JP2000347024A - 光学選択吸収フィルター - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】色純度を低下させる波長の光を選択的にカット
し、色バランスを補正することのできる光学フィルター
および画像表示装置の提供。 【解決手段】 少なくともネオジムを含有する層を有す
る光学フィルターであって、該光学フィルターの波長５
８５ｎｍにおける透過率が０．００１％以上６０％以下
であることを特徴とする光学フィルター。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、透明支持体および
フィルター層を有する光学フィルターに関する。特に、
本発明はプラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、液晶
表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロルミネッセンスディス
プレイ（ＥＬＤ）、蛍光表示管、電界放射型ディスプレ
イのような画像表示装置の表面に、色再現性改良のため
取り付けられる光学フィルターに関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディ
スプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンス
ディスプレイ（ＥＬＤ）、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、
蛍光表示管、電界放射型ディスプレイのような画像表示
装置は、原則として、赤、青、緑の三原色の光の組み合
わせでカラー画像を表示する。しかし、表示のための光
を理想的な三原色にすることは、非常に難しい（実質的
には不可能である）。例えば、プラズマディスプレイパ
ネル（ＰＤＰ）では、三原色蛍光体からの発光に余分な
光（波長が５００乃至６２０ｎｍの範囲）が含まれてい
ることが知られている。

【０００３】そこで、表示色の色バランスを補正するた
め特定の波長の光を吸収するフィルターを用いて、色補
正を行うことが提案されている。フィルターによる色補
正については、特開昭５８−１５３９０４号、同６１−
１８８５０１号、特開平３−２３１９８８号、同５−２
０５６４３号、同９−１４５９１８号、同９−３０６３
６６号、同１０−２６７０４号の各公報に記載がある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色純
度を低下させる波長の光を選択的にカットし、色バラン
スを補正することのできる光学フィルターを提供するこ
と、およびそれを用いた画像表示装置を提供することで
ある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は下記の光
学フィルター、プラズマディスプレイ用前面板、プラズ
マディスプレイパネルによって達成された。 （１）少なくともネオジムを含有する層を有する光学フ
ィルターであって、該光学フィルターの波長５８５ｎｍ
における透過率が０．００１％以上６０％以下であるこ
とを特徴とする光学フィルター。 （２）該ネオジムを含有する層を透明基板上に形成した
ことを特徴とする項１に記載の光学フィルター。 （３）該ネオジムを含有する層が、少なくともネオジム
化合物とバインダーを含み、透明基板上に塗布形成して
なることを特徴とする項２に記載の光学フィルター。 （４）該ネオジムを含有する層が、ガラスまたは透明樹
脂を主体とする層であることを特徴とする項１に記載の
光学フィルター。 （５）該光学フィルターの波長５８５ｎｍにおける透過
率が０．０１％以上３％以下であることを特徴とする項
１〜４のいずれかに記載の光学フィルター。 （６）項１〜５のいずれかに記載の光学フィルターをそ
の構成部分として含むことを特徴とするプラズマディス
プレイ用前面板。 （７）プラズマディスプレイパネルの表面に項１〜５の
いずれかに記載の光学フィルターを有することを特徴と
するプラズマディスプレイパネル。 （８）ネオジム化合物とバインダーからなる層をプラズ
マディスプレイパネルの表面に塗布形成したことを特徴
とするプラズマディスプレイパネル。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明は下記に挙げるいくつかの
例により説明することができるが、特に断らない限りそ
れらの例に限定されるものではない。

【０００７】本発明においてネオジム（Ｎｄ）を含有す
る光学フィルターとはネオジムをフィルター本体に含有
（即ちフィルター基体がネオジムを含有）したものでも
良いし、透明支持体上にネオジムを含む層を形成したも
のでも良い。

【０００８】またネオジムを含有するプラズマディスプ
レイ用前面板とは前面板を構成する基板にネオジムを含
有したものでもよいし、基板上にネオジムを含む層を塗
布したものでも良いし、基板上に上記ネオジム含有透明
樹脂光学フィルターを接着したものでも良い。この基板
は少なくとも可視光の一部を透過する透明性を有してい
れば良く、素材としてはガラスでも良いし、樹脂でも良
い。またネオジムを含む層を形成する場合は前面板の観
察側、発光体側のどちらの面に形成しても有効であり、
両面に形成することも有効である。またネオジム含有透
明樹脂光学フィルターを接着する場合も同様にどちらの
面でも有効であり、両面に接着することも有効である。

【０００９】またさらに、ネオジムを含有するプラズマ
ディスプレイパネルとはそのパネル内のどこかにネオジ
ムを含有すれば良く、具体的には電極、誘電体層、保護
層に含有させても良いが、パネル表面を形成するガラス
に含有させることが好ましい。また、パネルの観察側の
表面にネオジムを含有する層を塗布しても良いし、上記
ネオジム含有光学フィルターを接着しても良い。

