JP2000338527A - 表示素子 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】エレクトロクロミック表示素子において、表示
色の濃度に偏りをなくし、同じ明るさで表示させる。 【解決手段】基板上に構成された電極層、発色型エレク
トロクロミック層、イオン貯蔵膜および電解質層からな
るエレクトロクロミック表示素子において、発色型エレ
クトロクロミック膜とイオン貯蔵膜とを一つの層に形成
し、エレクトロクロミック表示素子を作製する。このエ
レクトロクロミック表示素子は、電極反応が場所によっ
て異なることが無く、表示品質は良好であった。
色の濃度に偏りをなくし、同じ明るさで表示させる。 【解決手段】基板上に構成された電極層、発色型エレク
トロクロミック層、イオン貯蔵膜および電解質層からな
るエレクトロクロミック表示素子において、発色型エレ
クトロクロミック膜とイオン貯蔵膜とを一つの層に形成
し、エレクトロクロミック表示素子を作製する。このエ
レクトロクロミック表示素子は、電極反応が場所によっ
て異なることが無く、表示品質は良好であった。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、透明基板上に、透
明電極層、電解質層、および発色型エレクトロクロミッ
ク層を形成した、エレクトロクロミック表示素子に関す
る。
明電極層、電解質層、および発色型エレクトロクロミッ
ク層を形成した、エレクトロクロミック表示素子に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】透明基板上に、透明電極層、発色型エレ
クトロクロミック層、および電解質層を形成し、さらに
透明基板上に透明電極層を形成したものと対向させた構
成のエレクトロクロミック表示素子において、発色型エ
レクトロクロミック層を文字や数字などの形状にパター
ン化すれば、エレクトロクロミック層の着色と消色によ
り、文字や数字の表示・非表示が可能である。しかし、
この構成では、常に同じ文字あるいは数字を表示するの
みで、表示内容を変えることが出来ない。
クトロクロミック層、および電解質層を形成し、さらに
透明基板上に透明電極層を形成したものと対向させた構
成のエレクトロクロミック表示素子において、発色型エ
レクトロクロミック層を文字や数字などの形状にパター
ン化すれば、エレクトロクロミック層の着色と消色によ
り、文字や数字の表示・非表示が可能である。しかし、
この構成では、常に同じ文字あるいは数字を表示するの
みで、表示内容を変えることが出来ない。
【０００３】表示内容を変えられるようにするために、
透明基板上に、透明電極層、発色型エレクトロクロミッ
ク層、および電解質層を形成し、さらに透明基板上に透
明電極層と発色型エレクトロクロミック層を形成したも
のと対向配置したエレクトロクロミック表示素子があ
る。該表示素子において、発色型エレクトロクロミック
層を文字や数字などの形状にし、一方の発色型エレクト
ロクロミック層を酸化型エレクトロクロミック材料を用
いて形成し、他方の発色型エレクトロクロミック層を還
元型エレクトロクロミック材料を用いて形成すれば、異
なる表示が可能となる。
透明基板上に、透明電極層、発色型エレクトロクロミッ
ク層、および電解質層を形成し、さらに透明基板上に透
明電極層と発色型エレクトロクロミック層を形成したも
のと対向配置したエレクトロクロミック表示素子があ
る。該表示素子において、発色型エレクトロクロミック
層を文字や数字などの形状にし、一方の発色型エレクト
ロクロミック層を酸化型エレクトロクロミック材料を用
いて形成し、他方の発色型エレクトロクロミック層を還
元型エレクトロクロミック材料を用いて形成すれば、異
なる表示が可能となる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】基板上に、電極層、エ
レクトロクロミック層、電解質層およびイオン貯蔵膜を
