JP2000501476A - 孔プレート及び孔プレートを備えた弁 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明に基づく孔プレートは、流体のための貫通孔を設けてあり、貫通孔が入口開口（４０）、出口開口（４２）及びその間に配置された少なくとも１つの通路（４１：キャビティ）から成っているものである。孔プレート（２３）の、それぞれ特徴付けられた開口構造（４０，４１，４２）を備えた少なくとも３つの機能平面（３５，３６，３７）が電気めっき式の金属沈積によって重ねて形成され（多層電気めっき）、その結果、孔プレート（２３）が一体的に生じる。孔プレート（２３）は液力的に絞り作用を排除しておきたいので、入口開口（４０）ができるだけ大きな周囲で形成されている。孔プレート（２３）が特に噴射弁への使用のために適し、塗料塗布ノズル、吸引器、インクジェット式印刷機若しくは冷凍乾燥法において使用され、液体の噴射のために、若しくは薬剤の噴霧のために用いられる。

Description

【発明の詳細な説明】 孔プレート及び孔プレートを備えた弁 背景技術 本発明は、請求項１に記載の形式の孔プレート及び請求項２４に記載の形式の 孔プレートを備えた弁から出発する。 既に米国特許第４８２８１８４号公報により、いわゆるＳタイプ・プレートを なす孔プレート型でノズルを製造することは公知である。これによって、入口開 口と出口開口とが孔プレート内で互いにずらして形成され、従って必然的に孔プ レートを流過する液体の流れ内にＳ字・経過が得られる。この公知の孔プレート はボンドで接合された平らな２つのプレート片によって形成されており、プレー ト片は珪素から成っており、この場合、上側の第１の珪素プレート片内に複数の 入口開口が設けられ、かつ第１の珪素プレート片に堅く結合された下側の第２の 珪素プレート片に厳密に１つの出口開口が設けられている。珪素プレート片に厚 さの減少された区分が形成されており、これによって剪断間隙がプレート片の端 面に対して平行に第１のプレート片の複数の開口と第２のプレート片の１つの開 口との間に形成されている。公知のマスク技術を用いて、多数の孔プレート構造 を有する珪素ウェハーへの エッチングによって入口開口及び出口開口が形成される。孔プレートの開口の角 錐台状の輪郭が必然的に異方性のエッチング技術から生じる。 米国特許第５３８３５９７号公報により、有利には珪素からなるＳタイプ・プ レートの形式の孔プレートが公知である。孔プレートの材料及び製造形式に無関 係に孔プレートは互いに堅く結合された２つのプレート片から成っており、該プ レート片が互いに直接に接触していて、順次に流過される。上側の第１のプレー ト片に複数の入口開口を設けてあり、入口開口が第１のプレート片の下流側の端 面で切欠かれた通路区分に通じている。下側の第２のプレート片が複数の出口開 口を有しており、出口開口が第２のプレート片の上流側の端面に凹所として形成 された通路区分から延びている。孔プレートの組み立てられた状態で両方のプレ ート片は互いに重なっていて、両方のプレート片の通路区分が一緒に通路若しく はキャビティ(cavitie)を形成しており、通路が入口開口と出口開口との間で流 過される。珪素プレート片のための加工手段としてのエッチングによって入口開 口及び出口開口は常に角錐台の形で生じる。同じく通路は壁面傾斜を有しており 、壁面傾斜は珪素の結晶格子によって生じる。 互いに密に接触されて堅く結合された２つのプレート片から成り特に燃料噴射 弁に用いられる別の孔プレートが、米国特許第５４４９１１４号公報により公知 である。珪素若しくは複数の金属から成る孔プレートにおいては、上側の第１の プレート片に唯一の入口開口を形成してあり、該入口開口が上側の第１のプレー ト片の下流側の端面に形成された通路としての穴に通じている。下側の第２のプ レート片内には４つの出口開口が上側の入口開口に対してずらして形成されてい る。出口開口と入口開口との間のずれは、流過する液体、特に燃料の流れにＳ字 ・経過を生ぜしめるようになっている。 珪素から成る前記すべての孔プレートにおいては欠点として、珪素のもろさに 基づき十分な強度が得られない。噴射弁への連続負荷（機関振動）によって珪素 プレート片の破損のおそれがある。金属製の構成部分、例えば噴射弁への珪素プ レート片の組込には費用がかかり、それというのは特に応力のない締め付け手段 が見つけられねばならず、弁の密閉が問題である。噴射弁への珪素から成る孔プ レートの溶接は不可能である。さらに欠点として、珪素プレートの開口の縁部が 液体の繰り返される流過によって摩耗される。 さらにドイツ連邦共和国特許第４８３６１５号公報により公知の噴射式内燃機 関のノズルは同じく２つのノズルプレートから形成されており、この場合、ノズ ルプレートが互いにずらして配置された入口開口及び出口開口を有していて、流 過する燃料の裂断を助成する。金属製の両方のノズルプレート片は従来の技術（ エンボス加工、プレス、圧延、切断、穿孔、フライス加工、研削など）によって 形成され若しくは処理されている。 従来公知のすべての孔プレートにおいては共通して、互いにセパレートに形成 して処理される複数のノズルプレート片が接合手段によって結合されねばならな い。このことは、例えば珪素プレートにおいてはボンドによって、かつ金属のプ レート片においては溶接若しくはろう付けによって行われる。本来の結合手段に 加えて、別の作業過程、例えば個々のプレート間の相互のセンタリングが必要で ある。このような時間及び費用のかかる方法過程は不都合にノズルプレート片の 変形を生ぜしめることになる。 発明の利点 請求項１に記載の構成を有する本発明に基づく孔プレートにおいては利点とし て、孔プレートが簡単にコンパクトに製造され、流体の均一な微細な噴霧が付加 エネルギなしに、即ち供給可能な媒体圧力によってのみ達成され、この場合、特 に高い噴霧特性及びそれぞれの要求に適合された噴射流が達成される。このよう な孔プレートを、請求項２４に記載の弁、特に内燃機関の燃料噴射弁に使用した 場合、内燃機関の排ガスエミッションが減少され、同じく燃料消費量の減少が達 成される。 孔プレートを液力的に絞り作用を生ぜしめないよう に構成すると特に有利である。このことを達成するために、孔プレートを通る流 路の横断面積が所定の値、若しくは特別な相互関係を有している。孔プレートの 入口での圧力損失（パルス損失）を避けるため、及び流れ内の高い噴霧エネルギ を保つために、孔プレートの内部の通路の入口横断面積が有利には有利には出口 横断面積よりも大きな値を有している。入口横断面積がすべての入口開口の周囲 (Umfang)の総計と通路の、すべての入口開口の横断面(Querschnitt)に対して垂 直な高さとの積として与えられているのに対して、出口横断面積の値がすべての 出口開口の周囲の総計と通路の高さとの乗法によって求められる。孔プレート内 の前記形式で形成された流路が高い流動圧力若しくは流動パルスを保証し、その 結果、流体の特に良好な噴霧が可能である。すべての入口開口の横断面積が前述 の入口横断面積よりも大きくなっていると利点である。即ち、寸法が著しく小さ く、それにも拘わらず絞り作用の生じない孔プレートにとって、最適な噴霧を達 成するために、入口開口の横断面積＞入口横断面積＞出口横断面積の関係が適用 されたい。 