JP2000349102A - ボンディング装置用フレーム押さえ、ボンディング装置及び半導体素子 - Google Patents

ボンディング装置用フレーム押さえ、ボンディング装置及び半導体素子

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JP2000349102A
JP2000349102A JP16189199A JP16189199A JP2000349102A JP 2000349102 A JP2000349102 A JP 2000349102A JP 16189199 A JP16189199 A JP 16189199A JP 16189199 A JP16189199 A JP 16189199A JP 2000349102 A JP2000349102 A JP 2000349102A
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gas
hole
frame
lead frame
plate
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JP16189199A
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Wataru Kimura
済 木村
Mitsuhiro Ishizuka
充洋 石塚
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Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Engineering Co Ltd
Mitsubishi Electric Corp
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors

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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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  • Die Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 (1)リードフレームの仕様変更に対して必
要最小限の部品変更で対処可能とする点及び(2)還元
ガスの冷却防止。 【解決手段】 リードフレーム押さえを、フレーム押さ
え本体26と、例えば弾性体より成る中間プレート28
と、ガス板29とより構成する。フレーム押さえ本体2
6内のガス経路内にヒータを内蔵する昇温ネジを設け
て、フレーム押さえ本体26自体を予熱すると共に、ガ
ス導入口33から導入された還元ガスを昇温する。フレ
ーム押さえ本体26の下面側に設けられたガス排出用の
溝部を、中間プレート28に設けた穴を介して、ガス板
29の上面に設けた溝と連通させる。更にガス板29
は、上記溝の一端側と繋がったテーパ部を有しており、
溝内に流入した還元ガスをテーパ形状で作られる方向で
リードフレーム21上へ吹出す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体素子に対
するボンディング工程時にリードフレームをヒートブロ
ックに押さえ付ける技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図7は、特開昭62−35632号公報
に開示された従来のフレーム押さえを搭載するペレット
ボンディング装置を示す断面図である。図7において、
ペレット1はリードフレーム2上にダイボンディングさ
れる。リードフレーム2には、複数のタブ3とリード4
とが配設されている。そして、搬送路の途中にヒートブ
ロック6が敷設されており、ヒートブロック6はリード
フレーム2の下面に接触して同フレーム2を加熱し得る
ように構成されている。又、ヒートブロック6の適当位
置の真上にはボンディングヘッドとしてのコレット7が
位置するようになっており、コレット7はペレット1を
真空吸着により保持してリードフレーム2上のタブ3に
擦り付け得る様に構成されている。
【0003】更にヒートブロック6の真上には、リード
フレーム押さえ8が、タブ3を取り囲むようにしてリー
ドフレーム2をヒートブロック6に押さえ付け得るよう
に設けられている。そして、リードフレーム押さえ8
は、上下動可能となる様に支持部9を介して駆動装置
(図示せず)に連携されていると共に、支持部9に内蔵
されているヒータ10によって加熱されるようになって
いる。
