JP2000334350A - 薬液浸漬処理装置 - Google Patents
薬液浸漬処理装置Info
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- JP2000334350A JP2000334350A JP11150623A JP15062399A JP2000334350A JP 2000334350 A JP2000334350 A JP 2000334350A JP 11150623 A JP11150623 A JP 11150623A JP 15062399 A JP15062399 A JP 15062399A JP 2000334350 A JP2000334350 A JP 2000334350A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 薬液浸漬処理装置全体の長さを短くすること
ができ、更に一の薬液処理から他の薬液処理までの時間
を短縮して薬液浸漬処理を良好に行うことができる実用
性に秀れた薬液浸漬処理装置を提供するものである。 【解決手段】 薬液２を溜める薬液溜部１が複数並設さ
れ、この薬液溜部１にワーク３を配設して該ワーク３に
薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であって、複数
の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移動可能に構
成され、また、この複数の薬液溜部１には該薬液溜部１
に薬液２の導入する薬液導入部21及び薬液２を導出する
薬液導出部22が設けられているものである。
ができ、更に一の薬液処理から他の薬液処理までの時間
を短縮して薬液浸漬処理を良好に行うことができる実用
性に秀れた薬液浸漬処理装置を提供するものである。 【解決手段】 薬液２を溜める薬液溜部１が複数並設さ
れ、この薬液溜部１にワーク３を配設して該ワーク３に
薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であって、複数
の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移動可能に構
成され、また、この複数の薬液溜部１には該薬液溜部１
に薬液２の導入する薬液導入部21及び薬液２を導出する
薬液導出部22が設けられているものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、薬液浸漬処理装置
に関するものである。
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】プレス
などにより一時加工されたワークに薬液などによって化
学処理を行う方法には、薬液溜部に適宜な方法により薬
液を注ぎ、薬液を溜めた薬液溜部にワークを浸漬して化
学処理を行う薬液浸漬処理方法と、前記薬液浸漬処理方
法のように溜めた薬液にワークを浸漬するのではなく、
シャワー装置によってワークに薬液を散布するシャワー
処理方法とがあるが、ワークの化学処理の際に可及的に
ワークと空気とを接触させたくない場合などには前記シ
ャワー処理方法は採用することができず、必然的に薬液
浸漬処理方法が採用される。
などにより一時加工されたワークに薬液などによって化
学処理を行う方法には、薬液溜部に適宜な方法により薬
液を注ぎ、薬液を溜めた薬液溜部にワークを浸漬して化
学処理を行う薬液浸漬処理方法と、前記薬液浸漬処理方
法のように溜めた薬液にワークを浸漬するのではなく、
シャワー装置によってワークに薬液を散布するシャワー
処理方法とがあるが、ワークの化学処理の際に可及的に
ワークと空気とを接触させたくない場合などには前記シ
ャワー処理方法は採用することができず、必然的に薬液
浸漬処理方法が採用される。
【０００３】ところで、ワークに表面調整や化成処理の
異なる化学処理を続けて行う為に、該ワークを夫々異な
る薬液が溜められた複数の薬液溜部に順次浸漬して化学
処理を行う場合など、並設された複数の薬液溜部で異な
る薬液浸漬処理を順次行う薬液浸漬処理装置は、一般的
にワークが各薬液溜部中を通過するように構成されてい
る。
異なる化学処理を続けて行う為に、該ワークを夫々異な
る薬液が溜められた複数の薬液溜部に順次浸漬して化学
処理を行う場合など、並設された複数の薬液溜部で異な
る薬液浸漬処理を順次行う薬液浸漬処理装置は、一般的
にワークが各薬液溜部中を通過するように構成されてい
る。
【０００４】具体的には、図１に図示したように、ワー
ク３を載置する搬送ライン５は薬液２が溜められている
一の薬液溜部と他の薬液溜部との間に設けられる壁部31
を乗り越えるように構成される為、該壁部31付近におい
て、搬送ライン５は一旦斜め上方へ上昇し、続いて、壁
部31を乗り越え、続いて、斜め下方へ降下するように設
定されている（以下、従来例という。尚、実施例と同一
構成部分には同一符号を付した。）。
ク３を載置する搬送ライン５は薬液２が溜められている