さらに利点が、電気めっき式の金属デポジションによって形成される孔プレー トを一体的に構成しているところにあり、それというのは個別の機能平面が直接 に連続して行われる金属デポジション過程で重ねて形成されるからである。金属 デポジションを終了した後 では、孔プレートが一体に生じ、従って、個別のノズルプレートを結合するため の時間及び費用のかかる作業過程が不要である。さらに、複数部分から成る孔プ レートにおいて個別のプレート片の相互のセンタリング若しくは位置決めによっ て生じるような問題がない。 従属項に記載の構成によって、請求項１に記載の孔プレートの有利な改善が可 能である。 電気めっき式の金属デポジションによって有利な形式で、孔プレートが再現性 を以て極めて正確にかつ安価に著しく大きな個品数で同時に形成される。さらに このような製造形式は著しく大きな設計自由度を可能にし、それというのは孔プ レート内の開口の輪郭が自由に選択可能であるからである。特に、結晶軸に基づ き厳しい輪郭（角錐台）しか得られない珪素孔プレート(Siliziumlochscheibe) と比較して、フレキシブルなデザインが極めて有利である。金属デポジションは 珪素プレートの製造に比べて極めて高い材料多様性の利点を有している。本発明 に基づく孔プレートの製造に際しては、異なる磁気特性及び硬さを有する種々の 金属が使用できる。 特に有利には、本発明に基づく孔プレートは、エキゾチック(exotisch)な、ビ ザール(bizarr)な噴射流形を得るためにＳタイプ・プレートの形で形成される。 Ｓタイプ・プレートにとって、入口開口と出口開口と の間にずれを設けると最適である。ずれは、入口開口の入口開口縁部と所属の出 口開口の出口開口縁部との間の間隔として理解されるものであり、従って入口開 口と出口開口とのオーバーラップ(Ueberlappung)は存在していない。わずかな事 例において、前述の意味でのずれを設けず、若しくは極めてわずかなオーバーラ ップを設けることも有利であり、オーバーラップは流れが常にＳ字・経過を描く ように小さく選ばれている。これらのすべてのＳタイプ・孔プレートは単噴流ス プレー(Einstrahlspray)、双噴流スプレー（Zweistrahlspray)及び多噴流スプレ ー(Mehrstrahlspray)にとって、無数のバリエーションの噴射流横断面、例えば 方形、三角形、十字形、楕円を可能にする。このような通常でない噴射流形状が 所定の幾何学寸法、例えば内燃機関の吸込管横断面への著しく最適な適合を可能 にする。これによって、均質に分配されて排ガスの減少される混合気形成が行わ れ、かつ吸気管壁への排ガス有害物質の堆積が避けられる。さらに本発明に基づ く孔プレートの著しい利点として、簡単な形式で噴射流バリエーションが可能で ある。特に簡単に、フラットな、円錐形の、複数の個別噴流を有する非対称的な （片側に向けられた）噴射流が形成可能である。 流れ内の高い噴霧エネルギを保つために、入口開口が蛇行して、コウモリ形、 十字形、歯車状、骨形、三日月形、Ｔ字形、円形リング区分状に、若しくはその 他の形で大きな周囲を以て形成されている。入口開口の大きな周囲は、特に所望 される比較的に大きな入口横断面積を意味している。有利な形式では、入口開口 の横断面積が出口開口の横断面積よりも大きいか若しくは同じである。 多層電気めっきによって、特に簡単な形式で安価に極めて高い精度で孔プレー ト内にアンダーカットが形成される。 さらなる利点が実施例の説明で述べる。 本発明の実施例を図面に示して、次ぎに詳細に述べる。図１は本発明に基づく 第１の孔プレートを備えた噴射弁を部分的に示しており、図２は第２の孔プレー トを平面図で示し、図２ａ乃至図２ｃは図２の孔プレートの個々の機能平面を示 し、図３は孔プレートを図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面で示し、図４は第 ３の孔プレートを平面で示し、図４ａは図４の孔プレートで形成可能なフラット な噴射流を示しており、図４ｂは図４の孔プレートで形成可能で２つの個別噴流 を有する噴射流を示しており、図５は第４の孔プレートを平面図で示し、図６は 第５の孔プレートを平面図で示し、図７は第６の孔プレートを平面図で示し、図 ８は第７の孔プレートを平面図で示し、図９は孔プレートを図８のＩＸ−ＩＸ線 に沿った断面で示し、図１０は第８の孔プレートを平面図で示し、図１１は第９ の孔プレートを平面図で示し、図１１ａ乃至図１１ｃ は図１１の孔プレートの個々の機能平面を示し、図１１ｄは図１１の孔プレート で形成可能な円錐台形の噴射流を示しており、図１２は第１０の孔プレートを平 面図で示し、図１３は第１１の孔プレートを平面図で示し、図１３ａ乃至図１３ ｃは図１３の孔プレートの個々の機能平面を示し、図１４は第１２の孔プレート を平面図で示し、図１４ａ乃至図１４ｃは図１４の孔プレートの個々の機能平面 を示し、図１４ｄは図１４の孔プレートで形成可能で片側に向けられた非対称的 な噴射流を示しており、図１５は第１３の孔プレートを平面図で示し、図１６は 孔プレートの概略的な断面図であり、図１７は孔プレートの、入口開口縁部と出 口開口縁部との間のずれ若しくはオーバーラップを示す縦断面図であり、図１８ は本発明に基づく孔プレート内の流路のわたる流れ横断面のダイヤフラムを図４ の孔プレートのための模範的な値を伴って示している。 実施例の説明 図１には実施例として、混合気圧縮外部点火式の内燃機関の燃料噴射装置の噴 射弁の形の弁が部分的に示してある。噴射弁は管状の弁座支持体１を有しており 、弁座支持体内に弁縦軸線２に対して同軸的に縦孔３が形成されている。縦孔３ 内に例えば管状の弁ニードル５を配置してあり、弁ニードルが下流側の端部６に 例えば球形の弁閉鎖体７に堅く結合されており、弁閉 鎖体の周囲に、燃料を流過させるための例えば５つの面取り部８が設けられてい る。 噴射弁の操作は公知の形式で、例えば電磁式に行われる。弁ニードル５の軸線 方向の運動のため、ひいては噴射弁の戻しばね（図示せず）のばね力に抗した開 放若しくは閉鎖のために、概略的に示す電磁回路を用いてあり、電磁回路がマグ ネットコイル１０、可動子１１及びコア１２を備えている。可動子１１は弁ニー ドル５の、弁閉鎖体７と逆の側の端部に、例えばレーザーを用いて溶接継ぎ目に よって結合されていて、かつコア１２に向けられている。 軸線方向運動中の弁閉鎖体７の案内のために、弁座本体１６の案内開口１５が 用いられており、弁座本体が弁座支持体１の、コア１２と逆の側の下流に位置す る端部で、弁縦軸線２に対して同軸的に延びる縦孔３内に溶接によって密接に組 み込まれている。弁座本体１６は、弁閉鎖体７と逆の側の下側の端部で、例えば 鉢形(topffoermig)に形成された孔プレート支持体２１に堅くかつ同軸的に結合 されており、孔プレート支持体が少なくとも外側の環状区分２２で直接に弁座本 体１６に接触している。孔プレート支持体２１は、既に公知の鉢形の噴射孔プレ ートと類似の形を成しており、孔プレート支持体２１の中央の区分が調量機能の ない貫通開口２０を備えている。 本発明に基づき形成された孔プレート(Lochscheibe )２３は貫通開口２０の上流側に配置されて、該貫通開口を完全に被っている。 孔プレート２３はもっぱら挿入体を成しており、挿入体が孔プレート支持体２１ 内に装着可能である。孔プレート支持体２１は底部部分(Bodenteil)２４及び保 持縁部２６を備えている。