【0004】このように構成されているリードフレーム
押さえ8の内部には、ガス通路11がリードフレーム2
の形状に略沿うように穿設されており、リードフレーム
押さえ8の下面両側縁部に切設された面取り部8aに
は、複数個の吹出孔12がガス通路11に連通する様に
それぞれ開設されてる。そして、支持部9を含むリード
フレーム押さえ8の上面には、一端を還元ガス供給源
(図示せず)に接続されているパイプ13が密着するよ
うに敷設されており、パイプ13の内部は連絡路14を
介してガス通路11に連通されている。
【0005】次に、図7の装置の作用について説明す
る。
【0006】先ずリードフレーム2が間欠停止される
と、リードフレーム押さえ8が駆動装置によって下降さ
れて各リード4に押接し、ヒートブロック6にリードフ
レーム2を押さえ付ける。このとき、リードフレーム押
さえ8はヒータ10によって予熱されているため、ヒー
トブロック6によって加熱されているリードフレーム2
の温度を低下させてしまうという不具合を回避すること
ができる。
【0007】このダイボンディング工程においては、リ
ードフレーム押さえ8の吹出孔12から還元ガス15を
ペレット1がダイボンドされるタブ3側へ向けて吹き出
すことにより、リードフレーム2の酸化を防止する。す
なわち、窒素と水素との混合ガス等からなる酸化防止ガ
スとしての還元ガス15は供給源からパイプ13内に供
給されると、連絡路14を経てリードフレーム押さえ8
内のガス通路11内に流入し、各吹出孔12からリード
フレーム2上に吹き出す。このとき、吹き出した還元ガ
スがリードフレーム2に接触すると、酸化されたリード
フレーム2の銅表面は還元される。
【0008】また、還元ガス15はパイプ13内へ供給
された時点から吹出孔12より吹き出すまでの間にヒー
タ10によって予熱されるため、還元ガス15がリード
フレーム2に接触したときに同フレーム2を冷却させて
しまうという不具合を回避することができる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】(1) 従来のフレー
ム押さえにおいては、フレーム押さえ本体の外部に還元
ガスの通路が還元ガス用のパイプとして取り付けられて
いる。このため、パイプ内に供給される時点で還元ガス
は予熱されていても、還元ガスがパイプ内を通ってフレ
ーム押さえ本体のガス吹出孔に至るまでには所定の時間
が必要なため、この間に還元ガスが冷却されてしまうと
いう可能性がある。
【0010】(2) また、従来のフレーム押えにおい
ては、還元ガスの吹出し方向が、フレーム押さえ本体に
設けられている吹出孔の個数や吹出し方向により限定さ
れるため、リードフレーム内のリードやタブの位置やそ
れらの形状が変更されたときにその仕様変更に応じて適
切に還元ガスの吹き出し方向を変更するためには、フレ
ーム押さえ本体全部を作り直す必要性がある。
【0011】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたものであり、還元ガスをフレーム押さえ
本体内部で直接昇温でき、かつ還元ガスを昇温したフレ
ーム押さえ内を通すため還元ガスの冷却を防止できると
共に、ガスの吹き出し方向やリードフレームを押さえる
箇所の変更を必要最小限の部品変更で可能とすることを
目的とする。さらに、本フレーム押さえを有するボンデ
ィング装置を用いた半導体素子の製造方法を提供するこ
とをも目的としている。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1に係る発明は、
半導体素子に対するボンディング工程時にリードフレー
ムをヒートブロックに押さえ付けるためのボンディング
装置用フレーム押さえであって、前記半導体素子のチッ
プがその中を通り抜けるのに十分な形状及び寸法を有す
る第1貫通孔と、ガス導入口と、前記ガス導入口に連通
されて前記ガス導入口より導入されたガスがその中を流
れるガス経路部と、前記ガス経路部に連通され且つ前記
貫通孔の周囲に配設されたガス排出部とを有するフレー
ム押さえ本体と、前記フレーム押さえ本体と連結され且
つその底面が前記リードフレームを押接するガス板とを
備え、前記ガス板は、前記第1貫通孔と連通され、前記
チップをその中に挿入可能で且つ被ボンディング部分と
その周辺部分とを取り囲むことが可能な形状及び寸法を
有する第2貫通孔と、前記ガス排出部と連通され且つ前
記第2貫通孔の周囲に配設されていると共に、前記第2
貫通孔の壁面側の側面部分が切削されて前記第2貫通孔
と対面した溝部と、前記溝部の切削された側面端部と繋
がっており且つ前記切削側面端部から前記第2貫通孔の
前記壁面に向かってテーパ状に形成されたテーパ部とを
有することを特徴とする。