【００１０】本発明におけるネオジム化合物を含有する
光学フィルターの好ましい透過率の範囲は、０．００１
％〜６０％であり、さらに好ましくは０．００５％〜２
０％であり、最も好ましくは０．０１％〜３％である。

【００１１】本発明においてプラズマディスプレイパネ
ル（ＰＤＰ）とは、ガス、ガラス基板、電極、電極リー
ド材料、厚膜印刷材料、蛍光体により構成される。ガラ
ス基板は、前面ガラス基板と後面ガラス基板の二枚であ
る。二枚のガラス基板には電極と絶縁層を形成する。後
面ガラス基板には、さらに蛍光体層を形成する。二枚の
ガラス基板を組み立てて、その間にガスを封入する。

【００１２】前面板とは該プラズマディスプレイパネル
の前面に位置する基板のことである。前面板はプラズマ
ディスプレイパネルを保護するために充分な強度を備え
ていることが好ましい。前面板はプラズマディスプレイ
パネルと隙間を置いて使用することもできるし、プラズ
マディスプレイ本体に直貼りして使用することもでき
る。

【００１３】本発明におけるプラズマディスプレイ表示
装置とは少なくともプラズマディスプレイパネル本体と
筐体をふくむ表示装置全体のことである。前面板を有す
る場合はこれもプラズマディスプレイ表示装置に含まれ
る。プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は、既に市
販されている。プラズマディスプレイパネルについて
は、特開平５−２０５６４３号、同９−３０６３６６号
の各公報に記載がある。

【００１４】本発明においてネオジムを導入するための
原料としては、ネオジム、酸化ネオジム、塩化ネオジ
ム、弗化ネオジム、炭酸ネオジム、硝酸ネオジム、リン
酸ネオジム、硫酸ネオジム、およびそれらの水和物、飽
和または不飽和カルボン酸のネオジム塩、芳香族カルボ
ン酸のネオジム塩を挙げることができる。

【００１５】該ネオジム塩を構成する飽和脂肪族カルボ
ン酸としては、ギ酸の他にアルキル基の炭素数が１〜２
０のモノカルボン酸、シュウ酸の他にアルキレン基の炭
素数が２〜２０のジカルボン酸、炭素数が１〜２０のオ
キシカルボン酸等がある。具体的には酢酸、プロピオン
酸、ラク酸、ヘキシル酸、オクチル酸、ノニル酸、デシ
ル酸、ドデシル酸、ミリスチン酸、バルミチン酸、ステ
アリン酸、マロン酸、コハク酸、アジピン酸、セバシン
酸、マロン酸モノエチル、コハク酸モノエチル、アジピ
ン酸モノエチル、グリコール酸、αオキシイソラク酸、
αオキシｎラク酸等がある。

【００１６】該ネオジム塩を構成する不飽和脂肪族カル
ボン酸としては、炭素数２〜２０のモノカルボン酸、ジ
カルボン酸、ジカルボン酸のモノエステル、オキシカル
ボン酸等がある。具体的にはアクリル酸、メタクリル
酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン
酸、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノイソプロピ
ル、マレイン酸ｎブチル、フマル酸モノメチル、フマル
酸モノエチル、フマル酸モノイソプロピル、オレイン
酸、エライジン酸、リノール酸、ソノレン酸、リシノー
ル酸、リシンエライジン酸等がある。

【００１７】該ネオジム塩を構成する芳香族カルボン酸
としては、安息香酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフ
タル酸、トルイル酸、トリメリット酸、オクチル安息香
酸、フタル酸モノオクチル、テレフタル酸モノオクチル
等がある。

【００１８】該ネオジム塩を構成する脂肪族カルボン酸
としてはナフテン酸等がある。前記ネオジム塩のうち、
酸化ネオジム、塩化ネオジム、飽和または不飽和脂肪族
カルボン酸ネオジム塩が好ましい。

【００１９】本発明の光学フィルター、前面板に対して
はランタン、セリウム、ジスプロシウム、ツリウム、イ
ッテルビウム、ルテチウム、プラセオジムの無機塩、お
よび有機塩、またはスクアリリウム系、アゾメチン系、
シアニン系、オキソノール系、アントラキノン系、アゾ
系、またはベンジリデン系の色素など好ましく添加する
ことができる。

【００２０】本発明におけるネオジムを含有する透明樹
脂から成る光学フィルターに用いることのできる樹脂と
しては例えばアクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリカ
ーボネート、塩化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール、
酢酸セルロース等を挙げることができる。

