JP2000345170A - 接触脱パラフィン処理を伴う、水素化異性化転換による基油および中間留出物の順応性のある生成方法 - Google Patents

接触脱パラフィン処理を伴う、水素化異性化転換による基油および中間留出物の順応性のある生成方法

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Nathalie Marchal-George
マルシャル ジョルジュ ナタリ
Tivadar Cseri
クズリ チヴァダール
Pierre Marion
マリヨン ピエール
Christophe Gueret
ゲレ クリストフ
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 接触脱パラフィン処理を伴う、水素化異性化
転換による基油および中間留出物の順応性のある生成方
法であって、炭化水素装入物から、非常に高品質な、す
なわち高粘度指数(VI)、優れたUV安定性、および
低流動点を有する基油を生成する改良された方法を提供
する。 【解決手段】 炭化水素装入物から油を生成する方法
は、以下の連続した工程を含む:(a)装入物を、装入
物のn−パラフィンの少なくとも一部と同時に水素化異
性化することによって転換し、装入物は、硫黄含有量が
1000重量ppm未満、窒素含有量が200重量pp
m未満、金属含有量が50重量ppm未満、酸素含有量
が0.2重量%以下であり、該工程は、特定の温度、圧
力、空間速度で、水素の存在下、特定の触媒の存在下で
行なわれる。(b)工程(a)から生じた流出物の少な
くとも一部の接触脱パラフィン処理であり、特定の温
度、圧力、空間速度で、水素の存在下、特定の触媒の存
在下で行なわれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、接触脱パラフィン
処理を伴う、水素化異性化転換による基油および中間留
出物の順応性のある生成方法に関する。さらに詳しく
は、本発明は、炭化水素装入物(かつ、好ましくはフィ
ッシャー・トロプシュ法から生じた装入物または水素化
クラッキング残渣)から、場合によっては同時に非常に
高品質な、すなわち低流動点および高セタン指数を有す
る中間留出物(特にガスオイル、ケロシン)の生成を伴
う、非常に高品質な、すなわち高粘度指数(VI)、優
れたUV安定性、および低流動点を有する基油を生成す
る改良された方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、高品質な潤滑剤は、最新の機
械、自動車およびトラックを順調に動かすために最も重
要なものである。
【0003】これらの潤滑剤は、たいていの場合石油留
分の特性を改良する一連の精製工程によって得られる。
特に直鎖状または僅かに分枝状のパラフィンの含有度が
高い重質石油フラクションの処理は、良質な基油を得る
ために必要であり、それはできるだけ優れた収率で、直
鎖状またはごく僅かに分枝状のパラフィンを装入物から
除去することを目的とする操作によってなされ、当該装
入物は、その後、基油として使用される。
【0004】実際、直鎖状または極めて僅かに分枝状で
あり、油中に存在する高分子量のパラフィンは、高流動
点に至り、従って低温の使用では、凝固現象に至る。流
動点の値を減少させるためには、これらの分枝状ではな
いかごく僅かに分枝状の直鎖状パラフィンは、全体的に
または部分的に除去せねばならない。
【0005】もうひとつの方法は、水素の存在下または
不存在下の触媒処理であり、また形状の選択性を考慮し
てゼオライトが触媒の中で最も使用される。
【0006】ZSM−5、ZSM−11、ZSM−1
2、ZSM−22、ZSM−23、ZSM−35および
ZSM−38のようなゼオライトをベースとする触媒
は、これらの方法で使用するために記載された。
【0007】現在、水素化異性化に使用されるすべての
触媒は、酸性機能を水素化機能に結合させる二元機能型
である。酸性機能は、表面酸性度を示す広い比表面積
(一般には150〜800m.g−1)の担体、例
えばハロゲン化(特に、塩化またはフッ化)アルミナ、
リン含有のアルミナ、ホウ素酸化物とアルミニウム酸化
物との組合わせ、非晶質シリカ−アルミナおよびシリカ
−アルミナによって供給される。水素化機能は、元素周
期表第VIII族の1つまたは複数の金属、例えば鉄、コバ
ルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、
オスミウム、イリジウムおよび白金によるか、または第
VI族の少なくとも1つの金属、例えばクロム、モリブデ
ンおよびタングステンと、第VIII族の少なくとも1つの
金属との結合によって供給される。
【0008】酸性と水素化の二元機能間の均衡は、触媒
の活性および選択性を支配する基本的要因である。弱い
酸性機能および強い水素化機能は、クラッキングに対し
て非常に活性でありかつ選択的である触媒を提供するの
に対して、弱い酸性機能および強い水素化機能は、異性
化に対してほとんど活性でも選択的でもない触媒を提供
する。第3の可能性は、異性化に対して非常に活性であ
るが、非常に選択的でもある触媒を得るために、弱い酸
性機能および強い水素化機能を使用することである。従
って、各々の機能を的確に選択することにより、触媒の
一組の活性/選択性を調整することが可能である。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】従って本出願人は、本
発明の方法によって、水素化精製法および/または水素
化クラッキング法で得られる以上の非常に良質な中間留
出物、粘度指数(VI)および流動点を有する基油を同
時に生成することを意図している。
【0010】本出願人は研究の努力を、炭化水素装入物
から、かつ好ましくはフィッシャー・トロプシュ法から
生じた炭化水素装入物または水素化クラッキング残渣か
ら、非常に高品質な潤滑油および高品質な中間留出物を
生成する改良された方法の調整に向けた。
【0011】従って本発明は、石油留分から非常に高品
質な基油および非常に高品質な中間留出物(特にガスオ
イル)を同時に生成する一連の方法を提供することを目
的としている。そして、得られる油は、高粘度指数(V
I)、低揮発性、優れたUV安定性および低流動点を有
している。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明は、炭化水素装入物(好ましくは少なくと
もその20体積%は、沸点が少なくとも340℃であ
る)から油を生成する方法であって、前記方法は、以下
の連続した工程を含む: (a)装入物を、前記装入物のn−パラフィンの少なく
とも一部と同時に水素化異性化することによって転換
し、前記装入物は、硫黄含有量が1000重量ppm未
満、窒素含有量が200重量ppm未満、金属含有量が
50重量ppm未満、酸素含有量が0.2重量%以下で
あり、前記工程は、温度が200〜500℃で、圧力が
2〜25MPaで、空間速度が0.1〜10h−1で、
一般に装入物1リットルあたり水素100〜2000リ
ットルの比率の水素の存在下で、および非晶質酸性担体
上に沈殿した少なくとも1つの貴金属を含む触媒の存在
下で行なわれ、貴金属の分散は、20〜100%であ
る。
【0013】(b)工程(a)から生じた流出物の少な
くとも一部の接触脱パラフィン処理であり、温度200