形成し、該エレクトロクロミック層を文字あるいは数字
等の形に、発色型エレクトロクロミック材で成膜した、
エレクトロクロミック表示素子が知られている。
レクトロクロミック層、電解質層およびイオン貯蔵膜を
形成し、該エレクトロクロミック層を文字あるいは数字
等の形に、発色型エレクトロクロミック材で成膜した、
エレクトロクロミック表示素子が知られている。
【０００５】このようなエレクトロクロミック表示素子
は、エレクトロクロミック膜が電極反応で着色・消色す
ることを利用したものであり、エレクトロクロミック膜
を、文字や数字の形に成膜して、成膜下形を表示するも
のである。
は、エレクトロクロミック膜が電極反応で着色・消色す
ることを利用したものであり、エレクトロクロミック膜
を、文字や数字の形に成膜して、成膜下形を表示するも
のである。
【０００６】エレクトロクロミック膜の電極反応は、電
解質膜を挟んで対向配置させた、イオン貯蔵膜あるいは
エレクトロクロミック膜とのあいだで生じ、電極反応の
速度は、電位差によって決定される。
解質膜を挟んで対向配置させた、イオン貯蔵膜あるいは
エレクトロクロミック膜とのあいだで生じ、電極反応の
速度は、電位差によって決定される。
【０００７】これまでのエレクトロクロミック表示素子
の膜構成では、表示しようとする文字や数字の形が、電
位差の不均一を生じさせ、場所によって電極反応の反応
速度が異なり、表示色の濃度に偏りが生じてしまうこと
が多く、表示が同じが明るさで見えないという欠点があ
った。
の膜構成では、表示しようとする文字や数字の形が、電
位差の不均一を生じさせ、場所によって電極反応の反応
速度が異なり、表示色の濃度に偏りが生じてしまうこと
が多く、表示が同じが明るさで見えないという欠点があ
った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板上に構成
された電極層、発色型エレクトロクロミック層、イオン
貯蔵膜および電解質層からなるエレクトロクロミック表
示素子において、発色型エレクトロクロミック膜とイオ
ン貯蔵膜とを一つの層の複合膜とし、少なくとも一つの
側の電極層と基板を透明電極層と透明基板にしたことを
特徴とするエレクトロクロミック表示素子である。
された電極層、発色型エレクトロクロミック層、イオン
貯蔵膜および電解質層からなるエレクトロクロミック表
示素子において、発色型エレクトロクロミック膜とイオ
ン貯蔵膜とを一つの層の複合膜とし、少なくとも一つの
側の電極層と基板を透明電極層と透明基板にしたことを
特徴とするエレクトロクロミック表示素子である。
【０００９】また、電解質層を挟んで、複合膜、電極層
の順に対向配置したことを特徴とするエレクトロクロミ
ック表示素子である。
の順に対向配置したことを特徴とするエレクトロクロミ
ック表示素子である。
【００１０】また、電解質層を挟んで、酸化型発色エレ
クトロクロミック膜、還元型発色エレクトロクロミック
膜およびイオン貯蔵膜からなる複合膜とイオン貯蔵膜と
を対向配置したことを特徴とするエレクトロクロミック
表示素子である。
クトロクロミック膜、還元型発色エレクトロクロミック
膜およびイオン貯蔵膜からなる複合膜とイオン貯蔵膜と
を対向配置したことを特徴とするエレクトロクロミック
表示素子である。
【００１１】イオン貯蔵膜と発色型エレクトロクロミッ
ク膜が同一電極層の上にあるため、電極反応においてイ
オン注入濃度の偏りがなく、文字や数字など表示しよう
とするパターンにだけでなくその周囲にも同時に進行
し、発色型エレクトロクロミック膜の反応が場所によっ
て異なることが無くなり、表示の明るさが均一となる。
ク膜が同一電極層の上にあるため、電極反応においてイ
オン注入濃度の偏りがなく、文字や数字など表示しよう
とするパターンにだけでなくその周囲にも同時に進行
し、発色型エレクトロクロミック膜の反応が場所によっ
て異なることが無くなり、表示の明るさが均一となる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図によって