【００２１】アクリル系樹脂としては、アルキル炭素数
１〜４のアルキルメタクリレートの単独重合体または該
アルキルメタクリレート５０モル％以上と他の共重合体
単量体との共重合体がある。このようなアルキルメタク
リレートとしては、メチルメタクリレート、エチルメタ
クリレート、ｎプロピルメタクリレート、イソプロピル
メタクリレート、ｎブチルメタクリレート、ｓｅｃプチ
ルメタクリレート、ｔｅｒｔブチルメタクリレートなど
があるが、メチルメタクリレートが好ましい。共重合性
単量体としては、これを使用して得られる共重合体の透
明性を損なわないものであれば使用でき、例えば２ヒド
ロキシエチルアクリレート、２ヒドロキシプロピルアク
リレート、３ヒドロキシプロピルアクリレート、４ヒド
ロキシブチルアクリレート、２ヒドロキシ３クロロプロ
ピルアクリレート等のヒドロキシアルキルアクリレー
ト、２ヒドロキシエチルメタクリレート、２ヒドロキシ
プロピルメタクリレート、３ヒドロキシプロピルメタク
リレート、４ヒドロキシブチルメタクリレート、２ヒド
ロキシ３クロロプロピルメタクリレート等のヒドロキシ
アルキルメタクリレート、メチルアクリレート、エチル
アクリレート、ｎプロピルアクリレート、イソプロピル
アクリレート、ｎブチルアクリレート、２エチルヘキシ
ルアクリレート等のアルキルアクリレート、シクロヘキ
シルアクリレート、スチレン、塩化ビニル、酢酸ビニ
ル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、アクリル
酸、メタクリル酸等がある。また共重合性不飽和カルボ
ン酸のネオジム塩またはそのモノエステルのネオジム塩
も使用できる。さらに少量、例えば２０重量％以下のエ
チレングリコールジアクリレート、エチレングリコール
ジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレ
ート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ポリエ
チレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリ
レート、１、６へキサンジオールジアクリレート、１、
６ヘキサンジオールジメタクリレート、１、３ブタンジ
オールジアクリレート、１、３ブタンジオールジメタク
リレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、テ
トラメチロールメタンテトラアクリレート、テトラメチ
ロールメタンジメタクリレート、１、１２ドデカンジオ
ールジアクリレート、１、１２ドデカンジオールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジメタクリレート等も使用でき
る。

【００２２】スチレン系樹脂としては、スチレンまたは
その置換体の単独重合体または該スチレン化合物５０モ
ル％以上と他の共重合性単量体との共重合体がある。こ
のようなスチレン化合物としては、スチレン、αメチル
スチレン、αクロロスチレン、ビニルトルエン等があ
る。他の共重合性単量体としては、前記アクリル系樹脂
において使用される共重合性単量体がある。

【００２３】塩化ビニル系樹脂としては、塩化ビニルの
単独重合体または該塩化ビニル５０％以上とその他の共
重合体との共重合体がある。他の共重合性単量体として
は前記アクリル系樹脂において使用される共重合性単量
体がある。

【００２４】ポリカーボネート樹脂としては、例えば
４、４’イソプロピリデンジフェノールポリカーボネー
トのようなビスフェノール型ポリカーボネートの他に米
国特許第３、３０５、５２０号およびクリストファー・
フォックス共著「ポリカーボネート」第１６１〜１７６
頁（１９６２年発行）に記載されている他のポリカーボ
ネート類、ジエチレングリコールビスアリルカーボネー
ト等が挙げられる。

【００２５】前記透明樹脂のうち、好ましくはアクリル
系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂およびポリ
カーボネートであり、最も好ましくはアクリル系樹脂お
よびスチレン系樹脂である。

【００２６】前記ネオジム塩の添加方法としては種々あ
り、例えばネオジム塩の存在下に単量体または単量体混
合物を重合ないし共重合してネオジム塩含有樹脂を製造
する方法、あらかじめ重合ないし共重合した予備重合体
ないし予備共重合体（プレポリマー）にネオジム塩を配
合してさらに重合を完結させてネオジム塩含有樹脂を製
造する方法、あらかじめ重合ないし共重合した重合体な
いし共重合体に、ネオジム塩を配合する方法で、この場
合、必要により可塑剤またはその他の添加剤が配合され
る。

【００２７】例えばアクリル系樹脂、スチレン系樹脂等
の場合、単量体または単量体混合物とネオジム塩との混
合物に、ラジカル重合開始剤を配合し、鋳型中あるいは
反応容器中で重合して直接板状物またはその他の成形品
を注型成形するかあるいは重合体を押出成形、射出成形
により任意の形状に成形することができる。反応は通常
５０〜１２０℃の温度で１〜２０時間、好ましくは２〜
１０時間行われる。ラジカル重合開始剤は、通常全使用
単量体当り0.0001〜１重量％、好ましくは0.001〜０．
５重量％使用される。その代表的なものは、ラウロイル
パーオキサイド、ｔｅｒｔプチルパーオキシプロピルカ
ーボネート、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパー
オキサイド、ｔｅｒｔブチルパーオキシアセテート、ｔ
ｅｒｔブチルパーオキシベンゾエート、ｔｅｒｔブチル
パーオキシイソブチレート、ジｔｅｒｔブチルパーオキ
サイド、２、２’アゾビスイソブチロニトリル等があ
る。

