JP2555262B2 - 表面処理装置 - Google Patents

表面処理装置

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JP2555262B2
JP2555262B2 JP5130645A JP13064593A JP2555262B2 JP 2555262 B2 JP2555262 B2 JP 2555262B2 JP 5130645 A JP5130645 A JP 5130645A JP 13064593 A JP13064593 A JP 13064593A JP 2555262 B2 JP2555262 B2 JP 2555262B2
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Kidaseiko KK
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被処理物の表面処理を
行う表面処理装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、品物の表面処理例えばアルマイ
ト処理を行なう場合、図2に例示するように、製品とし
て完成するまでに多数の工程で処理される。即ち、図2
の右端から、脱脂1、水洗2,3、脱脂4、水洗5,
6、中和7、水洗8,9、アルマイト10、水洗11,
12,13、湯洗14、水洗15、水切り16、乾燥1
7の工程があり、各工程の処理槽は独立して列設されて
いる。
【0003】そして、これらの各処理槽1〜17に被処
理物を浸漬又は搬入するために、各槽1〜17の上方に
ガイドレールを配設し、該ガイドレールにハンガーを吊
り下げ、各ハンガーに被処理物を把持させ、各ハンガー
をチエン等からなる駆動手段によりガイドレールに沿っ
て上下動しながら移動させる、いわゆるバッチ処理によ
る搬送方式を採用している。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、かかるバッチ
処理による搬送方式では、一つのハンガーを一つの駆動
手段により各処理槽へと順次搬送するため処理効率が悪
く、所要の数量の被処理物を表面処理するのに比較的多
くの時間を要していた。 また、上記従来技術では、処理
槽の上方にガイドレールや駆動手段などが配設されるも
のであるため、処理槽の上部をカバーで覆うことができ
ず、処理槽から蒸散するガスの回収に大掛かりな設備が
必要であり、また建屋全体の換気を要し、被処理物搬送
装置が発生ガスに晒されるため腐食等耐久性に問題があ
った。
【0005】本発明は、上述のような実状に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、所要数量の被処
理物の表面処理を短時間で行えるように被処理物を連続
して順次搬送でき、かかる搬送を円滑・確実に行い、し
かも構造の簡素化が図れる表面処理装置を提供すること
を目的とし、また、発生ガスが被処理物搬送駆動手段に
直接触れることがなく、耐久性の向上を図、さらに発
生ガスの回収が容易でその回収設備を簡素化でき環境
保全を図ることをも目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明では、上記目的を
達成するために、次の技術的手段を講じた。即ち、本発
明は、各工程に対応する処理液を収容した各処理槽が工
程順に列設され、1又は複数個の被処理物が吊ビームに
取付けられ、この吊ビームに取付けられた各被処理物が
前記各処理槽の処理液に順次浸漬されかつ搬送されるよ
うになっている表面処理装置であって、所定の昇降作動
量の上昇運動と、所定の前後作動量の前進運動と、前記
昇降作動量の下降運動と、前記前後作動量の後退運動と
からなる周期運動をするトランスファバーを備えてお
り、このトランスファバーには、前記上昇運動をしたと
きに所定の処理槽上の複数の吊ビームを受けて前記前進
運動をすることによりこれら吊ビームを一度に搬送しか
つ前記下降運動をしたときにこれら吊ビームから離脱さ
れる吊ビーム受部が備えられていることを特徴としてい
る。
【0007】また、本発明は、一工程で他の工程の複
数時間分浸漬する処理槽に対応する吊ビーム受は、次
工程へ搬送するものを除き被処理物を水平移動のみ行わ