保持縁部２６は弁座本体１６と逆の側で軸線方向に延 びて、端部まで円錐形に外側へ曲げられている。底部部分２４は外側の環状区分 ２２及び中央の貫通開口２０によって形成されている。 弁座本体１６と孔プレート支持体２１との結合は、例えばレーザーを用いて形 成された環状の密接な第１の溶接継ぎ目２５によって行われる。このような形式 の組立によって、孔プレート支持体２１の貫通開口２０を備える中央区分及び上 流側に配置された孔プレート２３の不都合な変形が避けられる。孔プレート支持 体２１はさらに保持縁部２６の領域で弁座支持体１の縦孔３の壁に、例えば環状 の密接な第２の溶接継ぎ目３０によって結合されている。 円形の溶接継ぎ目２５の内側の貫通開口２０の領域で孔プレート２１と弁座本 体１６との間に締め込み可能な孔プレート２３は、例えば段状に形成されている 。基礎区分３２よりも直径の小さな上側の孔プレート区分３３が、弁座本体１６ の弁座面２９の下流側に続く円筒形の出口開口３１内に正確な寸法で係合してい る。孔プレート区分３３と出口開口３１とが締まり嵌 め(Presspassung)されるようになっていてよい。孔プレート２３の、孔プレート 区分３３を半径方向で越えていて締め込み可能な基礎区分３２は、弁座本体１６ の下側の端面１７に接触しており、従ってこの箇所では孔プレート支持体２１の 底部部分２４が端面１７に対してわずかな距離を置いて位置している。孔プレー ト区分３３が例えば２つの機能平面(Funktionsebene)、即ち中間の機能平面及び 上側の機能平面を有しているのに対して、下側の機能平面は基礎区分３２だけを 形成している。この場合、機能平面は軸線方向距離にわたってほぼコンスタント な開口輪郭を有していたい。 弁座本体１６、鉢形の孔プレート支持体２１及び孔プレート２３から成る弁座 部分の、縦孔３内への押し込み深さが、弁ニードル５の行程の大きさを規定し、 それというのは弁ニードル５の１つの終端位置がマグネットコイル１０の非励磁 の際に弁座本体１６の弁座面２９への弁閉鎖体７の接触によって規定されている からである。弁ニードル５の別の終端位置はマグネットコイル１０の励磁の際に 例えば可動子１１とコア１２との接触によって規定される。弁ニードル５の両方 の終端位置間の距離が行程を成している。球形の弁閉鎖体７は弁座本体１６の流 れ方向で円錐台形に狭まる弁座面２９と協働するようになっており、弁座面は軸 線方向で弁座本体１６の案内開口１５と下側の出口開 口３１との間に形成されている。 弁座本体１６の出口開口３１内に配置されてかつ孔プレート支持体２１によっ て直接に弁座本体１６の端面１７に保持される孔プレート２３は、図１には簡単 に示してあるものの、続く図面で詳細に説明する。孔プレート２３を孔プレート 支持体２１によって装着すること及び固定のための締め付けは、弁座面２９の下 流側での孔プレート２３の取り付けの可能な１つの変化例であるにすぎない。弁 座本体１６への孔プレート２３の間接的な取り付けとしての前述の緊定において は利点として、孔プレート２３の直接的な取り付けの際の溶接若しくはろう付け のような方法で生じる熱に起因した変形が避けられる。しかしながら、孔プレー ト支持体２１はもっぱら孔プレート２３の取り付けのための条片を成すものでは ない。取り付け手段は本発明の要旨ではないので、ここでは溶接、ろう付け若し くは接着のような公知の接合法に対する示唆を行うだけである。 図２乃至図１５に示す孔プレートは、金属質の複数の機能平面を成して電気め っき式のデポジション(galvanische Abscheidung)によって形成される（多層電 気めっき[Multilayergalvanik]）。深層リソグラフィック式(tiefenlithographi sch)の、電気めっき式の製法に基づき、特徴的な輪郭形成における特徴が得られ 、幾つかの特徴をここに短く要約して挙げる： −プレート面にわたってコンスタントな厚さの機能平面、 −機能平面内への深層リソグラフィック式の構造化によるほぼ垂直な切り込み(E inschnitt)、該切り込みがそれぞれ流過可能な中空室を形成し（理想的に垂直な 壁に対する、製造技術によるほぼ３°の偏差だけしか生ぜす）、 −構造化された個々の金属層の多層構成による切り込みの被い及び所望のアンダ ーカット(Hinterschneidung)、 −ほぼ軸線平行な壁を有する任意な横断面形状の切り込み、 −孔プレートの一体的な構造、それというのは個々の金属デポジションが直接的 に重ねて行われるからである。 ここで、層(Schicht)及び機能平面の用語の定義を行う。孔プレート２３の１ つの機能平面は、軸線方向の全長にわたってすべての開口の相互の配置及び各個 別の孔の寸法を含む輪郭がほぼ一様である１つの薄膜(Lage)である。これに対し て、層は孔プレート２の、１つの電気めっき過程(in einem Galvanikschritt)で 形成される薄膜(Lage)と理解されたい。１つの層は、例えば横方向の成長で形成 可能な複数の機能平面を有していてよい。この場合、１つの電気めっき過程で、 つながった１つの層(Schicht)を成す複数の機能平面(３ つの機能平面を含む１つの孔プレート２３では中央の機能平面及び上側の機能平 面)が形成される。それぞれの機能平面は、直接に続く機能平面に対して異なる 開口輪郭（入口開口、出口開口、通路）を有している。孔プレート２３の個別の 層は順次に電気めっきによってデポジションされ、従って後続層は電気めっきデ ポジションに基づき下に位置する層に堅く結合して、すべての層が一緒に一体構 造の１つの孔プレート２３を形成する。孔プレート２３の個別の機能平面若しく は層は、従来技術の公知の孔プレートの個別に形成されたノズルプレート片と比 較すべきものではない。 次ぎに孔プレート２３の製造方法を短く図１乃至図１６に基づき説明する。孔 プレートを製造するための電気めっき式の金属デポジション(Metallabscheidung )の全段階はドイツ連邦共和国特許出願Ｐ１９６０７２８８．３号明細書に詳細 に記載してある。構造化寸法(Strukturdimension)及び噴射ノズルの精度に対す る高い要求に基づき、マイクロ構造化法(Mikrostrukturierungsverfahren)が今 日、大量生産にとって重要性を増している。一般的に、ノズル若しくは孔プレー ト内での液体、特に燃料の流動にとって、流れの渦形成を助成するような経過が 要求される。フォトリソグラフィック式(photolithographisch)の手段（UV-深層 リソグラフィック［UV-Tiefenlithographie)及び続くマイクロ電気めっき(Mikro galvanik)を順次に使用する 方法にとって特徴的なことは、大きな面においても構造の高い精度が保証され、 従って、該方法が個品数の著しく大きな大量生産に申し分なく利用可能である。 １つのウエハーに複数の孔プレート２３が同時に製造できる。 前記方法の出発点は平らなかつ安定的な支持プレート(Traegerplatte)であり 、支持プレートは例えば金属（チタン、銅）、珪素、ガラス若しくはセラミック から成っていてよい。支持プレート上には、選択的にまず少なくとも１つの補助 層(Hilfsschicht)が電気めっきされる。この場合、補助層は例えば電気めっきス タート層([Galvanikstartschicht]、例えばＣｕ)であり、電気めっきスタート層 は後のマイクロ電気めっき(Mikrogalvanik)のための電気伝導に必要である。