【００２８】またプレポリマーにネオジム塩を配合して
重合を完成させる場合にも前記同様にして５〜１４０
℃、好ましくは５０〜１２０℃の温度で１〜２０時間好
ましくは２〜１０時間行われる。さらに重合体ないし共
重合体にネオジム塩を配合する場合には、アクリル系樹
脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ポリカーボネ
ート等の基体樹脂に、前記ネオジム塩を必要により可塑
剤とともに、ネオジム塩を配合して押出成形機、射出成
形機等を用いて所定の形状に成形する。

【００２９】本発明における光学フィルター用樹脂形成
体の厚みとしては１ｍｍ〜３０ｍｍが好ましく、２ｍｍ
〜１０ｍｍがさらに好ましい。

【００３０】本発明におけるネオジム塩の透明樹脂に対
する割合は0.1〜２５重量％、好ましくは0.5〜１０重量
％である。本発明における透明基板としてはガラスの
他、セルロースエステル（例、ジアセチルセルロース、
トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、プロピオニルセル
ロース、ブチリルセルロース、アセチルプロピオニルセ
ルロース、ニトロセルロース）、ポリアミド、ポリカー
ボネート、ポリエステル（例、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテ
レフタレート、ポリエチレン−１，２−ジフェノキシエ
タン−４，４’−ジカルボキシレート、ポリブチレンテ
レフタレート）、ポリスチレン（例、シンジオタクチッ
クポリスチレン）、ポリオレフィン（例、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン）、ポリメチ
ルメタクリレート、シンジオタクチックポリスチレン、
ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケ
トン、ポリエーテルイミドおよびポリオキシエチレンを
挙げることができる。この中でガラス、トリアセチルセ
ルロース、ポリカーボネートおよびポリエチレンテレフ
タレートが好ましい。

【００３１】またこの透明基板はプラズマディスプレイ
用前面板を兼ねることが好ましい。透明支持体の透過率
は８０％以上であることが好ましく、８６％以上である
ことがさらに好ましい。ヘイズは、２％以下であること
が好ましく、１％以下であることがさらに好ましい。屈
折率は、１．４５乃至１．７０であることが好ましい。

【００３２】透明支持体に、赤外線吸収剤あるいは紫外
線吸収剤を添加してもよい。赤外線吸収剤の添加量は、
透明支持体の０．０１乃至２０重量％であることが好ま
しく、０．０５乃至１０重量％であることがさらに好ま
しい。さらに滑り剤として、不活性無機化合物の粒子を
透明支持体に添加してもよい。無機化合物の例には、Ｓ
ｉＯ２、ＴｉＯ２、ＢａＳＯ４、ＣａＣＯ３、タルクお
よびカオリンが含まれる。透明支持体には、表面処理を
実施してもよい。表面処理の例には、薬品処理、機械的
処理、コロナ放電処理、火焔処理、紫外線照射処理、高
周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザ
ー処理、混酸処理およびオゾン酸化処理が含まれる。グ
ロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ放電処理および
火焔処理が好ましく、グロー放電処理と紫外線処理がさ
らに好ましい。さらに、上層との接着強化のための下塗
り層を設置してもよい。

【００３３】本発明におけるネオジムを含有する層を透
明基板上に形成した光学フィルターとは上記透明基板上
にネオジムを含む層を形成したものを言う。ネオジムを
含む層は、一般的な塗布方法により形成することができ
る。塗布方法の例には、ディップコート法、エアーナイ
フコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワ
イヤーバーコート法、グラビアコート法およびホッパー
を使用するエクストルージョンコート法（米国特許２６
８１２９４号明細書記載）が含まれる。二以上の層を同
時塗布により形成してもよい。同時塗布法については、
米国特許２７６１７９１号、同２９４１８９８号、同３
５０８９４７号、同３５２６５２８号の各明細書および
原崎勇次著「コーティング工学」２５３頁（１９７３年
朝倉書店発行）に記載がある。また塗布方法以外にも、
スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング
法、プラズマＣＶＤ法あるいはＰＶＤ法も適宜選択する
ことができる。

【００３４】この中においてワイヤーバーコート法、グ
ラビアコート法、エクストルージョンコート法を用いる
ことが好ましい。塗布液はネオジムもしくはネオジム化
合物を分散または溶解させた水性、油性または両親媒性
液を用いる。該塗布液中にはポリマーバインダーなどの
添加剤、硬化剤、界面活性剤、ｐＨ調整剤などを好まし
く含むことができる。

【００３５】また該塗布液中にはポリマーバインダーを
含んでいることが好ましい。本発明で用いることのでき
るポリマーバインダーの例としては天然ポリマー（例、
ゼラチン、セルロース誘導体、アルギン酸）または合成
ポリマー（例、ポリメチルメタクリレート、ポリビニル
ブチラール、ポリビニルピロリドン、ポビニルアルコー
ル、ポリ塩化ビニル、スチレン−ブタジエンコポリマ
ー、ポリスチレン、ポリカーボネート、水溶性ポリアミ
ド）を挙げることができる。親水性ポリマー（上記天然
ポリマー、ポリビニルブチラール、ポリビニルピロリド
ン、ポビニルアルコール、水溶性ポリアミド）が特に好
ましい。