せるように他の吊ビーム受よりも低くしたことを特徴
としている。また、本発明は、トランスファバーは処理
槽の被処理物搬送方向の両側に配設 されており、前記吊
ビームの両端には、搬送方向前後に位置して2本のアー
ムをビーム長手方向に平行に設け、両アームを夫々支持
する一対の吊ビーム受のうち一方は他方よりも若干高
くしたことを特徴としている。
【0008】そして、本発明は、前記吊ビームの両端部
には導電材料からなる支持脚を設け、前記各処理槽の被
処理物搬送方向の両端部に、搬送方向と平行に支持横杆
を設け、該支持横杆に前記支持脚を載置可能とし、処理
槽の一側に設けた前記支持横杆のうち、被処理物の電気
的処理を行なう工程の支持横杆に通電可能としたことを
特徴としている。
【0009】さらに、本発明は、前記処理槽上部全体を
覆うカバーを設けたことを特徴としている。また、本発
明は、前記被処理物への給電と、該被処理物の下方に対
向状に設けられる対極への給電は、被処理物搬送方向両
側の互いに反対方向から行なうことを特徴としている。
【0010】
【作用】本発明によれば、各処理槽に浸漬或いは挿入さ
れる被処理物は、周期運動するトランスファバーにより
吊ビーム受を介して上昇され、前進、下降され、所要
時間後再び上昇され、前進・下降される順送り運動によ
り各槽に順次静かにかつ各槽の仕切り壁と干渉すること
なく、連続的にかつ複数の吊ビームが一度に搬送され
る。そして、脱脂・アルマイト・乾燥工程では、被処理
物は前進のみで処理液から引上げられて中断することな
く連続的な処理が行われる。
【0011】また、各吊ビームの両端に設けたアームを
支持する一対の吊ビーム受のうち一方を他方よりも高
くしてあるので、処理槽から被処理物を引上げて次の処
理槽に移動する際、被処理物によって処理液を汲み出す
量が少なくなる。そして、被処理物には処理槽の一方側
の支持槽杆から支持脚、吊ビーム、吊ハンガーを介して
給電が行われ、被処理物下方に対向する対極には、処理
槽の他方側から給電され、したがって、各被処理物の電
流密度が均一になり、均等な膜厚の被覆ができる。
【0012】さらに、本発明によれば、処理槽の上方空
間は、吊ビームの昇降量に相当する高さの空間があれば
よく、カバーの装着が容易でかつ高さを低くでき、トラ
ンスファバー及びその昇降杆の上部以外は前記カバー等
によって区画でき、処理槽からの発生ガスが搬送装置の
駆動部に接触せず、耐久性が向上すると共に、発生ガス
の回収が容易でかつガス回収設備がコンパクトになる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明す
る。図面は本発明をアルマイト処理装置、特に、エアコ
ンのスクロール型ロータの処理部分であるスクロールの
周面及び凹部の内底面をアルマイト処理する表面被覆処
理装置に採用した実施例を示しており、図2に示すよう
に、右端から脱脂槽1、水洗槽2,3、脱脂槽4、水洗
槽5,6、中和槽7、水洗槽8,9、アルマイト処理槽
10、水洗槽11,12,13、湯洗槽14、水洗槽1
5、水切り槽16及び乾燥槽17が順次配設され、図
3,図4,図5及び図6に示すように、直方状に枠組み
された装置架台18上に支持脚19、支持桁20を介し
て設置されている。
【0014】なお、各処理槽1〜17は、合成樹脂等に
よるライニングが施工されており、装置架台18内に
は、脱脂リザーブ槽21,22、中和リザーブ槽23、
アルマイトリザーブ槽24、水洗リザーブ槽25及び湯
洗リザーブ槽26が設けられ、前記水切り槽16及び乾
燥槽17を除く各槽1〜15、21〜26には、夫々水
又は処理液が収容されており、各槽の処理液又は水は、
循環ポンプ27〜35により循環されている。
【0015】前記各処理槽1〜17の内側壁及び底板に
は、夫々合成樹脂製板等からなるライニング37,3
8,39が施工され、図5,図6に示すように、一方
(後側)の側部ライニング38に近接して、側壁よりも
高さの低い仕切壁40が設けられて溢流室41が形成さ
れ、該溢流室41の底部に溢流管42が貫通状に設けら
れ、溢流管42の下端が各リザーブ槽21〜26に導か
れている。
【0016】そして、各処理槽1〜17の前後壁内側面
上端部には、ライニング37,38の上側に位置して被
処理物の搬送方向に延びる側溝43,44が形成され、
該側溝43,44内には前後側壁と平行な支持横杆4