電 気めっきスタート層は犠牲層としても用いられ、後でエッチングによって孔プレ ート構造の簡単な個別分割を可能にする。補助層（典型的には、ＣｒＣｕ若しく はＣｒＣｕＣｒ）の形成は、例えばスパッタリング、若しくは無電流の金属分離 によって行われる。支持プレートのこのような前処理の後に、補助層上にフォト レジスト(フォトラッカ［Photolack])が全面に設けられる。 フォトレジストの厚さは、後で行われる電気めっきプロセスで形成すべき金属 層(Metallschicht)の厚さ、即ち孔プレート２３の下側の層若しくは機能平面の 厚さに相応しておきたい。形成すべき金属構造(Metallstruktur)がフォトリソグ ラフィック式のマスクを用いて反転してフォトレジスト内に転写される。直接に マスクを介してＵＶ・露光(UV-Belichtung)によってフォトレジストを露光する ことも可能である（ＵＶ・深層リソグラフィック）。 孔プレート２３の後の機能平面のための最終的にフォトレジスト内に生じたネ ガ構造(Negativstruktur)が電気めっき式に金属（例えば、Ｎｉ，ＮｉＣｏ）で 満たされる（金属デポジション）。金属が電気めっきによってネガ構造の輪郭に 密接するので、所定の輪郭が正確に再現される。孔プレート２３の構造を形成す るために、前記処置が補助層の選択的な形成を除いて所望の層の数に対応して繰 り返され、この場合、例えば２つの機能平面が１つの電気めっき手段で生ぜしめ られる（横方向の成長）。孔プレート２３の層にとって異なる金属を用いてもよ いが、該金属はその都度新たな１つの電気めっき手段で施される。最終的に孔プ レート２３の個別分割が行われる。このために犠牲層がエッチング除去され、こ れによって孔プレート２３が支持プレートからはずされる。次いで、電気めっき スタート層がエッチングによって除去され、次いで残ったフォトレジストが金属 構造からはずされる。 図２は孔プレート２３の有利な実施例の平面図である。孔プレート２３は扁平 な円形の構成部分として形 成されており、該構成部分は軸線方向に連続する複数、例えば３つの機能平面を 有している。図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線に沿った断面図である図３は、孔プレート ２３の３つの機能平面を備えた構成を示しており、この場合、最初に形成された 下側の機能平面３５は、孔プレート２３の最初にデポジションされた層若しくは 基礎区分３２に対応していて、続いて形成される両方の機能平面３６，３７より も大きな直径を有している。機能平面３６，３７は一緒に孔プレート区分３３を 成して、例えば１つの１つの電気めっき処置で形成される。上側の機能平面３７ が最大の周囲の入口開口４０を有しており、入口開口は様式化されたコウモリ（ 若しくはダブルＨ）の形の輪郭を有している。入口開口４０の横断面は、それぞ れ相対して位置する２つの方形の狭窄部(Einschnuerung)４５及び該狭窄部４５ を越えて延びる３つの入口区分４６を備える部分的に丸みの付けられた方形とし て示されている。３つの入口区分４６はコウモリの輪郭に関連して、コウモリの 胴体と２つの翼（若しくはダブルＨの縦棒及び横棒）を成している。下側の機能 平面３５内には、弁縦軸線２、ひいては孔プレート２３の中心軸線に対して同じ 距離でかつ該中心軸線を中心として例えば対称的に配置して方形の４つの出口開 口４２が設けられている。 長方形若しくは正方形の出口開口４２はすべての機能平面３５，３６，３７を １つの面に投射した状態で 、部分的に若しくはほぼ、上側の機能平面３７の狭窄部４５内に位置しており、 ほぼ狭窄部内に位置する場合、狭窄部４５は方形の３つの辺を成している。出口 開口４２は入口開口４０に対してずれされており、即ち、投影図で入口開口４０ はどこでも出口開口４２と重なっていない。ずれはあらゆる方向で異なる大きさ であってよい。図２から明らかなように、例えば、出口開口４２と入口開口４０ の入口区分４６との間のずれが、出口開口４２と入口開口４０の狭窄された区分 との間のずれよりも小さくなっている。 入口開口４０から出口開口４２への流体流れを保証するために、中央の機能平 面３６に通路（キャビティ）４１が形成してある。丸みの付けられた方形の輪郭 を有する通路４１は、投影図で見て入口開口４０を完全に覆って、特に狭窄部４ ５の領域で著しく入口開口４０を越えて延びていて、即ち孔プレート２３の中心 軸線に対して狭窄部４５よりも大きな距離を有する大きさである。４つの出口開 口４２は、狭窄部４５に相対する側で、特に図３から明らかなように、通路４１ の外側の制限部を越えている。通路４１を越えて延びる出口開口４２は、液体の 大きな噴射角度での噴射を可能にする。このようなアンダーカット(Hinterschne idung)が多層電気めっきで問題なく形成される。すべての開口部分４０，４１， ４２の図３に示す申し分なく垂直な壁は、製作技術的な最大ほぼ３°乃至４°の 偏差しか有しておらず、従ってすべての開口部分４０，４１，４２は場合によっ て、流れ方向で見て前述の角度範囲内の最小限度で垂直線から偏向して先細にな る程度である。 図２ａ、図２ｂ及び図２ｃには機能平面３７，３６，３５が各個々の機能平面 の開口輪郭を明確にするために、個別に示してある。これらの各図は各機能平面 ３７，３６，３５に沿った断面図である。個別の各機能平面３７，３６，３５の 開口輪郭を見易くするために、ハッチング及び別の機能平面の縁部の線は省略し てある。機能平面３７，３６，３５は一緒に、一体構造の１つの孔プレート２３ を成している。 孔プレート２３はほぼ２乃至２．５ｍｍの直径の場合に例えば０．３ｍｍの厚 さを有しており、この場合、すべての機能平面３５，３６，３７は例えばそれぞ れ０．１ｍｍの厚さである。特に、キャビティ(Kavitaet)として構成された通路 ４１を備えた中央の機能平面３６は種々の実施形で機能平面３６の厚さに関連し て極めて異なって形成され、従って入口開口４０と出口開口４２との間のずれｖ と通路（キャビティ）４１の高さｈとの比によって流れに著しく簡単に影響を及 ぼすことができる（図１６、参照）。通路４１内に垂直に設定される面が通路４ １の高さｈにわたって所望の経過（図１８）に相応して適合される。孔プレート ２３の前述の寸法並びに別のすべての寸法は発明の理 解のために用いられているものであって、発明を限定するものではない。孔プレ ート２３の個別の構造の相対的な寸法もすべての図面で必ずしも正確な尺度では 示されていない。 出口開口４２と少なくとも１つの入口開口４０との間の前述のずれｖに基づき 、媒体、特に燃料のＳ字形の流れ経過が得られ、従ってこの孔プレート２３はＳ タイプ・プレート(S-Typ-Scheibe)である。半径方向に延びる通路４１によって 媒体は半径方向速度成分を得る。この流れは軸線方向の短い出口流出中に半径方 向速度成分を完全に失うようなことはない。むしろ流れは出口開口４２の、入口 開口４０に向けられた壁における分離で孔プレート２３の弁縦軸線２に対して所 定の角度を成して流出する。入口開口４０、出口開口４２及び通路４１の適当な 配置及び整合に基づき得られる例えば互いに非対称的な個別噴流の組み合わせに よって、異なる量分布を伴った複雑な全噴射流が可能である。 孔プレート２３内の強い複数の流れ転向を有するＳ字・経過によって、流れに 、噴霧を助成する強い渦(Turbulenz)が生ぜしめられる。