説明する。図１、図２に本発明のエレクトロクロミック
表示素子の代表的な膜構成を示す。図１は複合膜３を電
解質膜４を挟んで、イオン貯蔵膜６と対向配置させたエ
レクトロクロミック表示素子の膜構成であり、図２は複
合膜３と複合膜３’を、電解質層４を挟んで対向配置さ
せたエレクトロクロミック表示素子の膜構成である。
説明する。図１、図２に本発明のエレクトロクロミック
表示素子の代表的な膜構成を示す。図１は複合膜３を電
解質膜４を挟んで、イオン貯蔵膜６と対向配置させたエ
レクトロクロミック表示素子の膜構成であり、図２は複
合膜３と複合膜３’を、電解質層４を挟んで対向配置さ
せたエレクトロクロミック表示素子の膜構成である。
【００１３】エレクトロクロミックの電極反応による着
色・消色を視認できるようにするため、図１，図２の少
なくとも１つの側の基板１と電極層２は透明基板と透明
電極とする。
色・消色を視認できるようにするため、図１，図２の少
なくとも１つの側の基板１と電極層２は透明基板と透明
電極とする。
【００１４】電極層２はガラス板やプラスチック板に形
成された金属蒸着膜、あるいはプラスチック板やガラス
板に接着した金属フィルム、あるいは透明なガラス基板
に形成されたＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜などの透明導電膜で
ある。電極層２の上に複合膜３，３’あるいはイオン貯
蔵膜６を形成するので、基板１と電極層２は、複合膜
３，３’あるいはイオン貯蔵膜６が形成できる耐久性を
必要とする。
成された金属蒸着膜、あるいはプラスチック板やガラス
板に接着した金属フィルム、あるいは透明なガラス基板
に形成されたＩＴＯ膜やＮＥＳＡ膜などの透明導電膜で
ある。電極層２の上に複合膜３，３’あるいはイオン貯
蔵膜６を形成するので、基板１と電極層２は、複合膜
３，３’あるいはイオン貯蔵膜６が形成できる耐久性を
必要とする。
【００１５】複合膜３、３’は発色型エレクトロクロミ
ック膜とイオン貯蔵膜で形成される。複合膜３，３’の
発色型エレクトロクロミック膜は、プルシアンブルー
（ＰＢ）、ＷＯ3 、ＭｏＯ3 、Ｎｂ2Ｏ5 、Ｒｈ2Ｏ3 、
またはＶ2Ｏ5 を蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル
法、ＣＶＤ法、または熱ＣＶＤ法などで成膜したもので
ある。複合膜３，３’のイオン貯蔵膜は、ＣｅＯ2ーＴ
ｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2ーＴｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2
あるいはＣｅＯ2を主成分とするイオン貯蔵膜である。
ック膜とイオン貯蔵膜で形成される。複合膜３，３’の
発色型エレクトロクロミック膜は、プルシアンブルー
（ＰＢ）、ＷＯ3 、ＭｏＯ3 、Ｎｂ2Ｏ5 、Ｒｈ2Ｏ3 、
またはＶ2Ｏ5 を蒸着法、スパッタリング法、ゾルゲル
法、ＣＶＤ法、または熱ＣＶＤ法などで成膜したもので
ある。複合膜３，３’のイオン貯蔵膜は、ＣｅＯ2ーＴ
ｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2ーＴｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2
あるいはＣｅＯ2を主成分とするイオン貯蔵膜である。
【００１６】図１のイオン貯蔵膜６は、ＣｅＯ2ーＴｉ
Ｏ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2ーＴｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2あ
るいはＣｅＯ2を主成分とするイオン貯蔵膜である。
Ｏ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2ーＴｉＯ2、ＣｅＯ2ーＳｉＯ2あ