〜500℃、圧力1〜25MPa、毎時体積速度0.0
5〜50h−1、工程(b)に入る流出物1リットルあ
たり水素50〜2000リットルの存在下および少なく
とも1つの水素化−脱水素化成分および少なくとも1つ
のモレキュラーシーブを含む触媒の存在下で行なわれ
る。
【0014】従って工程(a)は場合によって、一般に
温度200〜450℃、圧力2〜25MPa、空間速度
0.1〜6h−1、水素/炭化水素の体積比が100〜
2000リットル/1リットルである水素の存在下、お
よび第VIII族の少なくとも1つの金属および第VIB 族少
なくとも1つの金属を含む非晶質触媒の存在下で行なわ
れる水素処理工程の後に行なわれる。
【0015】工程(a)で生じた流出物全体は、工程
(b)に送っても良い。
【0016】場合によって工程(a)の後で、工程
(a)の結果得た流出物から軽ガス化合物分離を行なっ
ても良い。
【0017】好ましくは、水素化異性化転換処理(a)
から生じた流出物は、初留点が少なくとも340℃を超
え、残渣を形成する生成物から、沸点が340℃未満の
化合物(ガス、ガソリン、ケロシン、ガスオイル)を分
離するように蒸留工程(好ましくは常圧蒸留)を受け
る。このように流動点が−20℃以下で、セタン指数が
少なくとも50を示す少なくとも1つの中間留出物フラ
クションを一般に分離する。
【0018】工程(b)の接触脱パラフィン処理は、次
に沸点が少なくとも340℃を超える化合物を含む蒸留
から生じる残渣に少なくとも適用される。本発明の他の
実施様態では、工程(a)から生じた留出物は、工程
(b)を実行する前に蒸留されない。せいぜい、少なく
とも一部の軽気体(フラッシュ等による)の分離を受
け、次に接触脱パラフィン処理を受けるだけである。
【0019】好ましくは、工程(b)は、微細孔系が、
9または10個の原子Tを有する細孔開口部を有する少
なくとも1つの主型の管路を示す少なくとも1つのモレ
キュラーシーブを含む触媒で行なわれ、Tは、Si/A
l、P、B、Ti、Fe,Gaよりなる群の中から選ば
れた少なくとも1つの原子であり、酸素原子の同数と交
代し、9または10個の原子Tに近づきやすく、かつ前
記原子Tを含む細孔の2つの開口部間の距離は、0.7
5mm以下であり、前記モレキュラーシーブは、n−デ
カンテストで、5を超える2−メチルノナン/5−メチ
ルノナンの割合を示す。
【0020】有利には、脱パラフィン処理から生じた流
出物は、少なくとも340℃を超える沸点で、少なくと
も1つの油フラクションを分離するように常圧蒸留およ
び真空蒸留を有利に含む蒸留工程を受ける。前記油フラ
クションは、たいていの場合−10℃未満の流動点およ
び95を超えるVI、100℃の粘度が少なくとも3c
St(すなわち3mm/s)を示す。工程(a)と
(b)の間には蒸留はないが、この蒸留工程は重要であ
る。
【0021】有利には、脱パラフィン処理から生じた流
出物は、場合により蒸留され、水素化仕上げ処理を受け
る。
【0022】
【発明の実施の形態】つぎに、本発明の実施の形態を説
明する。
【0023】本発明の方法は、以下の工程を含む。
【0024】装入物 油および場合により高品質の中間留出物が得られる、炭
化水素装入物は、好ましくは少なくとも20体積%の、
340℃を超え、好ましくは少なくとも350℃および
有利には少なくとも380℃で沸騰する化合物を含む。
このことは沸点が380℃および380℃を超えること
を示すのではなく、380℃または380℃を超えるこ
とを示す。
【0025】装入物は、n−パラフィンを含む。好まし
くは挿入物は、フィッシャー・トロプシュのユニットか
ら生じた流出物である。非常に多様な装入物が本方法に
よって処理され得る。
【0026】装入物は、例えば原油の直接蒸留またはF
CC、コーキング(coker)またはビスブレーキン
グのような転換ユニットから生じるか、芳香族抽出物ユ
ニットに起因するまたはRAT(常圧残渣)および/ま
たはRSV(真空残渣)の水素化処理もしくは水素化転
換に起因する真空留出物であっても良く、あるいはまた
装入物は脱アスファルト油もしくはまた例えばDSVか
ら生じる水素化クラッキングの残渣か、先に記載の装入
物の混合物でも良い。上記のリストは、限定するもので
はない。
【0027】一般に、油を目的とするのに適した装入物
は、少なくとも340℃を超え、またより良くは370
℃を超える初留点を有する。
【0028】水素化異性化転換の工程(a)に導入され
た装入物は清潔でなければならない。清潔な装入物と
は、硫黄含有量が1000重量ppm未満、かつ好まし
くは500重量ppm未満、またさらに好ましくは30
0重量ppm未満か、より良くは100重量ppm未満
の装入物を意味している。窒素含有量は、200重量p
pm未満、かつ好ましくは100重量ppm未満、また
さらに好ましくは50重量ppm未満である。ニッケル
およびバナジウムのような装入物の金属含有量は、極め
て減少している、すなわち50重量ppm未満、かつさ
らに有利には、10重量ppm未満か、より良くは2重
量ppm未満である。
【0029】不飽和または酸素含有生成物の含有量が触
媒系の非常に大きな不活性化を引き起こし得る場合、装
入物(例えばフィッシャー・トロプシュ法から生じる)
は、水素化異性化帯域に入る前に、水素化処理帯域内で
水素化処理を受けねばならない。水素は、不飽和および
酸素含有炭化水素分子の含有量を軽減させる役割を持つ
水素化処理触媒(例えばフィッシャー・トロプシュ合成
時の生成物)と接触させて、装入物と反応させる。
【0030】酸素含有量は、このように0.2重量%以
下に減少する。
【0031】処理する装入物が、上記に記載した意味で
清潔でない場合、装入物は、最初の段階で予備的水素化
処理工程を受け、予備的水素化処理の間、温度200〜
450℃、好ましくは250〜450℃、有利には33
0〜450℃または360〜420℃で、圧力5〜25
Mpaまたはより良くは20Mpa未満、好ましくは5
〜20Mpaで、空間速度0.1〜6h−1、好ましく
は0.3〜3h−1で、装入物を水素の存在下で非晶質
担体、並びに例えば第VIB 族の少なくとも1つの元素お
よび第VIII族の少なくとも1つの元素によって確保され
る水素化−脱水素化機能を有する少なくとも1つの金属
を含む少なくとも1つの触媒と接触させ、また導入され
る水素の量は、水素/炭化水素の体積比が100〜20
00リットル/1リットルとなるようにする。
【0032】担体は、一般にアルミナまたは非晶質シリ
カ−アルミナをベースとする(好ましくは大部分が構成
される)。担体は、またホウ素酸化物、マグネシア、ジ
ルコン、チタン酸化物またはこれらの酸化物の組み合わ
せを含んでも良い。好ましくは、水素化−脱水素化機能
は、好ましくはモリブデン、タングステン、ニッケルお
よびコバルトから選択される第VIIIおよびVIB 族の少な
くとも1つの金属または金属化合物によって行なわれ
る。
【0033】この触媒は、有利にはリンを含みうる。実
際従来技術において、化合物が水素化処理触媒に2つの
利点をもたらすことが知られている。すなわち特にニッ
ケルおよびモリブデンの溶液の含浸時に製造が容易なこ
と、および水素化の活性が優れていることである。
【0034】好ましい触媒は、アルミナに対するNiM
oおよび/またはNiW触媒、同じくリン、ホウ素、珪
素およびフッ素からなる原子の群に含まれる少なくとも