これによって、流れに 対して横方向の速度勾配が特に強くなる。速度勾配は流れに対する横方向の速度 の変化を表しており、この場合、流れの中央の速度が壁の近くよりも著しく大き くなっている。流体内の速度の差によって高められた剪 断応力が出口開口４２の近傍での微粒子への崩壊を助成する。流れは出口で部分 的に剥離して、従って輪郭案内(Konturfuehrung)の欠落に基づき流動安定性を失 う。流体は剥離側で特に高い速度を有するのに対して、出口開口４２の、流れの 密接する側に向かって流体速度は低下する。従って、噴霧を助成する渦及び剪断 応力が出口で消滅されない。 Ｓ字・経過若しくは出口での流れの剥離が、流体内に、横振動の微小（高周波 ）の渦(Turbulenz)を生ぜしめ、渦が噴射流を孔プレート２３からの流出の直後 に相応に微細な液滴に崩壊させる。渦によって生ぜしめられる剪断応力が大きけ れば大きいほど、流動ベクトルの変化も大きくなる。 続く図面の別の実施例において、図２及び図３に示した実施例と同じ部分は同 じ符号を付けてある。図４に示す孔プレート２３は図２に示す孔プレート２３に 対して次のことによってのみ異なっており、即ち、通路４１が投影図で見て出口 開口４２を全体的に被うように大きく構成されている。これによって、流体流が 各出口開口４２の周囲のすべての箇所で突き出す通路壁を介して出口開口４２内 に入る。 図４ａ及び図４ｂは図４の孔プレートによって得られる可能な２つの噴射状体 を示している。狭窄部４５内に広く配置された出口開口４２は、フラットな噴射 流（図４ａ）を可能にするのに対して、入口開口４０ と出口開口４２との間のずれの増大によって、ひいてはほぼ狭窄部４５の外側に 位置する出口開口４２によって、２つの個別噴流を有する噴射流が得られ（図４ ｂ）、従ってこのような孔プレート２３は双噴流弁(Zweistrahlventil)に適して いる。狭窄部４５内に出口開口４２を例えば非対称的に配置することによって同 じく噴射流のバリエーションが得られる。符号４４で噴射されたスプレーを示し てあり、スプレーが前述の噴射流を成している。図４ａ及び図４ｂに示す噴射流 、若しくは変化した噴射流が図２乃至図９に示す孔プレート２３を用いて形成さ れる。 図５、図６及び図７に示す孔プレート２３の実施例は、図４に示す孔プレート の変化例である。この場合、通路（キャビティ）４１がすべての出口開口４２を 被っており、従って出口開口４２内に周囲のすべての側から流体の流入が可能で ある。図５に示す孔プレート２３は１つの入口開口４０を有しており、該入口開 口は外側の２つの入口区分４６を有しており、両方の入口区分４６間に狭い接続 区分４８を設けてあり、該接続区分は両側の狭窄部４５によって形成されている 。中央の幅広の入口区分４６は形成されておらず、従ってこの入口開口４０は骨 形[knochenfoermig]（回動式留め金状[drehankerfoermig]、ダブルＴ字形[doppe l-T-foermig]）を成している。それぞれ２つの出口開口４２が入口開口４０に対 してずらして少なくとも部 分的に１つの狭窄部４５内に配置されており、もちろん入口開口４０と出口開口 ４２との形成は異なる２つの機能平面３７，３５内に行われる。 図５の孔プレート２３の入口開口４０の両方の入口区分４６を円弧状に延ばす と、図６に示す孔プレート２３が得られる。入口区分４６は、接続区分４８から 出発して円弧状に延ばされて、端部で互いに短い間隔を置いて相対し、即ちほぼ 完全な円形リングを形成している。上側の機能平面３７の入口区分４６のそれぞ れ２つの端部間にある材料の、孔プレート中心を基準とした角度αは例えば４０ °であり、従って入口区分４６はほぼ２８０°にわたって形成されている。これ によって入口開口４０は簡単な形式で大きな周囲を有している。中間の機能平面 ４６内にほぼ円弧状に形成された通路４１は、ちょうど入口区分４６のそれぞれ ２つの端部間の領域に凹み部４９を有しており、凹み部は弁縦軸線２に対して半 径方向内側へ申し分なく円形に湾曲している。出口開口４２は横断面で長方形若 しくは正方形からはずれた輪郭を有してり、該輪郭は台形、多角形、丸味の付け られた長方形、丸味の付けられた多角形、歪められた多角形、或いは楕円形若し くは円形であってよい。所望のずれに応じて、入口開口４０と出口開口４２とが 互いに適合される。入口開口４０の著しく長く延長された入口区分４６によって 、出口開口４２が多くの側から流入されるようになる 。図７に示す孔プレート２３は、図４に示す孔プレート２３と図６に示す孔プレ ート２３とを組み合わせることによって構成されており、従って、中央の入口区 分４６が外側の両方の入口区分４６と一緒に４つの狭窄部４５を形成しており、 出口開口４２が投影図で見て前記狭窄部内に配置されている。 孔プレート２３の、図２及び図４のコウモリ形・入口開口４０をベースに発展 させた構成が図８及び図９に示してあり、この場合、図９は図８のＩＸ−ＩＸ線 に沿った断面図である。出口開口４２及び通路４１はほぼ方形に形成されており 、この場合、通路４１が図４の実施例と同じように出口開口４２を完全に被って いる。重要な点で、図８に示す孔プレート２３は図４に示す孔プレート２３と異 なっている。もともと１つの入口開口４０が３分割された形で示してあり、それ というのは、相対する２つの狭窄部４５間で入口開口４０が完全に中断されてい る。下側の機能平面３５から出発して、金属が電気めっきによって続く両方の機 能平面３６，３７内にウエブ状にデポジションされ、従って、ウエブ状の２つの 材料区分５０が上側の機能平面３７内で入口開口４０を３分割しており、その下 側に位置するウエブ状の材料区分５１が中間の機能平面３６で通路４１内の材料 島を成しており、材料島は最大で出口開口４２に隣接して終わっている。入口開 口４０の入口区分４６はそれぞれ通路４１の壁まで達 している。 図２乃至図９に示す孔プレート２３によっては主に、図４ａ及び図４ｂに示す 偏平な噴射流及び（対称的な）２つの部分噴射を有する噴射流が達成可能である 。この場合、コウモリ形の入口開口４０を備えた孔プレート２３を用いては、骨 形の入口開口４０を備えた孔プレート２３を用いる場合に比べて大きな噴射角が 得られる。入口開口４０と出口開口４２との間のずれの大きさは、同じく噴射角 にとって重要な作用を及ぼす。 図１０に示す孔プレート２３は基本的に円形の入口開口４０を有している。周 囲から、周方向に見て複数、実施例では６つの狭窄部４５が設けられており、こ の場合、狭窄部４５間に、必然的に歯形の湾入部(Ausbuchtung)５３が半径方向 外側へ延びている。湾入部５３は実施例では入口開口４０の周囲にわたって均一 に即ち、６つの湾入部５３の場合、それぞれ６０°に分配して配置されている。 従って、入口開口４０は横断面で歯車形の輪郭を有している。例えば６つの方形 若しくは台形の出口開口４２がずらして入口開口４０の狭窄部４５内に配置され ている。この場合、出口開口４２は半径方向で入口開口４０の外周を越えては延 びていない。この実施例では入口開口４０は特に大きな周囲を有しており、この ような周囲は、流過される横断面区分について後で述べるように特に有利である 。 円形に形成された通路４１は、投影図で見て入口開口４０も出口開口４２も完全 に被うように大きく選ばれている。従って、出口開口４２はすべての側で流過さ れる。