るいはＣｅＯ2を主成分とするイオン貯蔵膜である。
【００１７】複合膜３，３’および図１のイオン貯蔵膜
は、アルコール類で溶解させた硝酸アンモニウムセリウ
ム、ケイ酸エチルあるいはイソプロピルチタナートの溶
液を、透明電極の上に、スプレー法、ディッピング法あ
るいはローラーコート法などで塗布した後、焼成して成
膜する。
は、アルコール類で溶解させた硝酸アンモニウムセリウ
ム、ケイ酸エチルあるいはイソプロピルチタナートの溶
液を、透明電極の上に、スプレー法、ディッピング法あ
るいはローラーコート法などで塗布した後、焼成して成
膜する。
【００１８】図１の複合膜３において、酸化型のエレク
トロクロミック材による発色型エレクトロクロミック膜
と還元型のエレクトロクロミック材による発色型エレク
トロクロミック膜を混在させてもよい。
トロクロミック材による発色型エレクトロクロミック膜
と還元型のエレクトロクロミック材による発色型エレク
トロクロミック膜を混在させてもよい。
【００１９】図２に示すように、複合膜３，３’を電解
質層４を挟んで対向配置する場合、電極反応で複合膜３
の発色型エレクトロクロミック膜が着色したときに、複
合膜３’の発色型エレクトロクロミック膜は消色させ、
逆に、複合膜３のの発色型エレクトロクロミック膜が消
色したときに、複合膜３’の発色型エレクトロクロミッ
ク膜は着色させる必要がある。このため、対向して配置
させる複合膜３，３’のエレクトロクロミック材は、両
方とも、酸化型のエレクトロクロミック材を用いるか、
あるいは還元型のエレクトロクロミック材を用いる。
質層４を挟んで対向配置する場合、電極反応で複合膜３
の発色型エレクトロクロミック膜が着色したときに、複
合膜３’の発色型エレクトロクロミック膜は消色させ、
逆に、複合膜３のの発色型エレクトロクロミック膜が消
色したときに、複合膜３’の発色型エレクトロクロミッ
ク膜は着色させる必要がある。このため、対向して配置
させる複合膜３，３’のエレクトロクロミック材は、両
方とも、酸化型のエレクトロクロミック材を用いるか、
あるいは還元型のエレクトロクロミック材を用いる。
【００２０】電解質層４は、全個体型エレクトロクロミ
ック表示素子を作製する場合は、ポリエチレンオキサイ
ド、またはポリプロピレンオキサイド等のモノマーに過
塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリウ
ム、またはトリフルオロメタスルホン酸リチウムの塩を
溶解させたものを層形成し、固体のポリマー層として形
成するか、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）に
プロピレンカーボネイト、またはγブチルラクトン等の
溶液を含浸させ、固体のポリマー層として形成したもの
である。また、プロピレンカーボネイト、またはγブチ
ルラクトン等を液体のまま用いても良い。
ック表示素子を作製する場合は、ポリエチレンオキサイ
ド、またはポリプロピレンオキサイド等のモノマーに過
塩素酸リチウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリウ
ム、またはトリフルオロメタスルホン酸リチウムの塩を
溶解させたものを層形成し、固体のポリマー層として形
成するか、ポリメチルメタアクリレート（ＰＭＭＡ）に
プロピレンカーボネイト、またはγブチルラクトン等の
溶液を含浸させ、固体のポリマー層として形成したもの
である。また、プロピレンカーボネイト、またはγブチ
ルラクトン等を液体のまま用いても良い。
【００２１】
【実施例】以下、図面を参照しながら本発明を詳細に説
明する。
明する。
【００２２】実施例１ エタノール溶媒中に硝酸二アンモニウムセリウム０.２
モルとケイ酸エチル０.２モルを溶解させ、塗布溶液と
した。１０ｃｍｘ１０ｃｍのＩＴＯ膜付きガラス基板
（以後ガラス基板と呼ぶ）を洗浄乾燥後、透明導電性膜
をその中央付近に、図４に示すように、「営業中」と