1つの元素でドープしたアルミナに対するNiMoおよ
び/またはNiW触媒、またはリン、ホウ素、フッ素お
よび珪素からなる原子の群に含まれる少なくとも1つの
元素によってドープされるか、ドープされないシリカ−
アルミナもしくはシリカ−アルミナ−チタン酸化物に対
するNiMoおよび/またはNiW触媒である。
【0035】第VIB およびVIII族の金属酸化物の総濃度
は、5〜40重量%、好ましくは7〜30重量%であ
り、第VIII族の1つの金属(または複数の金属)に対す
る第VI族の1つの金属(または複数の金属)の金属酸化
物で表示される重量比は、好ましくは20〜1.25、
さらに好ましくは10〜2である。リン酸化物P
の濃度は、15重量%未満、好ましくは10重量%
未満である。
【0036】水素化処理によって得られた生成物は、工
程(a)に送られる前に、必要な場合、工程(a)に導
入される装入物中の水、HSおよびNH含有量
をそれぞれ多くとも100ppm、200ppm、50
ppm未満の値に導くよう、水 (HO、H
S、NH)の中間分離を受ける。このレベル
で、沸点が340℃未満の生成物が、工程(a)では残
渣としてのみ処理されるように、場合によっては分離す
ることが予想できる。
【0037】水素化クラッキングの残渣が処理される場
合、すでに水素化処理および水素化クラッキングを受け
た装入物が現れる。清潔な装入物は、その後工程(a)
で直接処理される。
【0038】一般に、水素化クラッキングは、多くはゼ
オライトY、特に脱アルミニウム化されたゼオライトY
をベースとして、ゼオライト触媒に対して行なわれる。
【0039】触媒は、少なくとも1つの第VIII族の非貴
金属および第VIB 族の少なくとも1つの金属を含む。
【0040】工程(a):水素化異性化転換触媒 工程(a)は、水素の存在下および非晶質酸性担体(好
ましくは非晶質シリカ−アルミナ)および少なくとも1
つの貴金属によって確保される水素化−脱水素化金属機
能を含む二元機能触媒の存在下で行なわれる。貴金属の
分散は、20〜100%である。
【0041】担体は、非晶質、すなわちモレキュラーシ
ーブを有さないこと、かつ特にゼオライトであること
が、触媒と同様に決められている。非晶質酸性担体は、
有利には非晶質シリカ−アルミナであるが、他の担体も
使用できる。シリカ−アルミナの場合は、触媒は一般
に、含浸のために導入され得るハロゲン、例えば貴金
属、以外に加えられるハロゲンを含まない。
【0042】この工程の間、n−パラフィンは、2元機
能触媒の存在下、異性化を受け、次にイソパラフィンお
よび、ガスオイルおよびケロシンのようなさらに軽量な
クラッキング生成物の形成をそれぞれ導くために場合に
よって水素化クラッキングを受ける。転換は、一般に5
〜90%の値であるが、一般に少なくとも20%または
20%を超える。
【0043】本発明の好ましい実施様態では、非常に活
性であるが、非常に選択的でもある触媒を先に定義した
ような装入物の異性化で得ることを可能にする特別なシ
リカ−アルミナを含む触媒が使用されている。
【0044】好ましい触媒は、BET比表面積100〜
500m/gを示すシリカ−アルミナの非晶質担体
(シリカ5〜90重量%を含む、好ましくはシリカ5〜
70重量%を含む)に沈殿した第VIII族の少なくとも1
つの貴金属0.05〜10重量%を含み(かつ好ましく
は大部分がそれからなり)、また触媒は、 − 細孔の平均直径は、1〜12nmであり、 − 直径が先に定義した平均直径より3nm小さい直径
から先に定義した平均直径よりも3nm大きい直径の範
囲である細孔の細孔容積は、総細孔容積の40%を超
え、 − 貴金属の分散は、20〜100%であり、 − 貴金属の分配係数は0.1を超える。
【0045】本発明による触媒の特性は、さらに詳しく
は、以下の通りである。
【0046】シリカ含有量:本特許の枠内で記載される
触媒の生成に使用される好ましい担体は、シリカSiO
およびアルミナAlからなる。担体のシ
リカ含有量は、重量パーセントで表せば、一般に1〜9
5%、有利にはその上5〜95%、および好ましくは1
0〜80%、並びにさらに好ましくは20〜70%およ
び22〜45%である。このシリカ含有量は、X線蛍光
体を使用して完全に測定される。
【0047】貴金属の性質:この特別型の反応のため
に、金属機能は元素周期表第VIII族の1つの貴金属、特
に白金および/またはパラジウムから供給される。
【0048】貴金属含有量:貴金属含有量は、触媒に対
する金属の重量パーセントで表せば、0.05〜10で
あり、さらに好ましくは0.1〜5である。
【0049】貴金属の分散:触媒の金属総量に対して、
反応体に近づきやすい金属フラクションを表す分散は、
例えばH/O滴定によって測定され得る。金属
は、予め還元されている。すなわち当該金属は、水素に
近づきやすい全ての白金原子を金属形状に変えるような
条件下で水素流下、高温で処理を受ける。次に、酸素に
近づきやすい、還元された全ての白金原子がPtO
の形状で酸化するように、酸素流が適当な作用条件下で
送られる。導入される酸素量と、排出される酸素量の差
を計算して、消費された酸素量を求める。このようにし
て消費された酸素量の値から酸素に近づきやすい白金量
を導くことができる。このとき、分散は触媒の総白金量
に対する酸素に近づきやすい白金量の割合に等しい。我
々の場合、分散は20%〜100%、好ましくは30%
〜100%である。
【0050】貴金属の分配:貴金属の分配は、触媒粒子
内部の金属分布を表し、当該金属は良好または不良に分
散され得る。このようにして不良に分配された(例えば
粒子の半径よりも明らかに小さい厚さの環内で検出され
る)が、良好に分配された、すなわち環内に位置する全
ての白金原子が反応体に近づきやすい、白金を得ること
ができる。我々の場合、白金の分配は良好である、すな
わち白金のCastaing微小分析法によって測定さ
れた白金の断面は0.1を超える、かつ好ましくは0.
2を超える分配係数を示す。
【0051】BET比表面積:担体のBET比表面積
は、100m/g〜500m/g、好ましくは、
250m/g〜450m/gであり、またシリ
カ−アルミナベースの担体では、さらに好ましくは、3
10m/g〜450m /gである。
【0052】細孔の平均直径:シリカ−アルミナベース
の好ましい触媒には、触媒の細孔の平均直径は水銀の多
孔度測定器を使って得られる細孔分配断面から測定され
る。細孔の平均直径は、水銀の多孔度曲線から得られる
誘導曲線の解消(annulation)に対応する直径として定
義される。このように定義された細孔の平均直径は、1
nm(1×10−9m)〜12nm(12×10
−9m)、かつ好ましくは1nm (1×10−9m)
〜11nm(11×10−9m)、かつさらに好ましく
は3nm(3×10−9m)〜10.5nm(10.5
×10−9m)である。
【0053】細孔分配:本特許で問題となる好ましい触
媒は、直径が先に定義した平均直径より3nm小さい直
径から先に定義した平均直径より3nm大きい直径(す
なわち平均直径±3nm)の範囲である細孔の細孔容積
が総細孔容積40%を超え、かつ好ましくは、総細孔容
積の50%〜90%、かつさらに有利には総細孔容積の
50%〜70%であるように、細孔分配を有する。
【0054】担体の総細孔容積:シリカ−アルミナベー
スの好ましい触媒には、担体の総細孔容積は一般に1.