【0013】請求項2に係る発明は、請求項1に記載の
ボンディング装置用フレーム押さえであって、前記フレ
ーム押さえ本体は前記ガス経路部内に設けられたヒータ
を有することを特徴とする。
【0014】請求項3に係る発明は、請求項1又は2に
記載のボンディング装置用フレーム押さえであって、前
記ガス板は中間プレートを介して前記フレーム押さえ本
体と連結されており、前記中間プレートは、前記第1及
び第2貫通孔と連通され且つ前記チップをその中に挿入
可能な形状及び寸法を有する第3貫通孔と、前記ガス排
出部と前記溝部とに連通された穴とを有し、前記中間プ
レートは弾性変形可能なものより成ることを特徴とす
る。
【0015】請求項4に係る発明は、請求項1乃至3の
何れかに記載の前記ボンディング装置用フレーム押さえ
を有することを特徴とする。
【0016】請求項5に係る発明は、請求項4に記載の
前記ボンディング装置によって製造されたことを特徴と
する。
【0017】
【発明の実施の形態】(実施の形態1)以下、この発明
の実施の形態を図に基づき説明する。
【0018】図1は、本実施の形態1に係るボンディン
グ装置用フレーム押さえを有するダイボンド装置を用い
た、半導体素子のチップ23のダイボンディング工程を
示す部分斜視図である。但し、図1では、図示の便宜
上、フレーム押さえがリードフレーム21をヒートブロ
ック27に対して押さえ付けてはおらず、リードフレー
ム21の被ボンディング部分とその周辺部分の上方にフ
レーム押さえが位置している状態が描かれてはいるが、
実際のダイボンディング工程においては、フレーム押さ
えはリードフレーム21を押さえ付けている状態にあ
る。
【0019】図1に示すダイボンド装置は、搬送路上を
搬送されるリードフレーム21上にチップ接合剤22を
接合(接合部は図示せず)して、同剤22の上に、その
先端にコレット24を有するボンディングヘッド25に
よってチップ23を固着する装置である。
【0020】本実施の形態におけるフレーム押さえは、
フレーム押さえ本体26と、同本体26の先端側部
分261の裏面部分に固着ないしは連結された中間プレ
ート28と、同プレート28の裏面に固着されて連結
されたガス板29とより成る。そして、本フレーム押さ
えは駆動装置(図示せず)の駆動力を受けて上下動し、
そのガス板29の底面で以て、ヒートブロック27上を
間欠的に搬送されてきたリードフレーム21を、チップ
接合剤22の接合時及びチップ23の接合時に、ヒート
ブロック27に対して押さえ付け得る様に構成されてい
る。以下に、フレーム押さえの各部26,28,29の
構成について詳述する。
【0021】先ず、図2はフレーム押さえ本体26の縦
断面図を示し、図3はフレーム押さえ本体26をその裏
面の下側から眺めたときの状態を示す平面図(一部、破
線で横断面を示す)である。両図2,3に示す様に、同
本体26の先端側部分261は、その縦断面形状が流
線形状となる様に切削されていると共に、互いに対向し
合う2つの、その先端から所定の角度で傾斜した側面部
26cと、両側面部26cで挟まれた凹部状の中央部
分とより成り、その中央部分には、3つの第1貫通孔2
6dが形成されている。これらの貫通孔26dの各々
は、ボンディングヘッド25のコレット24によって保
持されたチップ23が対応する貫通孔26dの中を通り
抜けることができるだけの、十分な形状及び寸法を有し
ている。そして、図3に示す様に、側面部26cの底面
にも該当するフレーム押さえ本体26の先端側部分26
1の裏面部分には、3つの第1貫通孔26dの側面部2
6cに沿った外周部分ないしは周囲を取り囲む様に、コ
の字状の溝部ないしはガス排出部26bが所定の深さで
形成されている。
【0022】他方、フレーム押さえ本体26の内で、傾
斜した面で切削されていない、上記先端側部分261に
繋がった図1の後端側部分262(この部分が図示しな
い上述の駆動装置に接続されている)には、図2に示す
様に、中空のガス経路部26eが形成されており、同経
路部26eの一端部側は、上記後端側部分262の一方
の側面を貫通する様に同側面に設けられたガス導入口3
3と連通しており、同経路部26eの他端部側の最も奥
まった所の壁面には、ガス穴26aがその直下の溝部2
6bの部分と連通する様に設けられている。これによ
り、ガス穴26aを介して、ガス経路部26eと溝部2
6bとは互いに連通し合っており、ガス導入口33から
ガス経路部26e、ガス穴26aを経て溝部26bに至
るガス流路がフレーム押さえ本体26内に形成される。
特に本フレーム押さえ本体26においては、そのガス経
路部26e内に一端部側から他端部側に至るまで昇温ネ
ジ31が内蔵されており、しかも、昇温ネジ31は、そ