「準備中」の文字になるようにマスキングし、さらに、
基板の裏面にもマスキングを施し、塗布溶液の入ったデ
ィップ層に基板を浸漬させ、５ｍｍ/ｓの速度で引き上げ
て、相対湿度５０％、室温２５℃で１０分乾燥後、４５
０℃、１０分間焼成し、「営業中」「準備中」の文字の
形を除いたＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜１３を得た。
モルとケイ酸エチル０.２モルを溶解させ、塗布溶液と
した。１０ｃｍｘ１０ｃｍのＩＴＯ膜付きガラス基板
（以後ガラス基板と呼ぶ）を洗浄乾燥後、透明導電性膜
をその中央付近に、図４に示すように、「営業中」と
「準備中」の文字になるようにマスキングし、さらに、
基板の裏面にもマスキングを施し、塗布溶液の入ったデ
ィップ層に基板を浸漬させ、５ｍｍ/ｓの速度で引き上げ
て、相対湿度５０％、室温２５℃で１０分乾燥後、４５
０℃、１０分間焼成し、「営業中」「準備中」の文字の
形を除いたＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜１３を得た。
【００２３】このＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜を形成したガラス
基板の、「営業中」の文字の形以外の箇所にマスキング
を施し、さらに裏面にもマスキングを施し、フェロシア
ン化カリウム５ｍモルと塩化第二鉄５ｍモルの水溶液中
で５μＡ/ｃｍ2の電流密度で電解重合法によりＰＢ膜１
１を「営業中」の文字の形に形成させ、さらに、「準備
中」の文字の形の箇所に、塩化タングステン０.５モル
をエタノール溶液に溶解させた薬液をフレキソ印刷し、
３５０℃、１０分間焼成して、「準備中」の文字の形で
ＷＯ3膜１２を作製した。
基板の、「営業中」の文字の形以外の箇所にマスキング
を施し、さらに裏面にもマスキングを施し、フェロシア
ン化カリウム５ｍモルと塩化第二鉄５ｍモルの水溶液中
で５μＡ/ｃｍ2の電流密度で電解重合法によりＰＢ膜１
１を「営業中」の文字の形に形成させ、さらに、「準備
中」の文字の形の箇所に、塩化タングステン０.５モル
をエタノール溶液に溶解させた薬液をフレキソ印刷し、
３５０℃、１０分間焼成して、「準備中」の文字の形で
ＷＯ3膜１２を作製した。
【００２４】以上に述べた３回の成膜により、ＰＢ膜お
よびＷＯ3膜の発色型エレクトロクロミック膜とＣｅＯ2
ーＳｉＯ2膜のイオン貯蔵膜からなる複合膜を形成し
た。
よびＷＯ3膜の発色型エレクトロクロミック膜とＣｅＯ2
ーＳｉＯ2膜のイオン貯蔵膜からなる複合膜を形成し
た。
【００２５】複合膜を形成したガラス基板を作用電極と
し、対極に白金線、参照電極に銀塩化銀電極を用いて、
２０ｍＣ/ｃｍ2のＬｉイオンを注入した。
し、対極に白金線、参照電極に銀塩化銀電極を用いて、
２０ｍＣ/ｃｍ2のＬｉイオンを注入した。
【００２６】複合膜の作成と同様にして、文字の形をマ
スキングせずに、透明性導電膜の上にＣｅＯ2ーＳｉＯ2
のイオン貯蔵膜を形成し、このイオン貯蔵膜とイオン注
入後の複合膜とを、プロピレンカーボネート＋過塩素酸
リチウム０.１モルの電解液を挟んで対向配置させエレ
クトロクロミック表示素子とした。
スキングせずに、透明性導電膜の上にＣｅＯ2ーＳｉＯ2
のイオン貯蔵膜を形成し、このイオン貯蔵膜とイオン注
入後の複合膜とを、プロピレンカーボネート＋過塩素酸
リチウム０.１モルの電解液を挟んで対向配置させエレ
クトロクロミック表示素子とした。
【００２７】このように作製した表示素子は、交互に
「営業中」「準備中」の文字を表示させたところ、どち
らの文字も均一な濃さで表示できることを確認した。
「営業中」「準備中」の文字を表示させたところ、どち
らの文字も均一な濃さで表示できることを確認した。
【００２８】実施例２ エタノール溶媒中に硝酸二アンモニウムセリウム０.２
モルとケイ酸エチル０.２モルを溶解させ、塗布溶液と
した。１０ｃｍｘ１０ｃｍのＩＴＯ膜付きガラス基板