【００３６】本発明における透明支持体上に形成された
ネオジムを含む層の厚みとは０．０１μｍ〜１０００μ
ｍが好ましく、０．１μｍ〜５００μｍがさらに好まし
い。

【００３７】本発明における光学フィルターに用いるこ
とのできるガラスとは少なくとも可視光の一部を透過す
る透明性を有していればどんなものでも良い。ガラス中
に含まれるネオジムはＮｄ2Ｏ3に換算して０．１〜６０
ｗｔ％が好ましく、１〜４０ｗｔ％がさらに好ましく、
３〜１０ｗｔ％が最も好ましい。ネオジム含率が増える
とガラスが結晶化しやすくなり均一な基板が得にくくな
るが、結晶化が生じた基板も使用することができる。

【００３８】上記ガラスを構成する他の成分としてはＳ
ｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、Ｐ2Ｏ5、ＧｅＯ2、Ａｌ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ
3、Ａｓ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ、Ｖ2Ｏ5、Ｌｉ2Ｏ、ＭｇＯ、Ｋ2
Ｏ、ＣａＯ、Ｒｂ2Ｏ、ＳｒＯ、Ｃｓ2Ｏ、ＢａＯ、Ｍｎ
Ｏ、ＦｅＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＮｉＯ、ＣｏＯ、ＺｎＯ、Ｚｒ
Ｏ2、Ｇａ2Ｏ3、Ａｇ2Ｏ、ＣｄＯ、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ、
ＳｎＯ2、Ｔｌ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｃｅ2Ｏ3などの酸化物を
好ましく用いることができるが、ＳｉＯ2、、Ｂ2Ｏ3、
Ａｌ2Ｏ3、Ｎａ2Ｏ、ＭｇＯ、Ｋ2Ｏ、ＣａＯ、ＦｅＯ、
Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＯ、Ｇａ2Ｏ3、ＳｎＯ、ＰｂＯが特に好
ましい。さらに窒化物、硫化物、ハロゲン化物、カルコ
ゲナイド化合物等も好ましく含むことができる。

【００３９】ガラスの熔融は電気炉、タンク炉、あぶり
炉等必要な温度、熔融条件が得られるものなら何でもよ
く、基板形成にはフロート法、ロール法、キャスティン
グ法等を用いることができる。

【００４０】本発明における光学フィルター用ガラスの
厚みとしては１ｍｍ〜３０ｍｍが好ましく、２ｍｍ〜１
０ｍｍがさらに好ましい。

【００４１】本発明における光学フィルター、前面板、
プラズマディスプレイパネルはその表面に反射防止層を
設けることが好ましい。

【００４２】反射防止層としては、正反射率が３．０％
以下、好ましくは１．８％以下である。反射防止層とし
ては通常低屈折率層を設ける。低屈折率層の屈折率は、
上記透明支持体の屈折率よりも低い。低屈折率層の屈折
率は、１．２０乃至１．５５であることが好ましく、
１．３０乃至１．５０であることがさらに好ましい。低
屈折率層の厚さは、５０乃至４００ｎｍであることが好
ましく、５０乃至２００ｎｍであることがさらに好まし
い。

【００４３】低屈折率層は、屈折率の低い含フッ素ポリ
マーからなる層（特開昭５７−３４５２６号、特開平３
−１３０１０３号、同６−１１５０２３号、同８−３１
３７０２号、同７−１６８００４号の各公報記載）、ゾ
ルゲル法により得られる層（特開平５−２０８８１１
号、同６−２９９０９１号、同７−１６８００３号の各
公報記載）、あるいは微粒子を含む層（特公昭６０−５
９２５０号、特開平５−１３０２１号、同６−５６４７
８号、同７−９２３０６号、同９−２８８２０１号の各
公報に記載）として形成することができる。微粒子を含
む層では、微粒子間または微粒子内のミクロボイドとし
て、低屈折率層に空隙を形成することができる。微粒子
を含む層は、３乃至５０体積％の空隙率を有することが
好ましく、５乃至３５体積％の空隙率を有することがさ
らに好ましい。

【００４４】広い波長領域の反射を防止するためには、
低屈折率層に、屈折率の高い層（中・高屈折率層）を積
層することが好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．６
５乃至２．４０であることが好ましく、１．７０乃至
２．２０であることがさらに好ましい。中屈折率層の屈
折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との
中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率
は、１．５０乃至１．９０であることが好ましい。

【００４５】中・高屈折率層の厚さは、５ｎｍ乃至１０
０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ乃至１０μｍで
あることがさらに好ましく、３０ｎｍ乃至１μｍである
ことが最も好ましい。