0ml/g未満、かつ好ましくは0.3〜0.9、また
さらに有利には0.85ml/g未満である。
【0055】担体、かつ特にシリカ−アルミナ(特に好
ましい実施様態で使用された)の製造および形成は、当
業者に良く知られた常套手段でなされる。有利には、金
属の含浸に先立ち、担体は例えば、300〜750℃
(好ましくは600℃)、0.25〜10時間(好まし
くは2時間)、水蒸気0〜30体積%(シリカ、アルミ
ナには、好ましくは7.5%)で熱処理をするような焼
成を受け得る。
【0056】貴金属塩は、金属(好ましくは白金および
/またはパラジウムであり、白金がさらに好ましい)を
担体の表面に沈殿させるために使う常套手段の1つによ
って導入される。好ましい手段の1つは、含浸する触媒
総体の細孔容積に等しい溶液容積中に金属塩を導入する
ことからなる乾式含浸である。還元作用の前に、触媒
は、例えば300〜750℃(好ましくは520℃)で
0.25〜10時間(好ましくは2時間)の乾燥空気の
処理のような、焼成を受けられる。
【0057】水素化異性化転換反応に使用される前に、
触媒に含まれる金属は還元されねばならない。金属の還
元を導く好ましい手段の1つは、温度150℃〜650
℃、全圧0.1〜25Mpaでの水素下の処理である。
例えば、還元は150℃で2時間の工程、次いで、速度
1℃/分で450℃までの温度上昇、次いで450℃で
2時間の工程からなり、この還元工程の間中、水素流量
は、水素1000リットル/触媒1リットルである。現
場外での全ての還元手段が適していることにも注目しよ
う。
【0058】この工程(a)が実行される作用条件は、
重要である。圧力は一般に2〜25Mpa(多くの場合
少なくとも5Mpa)、かつ好ましくは2(または3)
〜20Mpa、かつ有利には2〜18Mpaに維持さ
れ、空間速度は通常0.1h 〜10h−1、かつ好
ましくは0.2〜10h−1、かつ有利には、0.1ま
たは0.5h−1〜5.0h−1で、水素の比率は一般
に装入物1リットルあたり水素100〜2000リット
ル、かつ好ましくは装入物1リットルあたり水素150
〜1500リットルである。
【0059】この工程に使用される温度は多くの場合、
200〜500℃(または450℃)、かつ好ましくは
250℃〜450℃、有利には300〜450℃、かつ
さらに有利には、340℃を超え、例えば320〜45
0℃である。
【0060】水素化処理および水素化異性化転換の2工
程は、(2つまたは複数の)異なった反応装置中で2種
類の触媒、または/および同一の反応装置中に設置した
少なくとも2つの触媒床に対して行なわれ得る。
【0061】米国特許第5879539号に開示されて
いるように、下記工程(a)に記載された触媒の使用
は、粘度指数(VI)を+10ポイント増加することを
目的とする。さらに一般に、VIの増加が少なくとも2
ポイントであることを確認でき、当該VIは、流動点の
温度−15〜−20℃を対象として、溶剤の脱パラフィ
ン処理された装入物(残渣)および同様に溶剤の脱パラ
フィン処理され工程(a)から生じた生成物に対して測
定される。
【0062】一般に、少なくとも5ポイント、かつ頻繁
に5ポイント超、その上10ポイント超のVI増加が得
られる。
【0063】特に転換手段によって、VIの増加を制御
することは可能である。このようにして高VIを有する
油、またはさらに高い油収率だが低VIを有するもの
へ、生成物を最適化することが可能である。
【0064】VI増加と並行して、多くの場合、数度か
ら10〜15℃、さらにはそれ以上(例えば25℃)に
達し得る流動点の低下が得られる。低下幅は、転換並び
に従って作用の条件および装入物に応じて異なる。
【0065】工程(a)から生じた流出物の処理 好ましい実施様態では、水素化異性化転換工程(a)か
ら生じた流出物は、全体として脱パラフィン処理工程
(b)で処理され得る。1つの変形では、水素および、
場合によっては4個以下の炭素原子を有する炭化水素化
合物を同様に含む軽気体の少なくとも一部(かつ好まし
くは少なくとも1つの主要部分)の分離を受け得る。水
素は、予め分離することができる。工程(a)で得た総
流出物を工程(b)に移行することを伴う(変形を除
く)実施様態は、経済的に興味深い。というのも1つの
蒸留ユニットのみが、この方法のために使用されるから
である。その上、最終の蒸留(接触脱パラフィン処理ま
たは後処理の後)で、強度に冷却されたガスオイルが得
られる。
【0066】有利には他の実施様態で、工程(a)から
生じた流出物は、軽気体を分離させ、かつまた沸点が少
なくとも340℃を超える化合物を含む少なくとも1つ
の残渣を分離させるように蒸留される。好ましくは常圧
蒸留である。
【0067】有利には、340℃以下の沸点で複数のフ
ラクション(例えばガソリン、ケロシン、軽油)、およ
び少なくとも340℃を超え、かつより良くは350
℃、かつ好ましくは少なくとも370℃または380℃
の初留点で1つのフラクション(残渣と呼ばれる)を得
るために蒸留できる。
【0068】本発明の好ましい変形では、このフラクシ
ョン(残渣)が次に接触脱パラフィン処理工程で、すな
わち真空蒸留を受けずに処理される。但し、他の変形で
は、真空蒸留を使用することができる。
【0069】中間留出物を生成する目的に沿ってさらに
展開し、かつやはり本発明による実施様態では、水素化
異性化触媒を転換し、中間留出物の生成を増加するよう
にして、水素化異性化触媒を含む反応装置で分離工程で
生じた残渣の一部を再生することが可能である。
【0070】一般的な方法で、本文では、初留点が少な
くとも150℃、終留点が残渣の前、すなわち一般に3
40℃、350℃まで、または好ましくは370℃また
は380℃未満に達する1つ(または複数)のフラクシ
ョンを中間留出物と呼ぶ。
【0071】工程(a)から生じた流出物は、蒸留前ま
たは後で、例えば芳香族化合物の少なくとも一部分抽出
のような他の処理を受けることができる。
【0072】工程(b):接触水素化脱パラフィン処理 場合によって分離および/または上記の処理を受けた流
出物で、工程(a)から生じた当該流出物の少なくとも
一部は、次に水素並びに、酸性機能、水素化−脱水素化
金属機能および少なくとも1つのマトリックスを含む水
素化脱パラフィン処理触媒の存在下で接触脱パラフィン
処理の工程を受ける。
【0073】少なくとも340℃を超えて沸騰する化合
物は、常に接触脱パラフィン処理を受けることに注目し
よう。
【0074】触媒 酸性機能は、少なくとも1つのモレキュラーシーブ、か
つ好ましくは微細孔系が少なくとも、開口部が10また
は9個の原子Tを含む環で形成される、管路の主型を示
す1つのモレキュラーシーブによって確保される。原子
Tはモレキュラーシーブを構成する4面体原子であり、
以下の原子の群(Si、Al、P、B、Ti、Fe、G
a)に含まれる少なくとも1つの元素であり得る。管路
の開口部を構成する環中、先に定義した原子Tは、酸素
原子の同数と交代する。従って開口部は10または9個
の酸素原子を含む環で形成されるか、10または9個の
原子Tを含む環で形成されると述べるに等しい。
【0075】水素化脱パラフィン処理触媒の組成に入る
モレキュラーシーブは、他の型の管路も備え得るが、そ
の開口部は、10個未満の原子Tまたは酸素原子を含む
環で形成される。
【0076】好ましい触媒の組成に入るモレキュラーシ
ーブは橋幅の他に、先に定義した、0.75nm(1n
m=10−9m)以下、好ましくは0.50nm〜0.