（以後基板と呼ぶ）を２枚洗浄乾燥後、それぞれの透明
導電性膜の中央に、図５に示すように、１枚は「営業
中」、２枚目は「準備中」の文字になるようにマスキン
グし、さらに、基板の裏面にもマスキングを施し、塗布
溶液の入ったディップ層に基板を浸漬させ、５ｍｍ/ｓの
速度で引き上げて、相対湿度５０％、室温２５℃で１０
分乾燥後、４５０℃、１０分間焼成し、ＣｅＯ2ーＳｉＯ
2膜７、９を得た。
モルとケイ酸エチル０.２モルを溶解させ、塗布溶液と
した。１０ｃｍｘ１０ｃｍのＩＴＯ膜付きガラス基板
（以後基板と呼ぶ）を２枚洗浄乾燥後、それぞれの透明
導電性膜の中央に、図５に示すように、１枚は「営業
中」、２枚目は「準備中」の文字になるようにマスキン
グし、さらに、基板の裏面にもマスキングを施し、塗布
溶液の入ったディップ層に基板を浸漬させ、５ｍｍ/ｓの
速度で引き上げて、相対湿度５０％、室温２５℃で１０
分乾燥後、４５０℃、１０分間焼成し、ＣｅＯ2ーＳｉＯ
2膜７、９を得た。
【００２９】次に「営業中」「準備中」の文字の形以外
の箇所にマスキングを施し、さらに裏面にもマスキング
を施し、フェロシアン化カリウム５ｍモルと塩化第二鉄
５ｍモルの水溶液中で５μＡ/ｃｍ2の電流密度で電解重
合法によりＰＢ膜８，１０を「営業中」「準備中」の文
字の形に形成させた。表示素子作製前にプロピレンカー
ボネート＋過塩素酸リチウム０.１モル電解液中で「営
業中」の文字の形で成膜した基板を作用電極とし、対極
に白金線、参照電極に銀塩化銀電極を用いて、２０ｍＣ
/ｃｍ2のＬｉイオンを注入した。その後、これら２枚の
基板電極を対向させ、電解液にプロピレンカーボネート
＋過塩素酸リチウム０.１モルを用いてエレクトロクロ
ミック表示素子を作製した。
の箇所にマスキングを施し、さらに裏面にもマスキング
を施し、フェロシアン化カリウム５ｍモルと塩化第二鉄
５ｍモルの水溶液中で５μＡ/ｃｍ2の電流密度で電解重
合法によりＰＢ膜８，１０を「営業中」「準備中」の文
字の形に形成させた。表示素子作製前にプロピレンカー
ボネート＋過塩素酸リチウム０.１モル電解液中で「営
業中」の文字の形で成膜した基板を作用電極とし、対極
に白金線、参照電極に銀塩化銀電極を用いて、２０ｍＣ
/ｃｍ2のＬｉイオンを注入した。その後、これら２枚の
基板電極を対向させ、電解液にプロピレンカーボネート
＋過塩素酸リチウム０.１モルを用いてエレクトロクロ
ミック表示素子を作製した。
【００３０】このように作製した表示素子は、交互に
「営業中」「準備中」の文字を表示させたところ、どち
らの文字も均一な濃さで表示できることを確認した。
「営業中」「準備中」の文字を表示させたところ、どち
らの文字も均一な濃さで表示できることを確認した。
【００３１】比較例１ ＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜を作製しない以外は、実施例２と同
様の条件でＰＢ膜を「営業中」「準備中」に形成させ、
表示素子を作製した。それぞれの文字を交互に表示した
ところ、それぞれの文字を交互に均一に表示させること
はできなかった。
様の条件でＰＢ膜を「営業中」「準備中」に形成させ、
表示素子を作製した。それぞれの文字を交互に表示した
ところ、それぞれの文字を交互に均一に表示させること
はできなかった。
【００３２】実施例３ フレキソ版は、「営業中」と「準備中」の文字の凸版と
凹版をそれぞれ作製し、フレキソ印刷装置を用いで印刷
した。印刷薬液は、硝酸二アンモニウムセリウム０.２
モルとケイ酸エチル０.１５モルおよびイソプロピルチ
タナート０.０５モルをエタノール溶液に溶解させたも
のを使用した。まず、３０ｃｍｘ３０ｃｍの透明導電性
基板（ＮＥＳＡ膜付きガラス基板）を洗浄乾燥後、凹版
を用いて「営業中」、「準備中」の文字以外部分に塗布
し、実施例１と同じ条件で焼成しＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜を