この孔プレート２３では円錐形の噴射流が得られる。 図１１及び図１２に示す孔プレート２３はほぼ十字形の入口開口４０を有して いる。入口開口４０の十字の各脚部(Schenkel)５５間の移行部は例えば丸味を付 けられている。４つの脚部５５は互いに９０°隔てられて、弁縦軸線２から出発 して半径方向外側へ延びており、隣接するそれぞれ２つの脚部５５間の領域内に 、下側の機能平面３５の出口開口４２が入口開口４０に対してわずかにずらして 配置されている。出口開口４２は弁縦軸線２に向けられた側辺５６で、例えば脚 部５５間の丸味を付けられた移行部の半径に相応する半径で丸味を付けられてい る。出口開口４２は、弁縦軸線２に向いた丸味を付けられた側辺５６とは逆に、 相対して半径方向外側に位置する側辺５７ではほぼ方形の輪郭を有しており、こ の場合、外側に位置して出口開口４２を制限する側辺５７は例えば軽く湾曲して 延びており、出口開口４２は全体的に天窓状の形若しくはトンネル入口状の形を 有している。もちろん、出口開口４２の全く別の輪郭も考えられ得る。 図１１に示す孔プレート２３においては、中間の機能平面３６の通路４１がほ ぼ円形に形成されているも のの、該通路４１は出口開口４２のすぐ近くに流れ案内羽根(Stroemungsleitsch aufel)としてのウエスト状(taillenartig)の、出口開口の外側の側辺５７まで達 するわずかな狭め部５８を有している。狭め部５８は、液体、特に燃料が通路４ １内で最適に導かれて、意図的に出口開口４２に向かって流れるように作用する 。通路４１は他の点では、入口開口４０の脚部５５をちょうど被うような直径で 構成されており、従って、入口開口４０の、脚部５５の端部を形成する壁が直接 に通路４１の壁に移行している。図１１ａ、図１１ｂ及び図１１ｃには機能平面 ３７，３６，３５が個別に示してあり、各個別の機能平面３７，３６，３５の開 口区分が明確に見られる。図１１ｂから明らかなように、中間の機能平面３６の 通路４１は様式化された花びら若しくは四葉のクローバの形を有している。 図１２に示す孔プレート２３は図１１の孔プレート２３に対して主として、通 路４１が小さい直径で構成されていることによって異なっており、従って、出口 開口４２が部分的に通路４１を越えて延びている。これによって、出口開口４２ の半径方向外側の側辺５７は、図２及び図３に示す孔プレート２３と類似して通 路４１の壁の外側に位置している。入口開口４０の４つの脚部５５の端部の領域 で、通路４１を制限する壁は正確に入口開口４０の壁の下流に位置しており、そ れというのは、（すべての実施例で）すべての入口開 口４０が投影図で見て常に通路４１によって覆われていたいからである。図１１ ｄに示してあるように、十字形の入口通路４０（図１１及び図１２）を備える孔 プレート２３は、特にスプレー４４の円錐噴射に適している。 図１３に示す孔プレート２３は複数、例えば３つの入口開口４０を有している 。これまで述べたすべての実施例に対する相違点として、通路４１も複数、設け られているが、各入口開口４０には正確に１つの通路４１及び１つの出口開口４ ２が配設されている。このような孔プレート２３は特殊な噴射流を形成する限り において著しく有利である。該孔プレート２３は、それぞれ１つの入口開口４０ 、１つの通路４１、及び１つの出口開口４２を備えた３つの機能ユニットを有し ている。所望の噴射流に応じて機能ユニットは、孔プレート２３の中心軸線に相 当する弁縦軸線２に対して偏心的に若しくは非対称的に配置されている。図１３ の孔プレートにおいては、横断面で円形セクタ状の輪郭を有するそれぞれ１つの 通路４１が三日月形若しくは円形リング区分状の１つの入口開口４０を円形の１ つの出口開口４２に接続している。通路４１は、それぞれ所属の入口開口４０及 び出口開口４２を完全に被っている。この場合、出口開口４２は非対称的な円錐 の噴射流を形成するように配置されており、個別噴流(Einzelstrahl)が異なる方 向に拡散するように、即ち弁 縦軸線２に対して傾斜した１つの主方向で拡大するように流れる。図３ａ、図１ ３ｂ及び図１３ｃには、３つの機能平面３７，３６，３５がそれぞれの機能平面 ３７，３６，３５の開口輪郭を分かり易くするために個別に示してある。 図１４及び図１５には、複数、ここでは２つの入口開口４０を備えた別の２つ の実施例の孔プレート２３が示してある。この場合、両方の入口開口４０は互い に全く異なる開口輪郭を有しており、この孔プレート２３は傾斜噴射流若しくは 非対称的な噴射流を形成するために用いようとするものである。第１の入口開口 ４０が３つの脚部５５を有し、即ちＴ字形であるのに対して、第２の入口開口４ ０は幅の変化する円形リング区分の輪郭を有している。トンネル入口状の形に形 成された３つの出口開口４２は、（これのうちの１つは円形リング区分状の入口 開口４０及びこれに続く円形セクタ状の通路４１に配設され、かつ２つはＴ字形 の入口開口４０及び下流側に続く半円形の通路４１に配設され）、十字形の入口 開口開口４０（図１１及び図１２）に類似して、両方の脚部５５間の領域内に、 若しくは１つの入口開口４０の円形リング区分によって取り囲まれた領域内に配 置されている。図１４ａ，図１４ｂ及び図１４ｃには３つの機能平面３７，３６ ，３５が金属デポジションによって形成された開口輪郭を分かり易くするために 個別に示してある。 図１５は図１４の実施例に対する幾つかのバリエーションを示している。一面 においてすべての開口輪郭、例えば入口開口４０の脚部５５若しくは円形リング 区分幅及び長さ、若しくは既に図１１及び図１１ｂに示して出口開口４２への流 入を最適にするための狭め部５８を有する通路４１の輪郭が変えられてよい。流 れ案内羽根として役立つ狭め部５８によって、流れの水平平面内での極めて良好 な二重渦が得られる。他面において、図１５の孔プレート２３においては開口区 分が図１４の孔プレート２３に対して移動されている。図１４の孔プレート２３ において、弁縦軸線２若しくは孔プレート２３の中心軸線がＴ字形の入口開口４ ０の壁に沿って延びているのに対して、図１５の孔プレート２３においてはＴ字 形の入口開口４０は弁縦軸線２が入口開口の壁に沿って延びるのではなく、入口 開口４０内を通って延びるように上側の機能平面３７に配置されている。 噴射されたスプレー４４の非対称的な噴射流が特に図１３、図１４及び図１５ の孔プレート２３によって得られる。３つの個別噴流によって形成された非対称 的な噴射流の１つの例が図１４ｄに示してある。このような孔プレート２３は特 に斜め噴射弁に用いられる。これによって、不都合な組込条件下でも（例えば内 燃機関の入口弁における吸込管の壁を濡らすことのない）申し分のない噴射が保 証される。 本発明に基づく孔プレート２３の重要な特徴を分かり易くするために、図１６ に孔プレート２３が断面して概略的に示してある。噴射すべきスプレー４４の噴 射流の形に影響を及ぼすための重要な特徴は、通路（キャビティ）４１の高さｈ 、通路４１内の、１つ若しくは複数の出口開口４２に向けられた入口開口縁部６ ０と通路４１内の、１つ若しくは複数の入口開口４０に向けられた出口開口縁部 ６２との間のずれｖ、若しくはｖ／ｈの比である。ほぼすべての実施例で示して あるように、入口開口４０と出口開口４２との間のずれｖはたいていはコンスタ ントではなく、従って通路４１を流過する流体は入口開口４０から出口開口４２ まで異なる距離を進まねばならない。