5,46が支持部材47,48を介して固着され、溢流
室41に仕切壁40上端縁から各処理槽1〜15内処理
液が溢流して、各処理槽1〜15内処理液の液面が一定
に保持され、被処理物36の処理部分のみを処理液中に
浸漬することができるようになっている。
【0017】前記被処理物36は、図6に示すように、
各処理槽1〜17の前記側溝43,44内両支持横杆4
5,46により支持される吊ビーム49に、チャック5
0を介して所定間隔で多数、吊下げることにより取付け
られ、前述のように、処理部分のみが処理液中に浸漬で
きる高さより下方には移動しないようにしてある。な
お、前記吊ビーム49及びチャック50は、導電材料か
ら成り、吊ビーム49の長手方向(前後)両端には、導
電材料からなる支持脚51が設けられ、該支持脚51の
下面は、図10に示すように下向きのV形溝52とさ
れ、該溝52が前記支持横杆45,46上に載置可能と
されており、両端支持脚51の外端(吊ブーム49の長
手方向外端)面には、被処理物搬送方向前後に所定間隔
をもって、2本のアーム53が吊ビーム49と平行に、
しかも各処理槽1〜17の前後壁よりも相当長さ外方
(前後)に突出して設けられている(図11参照)。
【0018】また、前記アルマイト処理槽10内に設け
られる支持横杆46は、導電材料製とされ、これの支持
部材48及び側溝44の構成材料は絶縁材料とされてお
り、該支持横杆46は被処理物36の電極(陽極)とさ
れ、給電線54が接続されている(図10参照)。前記
アルマイト処理槽10内底ライニング39上には、被処
理物搬送方向に所定の間隔をもって、前後方向に延びる
多数(本例では24)の処理液噴射管マニホールド55
が互いに平行に配設されている。このマニホールド55
は、図8,図9に示すように、絶縁物質からなる対極支
持板56A,56B間の下部に形成され、アルマイトリ
ザーブ槽24内の処理液を、図6に示しているように、
途中に開閉弁57,58及び前記循環ポンプ32を設け
た処理液供給管59を介して供給するようになってい
る。
【0019】そして、図6,図8,図9に示すように、
対極支持板56A,56Bの上端部対向内側面には、導
電性材料からなる共通の対極支持部材60A,60Bが
固着され、該部材60Bには陰極が給電線61により接
続されており、該部材60A,60B上に多数の円筒状
対極62外周に設けた鍔部62Aが、マニホールド55
の長手方向に等間隔(被処理物36と等間隔)でかつ被
処理物36に対応するように載せられ、前記鍔62Aを
対極挿通孔63を有する絶縁物質からなる取付板64に
より前記支持板56A,56Bに取替自在に固定されて
いる。
【0020】即ち、図5、図6及び上記の記載から明ら
かなように、対極62に給電する給電線61は、陽極と
なる支持横杆46が設けられている側(図6における左
側であり、図5においては右側である)に対して処理槽
の他側において陰極に接続されているのである。各対極
62は鉛管製で、その下半分の周面には、夫々処理液噴
射管65の先端部65Aが上向きにかつ偏心して臨入さ
れている。また、前記各噴射管先端部65Aは、一方の
対極支持板56Aの貫通孔に挿入固着された噴射管65
に、前記貫通孔内で接続し、フランジ66により対極支
持板56Aの内面に取付けられている。
【0021】前記各処理液噴射管65は、途中に夫々流
量調整弁67を備え、基端が前記マニホールド55に連
通状に連結されており、流量調整弁67により各噴射管
先端部65Aから対極62内に噴出される処理液の流量
を均等にして、被処理物36に衝突する処理液噴流を同
状態とし、同条件下で処理するようになっている。ま
た、前記対極62への給電は、前記処理槽10の側溝4
3側から行い、陽極である支持横材46への給電と反対
側として、各対極62及び被処理物36間の電位差を均
一化することにより、電流密度が均一になるようにして
あり、したがって、各被処理物36に被覆されるアルマ
イトの膜厚を均等にすることができる。
【0022】前記取付板64の上面には、各対極挿通孔
63と同心的に、絶縁性物質からなる羽根取付管68が
夫々固着され、その中に前記対極62が同心状に挿通さ
れ、外側に回転羽根支持筒体69が夫々外嵌固定されて
いる。そして、各支持筒体69の上端内側に処理液攪拌
用の回転羽根70が水平軸71により回転自在に取付け