の内部に、同ネジ31の軸と同心軸のヒータ32を有し
ている。従って、ガス導入口33よりガス経路部26e
内に導入されたガスは、同部26e内では、ネジ部31
aを流れてガス穴26aに至ることになる。
【0023】次に、中間プレート28の構成について示
す。ここで、図4は中間プレート28をその真上から見
た場合の上面図を示している。この中間プレート28
は、その上面が、フレーム押さえ本体26の先端側部分
261の裏面と接着されることによって、同本体26と
連結される。同プレート28においても、上記接着時に
フレーム押さえ本体26の対応する第1貫通孔26dの
中心軸にその中心軸が略一致する様に、3つの第3貫通
孔28bが設けられている。そして、各貫通孔28b
は、同じく、チップ23がその中を通り抜けうるのに十
分な形状及び寸法を有しており、各貫通孔28bの同プ
レート28の長手方向に沿った外周部近傍ないしは周囲
には、各貫通孔28b毎に2つずつ、同プレート28を
貫通する穴28aが設けられている。しかも、各穴28
aは、中間プレート28とフレーム押さえ本体26との
接着時に溝部26bと連通する様に、予め位置決めされ
た上で形成されている。これにより、ガス導入口33よ
り溝部26bにまで至ったガスは、中間プレート28の
穴28aを介して排出されることになる。
【0024】次に、ガス板29の構成の詳細について説
明する。ここで、図5はガス板29をその真上から見た
ときの上面図を示しており、図6は、図5中に示したI
−II線に沿って図5の紙面に垂直な平面でガス板29を
切断したときにできるガス板29の縦断面図を示してい
る。図5に示すガス板29も、その上面において中間プ
レート28の下面と接着されて、中間プレート28を介
してフレーム押さえ本体26と一体的に連結される。そ
して、図5に示す様に、ガス板29の中央部分には3つ
の第2貫通孔29dが設けられており、各第2貫通孔2
9dの形状及び寸法は、その中にチップ23を挿入可能
で、且つ被ボンディング部分とその周辺部(この場合に
は、チップ接合剤の接合面、チップの接合面及びそれら
の周辺箇所に該当)をリードフレーム21の押接時に取
り囲むことができる様に、設定されている。しかも、ガ
ス板29と中間プレート28との接着時に、第2貫通孔
29dの中心軸が第1及び第3貫通孔26d,28bの
両中心軸と略一致して第2貫通孔29dが両貫通孔26
d,28bと連通する様に、第2貫通孔29dの位置設
定がなされている。
【0025】加えて、ガス板29と中間プレート28と
の接着時に各溝部(第1溝)29aが対応する穴28a
と連通し合う様に、ガス板29の上面中、各貫通孔29
dの同板29の長手方向に沿った外周部近傍ないしは同
孔29dの周囲の部分に、各貫通孔29d毎に2つずつ
の配分で、溝部29aが形成されている。しかも、各溝
部29aの側面中、第2貫通孔29dの壁面側に位置す
べき側面は切削されており、これにより、各溝部29a
は第2貫通孔29dに対面している。そして、溝部29
aと第2貫通孔29dとを空間的に繋げる部分を、ガス
板29に設けられたテーパ部29b上方の空間が担って
いる。即ち、テーパ部29bは、その一端が溝部29a
の切削された側面端部ないしは溝部29aの底面の外縁
部と繋がっており、その一端から第2貫通孔29dの壁
面に向けてガス板29の一部分がテーパ状に形成されて
成り、その他端は同孔29dの壁面を成す。これによ
り、中間プレート28の穴28aより排出されたガス
は、溝29a内に導入された後はテーパ部29bに沿っ
て流れ、その結果、テーパ部29bが作り出す傾斜によ
って規定される方向(その方向はリードフレーム21の
被ボンディング部分とその周辺部とに向く様に予め設定
されている)に向けて、第2貫通孔29d内の空間中に
噴出される。
【0026】更に、ガス板29の底面ないしは下面中、
溝29a及びテーパ部29bの直下にあたる部分には、
溝部29aとの間でテーパ部29bを形成するガス板2
9の一部分を挟み込む様に、ガス溝(第2溝)29c
が、各貫通孔29d毎に2つずつ設けられている。しか
も、各ガス溝29cの第2貫通孔29dの壁面側の側面
もまた溝部29aと同様に切削されており、各ガス溝2
9cは第2貫通孔29dと直接的に繋がっている。この
ガス溝29cは、ヒートブロック27(図1には図示し
ないが、同ブロック27にも還元ガスの導入口が設けら
れている)上のガス穴30より発生させた高温の還元ガ
スがリードフレーム21の溝21aを通過した後に流れ
込む部分である。従って、同溝29cに流れ込んだ還元
ガスは溝29cの側面に沿って第2貫通孔29d内に噴
出されることとなるので、その結果、ガス穴30より発
生させた高温の還元ガスもまた、チップ接合剤22及び