75nm、さらに好ましくは0.52nm〜0.73n
mである、細孔の2つの開口部間の距離を有する。この
ようなシーブからは、水素化脱パラフィン処理工程にお
いて良好な触媒性能を得ることができる。
【0077】橋幅の測定は、問題となるモレキュラーシ
ーブの表面を構成可能とし、またシーブの骨格に存在す
る元素のイオン線を考慮に入れて橋幅の測定を可能にす
るHyperchem またはBiosymのような分子図表またはモデ
ル化を使用して行なわれる。
【0078】この方法に適した好ましい触媒は、水素分
圧450kPa、かつn−C10分圧1.2kPa、す
なわち固定床での全圧451.2kPa下で、n−C
10一定流量9.5ml/時、総流量3.6リットル/
時および触媒総体0.2gで行なわれる純粋n−デカン
変形の標準テストと称される触媒テストをも特徴とし得
る。反応は、下降流で行なわれる。転換率は、反応が行
なわれる温度により調整される。前記テストを受ける触
媒は、ペレット化した純粋ゼオライトおよび白金0.5
重量%からなる。
【0079】モレキュラーシーブおよび水素化−脱水素
化機能の存在下のn−デカンは、10個の炭素原子で異
性化される生成物を生成することとなる水素化異性化反
応、および10個未満の炭素原子を含む生成物の形成を
導く水素化クラッキング反応を受けることとなる。
【0080】これらの条件中、本発明による好ましい触
媒で水素化脱パラフィン処理工程で使用されるモレキュ
ラーシーブは、先に記載した物理化学特性を示し、n−
約5重量%(転換の比率は、温度で調整される)
の異性化した生成物の収率に対して、5を超える、かつ
好ましくは7を超える2−メチルノナン/5―メチルノ
ナンの割合を導かねばならない。
【0081】先に記載した条件で、すでに存在する多数
のモレキュラーシーブからこのように選択されたモレキ
ュラーシーブを使用することは、本発明の方法の枠内で
優れた収率で、低流動点および高粘度指数を有する生成
物を生成することを特に可能にする。
【0082】接触水素化脱パラフィン処理の好ましい触
媒の組成に入れるモレキュラーシーブは、例として、以
下のゼオライトである。すなわち、フェリエライト、N
U−10、EU−13、EU−1。
【0083】好ましくは、水素化脱パラフィン処理触媒
の組成に入るモレキュラーシーブは、フェリエライトお
よびゼオライトEU―1によって形成された群に含まれ
る。
【0084】一般的な方法では、水素化脱パラフィン処
理触媒は、NU−10、EU−1、EU−13、フェリ
エライト、ZSM―22、Theta−1、ZSM−5
0、ZSM−23、NU−23、ZSM−35、ZSM
−38、ZSM−48、ISI−1、KZ−2、ISI
−4、KZ−1よりなる群の中から選ばれた少なくとも
1つのゼオライトを含んでいる。
【0085】水素化脱パラフィン処理触媒中のモレキュ
ラーシーブ重量含有量は、1〜90%、好ましくは5〜
90%、さらに好ましくは10〜85%である。
【0086】触媒形成を行なうために使用されるマトリ
ックスは、例として、かつ限定的ではなく、アルミナゲ
ル、アルミナ、マグネシア、非晶質シリカ−アルミナ、
およびそれらの混合物である。押出し、ペレット化また
は顆粒化のような技術を、形成作用を行なうために使用
できる。
【0087】触媒は、例えば、第VIII族の少なくとも1
つの元素、かつ好ましくは白金およびパラジウムからな
る群に含まれる少なくとも1つの貴金属元素によって確
保された水素化−脱水素化機能も含む。最終触媒に対す
る第VIII族の非貴金属の重量含有量は、1〜40%、好
ましくは10〜30%である。この場合、非貴金属は第
VIB 族の少なくとも1つの金属(好ましくはMoおよび
W)としばしば結合する。第VIII族の少なくとも1つの
貴金属に関しては、最終触媒に対する重量含有量は5%
未満、好ましくは3%未満かつさらに好ましくは1.5
%未満である。
【0088】第VIII族の貴金属を使用する場合、白金お
よび/またはパラジウムが好ましくはマトリックス上に
位置付けられる。
【0089】本発明による水素化脱パラフィン処理触媒
は、他にリン0〜20重量%、好ましくは0〜10重量
%(酸化物で表される)を含む。第VIB 族の1つ(また
は複数)の金属および/または第VIII族の1つ(または
複数)の金属を、リンと組み合わせることは特に有利で
ある。
【0090】処理 工程(a)および蒸留の結果得られ、この水素化脱パラ
フィン処理工程(b)で処理するのが有利である残渣
は、下記の特性を有する。すなわち、初留点が340℃
を超え、かつ好ましくは370℃を超え、流動点は、少
なくとも15℃、粘度指数が35〜165(脱パラフィ
ン処理前)、好ましくは110以上、かつさらに好まし
くは150未満、100℃の粘度指数が3cSt(mm
/s)以上、芳香族化合物含有量が10重量%未
満、窒素含有量が10重量ppm未満、硫黄含有量が5
0重量ppm未満あるいはより良くは10重量ppm未
満を示す。
【0091】本発明の方法の触媒工程が行なわれる作用
条件は、下記の通りである。
【0092】− 反応温度は、200〜500℃、かつ
好ましくは250〜470℃、有利には270〜430
℃である。
【0093】− 圧力は0.1(または0.2)〜25
MPa(10Pa)かつ好ましくは1.0〜20M
paである。
【0094】− 毎時体積速度(触媒の体積単位および
時間毎に注入される装入物の体積で表されるvvh)
は、約0.05〜約50、かつ好ましくは約0.1〜2
0h‐1、かつさらに好ましくは0.2〜10h−1
ある。
【0095】以上は、探求する流動点を得るために選択
する。
【0096】装入物および触媒の接触は、水素の存在化
で行なわれる。使用され、装入物1リットルあたり水素
のリットル数で表される水素の比率は、装入物1リット
ルあたり水素50〜約2000リットル、かつ好ましく
は装入物1リットルあたり水素100〜1500リット
ルである。
【0097】得られる流出物 水素化脱パラフィン処理工程(b)から排出された流出
物は、蒸留装置に送られ、当該蒸留装置は好ましくは、
沸点が340℃未満、かつ好ましくは370℃未満の転
換生成物(かつ特に接触水素化脱パラフィン処理工程時
に形成されたものを含む)を分離し、基油を構成し、初
留点が少なくとも340℃を超え、かつ好ましくは37
0℃以上であるフラクションを分離することを目的とす
る、真空蒸留と常圧蒸留を含む。
【0098】また、この真空蒸留部分で、様々な等級の
油を分離することができる。
【0099】好ましくは、接触水素化脱パラフィン処理
工程(b)から排出された流出物は蒸留される前に、少
なくとも部分的にかつ好ましくは、油および留出物の安
定性を損なう芳香族化合物によって進められる水素化を
行なうように、水素の存在下全体が水素化仕上げ(hydr
ofinition )の触媒上に送られる。しかしながら、触媒
の酸性は、特に油の最終収率の品質を落とさないよう
に、沸点340℃未満のクラッキング生成物の形成が導
かれないために充分に弱くなければならない。
【0100】この工程で使用される触媒は、周期表第VI
II族の少なくとも1つの金属および/または第VIB 族の
少なくとも1つの元素を含む。強金属機能、すなわち白
金および/またはパラジウム、またはニッケル−タング
ステン、ニッケル−モリブデンの組み合わせは、芳香族
化合物によって進められる水素化を行なうために有利に
使用される。
【0101】これらの金属は、例えば、アルミナ、シリ
カ、シリカ−アルミナのような非晶質酸化物または結晶
質酸化物型の担体上に沈殿しかつ分散する。
【0102】水素化仕上げ触媒(HDF)は、元素周期
表の第VIIA族の少なくとも1つの元素も含みうる。好ま
しくは、これらの触媒はフッ素および/または塩素を含
む。
【0103】金属重量含有量は、非貴金属の場合10〜
30%および貴金属の場合2%未満、好ましくは0.1
〜1.5%、さらに好ましくは0.1〜1.0%であ
る。
【0104】ハロゲン総量は、0.02〜30重量%、
有利には0.01〜15%または0.01〜10%、好
ましくは0.01〜5%である。
【0105】この水素化仕上げ工程に使用でき、かつ優
良な性能を導く触媒の中で、また特に薬用油を得るため
に、第VIII族の少なくとも1つの貴金属(例えば白金お
よびVIII)および少なくとも1つのハロゲン(塩素およ
び/またはフッ素)を含む触媒を引用できるであろう。
塩素とフッ素の組み合わせは好ましい。
【0106】本発明の方法の水素化仕上げ工程が行なわ