一の薬液溜部と他の薬液溜部との間に設けられる壁部31
を乗り越えるように構成される為、該壁部31付近におい
て、搬送ライン５は一旦斜め上方へ上昇し、続いて、壁
部31を乗り越え、続いて、斜め下方へ降下するように設
定されている（以下、従来例という。尚、実施例と同一
構成部分には同一符号を付した。）。
【０００５】しかし、この従来例では、搬送ライン５が
斜め上方に上昇したり斜め下方に降下したりする為、該
上昇工程部分と降下工程部分の分、薬液浸漬処理装置全
体の長さが長くなってしまうという問題点がある。
斜め上方に上昇したり斜め下方に降下したりする為、該
上昇工程部分と降下工程部分の分、薬液浸漬処理装置全
体の長さが長くなってしまうという問題点がある。
【０００６】更に、例えば、反応性の高いワークの化成
処理など、ワーク３を一の薬液溜部１ａから他の薬液溜
部１ｂへ可及的に迅速に搬送しなければならない場合、
従来例では、前記搬送ライン５が薬液溜部１の壁部31を
乗り越える工程が邪魔になるという問題点がある。ま
た、搬送ライン５が薬液溜部１の壁部31を乗り越える時
間を可及的に少なくする為には搬送ライン５の移動速度
を速めねばならないが、この場合、ワーク３が薬液２に
浸漬している時間を必要時間確保しなければならない
為、薬液溜部１の前後長が長くなり、薬液浸漬処理装置
全体の長さが更に長くなってしまうという問題点があ
る。
処理など、ワーク３を一の薬液溜部１ａから他の薬液溜
部１ｂへ可及的に迅速に搬送しなければならない場合、
従来例では、前記搬送ライン５が薬液溜部１の壁部31を
乗り越える工程が邪魔になるという問題点がある。ま
た、搬送ライン５が薬液溜部１の壁部31を乗り越える時
間を可及的に少なくする為には搬送ライン５の移動速度
を速めねばならないが、この場合、ワーク３が薬液２に
浸漬している時間を必要時間確保しなければならない
為、薬液溜部１の前後長が長くなり、薬液浸漬処理装置
全体の長さが更に長くなってしまうという問題点があ
る。
【０００７】また、前記従来例とは異なり、図２に図示
したような、搬送ライン５にワーク３を吊り下げて移動
するタイプの薬液浸漬処理装置においても、同様の問題
が発生する。
したような、搬送ライン５にワーク３を吊り下げて移動
するタイプの薬液浸漬処理装置においても、同様の問題
が発生する。
【０００８】本発明は、上記問題点を解決した薬液浸漬
処理装置を提供するものである。
処理装置を提供するものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】添付図面を参照して本発
明の要旨を説明する。
明の要旨を説明する。
【００１０】薬液２を溜める薬液溜部１が複数並設さ
れ、この薬液溜部１にワーク３を配設して該ワーク３に
薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であって、複数
の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移動可能に構
成され、また、この複数の薬液溜部１には該薬液溜部１
に薬液２を導入する薬液導入部21及び薬液２を導出する
薬液導出部22が設けられていることを特徴とする薬液浸
漬処理装置に係るものである。
れ、この薬液溜部１にワーク３を配設して該ワーク３に
薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であって、複数
の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移動可能に構
成され、また、この複数の薬液溜部１には該薬液溜部１
に薬液２を導入する薬液導入部21及び薬液２を導出する
薬液導出部22が設けられていることを特徴とする薬液浸
漬処理装置に係るものである。
【００１１】また、請求項１記載の薬液浸漬処理装置に
おいて、薬液溜部１は薬液２を充填することができる区
画部６内において移動可能に構成され、この区画部６は
所定箇所において該区画部６に薬液２を導入する薬液導
入部６及び薬液２を導出する薬液導出部20が設けられて
いることを特徴とする薬液浸漬処理装置に係るものであ
る。
おいて、薬液溜部１は薬液２を充填することができる区
画部６内において移動可能に構成され、この区画部６は
所定箇所において該区画部６に薬液２を導入する薬液導
入部６及び薬液２を導出する薬液導出部20が設けられて
いることを特徴とする薬液浸漬処理装置に係るものであ
る。
【００１２】また、請求項２記載の薬液浸漬処理装置に
おいて、区画部６には切欠部20が設けられ、該切欠部20
が薬液導出部20に設定されていることを特徴とする薬液
浸漬処理装置に係るものである。
おいて、区画部６には切欠部20が設けられ、該切欠部20
が薬液導出部20に設定されていることを特徴とする薬液
浸漬処理装置に係るものである。
【００１３】また、請求項１〜３いずれか１項に記載の
薬液浸漬処理装置において、薬液溜部４の移動は、所定
時間で進行と停止とを繰り返す間欠式移動が採用されて