チップ23の両接合点を、テーパ部29bから噴出され
る還元ガスと同様に吹き付けることになる。
【0027】図2及び図3において既述した通り、フレ
ーム押さえ本体26に内蔵された昇温ネジ31はその内
部にヒータ32を有しているので、昇温ネジ31は同本
体26自身を(従って、中間プレート28やガス板29
をも)加熱すると共に、ガス導入口33より供給される
還元ガスを昇温ネジ31のネジ部31a内を通過させて
いる間に同ガスを加熱する。この様にして加熱された還
元ガスは穴26aを通りフレーム押さえ本体26の溝部
26bに到達し、その後、図4の中間プレート28の穴
28aを通過した還元ガスは、最終的には図5のガス板
29の溝29aを経てガス板29のテーパ部29bよ
り、リードフレーム21上のチップ接合剤22の接合部
とチップ23の接合部とそれらの周辺部とに向けて噴出
される。
【0028】次に作用を説明する。
【0029】(1) リードフレーム21がチップ接合
剤22及びチップ23の接合箇所に搬送されたときに
は、その後、フレーム押さえ本体26が図示しない上下
駆動装置により下降され、フレーム押さえのガス板29
の底面がリードフレーム21をヒートブロック27に押
接する。この時、リードフレーム21の上面と接するガ
ス板29の底面に設けられたガス溝29c(図6)とリ
ードフレーム21を貫通する溝21aとは互いに連通し
合い、ガス溝29cと連通した2つの溝21aの間に位
置するリードフレーム21上のチップ接合剤22及びチ
ップ23の接合箇所は、対応する第2貫通孔29dの壁
面で取り囲まれている。しかも、リードフレーム21の
タブ及びリードのそれぞれの形状に合わせて、上記接合
箇所に確実にガスが吹き付けられる様に、ガス板29の
溝29aとテーパ部29bとガス溝29cとが加工され
ている。又、フレーム押さえ本体26に内蔵するヒータ
32を予め動作させて同本体26自体を予熱しておいた
上で(その予熱は中間プレート28及びガス板29にも
伝導する)、リードフレーム21の上記押接後に、ガス
導入口33より還元ガスを供給する。これにより、還元
ガスはネジ部31aを流れる間に昇温ネジ31により加
熱され、十分に加熱された還元ガスをガス板29のテー
パ部29bが作り出す適切な噴出角度で以てリードフレ
ーム21の所定の箇所に吹き付けることができ、リード
フレーム21の酸化防止を有効に行うことができる。ま
た、ガス板29は加熱された還元ガスによっても加熱さ
れているので、これにより、ガス板29がリードフレー
ム21に接するときに同フレーム21の温度を低下させ
てしまうという不具合も防止できる。
【0030】(2) リードフレーム21がヒートブロ
ック27上に無い場合には、フレーム押え本体26を下
動させてガス板29の底面をヒートブロック27の上面
に接触させた上で、ヒータ32を動作させずに、ガス板
29より還元ガス、あるいはその他のガスをテーパ部2
9bを介してヒートブロック27の上面に対して吹き付
ける。これにより、ヒートブロック27上のチップ23
の屑又はその他の屑などを除去することが可能となる。
この場合も、テーパ部29bの形状等を適切に設定する
ことで(つまり、フレーム押さえ本体26を変更するこ
となく、ガス板29のみを適切な形状を有するものに置
き換えることで)、ガスの吹き付け角度の適切化を最小
部品変更で以て達成できる。この作用により、リードフ
レーム21の両面にチップ23を搭載する場合におい
て、リードフレーム21の下面にチップ23が固着され
ているような状態においても、そのチップ23に屑など
により傷を付けてしまうことを未然に防止できる。
【0031】(3) また、フレーム押さえ本体26と
ガス板29との間にある中間プレート28の材質とし
て、シリコンゴムなどのように弾性変形するもの(弾性
体)を用いると、ガス板29とヒートブロック27との
間に傾きがあったとしても中間プレート28がその傾き
を吸収するので、フレーム押えないしはガス板29はリ
ードフレーム21をヒートブロック27に対して均一に
押接することが可能となる。この作用により、ヒートブ
ロック27によるリードフレーム21の加熱が均一とな
り、チップ接合剤22やチップ23のリードフレーム2
1への貼付性を向上することができる。更に、ガラスエ
ポキシ系の変形しやすいリードフレーム21において
は、チップ接合剤22及びチップ23の接合面を均一に
する作用があり、チップ接合剤22及びチップ23のリ
ードフレーム21への貼付精度の向上にも作用する。他
方、上記の傾き吸収作用を必要としない場合において
は、中間プレート28に金属などの弾性変形しにくい材
質を採用することも可能であるし、中間プレート28自
体を省くことも可能である(この場合には、ガス板29