られている。なお、回転羽根70は半円形を呈し、かつ
多数の処理液通孔72を備え(図8参照)、前記噴射管
65から噴出した処理液噴流により回転されるようにな
っている。
【0023】また、前記支持筒体69の上端部周面に
は、前記噴射管65側に、前記水平軸71と直交する方
向に貫通する横長の処理液吸入開口73が設けられ、噴
射管65から噴出された処理液噴流に誘引されて、支持
筒体69外周部の処理液が前記開口73から支持筒体6
9内に流れ、噴流量が増加するようにし、被処理物36
に衝突する処理液量を多くして、被処理物36に付着す
るガスの排出除去及び気泡の成長阻止を図り、被処理物
36への皮膜層が均一に形成されるようにしてある。
【0024】なお、回転羽根70の処理液通孔72は、
噴射管65から噴出した処理液噴流の衝突による衝撃を
緩和すると共に、回転羽根70の回転を和らげ、被処理
物36に衝突してガス付着防止及び気泡成長阻止に最適
な噴流が得られるように作用する。図6において、74
はマニホールド55内の処理液落し管で、前記処理液供
給管59の途中に弁75を介して接続され、下端が前記
アルマイトリザーブ槽24内底部に導かれている。ま
た、前記アルマイト処理槽10の側溝44内には、電極
となる支持横杆46と支持脚51下端部が十分浸かるよ
うに水が溜められて水溝とされている。
【0025】前記吊ビーム49即ち被処理物36の処理
槽1〜15への浸漬・引上げ及び次工程への搬送手段
は、正面視四辺形運動即ち、図12に示すように、上昇
・前進・下降・後退からなる周期運動を行なうトランス
ファバー76A,76Bにより行われる。トランスファ
バー76A,76Bは、被処理物36の搬送方向に2分
され、独立した別個の駆動手段により行われるようにな
っており、その駆動手段は同じであるから、同符号を付
し、搬送方向前段部分のトランスファバー76A及びそ
の駆動手段を詳述する。
【0026】図1,図3〜図7に示すように、トランス
ファバー76Aは、処理槽1〜10の前後即ち被処理物
搬送方向両側に長く延びて、複数の昇降杆77により水
平に支持されており、次工程に被処理物36を引上げて
搬送する必要のある部分には、トランスファバー76A
上に支柱78を介して上段トランスファバー79A,7
9Bが、被処理物36を処理槽1〜17から引上げて次
工程の処理槽2〜17に搬送するのに必要な高さだけ高
い位置に設けられている。
【0027】そして、各トランスファバー76Aには、
前工程から次工程に移動させるに必要な距離(搬送ピッ
チ)で、しかも吊ビーム49の前記アーム53の搬送方
向前側のものを係合して水平移動のみを行わせる(すな
わち、被処理物36を持ち上げずに横移動させる)絶縁
材料製の吊ビーム受80が取付けられている。また、
上段トランスファバー79Aには、前記アーム53の間
隔と同じ間隔でしかも、搬送方向前側が前記吊ビーム受
80のピッチと同じピッチで2個一対の絶縁材料製の
吊ビーム受81が夫々取付けられている。
【0028】すなわち、上段トランスファバー79Aと
下段トランスファバー79Bとの高低差は、下段トラン
スファバー79B側の吊ビーム受80が吊ビーム49
のアーム53に係合したときに、上段トランスファバー
79Aに持ち上げられた吊ビーム49に吊下された被処
理物36の下端が、各処理槽1〜17間の仕切壁を越え
るに十分な高低差とされている。
【0029】なお、2個一対の前記吊ビーム受81
は、その一方(搬送方向前側のビーム受)が他方(搬送
方向後側のビーム受)よりも若干高い位置に設けられ、
吊ビーム49のアーム53を受けたとき、吊ビーム49
の後部が下方に傾き、被処理物36が斜めになって、被
処理物36から処理液が容易に流れ落ちて、次工程の処
理槽への持ち込みが少なくなるようにし、処理液の濃度
・品質を可及的に一定に保持しうるようにしてある。
【0030】各処理槽1〜17の支持桁20の下方に
は、装置架台18上端に対向内方に夫々延びる支持ブラ
ケット82が水平状に突設され、該ブラケット82上に
は、被処理物搬送方向に延びるガイドレール83が前後
平行に設けられ、該ガイドレール83上にガイド(リニ
アガイド)84を介して前後一対の往復台85が、搬送
方向に移動自在にかつ前記支持脚19に干渉せず、しか
も各処理槽1〜17の前後に張出して載設されている。