れる作用条件は、下記の通りである。
【0107】− 反応温度は、180〜400℃、かつ
好ましくは210〜350℃、有利には230〜320
℃である。
【0108】− 圧力は0.1〜25MPa(10
Pa)かつ好ましくは1.0〜20Mpaである。
【0109】− 毎時体積速度(触媒の体積単位および
時間毎に注入される装入物の体積で表される:vvh)
は、約0.05〜約100、かつ好ましくは約0.1〜
約30h‐1である。
【0110】装入物および触媒の接触は、水素の存在化
で行なわれる。使用され、装入物1リットルあたり水素
のリットル数で表される水素の比率は、装入物1リット
ルあたり水素50〜約2000リットル、かつ好ましく
は装入物1リットルあたり水素100〜1500リット
ルである。
【0111】有利には、水素化仕上げ(HDF)工程の
温度は、接触水素化脱パラフィン処理(HDPC)工程
の温度より低い。THDPCとTHDF の差は、一般
に20〜200かつ好ましくは30〜100℃である。
HDFから排出した流出物は、次に蒸留装置に送られ
る。
【0112】生成物 この方法で得られた基礎油は、流動点が−10℃未満、
VIが95を超え、かつ好ましくは110超、かつさら
に好ましくは120超、100℃の粘度が少なくとも
3.0cSt、ASTM色が1未満、およびASTM色
増加が0〜4、かつ好ましくは0.5〜2.5となるよ
うなUV安定性を示す。
【0113】ASTM D925−55およびD114
8−55の方法の調整されたUV安定性テストは、紫外
線の光源にさらされた潤滑油の安定性を比較する迅速な
方法を提供する。試験室は、油の標本を受ける回転板を
備えた金属の囲いからなる。太陽光と同様の紫外線を作
り、試験室の頂部に位置付けられた電球は下方に向けら
れ標本に対している。標本の中に、公知のU.V特性を
有する標準油が含まれる。標本のASTM D1500
の色は、t=0で、55℃で45時間さらされた後に決
定される。標準標本および試験標本に関する結果を、下
記の通り記載した。
【0114】a)ASTM D1500の当初の色 b)ASTM D1500の最終の色 c)色の増加 d)混濁 e)沈殿物 本発明の方法のもう1つの効果は、2重量%未満、好ま
しくは1重量%未満、より良くは0.05重量%未満
の)非常に低い芳香族化合物含有量に達すること、およ
び芳香族化合物含有量が0.01重量%未満の薬用性ホ
ワイト油の生成にまで至ることが可能であることであ
る。これらの油は、275、295および300ナノメ
ートルのUV吸収値が、それぞれ0.8、0.4、およ
び0.3未満(ASTM D2008法)であり、Sa
ybolt色は0〜30である。
【0115】従って特に興味深いことに、本発明の方法
は、薬用ホワイト油を得ることを可能にしている。薬用
ホワイト油は、石油によって進める精製によって得られ
る鉱油で、その品質は、薬物適用に無害であることを保
証するための様々な規制を受け、毒性を持たず、その比
重および粘度によって特徴付けられる。薬用ホワイト油
は、飽和炭化水素を大部分含み、化学的に不活性であ
り、芳香族炭化水素含有量は低い。芳香族化合物、およ
び特に毒性を持ち、ホワイト油中の芳香族化合物の10
億分の1部の重量濃度に存在する特に多環式芳香族6炭
化水素(英語のpolycyclic aromatic hydrocarbonsの略
でP.A.H.)に特別な注意が向けられた。芳香族化
合物の総含有量の制御は、ASTM D2008法によ
って行なうことができ、この275、292および30
0ナノメートルのUV吸着テストにより、吸光度をそれ
ぞれ0.8、0.4および0.3未満(すなわちホワイ
ト油は芳香族化合物含有量が0.01重量%未満であ
る)に制御することが可能になる。これらの方法は、1
cmのタンクの中で1リットルあたり油1gの濃度で行
なわれる。商品化されてるホワイト油は、粘度によっ
て、また元の原油によって互いに異なっており、当該元
の原油は、パラフィン性あるいはナフテン性であり得、
この2つの要因は、検討したホワイト油の物理化学上の
特質に、またその化学組成に同時に違いをもたらす。
【0116】現在油留分は、溶剤による芳香族化合物抽
出を伴った原油の直接の蒸留に起因するのであれ、ある
いは接触水素化精製法または水素化クラッキング法から
生じるのであれ、無視できない量の芳香族化合物を未だ
含んでいる。大多数の工業国の現在の法的枠内で、薬用
と称されるホワイト油は、各国の法規によって課された
限界値未満の芳香族化合物含有量を有するべきである。
油留分中、芳香族化合物を含まないことは、ほぼ少なく
とも30(+30)であるべきSaybolt色の規
格、1cmのタンクの純粋な1つの生成物に対し1.6
0〜275nm未満であるべき最大U.V.吸着規格、
および米国市場では0.1未満であるべき(Food and D
rug Administration、規則第1211145号)DMS
Oによって抽出された生成物の最大吸収規格によって表
現される。前記吸着テストは、極性溶剤、しばしばDM
SO、を用いて多環式芳香族炭化水素を特に抽出するこ
と、および260〜350nmの範囲でUV吸収手段に
よって抽出物中の含有量を制御することからなる。
【0117】本発明は、例えばフィッシャー・トロプシ
ュ法または水素化クラッキング残渣から生じた、装入物
処理のための異なる3つの実施様態を表す図1〜図3に
示されている。
【0118】まず、本発明の第1実施形態を示す図1を
参照すると、装入物は導管(1) から、水素が入っており
(例えば導管(3) から)、水素化処理工程が行なわれる
水素化処理帯域(2) (1つまたは複数の反応装置から構
成され、かつ1つまたは複数の触媒の1つまたは複数の
触媒床を含み得る)に入っている。
【0119】水素化処理された装入物は、導管(4) か
ら、水素の存在下、水素化異性化工程(a)が行なわれ
る水素化異性化帯域(7) (1つまたは複数の反応装置か
ら構成され、かつ1つまたは複数の触媒の1つまたは複
数の触媒床を含み得る)に移行される。水素は、導管
(8) から導かれ得る。
【0120】この図1では、帯域(7) に導入される前
に、水素化異性化する装入物は、フラスコ(5) 中のその
大部分の水から取り除かれ、水および、導管1から入る
装入物が硫黄および窒素を含んでいる場合、アンモニア
および硫化水素が場合によって水と共に導管(6) から排
出される。
【0121】帯域(7) から生じた流出物は、導管(11)か
ら抽出された水素を分離するために導管(9) からフラス
コ(10)に送られ、流出物は次に、導管(13)を通って、炭
素原子4個以下を有する化合物および下側で沸騰する化
合物を含む軽量フラクションが先に抽出される塔(12)の
中で常圧で蒸留される。
【0122】少なくとも1つのガソリンフラクション(1
4)および少なくとも1つの中間留出物フラクション(例
えばケロシン(15)および軽油(16))が同様に得られる。
【0123】塔の底に、沸点が少なくとも340℃を超
える化合物を含む1つのフラクションが得られる。この
フラクションは、導管(17)から接触脱パラフィン処理帯
域(18)に向けて排出される。
【0124】接触脱パラフィン処理帯域(18)(1つまた
は複数の処理装置、1つまたは複数の触媒の1つまたは
複数の触媒床を含む)は、この方法の工程(b)を実行
するため、導管(19)から水素を同様に受け取る。
【0125】導管(20)から排出される流出物は、水素を
導管(22)から分離するためのフラスコ(21)の他に、常圧
蒸留塔(23)および、導管(25)から移行された常圧蒸留の
残渣を処理する真空蒸留塔(24)を含む蒸留装置中で分離
され、当該残渣は初留点が340℃を超える。
【0126】蒸留の結果の生成物として、油フラクショ
ン(導管26)および、ガスオイル(導管27)、ケロシン
(導管28)、ガソリン(導管29)のようなさらに下方で
沸騰しているフラクションが得られ、軽気体は、常圧塔
の導管(30)および真空蒸留塔の導管(31)から除去され
る。
【0127】導管(20)から排出された流出物はまた、分
離装置に注入される前に有利には水素化仕上げ帯域(図
示略)(1つまたは複数の反応装置、1つまたは複数の
触媒の1つまたは複数の触媒床を含む)に送られ得る。
水素は、必要ならばこの帯域に加えられる。排出された
流出物は、その後フラスコ(21)および記載した蒸留装置
に移される。
【0128】図面を簡潔にするため、水素化処理および