の上面がフレーム押え本体26の先端側部分261の裏
面に接着剤によって直接に固着される)。
【0032】(4) 更に、高温の還元ガスの代わり
に、ヒータ32を動作させずに、冷却ガスをガス導入口
33より供給しテーパ部29bより適切な角度で噴出す
ることで、チップ接合剤22、チップ23及びリードフ
レーム21を急冷することも可能となる。この場合も、
テーパ部29b等の形状を適切に変更する、つまりガス
板29のみを適切な形状・寸法に加工されたものに置き
換えるだけで、リードフレーム21の個々の仕様に応じ
て、リードフレーム21の所定箇所に冷却ガスを確実に
吹き付けることが可能になる。この作用により、チップ
23をチップ接合剤22上に搭載するときの温度と、チ
ップ接合剤22が固着する温度との間に差があるプロセ
スにおいて、リードフレーム21、チップ接合剤22及
びチップ23の加熱はリードフレーム21の下にあるヒ
ートブロック27によってこれを行い、これらの部分の
冷却は、リードフレーム21を搬送しないでガス板29
からの冷却ガスの吹き付け(テーパ部29bの形状設定
等により吹き付け角は調整済み)によってこれを実施す
ることが可能となる。これにより、チップ23のリード
フレーム21への固着時間の短縮化が可能となると共
に、リードフレーム21を搬送せずに固着するので、チ
ップ23のリードフレーム21からの位置ずれをも防止
できる。なお、冷却ガスの吹き付けにフレーム押さえを
使用する本方法(4)の場合には、昇温ネジ31及びヒ
ータ32を省くことも可能である。
【0033】(変形例)実施の形態1で述べた構造を有
するフレーム押さえを、ダイボンダのみならず、ワイヤ
ボンダにも適用可能である。
【0034】従って、本発明で言う「ボンディング装
置」とは、ダイボンダとワイヤボンダの双方を包含する
概念である。
【0035】
【発明の効果】(1) 請求項1,4及び5の各発明に
よれば、ガス導入口より導入されたガスは、ガス経路
部、ガス排出部、溝部を介してテーパ部より、そのテー
パ形状によって作られる方向で噴出される。この場合、
本発明によれば、リードフレームの仕様変更が生じて
も、リードフレームのパターン形状に応じてガス板の溝
部の数やテーパ部の形状を変えるだけで、チップ接合剤
接合面、チップ接合面及びその周辺部分等の被ボンディ
ング部分とその周辺部とへ還元ガスを確実に噴出するこ
とができるので、リードフレームの酸化防止を所望のリ
ードフレームのパターン形状に対して効率良く行うこと
ができる。しかも、ヒートブロック上のシリコン屑やそ
の他のごみを吹き飛ばすしてリードフレームやチップへ
の傷付けを防止するためのガスの噴出をも、ガス板の溝
部の数やテーパ部の形状を変えるだけで、リードフレー
ムのパターン形状に応じて確実に行うことができると共
に、高温の還元ガスの替わりに冷却ガスをフレーム押さ
えから発生させる場合にも、ガス板の変更を行うのみだ
けで、変更されたリードフレームのパターン形状に応じ
て確実に冷却ガスを所望の箇所に噴出することができ
る。この様に、リードフレームのパターン形状が変わっ
てもフレーム押さえ先端のガス板のみを変えるだけで対
処できることとなり、このことは多くのパターン形状に
対して安価に対応できるという効果をもたらす。
【0036】(2) 請求項2,4及び5の各発明によ
れば、フレーム押さえ本体内にヒータを有するため、ガ
ス経路部内を通過する還元ガスやフレーム押さえ自体の
温度低下を防止でき、ガス導入口より供給された還元ガ
スをテーパ部より噴出するまでの間に冷却させてしまう
ことなく効率良く加熱することができる。
【0037】(3) 請求項3,4及び5の各発明によ
れば、中間プレートがガス板とヒートブロックとの間の
傾きを吸収できるので、リードフレームをヒートブロッ
クに対して均一に押さえ付けることができる。このこと
により、リードフレームの加熱の均一化、チップ接合剤
及びチップのリードフレームへの貼付性を高めることが
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施の形態1に係るフレーム押さ
えを搭載するダイボンド装置を示す斜視図である。
【図2】 図1のフレーム押さえ本体の断面を示す図で
ある。
【図3】 図1のフレーム押さえ本体を下から見たとき
の平面図である。
【図4】 図1の中間プレートの平面図である。
【図5】 図1のガス板の平面図である。
【図6】 図5のガス板の断面図である。
【図7】 従来のフレーム押さえを搭載するダイボンド
装置を示す断面図である。
【符号の説明】
21 リードフレーム、22 チップ接合剤、23 チ
ップ、26 フレーム押さえ本体、27 ヒートブロッ