【００４６】中・高屈折率層のヘイズは、５％以下であ
ることが好ましく、３％以下であることがさらに好まし
く、１％以下であることが最も好ましい。

【００４７】中・高屈折率層は、比較的高い屈折率を有
するポリマーを用いて形成することができる。屈折率が
高いポリマーの例には、ポリスチレン、スチレン共重合
体、ポリカーボネート、メラミン樹脂、フェノール樹
脂、エポキシ樹脂および環状（脂環式または芳香族）イ
ソシアネートとポリオールとの反応で得られるポリウレ
タンが含まれる。その他の環状（芳香族、複素環式、脂
環式）基を有するポリマーや、フッ素以外のハロゲン原
子を置換基として有するポリマーも、屈折率が高い。二
重結合を導入してラジカル硬化を可能にしたモノマーの
重合反応によりポリマーを形成してもよい。

【００４８】さらに高い屈折率を得るため、ポリマーバ
インダー中に無機微粒子を分散してもよい。無機微粒子
の屈折率は、１．８０乃至２．８０であることが好まし
い。

【００４９】無機微粒子は、金属の酸化物または硫化物
から形成することが好ましい。金属の酸化物または硫化
物の例には、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナ
ターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化
錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよ
び硫化亜鉛が含まれる。酸化チタン、酸化錫および酸化
インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金
属の酸化物または硫化物を主成分とし、さらに他の元素
を含むことができる。主成分とは、粒子を構成する成分
の中で最も含有量（重量％）が多い成分を意味する。他
の元素の例には、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆ
ｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａ
ｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、ＰおよびＳが含まれる。

【００５０】被膜形成性で溶剤に分散し得るか、それ自
身が液状である無機材料、例えば、各種元素のアルコキ
シド、有機酸の塩、配位性化合物と結合した配位化合物
（例、キレート化合物）、活性無機ポリマーを用いて、
中・高屈折率層を形成することもできる。

【００５１】本発明においては電磁波遮蔽効果を有する
層を設けることができる。電磁波遮蔽効果を有する層の
表面抵抗は０．０１乃至５００Ω／□、より好ましくは
０．０１乃至１０Ω／□である。電磁波遮蔽効果を付与
するには、前面板の透過率を低下させないため透明導電
層を用いることが好ましい。透明導電層としては、金属
層、金属酸化物層、導電性ポリマー層等を挙げるこがで
きる。

【００５２】透明導電層を形成する金属としては、例え
ば銀、パラジウム、金、白金、ロジウム、アルミニウ
ム、鉄、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、ルテニウム、
錫、タングステン、イリジウム、鉛単独もしくはこれら
の２種以上の合金を挙げることができるが、好ましくは
銀、パラジウム、金、白金、ロジウム単独もしくはこれ
らの合金である。この中で銀とパラジウムの合金が好ま
しく、このとき銀の含有率は６０重量％乃至９９重量％
が好ましく、８０重量％乃至９８重量％が更に好まし
い。金属層の膜厚は１〜１００ｎｍが好ましく、５〜４
０ｎｍが更に好ましく、１０〜３０ｎｍが最も好まし
い。膜厚が１ｎｍ未満では電磁波遮蔽効果が乏しく、１
００ｎｍを超えると可視光線の透過率が低下する。

【００５３】透明導電層を形成する金属酸化物として
は、例えば酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、
酸化亜鉛、ＩＴＯ、ＡＴＯなどを挙げることができる。
この膜厚は２０〜１０００ｎｍが好ましい。さらに好ま
しくは４０〜１００ｎｍである。これら金属透導電層と
酸化物透明導電層を合わせて用いるのも好ましい。ま
た、同一層内に金属と導電性金属酸化物が共存すること
も好ましい。

【００５４】金属層の保護、酸化劣化防止および可視光
線の透過率を高めるために透明酸化物層を積層すること
ができる。この透明酸化物層は導電性があってもなくて
もかまわない。透明酸化物層としては例えば２〜４価金
属の酸化物、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化マグ
ネシウム、酸化ケイ素、酸化アルミニウムおよび金属ア
ルコキサイド化合物等の薄膜が挙げられる。

【００５５】透明導電層、透明酸化物層を形成する方法
としては特に制限はなく、任意の加工処理方法を選択す
ることが可能である。例えばスパッタリング法、真空蒸
着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法ある
いはＰＶＤ法、該当する金属あるいは金属酸化物の超微
粒子の塗布、金属シートの接着等いずれの公知技術も用
いることが可能である。

【００５６】本発明においては赤外遮蔽効果を有する層
を設けることができる。８００ｎｍから１２００ｎｍま
での赤外線が最も問題であり、この領域に対し遮蔽効果
を有することが好ましい。赤外線遮蔽効果を付与するに
は透明プラスチック支持体に近赤外吸収性化合物を混合
する方法を用いることができる。例えば銅原子を含有す
る樹脂組成物（特開平６−１１８２２８号公報）、銅化
合物、リン化合物を含有する樹脂組成物（特開昭６２−
５１９０号公報）、銅化合物、チオ尿素誘導体を含有す
る樹脂組成物（特開平６−７３１９７号公報）、タング
ステン系化合物を含有する樹脂組成物（ＵＳ３６４７７
２９号公報）などを形成することによって容易に製造で
きる。銀を透明上に成膜する方法が電磁遮蔽に加えて赤
外線遮蔽効果を持たせる方法として安価であり好まし
い。