【0031】なお、前後一対の往復台85は、連結部材
86により連結一体化されており、しかも、連結一体化
された一組の往復台85が前後に2組設けられて連杆8
7により連結されている。前記脱脂槽1の直下に配され
た往復台85の下側には、前記ガイドレール83と平行
なラック88が前後に間隔もってL形部材89により水
平状に固着されており、前記装置架台18上に前記レー
ル83と直交方向に複数の軸受台90を介して駆動軸9
1が回転自在に軸支され、該駆動軸91に固着されたピ
ニオン92が前記ラック88に噛合している。そして、
駆動軸91は、装置架台18上に設置した往復動用減速
機付モータ93によりカップリング94を介して駆動さ
れるようになっている。
【0032】前記各往復台85の処理槽前後に張出した
端部上に位置する連結部材86端には、前記昇降杆77
が上下方向に貫通状に保持され、かつ昇降杆摺動案内筒
95が立設され、昇降駆動軸96,96Aの軸端が前後
方向に貫通されると共に、軸受97により回転自在に軸
支されており、前記連結部材86端内において昇降動軸
96,96Aに固着されたピニオン(図示省略)が、昇
降杆77に設けたラック部77Aに噛合されている。
【0033】脱脂槽1直下に配された往復台85上の昇
降駆動軸96Aは、他の駆動軸96よりも長くされてい
るが、各軸96,96Aは夫々軸受98を介して往復台
85と平行に軸支されると共に、連動ピニオン99が夫
々固着され、往復台85に連結部材86と平行かつ摺動
自在に取付けられた各ラック100が噛合しており、各
ラック100は連杆101により連結されて連動するよ
うになっている。
【0034】そして、脱脂槽1直下の往復台85上に
は、減速機付の昇降駆動モータ102が設置され、その
出力軸がカップリング103を介して前記昇降駆動軸9
6Aに連結されており、該モータ102の正転始動によ
り昇降駆動軸96Aが回転すると共に、ピニオン99及
びラック100、連杆101を介して他の駆動軸96が
同期連動し、各昇降杆77が一斉に上昇し、上昇限にお
いて停止し、前記モータ102の逆転により同様にして
各昇降杆77が一斉に下降する。
【0035】前記装置架台18の上端外周上には、図
5,図6に示すように、アーチ状のカバーフレーム10
4が立設され、外周に固定カバー105及び脱着カバー
106が取付けられ、天端中央のカバー105の中央に
は排ガスダクト107が設けられ、処理槽内での発生ガ
スを外部に排出し処理しうるようになっている。そし
て、下側固定カバー105の上端と、各槽1〜17の間
にはガス遮閉板108が、昇降杆77の昇降及び前後動
を許容するように取付けられ、トランスファバー76
A,76Bの駆動手段に、発生ガスが接触するのを防止
し、その耐久性の向上を図ると共に、発生ガスの回収を
確実に行い環境保全を図っている。
【0036】次に、上記実施例の作用について説明す
る。まず、被処理物36は、吊ビーム49に吊下装着さ
れた各チャック50に把持され、吊ビーム49の両端ア
ーム53が上段トランスファバー79Aの最初の1対の
吊ビーム受81上に載せられ、支持される。そして、
図1又は図3に示すトランスファバー76A,76B,
79A,79Bの下降位置において、昇降駆動モータ1
02が正転始動して昇降杆77が所定の昇降作動量だけ
上昇して上昇限に達し、被処理物36が脱脂槽1の上端
縁を過ぎた位置で前記モータ102が停止する。このと
き、各トランスファバー76A,76B,79A,79
Bには、対応する処理槽上の複数の吊ビーム49が各吊
ビーム受部80,81に受けられる。
【0037】続いて、往復駆動モータ93が正転始動
し、各往復台85と共にトランスファバー76A,76
B,79A,79Bが所定の前後作動量だけ前進して、
吊ビーム受部80,81に受けられた複数の吊ビーム4
9を一度に搬送して、吊ビーム49にそれぞれ取付けら
れた被処理物36を引き上げたままで搬送方向前方に移
動させ、脱脂槽1上において前記モータ93の停止によ
り、トランスファバー76A,76Bが停止すると同時
に、昇降駆動モータ102が逆転始動して昇降杆77と
共にトランスファバー76A,76Bが所定の昇降作動
量だけ下降し、吊ビーム49両端の支持脚51が支持横
杆45,46上に載り、吊ビーム49が傾くことなく水
平に支持され、吊ビーム受部80,81と吊ビーム49
