばれる1個の基を表す請求項1に記載の式Iで表される化合物。 3.R2 が水素又は下記の基:即ち、非置換或いは置換されたアルキル、アルケ ニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリール又はヘテロアリ ールから選ばれる1個の基を表し、且つこれらの基は骨格に直接(炭素原子を介 して)又は酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子を介して結合している請求項1 に記載の式Iで表される化合物。 4.R4 が、シアノ、ニトロ、ハロゲン又は下記の基:即ち、非置換或いは置換 されたアルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、ヘテロシクリル、 アリール又はヘテロアリールから選ばれる1個の基を表し、且つこれらの基は骨 格に直接(炭素原子を介して)又は酸素原子、硫黄原子もしくは窒素原子を介し て結合している請求項1に記載の式Iで表される化合物。 5.式IIa : [但し、L1 が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるピリジン誘導体を、式IIIa: で表されるフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させて、式 IVa : で表される対応するエーテルに転化する工程と、次いでIVa をO−置換ヒドロキ シルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させてIを得る工程を含む請 求項1に記載の化合物Iの製造方法。 6.請求項5に記載の式IIa のピリジン誘導体を、O−置換ヒドロキシルアミン (R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させて式Va: で表される対応する化合物に転化させる工程と、次いでVaを請求項5に記載され た式IIIaのフェノール又はベンジルアルコールと不活性溶剤中で反応させてIを 得る工程を含む請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 7.式IIb : で表されるピリジンアルコールを、式IIIb: [但し、L2 が求核的に置換可能な脱離基を表す。] で表されるベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させて、式IVb : で表される対応するベンジルエーテルに転化する工程と、次いでIVb をO−置換 ヒドロキシルアミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させてIを得る工程 を含む、nが1の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 8.請求項7に記載の式IIb のピリジンアルコールを、O−置換ヒドロキシルア ミン(R1 −O−NH2 )又はその塩と反応させて式Vb: で表される対応する化合物に転化させる工程と、次いでVbを請求項7に記載の式 IIIbのベンジル化合物と不活性溶剤中で反応させてIを得る工程を含む、nが1 の場合の請求項1に記載の化合物Iの製造方法。 9.式Xa: [但し、Y1 がハロゲン原子を表す。] で表されるエーテルを、 a)式VIIb: [但し、Y2 がハロゲン原子、アミド基又はエステル基を表す。] で表される活性化カルボン酸、又は対応するシアニドR2 −C≡Nと、不活性溶 剤中で、有機金属塩基の存在下に反応させる工程、或いは b)式XI:[但し、RX が相互に独立してアルキルを表す。] で表される有機錫化合物と、不活性溶剤中で反応させる工程のいずれかの工程を 含む請求項5に記載の化合物IVa の製造方法。 10.式II: [但し、置換基R2 、R3 、R4 及びインデックスxが請求項1と同義であり、 Lがヒドロキシル又は求核的に置換可能な脱離基を表し、 Zが酸素又は基NOR1 (R1 が請求項1と同義である)を表す。] で表される化合物。 11.請求項10に記載の化合物IIを中間体として使用する方法。 12.一般式X: [但し、置換基Q、R2 、R3 、R4 及びR5 、そしてインデックスn、x及び yが請求項1と同義であり、そしてYがハロゲン又はCO−R2 (R2は請求項 1と同義である)を表す。] で表される化合物。 13.請求項12に記載の化合物Xを中間体として使用する方法。 14.固体もしくは液体の担体と、請求項1に記載の式Iの化合物とを含む有害 生物又は有害菌類の防除に好適な組成物。 15.有害生物又は有害菌類の防除に好適な組成物を製造するために請求項1に 記載の化合物Iを使用する方法。 16.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害菌類を、又は菌 類感染から保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害 菌類の防除方法。 17.有効量の、請求項1に記載の式Iの化合物を用いて、有害生物を、又はこ れらから保護すべき資材、植物、土壌或いは種子を、処理する工程を含む有害生 物の防除方法。
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