作製した。次に、塩化タングステン０.５モルをエタノ
ール溶液に溶解させた薬液を凸版を用いて、「営業中」
と「準備中」の文字のみに塗布し、３５０℃、１０分間
焼成しＷＯ3膜を作製した。この塗膜の膜厚は、１００
ｎｍでクラックもなく均一な膜であった。
凹版をそれぞれ作製し、フレキソ印刷装置を用いで印刷
した。印刷薬液は、硝酸二アンモニウムセリウム０.２
モルとケイ酸エチル０.１５モルおよびイソプロピルチ
タナート０.０５モルをエタノール溶液に溶解させたも
のを使用した。まず、３０ｃｍｘ３０ｃｍの透明導電性
基板（ＮＥＳＡ膜付きガラス基板）を洗浄乾燥後、凹版
を用いて「営業中」、「準備中」の文字以外部分に塗布
し、実施例１と同じ条件で焼成しＣｅＯ2ーＳｉＯ2膜を
作製した。次に、塩化タングステン０.５モルをエタノ
ール溶液に溶解させた薬液を凸版を用いて、「営業中」
と「準備中」の文字のみに塗布し、３５０℃、１０分間
焼成しＷＯ3膜を作製した。この塗膜の膜厚は、１００
ｎｍでクラックもなく均一な膜であった。
【００３３】表示素子作製前にプロピレンカーボネート
＋過塩素酸リチウム０.１モル電解液中で「営業中」
「準備中」の基板を作用電極、対極に白金線、参照電極
に銀塩化銀電極を用いて、３０ｍＣ/ｃｍ2のＬｉイオン
を注入した。
＋過塩素酸リチウム０.１モル電解液中で「営業中」
「準備中」の基板を作用電極、対極に白金線、参照電極
に銀塩化銀電極を用いて、３０ｍＣ/ｃｍ2のＬｉイオン
を注入した。
【００３４】このように作製した表示素子も各文字の透
過率は全体に均一で非常にクリアに文字を電圧操作によ
り交互に表示させることができた。
過率は全体に均一で非常にクリアに文字を電圧操作によ
り交互に表示させることができた。
【００３５】実施例４ 実施例３において作製した「営業中」の文字の複合膜に
対して、文字の部分をイオン貯蔵膜、文字の周囲を発色
型エレクトロクロミック膜で作製した他は、全て実施例
３と同様にした表示素子を作製した。この実施例の表示
素子も、実施例３と同様に、表示全体が均一で非常に鮮
明な表示をすることが出来た。
対して、文字の部分をイオン貯蔵膜、文字の周囲を発色
型エレクトロクロミック膜で作製した他は、全て実施例
３と同様にした表示素子を作製した。この実施例の表示
素子も、実施例３と同様に、表示全体が均一で非常に鮮
明な表示をすることが出来た。
【００３６】
【発明の効果】本発明は、均一な明るさで様々な表示が
行える高性能のエレクトロクロミック表示素子を提供す
ることを可能にした。
行える高性能のエレクトロクロミック表示素子を提供す
ることを可能にした。
【図１】複合膜とイオン貯蔵膜を電解質層を挟んで対向
配置させたエレクトロクロミック表示素子の膜構成を示
す概略断面図。
配置させたエレクトロクロミック表示素子の膜構成を示
す概略断面図。
【図２】複合膜と複合膜を電解質層を挟んで対向配置さ
せたエレクトロクロミック表示素子の膜構成を示す概略
断面図。
せたエレクトロクロミック表示素子の膜構成を示す概略
断面図。
【図３】従来のエレクトロクロミック表示素子の膜構成
を示す概略断面図。
を示す概略断面図。
【図４】実施例１に示す複合膜３の平面図。
【図５】実施例２に示す複合膜３，３’の平面図。
１ 基板 ２ 電極層 ３ 複合膜 ４ 電解質層 ５ 発色型エレクトロクロミック層 ６、７，９，１３ イオン貯蔵膜 ８，１０，１１，１２ 発色型エレクトロクロミック膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2K001 AA02 BB18 BB23 CA04 CA08 CA18 CA20 CA22 DA02 DA03 DA04 DA11 DA19 5C094 AA03 AA55 BA21 CA15 DA13 EA05 EB02
Claims (3)
- 【請求項１】基板上に構成された電極層、発色型エレク
トロクロミック層、イオン貯蔵膜および電解質層からな
るエレクトロクロミック表示素子において、発色型エレ