とが離脱される。
【0038】この時、被処理物36は、その処理部分の
みが脱脂槽1内の処理液に浸漬される。そして、吊ビー
ム受81は、図5に示すように、アーム53から若干
下方に下がって位置し、再び前記往復駆動モータ93の
逆転始動により、往復台85と共にトランスファバー7
6A,76Bが所定の前後作動量だけ後退動して図1,
図3,図4に示すスタート位置に復帰し、次の動作を待
機する。
【0039】水洗、中和、湯洗等の1工程の処理時間は
同じとされ、その処理時間が終わると、前記昇降駆動モ
ータ102が正転始動し、トランスファバー76A,7
6Bが前述と同様にして四辺形運動を行い、吊ビーム4
9を次工程へと搬送する。この時、脱脂槽1,4、アル
マイト処理槽10、水切り槽16及び乾燥槽17では、
吊ビーム49がトランスファバー76A,76Bに取付
けられた吊ビーム受80により、処理液から引き上げ
られることなく、支持脚51が支持横杆45,46上を
摺動して略水平に移送され、その間、脱脂槽1,4、ア
ルマイト処理槽10内では被処理物36の処理が、中断
されることなく続行される。特に、アルマイト処理槽1
0においては、給電が中断されることがない。
【0040】なお、上段トランスファバー79A,79
Bに設けた一対の吊ビーム受81が、搬送方向前方側
を後方側より高くしてあるので、被処理物36を引き上
げて前進させかつ下降する間、吊ビーム49の後側が下
方に傾き、したがって、被処理物36からの処理液の流
下が円滑かつ迅速に行われ、次工程への処理液の持ち込
み量を少なくすることができる。
【0041】このようにして、被処理物36を吊下装着
した吊ビーム49は、トランスファバー76A,76
B,79A,79Bの間欠的な四辺形運動の繰返しによ
って、次工程へと順次円滑かつ静かに搬送される。そし
て、処理槽内で発生したガスは、カバー105,106
及び遮閉板108によって外部に放散されることがな
く、集められ、排ガスダクト107から排出回収して、
環境を保全することができる。
【0042】上記実施例によれば、処理槽上方の空間
は、吊ビーム49の昇降量に相当する高さがあればよ
く、したがって、装置の全高を低くできる。さらに、吊
ビーム49に多数の被処理物36を装着できるので、多
数の被処理物36を能率よく処理でき、生産性を大幅に
向上できるほか、アルマイト処理槽10内では、各被処
理物36に対して噴射管65から噴出する噴流を攪拌し
ながら接触させ、付着ガスの除去及び気泡成長阻止を行
い、処理部分の形成皮膜厚を均等にし、しかも、陰極と
陽極への給電方向を反対向きにして電流密度の均一化を
図り、さらに噴射管65から噴出処理液流量を均等にす
るなどして、各被処理物36を同状態の下に同条件で処
理することができ、製品の品質の向上及び均質化、並び
に生産性の向上を図ることができる。
【0043】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はなく、トランスファバーの四辺形運動は、ラックピニ
オン機構以外の機構を採用でき、モータに代えてシリン
ダを使用することができるほか、アルマイト処理以外の
メッキ等の各種表面被覆処理に採用することが可能であ
る。
【0044】
【発明の効果】本発明は、上述のように、所定の昇降作
動量の上昇運動と、所定の前後作動量の前進運動と、前
記昇降作動量の下降運動と、前記前後作動量の後退運動
とからなる周期運動をするトランスファバーを備えてお
り、このトランスファバーには、前記上昇運動をしたと
きに所定の処理槽上の複数の吊ビームを受けて前記前進
運動をすることによりこれら吊ビームを一度に搬送しか
つ前記下降運動をしたときにこれら吊ビームから離脱さ
れる吊ビーム受部が備えられていることを特徴とするも
のであるから、所定の処理槽上の複数の吊ビームを周期
運動するトランスファバーにより一度にかつ連続的に搬
送することができ、処理効率を飛躍的に向上させること
ができ、所定数量の被処理物の表面処理を短時間で行う
ことができる。
【0045】また、構造が簡単でかつコンパクトとな
り、装置全高を低くできるうえ、被処理物搬送手段の大
半を発生ガスに直接触れることがなく耐久性の向上を図
ることができ、被処理物の搬送を円滑かつ確実にしかも
静かに行なうことができ、前記搬送手段の保全管理が容