/または水素化異性化に向かうフラスコ(10)のレベルお
よび/または脱パラフィン処理および/または水素化仕
上げに向かうフラスコ(21)のレベルにある水素再生
は、示さなかった。
【0129】つぎに、本発明の第2実施形態を示す図2
を参照すると、ここでは、図1の参照番号を再び使って
いることが認められるだろう。この第2実施様態では、
水素化異性化転換(工程a)の帯域(7) から生じた流出
物全体は導管(9) から接触脱パラフィン処理(工程b)
の帯域(18)中に直接移動する。
【0130】また本発明の第3実施形態を示す図3を参
照すると、前と同じく、図1の参照番号が保たれてい
る。この第3実施様態では、水素化異性化転換(工程
a)の帯域(7) から生じた流出物は、例えばフラッシュ
によってフラスコ(32)中で軽気体(水素および炭素原子
4個以下を有する炭化水素化合物)の少なくとも一部の
分離を受ける。分離した気体は、導管(33)から抽出さ
れ、また残留流出物は、導管(34)から接触脱パラフィン
処理帯域(18)中に送られる。
【0131】図1、図2および図3では、接触脱パラフ
ィン処理帯域(18)から生じた流出物に対して分離が予定
されていることに気が付くだろう。この分離は、前記流
出物が水素化仕上げ帯域中で後で処理される時は、実行
できず、そのため分離は前記処理の充分に後で行なわれ
る。
【0132】ここでは、フラスコまたは塔(21)、(23)、
(24)で実行される分離が問題になっている。
【0133】
【実施例】つぎに、本発明の実施例を説明する。
【0134】実施例1:本発明に適合する触媒A1の製
造 触媒A1は、押出された形状で使用されるシリカ−アル
ミナ担体から製造される。当該シリカ−アルミナは、シ
リカSiO29.3重量%およびアルミナAl
70.7重量%含む。貴金属を加える前のシリカ
−アルミナは、面積330m/gを示し、かつ総細
孔容積は、0.87ml/gである。
【0135】触媒A1は、担体への貴金属含浸後に得ら
れる。白金塩HPtClは、含浸する総細孔容
積に対応する溶液の体積中に溶ける。固体は、次に乾燥
した500℃の空気の下、2時間焼成する。白金の含有
量は、0.6重量%である。触媒上で測定すると、BE
T比表面積は、312m/gに等しい。H/O
の滴定によって測定される白金の分散は99%であ
る。透過電子顕微鏡によって白金は目立たせることが困
難である。白金を視覚化する時は、0.7〜1.0nm
の非常に小さな粒子の形状になる。
【0136】実施例2:分離および接触脱パラフィン処
理を伴ったフィッシャー・トロプシュ装入物の水素化異
性化の触媒A1の評価 実施例1に製造を記載した触媒は、油を得る目的でフィ
ッシャー・トロプシュ合成から生じたパラフィン装入物
を水素化異性化するために使用される。水素化異性化触
媒を直接使用することを可能にするため、装入物は予め
水素化処理され、かつ酸素含有量は0.1重量%より下
に導かれる。水素化処理された装入物の主要な特性は、
下記の通りである。
【0137】 当初の点 170℃ 10%の点 197℃ 50%の点 350℃ 90%の点 537℃ 最終の点 674℃ フラクション380(重量%) 42 流動点 +73℃ 密度(20/4) 0.787
【0138】触媒テストユニットは、触媒80mlが導
入される、装入物の上昇循環(「up-flow 」)の固定床
の反応装置を含む。触媒は次に、白金酸化物の金属白金
への還元を確保するために圧力10MPaで純粋水素の
雰囲気にさらされ、次に装入物はようやく注入される。
総圧力は10MPaであり、水素の流量は、注入された
装入物1リットルあたり水素ガス1000リットルであ
り、毎時体積速度は、2h‐1であり、反応温度は35
0℃である。反応後、流出物は軽量生成物(ガソリンP
I−150℃)、中間留出物(150〜380℃)およ
び残渣(380 ℃)に分割される。
【0139】残渣は次に、Si/Al比が10.2のゼ
オライトフェリエライト80重量%、アルミナ20重量
%並びにPt0.6重量%を含む触媒80mlが導入さ
れる、装入物の上昇循環(「up-flow 」)の第2の反応
装置中で脱パラフィン処理をされる。触媒は次に白金酸
化物の金属白金への還元を確保するために圧力10MP
aで純粋水素の雰囲気にさらされ、次に装入物はようや
く注入される。総圧力は10MPaであり、水素の流量
は、注入された装入物1リットルあたり水素ガス100
0リットルであり、毎時体積速度は、2h‐1であり、
反応温度は350℃である。反応後、流出物は軽量生成
物(ガソリンPI−150℃)、中間留出物(150〜
380℃)および残渣(380℃)に分割される。
得られた油の特性を測定した。
【0140】次の表1に、様々なフラクションの収率お
よび装入物と触媒A1(本発明に適合する)に対して水
素化異性化され、次に接触脱パラフィン処理される流出
物を以って直接得られた油の特性を記載した。
【0141】
【表1】
【0142】極めて明白に、水素化異性化および接触脱
パラフィン処理作用の後は、油の収率は高くなっている
が、−20℃の溶剤で水素化異性化および脱パラフィン
処理していない装入物は、きわめて弱い油の収率しか示
さないことが注目される。
【0143】実施例3:高品質の油の生成 下記の表2に記載した水素化クラッキング残渣は、全圧
7MPaで、かつH /HCの体積比が600Nリット
ル/Nリットルで、水素化異性化触媒A2床および水素
を含む反応装置に導入される。そのとき空間速度は、こ
の触媒に対し1h‐1である。反応温度は326℃であ
る。
【0144】触媒A2は、SiO28重量%および
Al72重量%を有する担体を含み、当該担
体上にはPt0.6重量%が沈殿されていた。Ptの分
散は56%である。
【0145】流出物は回収され、次に、特性を下記の表
2に転記した、380℃+のフラクションを回収するよ
うに真空蒸留されるガスオイル留分に相当し、かつ水素
化クラッキング残渣を転換する水素化異性化から生じる
250〜380℃のフラクションは、流動点‐20℃お
よびセタン指数58を示し、これは、実際に優良なガス
オイルである。
【0146】上記で製造した380℃+のフラクション
は、次に、圧力14MPaで、かつH/HCの体積
比が1000Nリットル/Nリットルで、水素化脱パラ
フィン処理触媒床(フェリエライト75%およびAl
25%を含む担体上にPt0.5%が沈殿し
ている)をおよび水素を含む反応装置に導入される。そ
のとき空間速度は、この触媒に対し1h‐1である。反
応温度は315℃である。
【0147】この第1反応装置の下流に位置している第
2反応装置中に、アルミナに対しPt1重量%、F1重
量%、およびCl1重量%を含む水素化仕上げの触媒を
充填する。第1反応装置から生じた生成物は、温度22
0℃に維持された第2反応装置中に導入される。圧力は
14MPaかつ生成物は空間速度0.5h‐1で循環す
る。
【0148】流出物は回収され、次に真空蒸留される。
380℃+の残渣の特性を、表2に記載した。
【0149】この実施例は、水素化異性化転換工程(工
程a)および接触脱パラフィン処理工程の組み合わせ
が、高品質の生成物を導くことを際立たせている。特に
工程(a)によって、流動点を充分に減少せずに(表2
の1列および2列を参照)、油フラクション(380℃
+)の粘度指数が98から131に増加できることを示
している。この減少は、工程(b)の間に接触脱パラフ
ィン処理触媒に対して行なわれ、また流動点−18℃並
びに、生成物に薬用油の品質を与える(表2の2列およ
び3列を参照)Saybolt色+30が得られた。
【0150】
【表2】
【0151】水素化異性化転換工程(a)の触媒に対す
る粘度指数(または転換)、および同時に工程(a)後
の蒸留の存在または不存在を変えることが可能であるた
め、この方法はまた、非常に順応性があり、収率および
油とガスオイルの品質の大幅な変化の達成を可能にする
方法に見える。
【0152】このようにして工程(a)によって、VI
を高いレベルに導き、接触脱パラフィン処理工程の際に
生じるVI損失を部分的に補うことが可能になる。
【0153】
【発明の効果】以上の次第で、本発明による接触脱パラ
フィン処理を伴う、水素化異性化転換による基油および
中間留出物の順応性のある生成方法によれば、水素化精
製法および/または水素化クラッキング法で得られる以
上の非常に良質な中間留出物、粘度指数(VI)および
流動点を有する基油を同時に生成することができ、炭化
水素装入物から、かつ好ましくはフィッシャー・トロプ