いることを特徴とする薬液浸漬処理装置に係るものであ
る。
薬液浸漬処理装置において、薬液溜部４の移動は、所定
時間で進行と停止とを繰り返す間欠式移動が採用されて
いることを特徴とする薬液浸漬処理装置に係るものであ
る。
【００１４】また、請求項１〜４いずれか１項に記載の
薬液浸漬処理装置において、薬液溜部４は、無限循環運
動する搬送ライン５上に設けられていることを特徴とす
る薬液浸漬処理装置に係るものである。
薬液浸漬処理装置において、薬液溜部４は、無限循環運
動する搬送ライン５上に設けられていることを特徴とす
る薬液浸漬処理装置に係るものである。
【００１５】また、ワーク３を薬液２に浸漬せしめる薬
液浸漬処理装置であって、水平方向に移動するワーク搬
送体５を設け、このワーク搬送体５は薬液通液路19内に
おいて移動可能に構成され、薬液通液路19の所定箇所に
は該薬液通液路19内の薬液２を導出する薬液導出部20が
設けられ、薬液通液路19への薬液２の導出入を、ワーク
搬送体５が移動して前記薬液導出部20位置にある場合に
は薬液通液路19から薬液２が該薬液導出部20より導出さ
れ、且つワーク搬送体５のワーク３に薬液浸漬が行われ
ず、また、ワーク搬送体５が前記薬液導出部20位置以外
にある場合には薬液通液路19の薬液２がワーク搬送体５
の底部から導入され、ワーク３の薬液浸漬が行われるよ
うに構成されていることを特徴とする薬液浸漬処理装置
に係るものである。
液浸漬処理装置であって、水平方向に移動するワーク搬
送体５を設け、このワーク搬送体５は薬液通液路19内に
おいて移動可能に構成され、薬液通液路19の所定箇所に
は該薬液通液路19内の薬液２を導出する薬液導出部20が
設けられ、薬液通液路19への薬液２の導出入を、ワーク
搬送体５が移動して前記薬液導出部20位置にある場合に
は薬液通液路19から薬液２が該薬液導出部20より導出さ
れ、且つワーク搬送体５のワーク３に薬液浸漬が行われ
ず、また、ワーク搬送体５が前記薬液導出部20位置以外
にある場合には薬液通液路19の薬液２がワーク搬送体５
の底部から導入され、ワーク３の薬液浸漬が行われるよ
うに構成されていることを特徴とする薬液浸漬処理装置
に係るものである。
【００１６】
【発明の作用及び効果】請求項１記載の発明において
は、ワーク３は薬液溜部１に配設され、この薬液溜部１
は適宜な手段により直線状に移動し、また、薬液溜部１
は薬液２が導入されたり導出されたりする構成の為、ワ
ーク３を薬液溜部１に配設し、該薬液溜部１に薬液２を
導入して溜め、該ワーク３を薬液浸漬処理し、続いて、
この薬液溜部１から該薬液２を導出し、別の薬液２を該
薬液溜部１に導入して薬液浸漬処理し、この繰り返しに
より、ワーク３を移動させつつ複数の薬液２でワーク３
を薬液浸漬処理することができる。
は、ワーク３は薬液溜部１に配設され、この薬液溜部１
は適宜な手段により直線状に移動し、また、薬液溜部１
は薬液２が導入されたり導出されたりする構成の為、ワ
ーク３を薬液溜部１に配設し、該薬液溜部１に薬液２を
導入して溜め、該ワーク３を薬液浸漬処理し、続いて、
この薬液溜部１から該薬液２を導出し、別の薬液２を該
薬液溜部１に導入して薬液浸漬処理し、この繰り返しに
より、ワーク３を移動させつつ複数の薬液２でワーク３
を薬液浸漬処理することができる。
【００１７】このように請求項１の発明は、薬液２を上
方からシャワーとして散布する方法ではない為、反応性
の高い素材のワーク３などでも良好に化学処理すること
ができ、また、ワーク３を浸漬処理する場合、一の薬液
２により浸漬処理した後のワーク３の移動は従来例と異
なり直線状となるから、薬液浸漬処理装置全体の長さを
短くすることや、ワーク３の一の薬液処理から他の薬液
処理までの時間を短縮することができる。
方からシャワーとして散布する方法ではない為、反応性
の高い素材のワーク３などでも良好に化学処理すること
ができ、また、ワーク３を浸漬処理する場合、一の薬液
２により浸漬処理した後のワーク３の移動は従来例と異
なり直線状となるから、薬液浸漬処理装置全体の長さを
短くすることや、ワーク３の一の薬液処理から他の薬液
処理までの時間を短縮することができる。
【００１８】本発明は上述のように構成したから、薬液
浸漬処理装置全体の長さを短くすることができ、更に一
の薬液処理から他の薬液処理までの時間を短縮して薬液
浸漬処理を良好に行うことができる実用性に秀れた薬液
浸漬処理装置となる。
浸漬処理装置全体の長さを短くすることができ、更に一
の薬液処理から他の薬液処理までの時間を短縮して薬液
浸漬処理を良好に行うことができる実用性に秀れた薬液
浸漬処理装置となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図３〜７は本発明の一実施例を図
示したものであり、以下に説明する。
示したものであり、以下に説明する。
【００２０】本実施例は、薬液２を溜める薬液溜部１が
複数並設され、この薬液溜部１にワーク３を配設して該