ク、28 中間プレート、29 ガス板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石塚 充洋 東京都千代田区丸の内二丁目2番3号 三 菱電機株式会社内 Fターム(参考) 5F047 AA11 FA07 FA31 FA52 FA59 FA68 FA69

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子に対するボンディング工程時
    にリードフレームをヒートブロックに押さえ付けるため
    のボンディング装置用フレーム押さえであって、 前記半導体素子のチップがその中を通り抜けるのに十分
    な形状及び寸法を有する第1貫通孔と、ガス導入口と、
    前記ガス導入口に連通されて前記ガス導入口より導入さ
    れたガスがその中を流れるガス経路部と、前記ガス経路
    部に連通され且つ前記貫通孔の周囲に配設されたガス排
    出部とを有するフレーム押さえ本体と、 前記フレーム押さえ本体と連結され且つその底面が前記
    リードフレームを押接するガス板とを備え、 前記ガス板は、 前記第1貫通孔と連通され、前記チップをその中に挿入
    可能で且つ被ボンディング部分とその周辺部分とを取り
    囲むことが可能な形状及び寸法を有する第2貫通孔と、 前記ガス排出部と連通され且つ前記第2貫通孔の周囲に
    配設されていると共に、前記第2貫通孔の壁面側の側面
    部分が切削されて前記第2貫通孔と対面した溝部と、 前記溝部の切削された側面端部と繋がっており且つ前記
    切削側面端部から前記第2貫通孔の前記壁面に向かって
    テーパ状に形成されたテーパ部とを有することを特徴と
    する、ボンディング装置用フレーム押さえ。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のボンディング装置用フ
    レーム押さえであって、 前記フレーム押さえ本体は前記ガス経路部内に設けられ
    たヒータを有することを特徴とする、ボンディング装置
    用フレーム押さえ。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2に記載のボンディング装
    置用フレーム押さえであって、 前記ガス板は中間プレートを介して前記フレーム押さえ
    本体と連結されており、 前記中間プレートは、 前記第1及び第2貫通孔と連通され且つ前記チップをそ
    の中に挿入可能な形状及び寸法を有する第3貫通孔と、 前記ガス排出部と前記溝部とに連通された穴とを有し、 前記中間プレートは弾性変形可能なものより成ることを
    特徴とする、ボンディング装置用フレーム押さえ。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至3の何れかに記載の前記ボ
    ンディング装置用フレーム押さえを有することを特徴と
    する、ボンディング装置。
  5. 【請求項5】 請求項4に記載の前記ボンディング装置
    によって製造されたことを特徴とする、半導体素子。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101113837B1 (ko) 2004-10-27 2012-02-29 삼성테크윈 주식회사 본딩 장치
EP3909071A4 (en) * 2019-01-09 2022-09-21 Kulicke and Soffa Industries, Inc. METHODS OF BONDING SEMICONDUCTOR ELEMENTS TO SUBSTRATES AND RELATED BONDING SYSTEMS
US11515286B2 (en) 2019-01-09 2022-11-29 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Methods of bonding of semiconductor elements to substrates, and related bonding systems

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US11616042B2 (en) 2019-01-09 2023-03-28 Kulicke And Soffa Industries, Inc. Methods of bonding of semiconductor elements to substrates, and related bonding systems

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