ｖ／ｈの比は通常は０と５との間、特に０ と２．５との間にあり、このような比は同一の孔プレート２３内で若しくは厳密 に１つの入口開口４０から厳密に１つの出口開口４２で変化している。 図１７の、孔プレート２３の縦断面図に示してあるように、本発明に基づく孔 プレート２３内をＳ字形に延びる流れにとってずれｖが唯一の条件ではない。む しろ特別な場合には、出口開口４２の出口開口縁部６２に対する入口開口４０の 入口開口縁部６０のネガチブなずれ、若しくはオーバーラップｗを生ぜしめるこ とが望ましい。しかしながらこのような構成においてＳ字形の流れを常に保証す るために、オーバーラップ ｗは小さく選ばれる。従って、ｗ／ｈの比はもっぱら０と１との間である。ｗ／ ｈの比の値０は、ずれＶ若しくはオーバーラップｗが０である場合、即ち入口開 口縁部６０と出口開口縁部６２とが垂直（軸線平行）に正確に重なる場合に得ら れる。 既に入口開口４０の周囲の大きさについて述べたように、孔プレート２３内で 流過される面はＳタイプ・プレートとしての孔プレート２３の最適な使用にとっ て重要である。次第に小さくなる弁寸法若しくはノズル寸法、ひいては小さい組 み込む空間によって規定される孔プレート２３の制限された大きさ（例えば基礎 区分３２の直径は２．５ｍｍ；孔プレート区分３３の直径は２．１ｍｍ）から、 Ｓタイプ・プレートとして形成された孔プレート２３は液力的に絞り作用を排除 したい。入口開口４０の絞り作用をできるだけ小さく保つために、一般的に孔プ レート２３のすべての入口開口４０の入口横断面積はすべての出口開口４２の出 口横断面積よりも大きくしておきたい。考慮すべき重要な面、若しくは面の相互 の関係は図１８のダイヤグラムを用いて詳細に述べる。 本発明に基づく孔プレート２３において面の所望された状況が考慮されていな い絞り作用を有する孔プレート２３の欠点は、孔プレート２３の入口で圧力損失 （パルス損失）が生じて、これによって流過量が不都合に制限されることに見ら れる。これによって結果と して、液体の最適な噴霧のための流動圧力若しくは流動パルスが過度に小さくな る（流動エネルギ損失）。さらに、小さい入口においては噴射すべき流量の変動 が大きくなる。流動状態に著しい影響を及ぼす２つの値が、通路４１内の入口横 断面積Ａ４０ｃ並びに出口横断面積Ａ４２ｃである。入口開口４０若しくは入口 開口４０全体は、上側の機能平面３７内に規定された横断面積Ａ４０を有してい る。同じく、出口開口４２若しくは出口開口４２全体が下側の機能平面３５内に 規定された横断面積Ａ４２を有している。 横断面積Ａ４０，Ａ４２は孔プレート２３の入口若しくは出口の実際に開いた 面である。両方の横断面積Ａ４０，Ａ４２から、該横断面積に対して垂直に入口 横断面積(Eintrittsquerschnittsflaeche)Ａ４０ｃ若しくは出口横断面積(Austr ittsquerschnittsflaeche)Ａ４２ｃが規定される。入口横断面積Ａ４０ｃは入口 開口４０の周囲の総計と通路４１の高さｈとの積であり、出口横断面積Ａ４２ｃ はすべての出口開口４２の周囲の総計と通路４１の高さｈとの乗数である。図４ の孔プレート２３の模範的な値を伴った図１８のダイヤグラムから明らかなよう に、絞り作用の排除された孔プレート２３においてＡ４０＞Ａ４０ｃ＞Ａ４２ｃ が当てはまる。制限された所定の組み込みスペースにおいて入口横断面積Ａ４０ ｃを出口横断面積Ａ４２ｃに対して大きくするためには、入口開口４０の周囲を 増大することが有利である。流れ内の高い噴霧エネルギを得るために、入口開口 ４０は公知の孔プレートにおけるように、長方形、正方形、円形、楕円形にだけ ではなく、図２乃至図１５に示してあるように、蛇行して(maeandiert)、コウモ リ形(fledermausfoermig)、十字形、歯車状、骨形、三日月形、Ｔ字形、円形リ ング区分状、若しくはその他の形に形成されている。横断面積Ａ４２の大きさに とって特別な要求はない。該横断面は出口横断面積Ａ４２ｃよりも大きく若しく は小さくなっていてよく、或いは同じ大きさであってよい。いずれの場合にも横 断面積Ａ４２は横断面積Ａ４０よりも小さいか若しくは同じである。 要約すれば次のことが述べられる： １．噴射流への影響が主として −ずれｖ、 −あらゆる方向での通路４１の、出口開口４２を取り囲む区分（背面空間、側方 空間、 −出口開口４２の大きさ及び形状によって行われる。 ２．ＳＭＤ・調整（Sauter Mean Diameter）が主として −通路４１の高さｈ及び幅、 −入口開口４０の横断面積Ａ４０、 −出口開口４２の横断面積Ａ４２によって行われる ３．静的な噴射量の調整が主として −通路４１の高さｈ、 −出口開口４２の横断面積Ａ４２によって行われる。 前述のすべての孔プレート２３は、噴射弁への使用のためにのみ設けられてい るのではなく、むしろ例えば塗料塗布ノズル、吸引器(Inhalator)、インクジェ ット式印刷機若しくは冷凍乾燥法において、液体、例えば飲み物の噴射のため、 若しくは薬剤の噴霧のために使用されてよい。例えば大きな角度で微細なスプレ ーを形成するために、多層電気めっきによってＳタイプ・プレートとして形成さ れた孔プレート２３が一般的に適している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ニコラウス ジモン ドイツ連邦共和国 Ｄ―82418 ムルナウ オーベラー ライテンヴェーク 20 (72)発明者 フランク シャッツ ドイツ連邦共和国 Ｄ―70806 コルンヴ ェストハイム バーンホフシュトラーセ 27 (72)発明者 ハインツ フクス ドイツ連邦共和国 Ｄ―70469 シュツツ トガルト ハッテンビュール 15 (72)発明者 ギュンター ダンテス ドイツ連邦共和国 Ｄ―71735 エバーデ ィンゲン カールシュトラーセ 20 (72)発明者 デトレフ ノヴァク ドイツ連邦共和国 Ｄ―70435 シュツツ トガルト ブレットハイマー ヴェーク １ (72)発明者 イェルク ハイゼ ドイツ連邦共和国 Ｄ―71706 マルクグ レーニンゲン アイヒェンヴェーク 15 (72)発明者 ベアーテ アーダー ドイツ連邦共和国 Ｄ―70499 シュツツ トガルト ニーアシュタイナー シュトラ ーセ 14 【要約の続き】

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．少なくとも１つの金属製の材料から成る、殊に噴射弁のための孔プレート であって、流体のための貫通孔、少なくとも１つの入口開口及び少なくとも１つ の出口開口を備えており、この場合、各入口開口が孔プレートの上側の１つの機 能平面に形成され、かつ各出口開口が孔プレートの下側の１つの機能平面に形成 されており、少なくとも１つの通路（キャビティ）を備えており、該通路が上側 の機能平面と下側の機能平面との間に位置する中間の機能平面に設けられていて 、少なくとも１つの入口開口から少なくとも１つの出口開口への流体の完全な通 過を可能にする形式のものにおいて、 ａ）複数の機能平面（３５，３６，３７）から構成された孔プレート（２３）が 一体に形成されており、 ｂ）すべての入口開口（４０）の周囲と通路（４１）の、すべての入口開口（４ ０）の横断面に対して垂直な高さ（ｈ）との積として通路（４１）内に入口横断 面積（Ａ４０ｃ）を規定してあり、該入口横断面積が、すべての出口開口（４２ ）の周囲と通路（４１）の、すべての出口開口（４２）の横断面に対して垂直な 高さ（ｈ）との積として通路（４１）内に規定された出口横断面積（Ａ４２ｃ） よりも大きくなっていることを特徴とする、孔プレート。 ２．すべての入口開口（４０）の横断面積（Ａ４０）の総計が、通路（４１） 内の入口横断面積（Ａ４０ｃ）よりも大きくなっている請求項１記載の孔プレー ト。 ３．少なくとも１つの入口開口（４０）が、少なくとも１つの出口開口（４２ ）と異なる開口輪郭を有している請求項１又は２記載の孔プレート。 ４．すべての入口開口（４０）の横断面積（Ａ４０）の総計が、すべての出口 開口（４２）の横断面積（Ａ４２）の総計の値より大きいか若しくは同じ値であ る請求項１から３のいずれか１項記載の孔プレート。 ５．各通路（４１）が、該通路と接続する各入口開口（４０）を完全に取り囲 むように延びていて、従って投影図で見て入口開口（４０）が通路（４１）によ って完全に被われている請求項１から４のいずれか１項記載の孔プレート。 ６．各通路（４１）が、該通路と接続する各出口開口（４２）を少なくとも部 分的に被うように延びている請求項１から５のいずれか１項記載の孔プレート。 ７．入口開口（４０）の数と出口開口（４２）の数とが同じである請求項１か ら６のいずれか１項記載の孔プレート。 ８．入口開口（４０）と出口開口（４２）とが１つの平面への投影図で見て互 いにいずれの箇所でも重なっておらず、従って入口開口（４０）と出口開口（４ ２）との間に完全なずれ（ｖ）が存在している請求項１から７のいずれか１項記 載の孔プレート。 ９．孔プレート（２３）の機能平面（３５，３６，３７）が電気めっき式の金 属デポジション（多層電気めっき）によって順次に形成されている請求項１記載 の孔プレート。 10．各機能平面（３５，３６，３７）が、それぞれ直接に流れ方向で続く機能 平面に対して異なる特徴的な開口構造（４０，４１，４２）を有している請求項 ９記載の孔プレート。 11．機能平面（３５，３６，３７）の数が、電気めっき式に沈積される層、若 しくはこのために必要な電気めっき行程の数に対して大きい若しくは同じである 請求項１０記載の孔プレート。 12．上側の機能平面（３７）にもっぱら１つの入口開口（４０）を設けてあり 、該入口開口が中間の機能平面（３６）のもっぱら１つの通路（４１）と接続し ており、該通路が下側の機能平面（３５）の複数の出口開口（４２）と接続して いる請求項１から１１のいずれか１項記載の孔プレート。 13．入口開口（４０）が様式化されたコウモリ若しくはダブルＨの形を有し、 即ち中央の１つの入口区分及び外側の２つの入口区分（４６）を備えており、該 入口区分がそれぞれ該入口区分間に形成された狭窄部（４５）によって互いに分 離されており、出口開口（ ４２）が投影図で見てそれぞれ少なくとも部分的に狭窄部（４５）内に配置され ている請求項１２記載の孔プレート。 14．入口開口（４０）が骨形、回動式留め金状若しくはダブルＴ字形に形成さ れており、外側の幅広の２つの入口区分（４６）が狭い１つの接続区分（４８） によって互いに接続されており、出口開口（４２）が投影図で見て、狭い接続区 分（４８）によって形成された狭窄部（４５）内に少なくとも部分的に配置され ている請求項１２記載の孔プレート。 15．入口開口（４０）が歯車状に形成されており、この場合、円形の内側区分 から出発して周囲に歯状の複数の湾入部（５３）が設けられており、湾入部間に 出口開口（４２）が投影図で見て少なくとも部分的に配置されている請求項１２ 記載の孔プレート。 16．入口開口（４０）が十字形に形成されて、４つの脚部（５５）を有してお り、脚部間に出口開口（４２）が投影図で見て少なくとも部分的に配置されてい る請求項１２記載の孔プレート。 17．上側の機能平面（３７）に少なくとも２つの入口開口（４０）を設けてあ り、各入口開口が中間の機能平面（３６）の１つの通路（４１）に接続されてお り、該通路が下側の機能平面（３５）の少なくとも１つの出口開口（４２）に接 続されている請求項１から１１のいずれか１項記載の孔プレート。 18．入口開口（４０）の少なくとも１つがＴ字形に形成されている請求項１７ 記載の孔プレート。 19．入口開口（４０）の少なくとも１つが三日月形若しくは円形リング区分状 に形成されている請求項１７記載の孔プレート。 20．中間の機能平面（３６）に、入口開口（４０）及び出口開口（４２）の数 に相応する数の通路（４０）が設けられており、従って厳密に１つの入口開口（ ４０）が１つの通路（４１）を介して１つの出口通路（４２）に接続されている 請求項１７から１９のいずれか１項記載の孔プレート。 21．少なくとも１つの通路（４１）が出口開口（４２）に向かって延びるよう に流れ案内羽根としての制限部（５８）を有している請求項１から２０のいずれ か１項記載の孔プレート。 22．入口開口（４０）及び出口開口（４２）が孔プレート（２３）の平面にわ たって非対称的に分配されている請求項１７から２１のいずれか１項記載の孔プ レート。 23．上側の機能平面（３７）と中間の機能平面（３６）とが一緒に１つの孔プ レート区分（３３）を形成しており、該孔プレート区分が下側の機能平面（３５ ）を含む基礎区分（３２）よりも小さな外径を有している請求項１から２２のい ずれか１項記載の孔プレート。 24．弁、特に内燃機関の燃料噴射装置のための燃料噴射弁であって、弁縦軸線 、弁座面と協働する弁閉鎖体、及び弁座面の下流側の少なくとも１つの金属材料 から成る孔プレートを有しており、孔プレートが流体のための貫通孔を有しかつ 少なくとも１つの入口開口及び少なくとも１つの出口開口を備えており、この場 合、各入口開口が孔プレートの上側の１つの機能平面に形成され、かつ各出口開 口が孔プレートの下側の１つの機能平面に形成されており、上側の機能平面と下 側の機能平面との間に中間の機能平面が設けられており、中間の機能平面内を少 なくとも１つの通路（キャビティ）が延びている形式のものにおいて、 ａ）複数の機能平面（３５，３６，３７）から構成された孔プレート（２３）が 一体に形成されており、 ｂ）すべての入口開口（４０）の周囲と通路（４１）の、すべての入口開口（４ ０）の横断面に対して垂直な高さ（ｈ）との積として通路（４１）内に入口横断 面積（Ａ４０ｃ）を規定してあり、該入口横断面積が、すべての出口開口（４２ ）の周囲と通路（４１）の、すべての出口開口（４２）の横断面に対して垂直な 高さ（ｈ）との積として通路（４１）内に規定された出口横断面積（Ａ４２ｃ） よりも大きくなっていることを特徴とする弁。 25．すべての入口開口（４０）の横断面積（Ａ４０）の総計が、通路（４１） 内の入口横断面積（Ａ４０ ｃ）よりも大きくなっている請求項２４記載の弁。 26．弁座面（２９）が弁座本体（１６）内に形成されており、弁座面の下流側 に出口開口（３１）が接続してあり、孔プレート（２３）の上側の機能平面（３ ７）と中間の機能平面（３６）とが一緒に１つの孔プレート区分（３３）を形成 しており、該孔プレート区分が孔プレート（２３）の下側の機能平面（３５）を 含む基礎区分（３２）よりも小さな外径を有しており、かつ孔プレート区分（３ ３）が出口開口（３１）内に突入しているのに対して、基礎部分（３２）が弁座 本体（１６）の下側の端面（１７）に接触している請求項２４又は２５記載の弁 。 27．孔プレート（２３）が孔プレート支持体（２１）を用いて弁座本体（１６ ）に取り付けられている請求項２６記載の弁。