ワーク３に薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であ
って、複数の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移
動可能に構成され、また、この複数の薬液溜部１には該
薬液溜部１に薬液２の導入する薬液導入部21及び薬液２
を導出する薬液導出部22が設けられているものである。
複数並設され、この薬液溜部１にワーク３を配設して該
ワーク３に薬液浸漬処理を施す薬液浸漬処理装置４であ
って、複数の薬液溜部１が適宜な手段により直線状に移
動可能に構成され、また、この複数の薬液溜部１には該
薬液溜部１に薬液２の導入する薬液導入部21及び薬液２
を導出する薬液導出部22が設けられているものである。
【００２１】薬液溜部１は無限循環運動する搬送ライン
５（ワーク搬送体５）に設けられている。具体的には、
搬送ライン５には搬送方向と直交する方向に配設される
壁部７が所定間隔を置いて複数並設され、該壁部７間が
薬液溜部１に設定されている。
５（ワーク搬送体５）に設けられている。具体的には、
搬送ライン５には搬送方向と直交する方向に配設される
壁部７が所定間隔を置いて複数並設され、該壁部７間が
薬液溜部１に設定されている。
【００２２】また、壁部７間にして搬送ライン５の上部
はワーク２を載置する載置部８に設定されている。
はワーク２を載置する載置部８に設定されている。
【００２３】また、載置部８が通液可能に設定されて薬
液導入部21及び薬液導出部22が設けられている。具体的
には、載置部８はワーク３を支持する支持板材や回転ロ
ーラが複数並設された構成で、該支持板材や回転ローラ
の隙間から導入される薬液２や導出される薬液２が通過
できるように構成されている。
液導入部21及び薬液導出部22が設けられている。具体的
には、載置部８はワーク３を支持する支持板材や回転ロ
ーラが複数並設された構成で、該支持板材や回転ローラ
の隙間から導入される薬液２や導出される薬液２が通過
できるように構成されている。
【００２４】また、搬送ライン５は所定時間で進行と停
止とを繰り返す間欠動作式の搬送ライン５が採用されて
おり、必然的に薬液溜部１も間欠動作しながら移動す
る。
止とを繰り返す間欠動作式の搬送ライン５が採用されて
おり、必然的に薬液溜部１も間欠動作しながら移動す
る。
【００２５】搬送ライン５と共に移動する薬液溜部１の
左右側方及び下方には該薬液溜部１と近接状態で薬液２
を充填することができる区画部６が移動不能に設けら
れ、この区画部６は所定長を有し、所定箇所において薬
液２の導入及び導出が可能に構成され、更に該区画部６
内において薬液溜部１が移動可能に構成されている。
尚、この区画部６内が請求項６のいう薬液通路部19に設
定されている。
左右側方及び下方には該薬液溜部１と近接状態で薬液２
を充填することができる区画部６が移動不能に設けら
れ、この区画部６は所定長を有し、所定箇所において薬
液２の導入及び導出が可能に構成され、更に該区画部６
内において薬液溜部１が移動可能に構成されている。
尚、この区画部６内が請求項６のいう薬液通路部19に設
定されている。
【００２６】また、区画部６には切欠部20が設けられて
おり、該切欠部20から薬液２が導出されるように構成さ
れている。
おり、該切欠部20から薬液２が導出されるように構成さ
れている。
【００２７】また、搬送ライン５の下方にして薬液浸漬
処理装置４には、薬液溜部１に薬液２を供給する薬液供
給部９が該薬液溜部１の移動方向に沿って複数並設され
ている。この薬液供給部９から供給された薬液２は、前
記搬送ライン５の載置部８の薬液導入部21を通過して薬
液溜部１内のワーク３に達する。
処理装置４には、薬液溜部１に薬液２を供給する薬液供
給部９が該薬液溜部１の移動方向に沿って複数並設され
ている。この薬液供給部９から供給された薬液２は、前
記搬送ライン５の載置部８の薬液導入部21を通過して薬
液溜部１内のワーク３に達する。
【００２８】即ち、薬液供給部９から供給された薬液２
は、薬液溜部１内のワーク３が前後の壁部７と区画部６
とによって囲繞された状態において、該前後の壁部７と
区画部６との隙間などからは漏洩するものの、該漏洩さ
れる薬液２よりも薬液供給部９から供給される薬液２の
方が多ければ該前後の壁部７と区画部６とによって囲繞
された部位内で薬液２は所定の液位となり、該薬液溜部
１内のワーク３を薬液２に浸漬することができる。
は、薬液溜部１内のワーク３が前後の壁部７と区画部６
とによって囲繞された状態において、該前後の壁部７と
区画部６との隙間などからは漏洩するものの、該漏洩さ
れる薬液２よりも薬液供給部９から供給される薬液２の
方が多ければ該前後の壁部７と区画部６とによって囲繞
された部位内で薬液２は所定の液位となり、該薬液溜部
１内のワーク３を薬液２に浸漬することができる。
【００２９】また、薬液供給部９から供給される薬液２
が多すぎて薬液２の液位が高くなり過ぎた場合、薬液２
は前後の壁部７若しくは区画部６を乗り越えて薬液溜部