【００５７】本発明の光学フィルター、前面板、プラズ
マディスプレイパネルには、ハードコート層、潤滑層、
防汚層、帯電防止層あるいは中間層を設けることもでき
る。

【００５８】ハードコート層は、架橋しているポリマー
を含むことが好ましい。ハードコート層は、アクリル
系、ウレタン系、エポキシ系、シロキサン系のポリマ
ー、オリゴマーまたはモノマー（例、紫外線硬化型樹
脂）を用いて形成することができる。シリカ系のフィラ
ーをハードコート層に添加することもできる。反射防止
膜の最表面には潤滑層を形成してもよい。潤滑層は、反
射防止膜表面に滑り性を付与し、耐傷性を改善する機能
を有する。潤滑層は、ポリオルガノシロキサン（例、シ
リコンオイル）、天然ワックス、石油ワックス、高級脂
肪酸金属塩、フッ素系潤滑剤またはその誘導体を用いて
形成することができる。潤滑層の厚さは、２乃至２０ｎ
ｍであることが好ましい。

【００５９】また反射防止膜の最表面に防汚層を設ける
こともできる。防汚層は反射防止層の表面エネルギーを
下げ、親水性、親油性の汚れを付きにくくするものであ
る。防汚層は含フッ素ポリマーを用いて形成することが
できる。防汚層の厚さは２ｎｍ乃至１００ｎｍ、好まし
くは５ｎｍ乃至３０ｎｍである。

【００６０】本発明においては、表面をアンチグレア機
能（入射光を表面で散乱させて、膜周囲の景色が膜表面
に移るのを防止する機能）を付与することができる。例
えば、透明フィルムの表面に微細な凹凸を形成し、そし
てその表面に反射防止層を形成するか、あるいは反射防
止層を形成後、エンボスロールにより表面に凹凸を形成
することにより、アンチグレア機能を得ることができ
る。

【００６１】アンチグレア機能を有する反射防止層は、
一般に３乃至３０％のヘイズを有する。

【００６２】反射防止層（低屈折率層）、フィルター
層、赤外線や電磁波の遮蔽層、下塗り層、ハードコート
層、潤滑層、防汚層、その他の層は、一般的な塗布方法
により形成することができる。塗布方法の例には、ディ
ップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート
法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビ
アコート法およびホッパーを使用するエクストルージョ
ンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書記載）が
含まれる。二以上の層を同時塗布により形成してもよ
い。同時塗布法については、米国特許２７６１７９１
号、同２９４１８９８号、同３５０８９４７号、同３５
２６５２８号の各明細書および原崎勇次著「コーティン
グ工学」２５３頁（１９７３年朝倉書店発行）に記載が
ある。

【００６３】また、本発明における反射防止層および赤
外や電磁波の遮蔽層の成膜方法には、スパッタリング
法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣ
ＶＤ法あるいはＰＶＤ法も透明支持体の耐熱性等の改良
に合わせて適宜選択することができるが、塗布方法がよ
り好ましい。

【００６４】本発明は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラ
ズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネ
ッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Ｃ
ＲＴ）のような画像表示装置に用いられる。本発明の前
面板は特に、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）お
よび陰極管表示装置（ＣＲＴ）の前面板として使用する
と、顕著な効果が得られる。

【００６５】実施例１ ＳｉＯ２を６２重量部、Ａｌ２Ｏ３を２重量部、炭酸ス
トロンチウムを１０重量部、炭酸バリウムを８重量部、
炭酸リチウムを１重量部、炭酸ナトリウムを５重量部、
炭酸カリウムを９重量部、ＺｒＯを１重量部、ＳｎＯ２
を１重量部Ｃｅ０２を０．５重量部、ＴｉＯ２を０．５
重量部の割合でバッチを作成し電気炉を用いて１３００
℃で熔融、冷却してガラスを作成した。このガラスを厚
みが５ｍｍになるように成形し比較用の試料Ａ−１を作
成した。試料Ａ−１のガラス原料にＮｄ２Ｏ３を加えＡ
−１と同様の操作により本発明の試料Ａ―２〜Ａ−６を
作成した。Ｎｄ２〇３の量は透過率が０．０１％、３
％、２０％、６０％、７０％になるように調整した。試
料Ａ−３のガラス原料に対しＰｒ6Ｏ11を１重量部加え
Ａ−１と同様の操作により本発明の試料Ａ−７を作成し
た。