シュ法から生じた炭化水素装入物または水素化クラッキ
ング残渣から、非常に高品質な潤滑油および高品質な中
間留出物を生成するものであり、石油留分から非常に高
品質な基油および非常に高品質な中間留出物(特にガス
オイル)を同時に生成することができ、得られる油は、
高粘度指数(VI)、低揮発性、優れたUV安定性およ
び低流動点を有するものであるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態を示すフローシートであ
る。
【図2】本発明の第2実施形態を示すフローシートであ
る。
【図3】本発明の第3実施形態を示すフローシートであ
る。
【符号の説明】 1 装入物導管 2 水素化処理帯域 3 水素導管 4 水素化処理された装入物導管 5 フラスコまたは塔 6 アンモニアおよび硫化水素・水排出導管 7 水素化異性化帯域 8 水素導管 9 流出物導管 10 フラスコまたは塔 11 水素分離導管 12 蒸留塔 13 導管 14 ガソリンフラクション 15 中間留出物フラクション(ケロシン) 16 中間留出物フラクション(軽油) 17 340℃+フラクション導管 18 接触脱パラフィン処理帯域 19 水素導管 20 流出物排出導管 21 フラスコまたは塔 22 水素分離導管 23 常圧蒸留塔 24 真空蒸留塔 25 常圧蒸留の残渣導管 26 油フラクション導管 27 ガスオイル導管 28 ケロシン導管 29 ガソリン導管 30 軽気体導管 31 軽気体導管 32 フラスコ 33 分離軽気体導管 34 残留流出物導管
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C10G 45/64 C10G 45/64 65/04 65/04 67/02 67/02 73/02 73/02 (72)発明者 ナタリ マルシャル ジョルジュ フランス国 サン ジュニ ラヴァル ル ート デュ ミレネール 12 (72)発明者 チヴァダール クズリ フランス国 クルブヴォア テラス デ ルフレ 5 (72)発明者 ピエール マリヨン フランス国 アーントニ リュ ルイ バ ルトゥー 15 (72)発明者 クリストフ ゲレ フランス国 サン ロメーン アン ガル グランド リュ ドゥ ラ プレン 43

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 炭化水素装入物から油を生成する方法で
    あって、前記方法は、以下の連続した工程を含む: (a)装入物を、前記装入物のn−パラフィンの少なく
    とも一部と同時に水素化異性化することによって転換
    し、前記装入物は、硫黄含有量が1000重量ppm未
    満、窒素含有量が200重量ppm未満、金属含有量が
    50重量ppm未満、酸素含有量が0.2重量%以下で
    あり、前記工程は、温度が200〜500℃で、圧力が
    2〜25MPaで、空間速度が0.1〜10h−1で、
    水素の存在下で、および非晶質酸性担体上に沈殿した少
    なくとも1つの貴金属を含む触媒の存在下で行なわれ、
    貴金属の分散は、20〜100%である。 (b)工程(a)から生じた流出物の少なくとも一部の
    接触脱パラフィン処理であり、温度200〜500℃、
    圧力1〜25MPa、毎時体積速度0.05〜50h
    −1、工程(b)に入る流出物1リットルあたり水素5
    0〜2000リットルの存在下および少なくとも1つの
    水素化−脱水素化成分および少なくとも1つのモレキュ
    ラーシーブを含む触媒の存在下で行なわれる。
  2. 【請求項2】 前記工程(a)で、非晶質シリカ−アル
    ミナ上に沈殿した少なくとも1つの貴金属を含む触媒が
    使用される請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 前記工程(a)で、シリカ5〜90重量
    %を含み、かつBET比表面積100〜500m
    gを示すシリカ−アルミナの非晶質担体上に沈殿した第
    VIII族の少なくとも1つの貴金属0.05〜10重量%
    から大部分が構成される触媒が使用され、また前記触媒
    は、 − 細孔の平均直径は、1〜12nmであり、 − 直径が先に定義した平均直径より3nm小さい直径
    から先に定義した平均直径よりも3nm大きい直径の範
    囲である細孔の細孔容積は、総細孔容積の40%を超
    え、 − 貴金属の分散は、20〜100%であり、 − 貴金属の分配係数は0.1を超える ことを示す請求項1または2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記工程(a)の触媒の貴金属は、白金
    および/またはパラジウムである請求項1から3のいず
    れか1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記工程(a)の総流出物は、前記工程
    (b)で処理される請求項1から4のいずれか1項に記
    載の方法。
  6. 【請求項6】 前記工程(a)から生じた流出物は、軽
    気体および沸点が少なくとも340℃を超える化合物を
    含む少なくとも1つの残渣を分離するように蒸留され、
    前記残渣は工程(b)を受ける請求項1から4のいずれ
    かに記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記工程(b)から生じた流出物は沸点
    が少なくとも340℃を超える化合物を含む油を分離す
    るように蒸留される請求項1から請求項6のいずれか1
    項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 常圧残渣の真空蒸留を伴う常圧蒸留を含
    む請求項7に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記工程(a)を受ける装入物は予め水
    素化処理を受け、次に場合によっては水、アンモニアお
    よび硫化水素の分離を受ける請求項1から8のいずれか
    1項に記載の方法。
  10. 【請求項10】 前記工程(b)の触媒は、微細孔系
    が、9または10個の原子Tを有する細孔開口部を有す
    る少なくとも1つの主型の管路を示す少なくとも1つの
    モレキュラーシーブを含み、TがSi、Al、P、B、
    Ti、Fe,Gaよりなる群の中から選ばれた少なくと
    も1つの原子であり、酸素原子の同数と交代し、9また
    は10個の原子Tに近づきやすい細孔の2つの開口部間
    の距離が0.75mm以下であり、かつ前記シーブがn
    −デカンテストで、5を超える2−メチルノナン/5−
    メチルノナンの割合を示す請求項1から9のいずれか1
    項に記載の方法。
  11. 【請求項11】 前記シーブは、NU−10、EU−
    1、EU−13、フェリエライト、ZSM―22、Th
    eta−1、ZSM−50、ZSM−23、NU−2
    3、ZSM−35、ZSM−38、ZSM−48、IS
    I−1、KZ−2、ISI−4、KZ−1よりなる群の
    中から選ばれた少なくとも1つのゼオライトである請求
    項10に記載の方法。
  12. 【請求項12】 前記工程(b)から生じた流出物は、
    蒸留される前に水素化仕上げ工程を受ける請求項1から
    11のいずれか1項に記載の方法。
  13. 【請求項13】 処理される前記炭化水素装入物は、3
    40℃を超えて沸騰する化合物を少なくとも20容積%
    含む請求項1から12のいずれかに記載の方法。
  14. 【請求項14】 処理される前記炭化水素装入物は、フ
    ィッシャー・トロプシュのユニットから生じた流出物、
    原油の直接蒸留から生じた真空留出物、転換ユニットか
    ら生じた真空留出物、芳香族化合物抽出ユニットに起因
    する真空留出物、常圧残渣および/または真空残渣の脱
    硫または水素化転換に起因する真空留出物、脱アスファ
    ルト油、水素化クラッキング残渣、または前記装入物の
    混合物からなる群から選択される請求項1から13のい
    ずれか1項に記載の方法。
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