１から排出されるか、若しくは隣接する薬液溜部１に供
給される。
が多すぎて薬液２の液位が高くなり過ぎた場合、薬液２
は前後の壁部７若しくは区画部６を乗り越えて薬液溜部
１から排出されるか、若しくは隣接する薬液溜部１に供
給される。
【００３０】薬液供給部９の下方には、前記前後の壁部
７と区画部６との隙間などから漏洩された薬液２や、前
記前後の壁部７若しくは区画部６を乗り越えて薬液溜部
１から排出された薬液２を集めて回収する薬液回収部10
が薬液溜部１の移動方向に沿って複数設けられている。
また、薬液回収部10の下方には、回収された薬液２を貯
溜する薬液貯溜部11が夫々設けられている。また、薬液
貯溜部11と薬液供給部９とは連結されており、該薬液貯
溜部11に貯溜された薬液２は薬液供給部９から再び供給
される。
７と区画部６との隙間などから漏洩された薬液２や、前
記前後の壁部７若しくは区画部６を乗り越えて薬液溜部
１から排出された薬液２を集めて回収する薬液回収部10
が薬液溜部１の移動方向に沿って複数設けられている。
また、薬液回収部10の下方には、回収された薬液２を貯
溜する薬液貯溜部11が夫々設けられている。また、薬液
貯溜部11と薬液供給部９とは連結されており、該薬液貯
溜部11に貯溜された薬液２は薬液供給部９から再び供給
される。
【００３１】図中、符号12は搬送ライン５の載置部８に
ワーク２を供給するワーク供給部、13は薬液浸漬処理を
終えたワーク２を回収するワーク回収部、14は薬液２が
薬液浸漬処理装置４外へ漏洩することを防止する外壁
部、15は区画部６と外壁部13との間に設けられ搬送ライ
ン５の搬送方向へ移動して該搬送ライン５、即ち薬液溜
部１を移動させるチェーン状の駆動部材、16は搬送ライ
ン５の始端と終端とに設けられ前記駆動部材15と噛合し
回転して該駆動部材15を移動させる回転体、17は駆動部
15を支持して該駆動部15及び搬送ライン５の水平移動を
支持する支持部、18は搬送ライン５と駆動部15とを連結
し搬送ライン５を吊り下げ状態で支持するアーム部であ
る。
ワーク２を供給するワーク供給部、13は薬液浸漬処理を
終えたワーク２を回収するワーク回収部、14は薬液２が
薬液浸漬処理装置４外へ漏洩することを防止する外壁
部、15は区画部６と外壁部13との間に設けられ搬送ライ
ン５の搬送方向へ移動して該搬送ライン５、即ち薬液溜
部１を移動させるチェーン状の駆動部材、16は搬送ライ
ン５の始端と終端とに設けられ前記駆動部材15と噛合し
回転して該駆動部材15を移動させる回転体、17は駆動部
15を支持して該駆動部15及び搬送ライン５の水平移動を
支持する支持部、18は搬送ライン５と駆動部15とを連結
し搬送ライン５を吊り下げ状態で支持するアーム部であ
る。
【００３２】また、外壁部14は、左右方向（搬送ライン
５の搬送方向）にスライド移動自在で且つ着脱自在に設
けられており、必要に応じて外壁部14を左右にスライド
させたり取り外したりして薬液溜部１や搬送ライン５や
区画部６や駆動部材15などの点検，補修などを簡単に行
えるように構成している。
５の搬送方向）にスライド移動自在で且つ着脱自在に設
けられており、必要に応じて外壁部14を左右にスライド
させたり取り外したりして薬液溜部１や搬送ライン５や
区画部６や駆動部材15などの点検，補修などを簡単に行
えるように構成している。
【００３３】以下、本実施例の作用について詳述する。
【００３４】薬液溜部１内、即ち、搬送ライン５の載置
部８に載置されたワーク３は、搬送ライン５の移動に伴
い、該搬送ライン５の近傍に区画部６が設けられている
部位に到達する。
部８に載置されたワーク３は、搬送ライン５の移動に伴
い、該搬送ライン５の近傍に区画部６が設けられている
部位に到達する。
【００３５】この際、ワーク３の左右側方及び下方には
区画部６が設けられ且つ前後には壁部７が設けられた状
態となり、この区画部６と壁部７とによって囲繞された
部位に搬送ライン５の下方の薬液供給部９及び薬液導入
部21から供給された薬液２が溜められていき、該溜めら
れた薬液２によってワーク３に薬液浸漬処理が行われ
る。また、区画部６と壁部７との隙間などから漏洩した
薬液２や，区画部６や壁部７の上部からオーバーフロー
した薬液２は、薬液回収部10を経由して薬液貯溜部11に
溜められ、再び薬液供給部９から薬液溜部１に供給され
る。また、このオーバーフローした薬液２が薬液浸漬処
理装置４外へ漏洩することは前記外壁部14によって阻止
される。
区画部６が設けられ且つ前後には壁部７が設けられた状
態となり、この区画部６と壁部７とによって囲繞された
部位に搬送ライン５の下方の薬液供給部９及び薬液導入
部21から供給された薬液２が溜められていき、該溜めら
れた薬液２によってワーク３に薬液浸漬処理が行われ
る。また、区画部６と壁部７との隙間などから漏洩した
薬液２や，区画部６や壁部７の上部からオーバーフロー
した薬液２は、薬液回収部10を経由して薬液貯溜部11に
溜められ、再び薬液供給部９から薬液溜部１に供給され
る。また、このオーバーフローした薬液２が薬液浸漬処