【００６６】実施例２ ２―（２’ヒドロキシ３’５’ジｔｅｒｔブチルフェニ
ル）５クロロベンゾトリアゾールを０．０５重量部をメ
チルメタクリレートを９５重量部、メタクリル酸を５重
量部の混合液に溶解し、２、２’アゾビスイソブチロニ
トリル０．００５重量部を添加、溶解した後、２枚のガ
ラス板と塩化ビニル樹脂製ガスケットを用いて組んだ容
器中に注入した。この容器を減圧下で脱泡した後、７０
℃で１０時間、１２０℃で１時間熱処理し、容器を分解
して樹脂板を取り出した。このようにして厚さ５ｍｍの
比較用の試料Ｂ―１を作成した。

【００６７】試料Ｂ−１の樹脂原料に対してオクチル酸
ネオジム一水和物を加えＢ−１と同様の操作により本発
明の試料Ｂ−２〜Ｂ−４を作成した。オクチル酸ネオジ
ム一水和物の量は透過率が３％、２０％、７０％になる
ように調整した。

【００６８】実施例３ ４０℃に保持したゼラチンの１０％水溶液を厚さ３００
ｎｍのＳＢＲ層を有する厚さ１７５μｍの透明なポリエ
チレンテレフタレートフィルムのＳＢＲ側に約５０μｍ
厚みに塗布し、それを１２０℃で１０分乾燥して比較用
の試料Ｃ―１を作成した。

【００６９】試料Ｃ−１のゼラチンの１０％水溶液に対
して塩化ネオジム六水和物を混合してＣ−１と同様の操
作により本発明の試料Ｃ―２〜Ｃ−４を作成した。塩化
ネオジム六水和物の量は透過率が３％、２０％、７０％
になるように調整した。試料Ｃ−１のゼラチンの１０％
水溶液に対してオクチル酸ネオジム一水和物を混合して
Ｃ−１と同様の操作により本発明の試料Ｃ―５〜Ｃ−７
を作成した。オクチルネオジム一水和物の量は透過率が
３％、２０％、７０％になるように調整した。

【００７０】評価 概念図に示されるプラズマディスプレイ表示装置を用い
て本発明の評価を行った。

【００７１】実施例１、２の試料Ａ−１〜Ａ−７、Ｂ―
１〜Ｂ―４は図―１の該念図に示される前面板と置き換
えて、実施例３の試料Ｃ―１〜Ｃ―７は図１に示される
Ｅ面に貼り付けて評価を行った。

【００７２】実施例１の比較用試料Ａ−１に対して本発
明の試料Ａ−２〜Ａ−５、Ａ−７を用いたものは官能評
価において特に赤色の鮮やかさが明らかに向上してい
た。Ａ−２〜Ａ−５の中でも画面の明るさと赤色の鮮や
かさのバランスとしてＡ−３が最も優れていた。またＡ
−７の試料はＡ−３に対してプラズマディスプレイパネ
ルの表示を停止したときの好ましくない画面の赤みが低
減されていた。

【００７３】実施例２の比較用試料Ｂ―１に対して本発
明の試料Ｂ―２〜Ｂ−３を用いたものは実施例１と同様
に赤色の鮮やかさが向上していた。

【００７４】実施例３の比較用試料Ｃ―１に対して本発
明の試料Ｃ―２、Ｃ―３、Ｃ−５、Ｃ−６を用いたもの
も実施例１と同様に赤色の鮮やかさが向上していた。ま
た試料の貼付け面をＥ面からＣ面、Ｄ面に変更した場合
も同様の効果が得られた。

【００７５】

【図面の簡単な説明】

【図１】 プラズマディスプレイ表示装置の概念図につ
いて説明する。

【符号の説明】

Ａ、前面板 Ｂ、プラズマディスプレイパネル Ｃ面、前面板の観察側 Ｄ面、前面板のプラズマディスプレイパネル側 Ｅ面、プラズマディスプレイの観察側表面

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくともネオジム（Ｎｄ）を含有する
   層を有する光学フィルターであって、該光学フィルター
   の波長５８５ｎｍにおける透過率が０．００１％以上６
   ０％以下であることを特徴とする光学フィルター。
2. 【請求項２】 該ネオジムを含有する層を透明基板上に
   形成したことを特徴とする請求項１に記載の光学フィル
   ター。
3. 【請求項３】 該ネオジムを含有する層が、少なくとも
   ネオジム化合物とバインダーを含み、透明基板上に塗布
   形成してなることを特徴とする請求項２に記載の光学フ
   ィルター。
4. 【請求項４】 該ネオジムを含有する層が、ガラスまた
   は透明樹脂を主体とする層であることを特徴とする請求
   項１に記載の光学フィルター。
5. 【請求項５】 該光学フィルターの波長５８５ｎｍにお
   ける透過率が０．０１％以上３％以下であることを特徴
   とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルタ
   ー。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の光学フ
   ィルターをその構成部分として含むことを特徴とするプ
   ラズマディスプレイ用前面板。
7. 【請求項７】 プラズマディスプレイパネルの表面に請
   求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルターを有する
   ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
8. 【請求項８】 ネオジム化合物とバインダーからなる層
   をプラズマディスプレイパネルの表面に塗布形成したこ
   とを特徴とするプラズマディスプレイパネル。