クトロクロミック膜とイオン貯蔵膜とを一つの層の複合
膜とし、少なくとも一つの側の電極層と基板を透明電極
層と透明基板にしたことを特徴とするエレクトロクロミ
ック表示素子。 - 【請求項２】電解質層を挟んで、複合膜、電極層の順に
対向配置したことを特徴とする請求項１記載のエレクト
ロクロミック素子。 - 【請求項３】電解質層を挟んで、酸化型発色エレクトロ
クロミック膜、還元型発色エレクトロクロミック膜およ
びイオン貯蔵膜からなる複合膜とイオン貯蔵膜とを対向
配置したことを特徴とする請求項１記載のエレクトロク
ロミック素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11153604A JP2000338527A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11153604A JP2000338527A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 表示素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000338527A true JP2000338527A (ja) | 2000-12-08 |
Family
ID=15566126
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11153604A Pending JP2000338527A (ja) | 1999-06-01 | 1999-06-01 | 表示素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000338527A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007102197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-04-19 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及びそれを用いた調光部材 |
| JP2007328066A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Canon Inc | 表示装置 |
| JP2018005093A (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子 |
| CN113791510A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-12-14 | 河北光兴半导体技术有限公司 | 用于电致变色玻璃的制备系统 |
-
1999
- 1999-06-01 JP JP11153604A patent/JP2000338527A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007102197A (ja) * | 2005-09-12 | 2007-04-19 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 全固体型反射調光エレクトロクロミック素子及びそれを用いた調光部材 |
| JP2007328066A (ja) * | 2006-06-07 | 2007-12-20 | Canon Inc | 表示装置 |
| JP2018005093A (ja) * | 2016-07-06 | 2018-01-11 | 株式会社リコー | エレクトロクロミック表示素子 |
| CN113791510A (zh) * | 2021-08-06 | 2021-12-14 | 河北光兴半导体技术有限公司 | 用于电致变色玻璃的制备系统 |
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