理装置４外へ漏洩することは前記外壁部14によって阻止
される。
【００３６】続いて、搬送ライン５が移動すると、引き
続き該搬送ライン５の近傍に区画部６が存在している場
合と、搬送ライン５が区画部６の切欠部20に合致する場
合とのいずれかの状態となるが、これらの場合、下記の
ようになる。
続き該搬送ライン５の近傍に区画部６が存在している場
合と、搬送ライン５が区画部６の切欠部20に合致する場
合とのいずれかの状態となるが、これらの場合、下記の
ようになる。
【００３７】引き続き搬送ライン５の近傍に区画部６が
存在している部位へ搬送ライン５が移動した場合、同じ
薬液２による薬液浸漬処理が可能となる。即ち、区画部
６の前後長によって、各薬液２による薬液浸漬処理時間
の比を設定することができる。尚、薬液浸漬処理時間の
総和の長短は搬送ライン５の前後長や搬送ライン５の移
動速度によって設定することができる。
存在している部位へ搬送ライン５が移動した場合、同じ
薬液２による薬液浸漬処理が可能となる。即ち、区画部
６の前後長によって、各薬液２による薬液浸漬処理時間
の比を設定することができる。尚、薬液浸漬処理時間の
総和の長短は搬送ライン５の前後長や搬送ライン５の移
動速度によって設定することができる。
【００３８】一方、搬送ライン５が切欠部20と合致する
部位へ搬送ライン５が移動した場合、ワーク２が浸漬さ
れていた薬液２が該切欠部20から一気に排出され、薬液
２の液位が低下し、ワーク２が露出する。尚、薬液溜部
１の側方に切欠部20を設けた場合でも下方に切欠部20を
設けた場合でも、同様に該切欠部20から薬液２が一気に
排出される。
部位へ搬送ライン５が移動した場合、ワーク２が浸漬さ
れていた薬液２が該切欠部20から一気に排出され、薬液
２の液位が低下し、ワーク２が露出する。尚、薬液溜部
１の側方に切欠部20を設けた場合でも下方に切欠部20を
設けた場合でも、同様に該切欠部20から薬液２が一気に
排出される。
【００３９】続いて、搬送ライン５が切欠部20に合致す
る部位を通過した搬送ライン５が、該搬送ライン５の左
右に区画部６が存在している部位へ移動し、該部位にお
ける搬送ライン５の下方の薬液供給部10から供給される
薬液２（例えば、前に使用した薬液２とは別の薬液
２。）によってワーク３に再び薬液浸漬処理が行われ
る。
る部位を通過した搬送ライン５が、該搬送ライン５の左
右に区画部６が存在している部位へ移動し、該部位にお
ける搬送ライン５の下方の薬液供給部10から供給される
薬液２（例えば、前に使用した薬液２とは別の薬液
２。）によってワーク３に再び薬液浸漬処理が行われ
る。
【００４０】即ち、ワーク２が区画部６内で薬液浸漬処
理された後、一旦区画部６の切欠部20を経由して別の区
画部６に達することにより、搬送ライン５を水平移動す
る薬液浸漬処理装置でありながら、ワーク３に異なる薬
液処理を行うことができる。即ち、従来例と異なり、ワ
ーク３を一の薬液処理を行うを一の薬液処理部ａから他
の薬液処理を行う他の薬液処理部ｂへと水平移動させる
ことができ、該一の薬液処理部ａで使用する薬液２と他
の薬液処理部ｂで使用する薬液２とが混合したりせず
に、夫々独立した薬液浸漬処理を行うことができる。
理された後、一旦区画部６の切欠部20を経由して別の区
画部６に達することにより、搬送ライン５を水平移動す
る薬液浸漬処理装置でありながら、ワーク３に異なる薬
液処理を行うことができる。即ち、従来例と異なり、ワ
ーク３を一の薬液処理を行うを一の薬液処理部ａから他
の薬液処理を行う他の薬液処理部ｂへと水平移動させる
ことができ、該一の薬液処理部ａで使用する薬液２と他
の薬液処理部ｂで使用する薬液２とが混合したりせず
に、夫々独立した薬液浸漬処理を行うことができる。
【００４１】以下、同様に、ワーク３の化学処理に必要
な前処理や表面調整処理や薬品浸漬処理や洗浄処理や乾
燥処理などが搬送ライン５の移動とともにワーク３に順
次施されていく。
な前処理や表面調整処理や薬品浸漬処理や洗浄処理や乾
燥処理などが搬送ライン５の移動とともにワーク３に順
次施されていく。
【００４２】本実施例は上述のように、ワーク３が水平
方向へ移動する為、ワーク３に薬液浸漬処理を施す薬液
処理部ａ・ｂの前後長を必要最低限の長さ、即ち、ワー
ク３を薬液処理部ａ・ｂ内の薬液２に浸漬させる分だけ
の長さにすることができ、よって、薬液浸漬処理装置４
全体の長さを短くすることができる実用性，コンパクト
性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
方向へ移動する為、ワーク３に薬液浸漬処理を施す薬液
処理部ａ・ｂの前後長を必要最低限の長さ、即ち、ワー
ク３を薬液処理部ａ・ｂ内の薬液２に浸漬させる分だけ
の長さにすることができ、よって、薬液浸漬処理装置４
全体の長さを短くすることができる実用性，コンパクト
性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
【００４３】また、従来例のようにワーク３が上方へ移
動したり下方へ移動したりしない為、該ワーク３が上方
へ移動したり下方へ移動したりする時間の分、ワーク３
の一の薬液処理から他の薬液処理までの時間を短縮する
ことができ、異なる薬液浸漬処理を可及的に速やかに連
続して行いたい場合などにおいても、該搬送される時間
の短縮の分、速やかに異なる薬液浸漬処理を行うことが
できる実用性に秀れた薬品浸漬処理装置となる。
動したり下方へ移動したりしない為、該ワーク３が上方
へ移動したり下方へ移動したりする時間の分、ワーク３
の一の薬液処理から他の薬液処理までの時間を短縮する
ことができ、異なる薬液浸漬処理を可及的に速やかに連
続して行いたい場合などにおいても、該搬送される時間
の短縮の分、速やかに異なる薬液浸漬処理を行うことが
できる実用性に秀れた薬品浸漬処理装置となる。
【００４４】また、薬液溜部１に薬液２を溜めたり該薬
液２が溜められた薬液溜部１から薬液２を除去したりす
ることで、前後の薬液処理部ａ・ｂ間で搬送ライン５を
水平移動させても該前後の薬液処理部１の薬液２が混合
したりせずに良好に薬液浸漬処理を行うことができる実
用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
液２が溜められた薬液溜部１から薬液２を除去したりす
ることで、前後の薬液処理部ａ・ｂ間で搬送ライン５を
水平移動させても該前後の薬液処理部１の薬液２が混合
したりせずに良好に薬液浸漬処理を行うことができる実
用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
【００４５】また、薬液２が供給される量と薬液２が排
出される量との相関によって、薬液溜部１に薬液２を溜
めたり該薬液２が溜められた薬液溜部１から薬液２を除
去したりすることになるから、簡単な構成で搬送ライン
５を水平移動させても前後の薬液処理部ａ・ｂの薬液２
が混合したりせずに良好に薬液浸漬処理を行えることに
なる実用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
出される量との相関によって、薬液溜部１に薬液２を溜
めたり該薬液２が溜められた薬液溜部１から薬液２を除
去したりすることになるから、簡単な構成で搬送ライン
５を水平移動させても前後の薬液処理部ａ・ｂの薬液２
が混合したりせずに良好に薬液浸漬処理を行えることに
なる実用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
【００４６】また、薬液溜部１の近傍に区画部６が存在
したり存在しなかったりすることにより、薬液溜部１か
ら薬液２が排出される量が変化して薬液２が供給される
量と薬液２が排出される量との相関が変化するように構
成したから、区画部６の前後長によって同じ薬液２によ
り薬液浸漬処理の時間を設定することができる実用性，
設定容易性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
したり存在しなかったりすることにより、薬液溜部１か
ら薬液２が排出される量が変化して薬液２が供給される
量と薬液２が排出される量との相関が変化するように構
成したから、区画部６の前後長によって同じ薬液２によ
り薬液浸漬処理の時間を設定することができる実用性，
設定容易性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
【００４７】また、薬液２は薬液溜部１の下方から供給
されるように構成されているから、薬液２中に気泡が含
まれたりせずにワーク３を良好に薬液浸漬処理すること
ができる実用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
されるように構成されているから、薬液２中に気泡が含
まれたりせずにワーク３を良好に薬液浸漬処理すること
ができる実用性に秀れた薬液浸漬処理装置となる。
【００４８】また、搬送ライン５は所定時間で進行と停
止とを繰り返す間欠式の搬送ライン５であるから、ワー
ク３が前後の壁部７と区画部６とによって囲繞された状
態を可及的に長時間保持することができ（搬送ライン５
が進行のみを行う場合には、搬送ライン５の移動によっ
て区画部６と壁部７との隙間が常に徐々に広がり、該隙
間から薬液２が漏洩し易い。）、よって、良好な薬液浸
漬処理を行うことができる実用性に秀れた薬液浸漬処理
装置となる。
止とを繰り返す間欠式の搬送ライン５であるから、ワー
ク３が前後の壁部７と区画部６とによって囲繞された状
態を可及的に長時間保持することができ（搬送ライン５
が進行のみを行う場合には、搬送ライン５の移動によっ
て区画部６と壁部７との隙間が常に徐々に広がり、該隙
間から薬液２が漏洩し易い。）、よって、良好な薬液浸
漬処理を行うことができる実用性に秀れた薬液浸漬処理
装置となる。
【図１】従来例の説明図である。
【図２】従来例の別例の説明図である。
【図３】本実施例の説明側断面図である。
【図４】本実施例の説明平面図である。
【図５】本実施例の要部の説明斜視図であり、３つの並
設されている薬液溜部１の内、左右の薬液溜部１の壁部
７を省略している。
設されている薬液溜部１の内、左右の薬液溜部１の壁部
７を省略している。
【図６】本実施例の説明縦断面図である。
【図７】本実施例の説明縦断面図である。
１ 薬液溜部 ２ 薬液 ３ ワーク ４ 薬液浸漬処理装置 ５ 搬送ライン，ワーク搬送体 ６ 区画部 ７ 壁部 19 薬液通液路 20 薬液導出部，切欠部 21 薬液導入部 22 薬液導出部
Claims (6)
- 【請求項１】 薬液を溜める薬液溜部が複数並設され、
この薬液溜部にワークを配設して該ワークに薬液浸漬処
理を施す薬液浸漬処理装置であって、複数の薬液溜部が
適宜な手段により直線状に移動可能に構成され、また、
この複数の薬液溜部には該薬液溜部に薬液を導入する薬
液導入部及び薬液を導出する薬液導出部が設けられてい
ることを特徴とする薬液浸漬処理装置。 - 【請求項２】 請求項１記載の薬液浸漬処理装置におい
て、薬液溜部は薬液を充填することができる区画部内に
おいて移動可能に構成され、この区画部は所定箇所にお
いて該区画部に薬液を導入する薬液導入部及び薬液を導
出する薬液導出部が設けられていることを特徴とする薬
液浸漬処理装置。 - 【請求項３】 請求項２記載の薬液浸漬処理装置におい
て、区画部には切欠部が設けられ、該切欠部が薬液導出
部に設定されていることを特徴とする薬液浸漬処理装
置。 - 【請求項４】 請求項１〜３いずれか１項に記載の薬液
浸漬処理装置において、薬液溜部の移動は、所定時間で
進行と停止とを繰り返す間欠式移動が採用されているこ
とを特徴とする薬液浸漬処理装置。 - 【請求項５】 請求項１〜４いずれか１項に記載の薬液
浸漬処理装置において、薬液溜部は、無限循環運動する
搬送ライン上に設けられていることを特徴とする薬液浸
漬処理装置。 - 【請求項６】 ワークを薬液に浸漬せしめる薬液浸漬処
理装置であって、水平方向に移動するワーク搬送体を設
け、このワーク搬送体は薬液通液路内において移動可能
に構成され、薬液通液路の所定箇所には該薬液通液路内
の薬液を導出する薬液導出部が設けられ、薬液通液路へ
の薬液の導出入を、ワーク搬送体が移動して前記薬液導
出部位置にある場合には薬液通液路から薬液が該薬液導
出部より導出され、且つワーク搬送体のワークに薬液浸
漬が行われず、また、ワーク搬送体が前記薬液導出部位
置以外にある場合には薬液通液路の薬液がワーク搬送体
の底部から導入され、ワークの薬液浸漬が行われるよう
に構成されていることを特徴とする薬液浸漬処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15062399A JP4131599B2 (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 薬液浸漬処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15062399A JP4131599B2 (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 薬液浸漬処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000334350A true JP2000334350A (ja) | 2000-12-05 |
| JP4131599B2 JP4131599B2 (ja) | 2008-08-13 |
Family
ID=15500920
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15062399A Expired - Lifetime JP4131599B2 (ja) | 1999-05-28 | 1999-05-28 | 薬液浸漬処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4131599B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002327295A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Macoho Co Ltd | ワーク表面処理装置 |
-
1999
- 1999-05-28 JP JP15062399A patent/JP4131599B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002327295A (ja) * | 2001-04-27 | 2002-11-15 | Macoho Co Ltd | ワーク表面処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4131599B2 (ja) | 2008-08-13 |
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