易である。また、本発明は、前記トランスファバーに
は、夫々絶縁材料製の吊ビーム受を多数配設すると共
に、同一工程で他の工程の複数時間分浸漬する処理槽に
対応する吊ビーム受は、次工程へ搬送するものを除き
被処理物を水平移動のみを行わせるように他の吊ビーム
よりも低くしたことを特徴とするものであるから、
水洗、中和等の処理時間の短い工程では、トランスファ
バーの吊ビーム受により毎回吊ビームが四辺形運動を
して被処理物を次工程へ搬送するが、脱脂、アルマイト
処理等の処理時間の長い工程では、被処理物を処理槽か
ら引き上げることなく水平移動だけで前進させ、処理を
連続して行なうことができ、特に、電気処理槽では給電
が中断することがなく処理を続行でき、品質の確保を図
ることができる。
【0046】そして、本発明は、前記吊ビームの両端に
は、搬送方向前後に位置して2本のアームをビーム長手
方向に平行に設け、両アームを夫々支持する一対の吊ビ
ーム受のうち一方は他方よりも若干高くしたことを特
徴とするものであるから、前段処理槽から後段処理槽へ
被処理物を搬送する際、吊ビームの搬送方向後部が下方
に傾くため、被処理物が傾き、被処理物から処理液が速
やかに流下して、次工程処理槽への処理液の持ち込みが
少なくなり、処理液の品質管理及び液補充量を少なくす
ることができ、品質の向上を図ることができる。
【0047】さらに、本発明は、前記吊ビームの両端部
には導電材料からなる支持脚を設け、前記各処理槽の被
処理物搬送方向の両端部に、搬送方向と平行に支持横杆
を設け、該支持横杆に前記支持脚を載置可能とし、処理
槽の一側に設けた前記支持横杆のうち、被処理物の電気
的処理を行なう工程の支持横杆に通電可能としたことを
特徴とするものであるから、吊ビームの支持を確実に行
なうことができると共に、通電機構が簡単となり、しか
も確実にかつ効率的に通電を行なうことができる。
【0048】また、本発明は、前記処理槽上部全体を覆
うカバーを設けたことを特徴とするものであるから、処
理槽から発生したガスを外部に放散させることなく確実
に回収でき、環境保全を図りうるほか、被処理物搬送手
段への前記発生ガスの回り込みを阻止して、装置・機器
類の腐食を防止し、耐久性の向上を図ることができる。
【0049】さらに、本発明は、前記被処理物への給電
と、該被処理物の下方に対向状に設けられる対極への給
電は、被処理物搬送方向両側の互いに反対方向から行な
うことを特徴とするものであるから、被処理物への通電
電流密度を均等にすることができ、表面被覆膜の厚さを
均一にできると共に各被処理物(製品)毎の品質のバラ
ツキをなくすことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の要部を示す正面図である。
【図2】同実施例における処理槽の配列を示す平面図で
ある。
【図3】同実施例装置の右半分を示す正面図である。
【図4】同実施例装置の左半分を示す正面図である。
【図5】図1のA−A線に沿う断面図である。
【図6】図3のB−B線に沿う一部簡略断面図である。
【図7】同実施例のトランスファバー及びその搬送駆動
手段の要部を示す平面図である。
【図8】同実施例におけるアルマイト処理槽内の処理液
噴流攪拌手段を示す正面図である。
【図9】図8のC−C線断面拡大図である。
【図10】同実施例のアルマイト処理槽における被処理
物への給電機構及び吊ビームの支持手段を示す縦断側面
図である。
【図11】図10のD−D線に沿う断面図である。
【図12】同実施例におけるトランスファバーの運動説
明図である。
【符号の説明】
36 被処理物 45 支持横杆 46 支持横杆 49 吊ビーム 50 チャック 51 支持脚 53 アーム 62 対極 76A トランスファバー 76B トランスファバー 79A トランスファバー 79B トランスファバー 80 吊ビーム受 81 吊ビーム受 105 固定カバー 106 脱着カバー 108 ガス遮閉板

Claims (6)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 各工程に対応する処理液を収容した各処
    理槽が工程順に列設され、1又は複数個の被処理物(3
    6)吊ビーム(49)に取付けられ、この吊ビーム
    (49)に取付けられた各被処理物(36)が前記各処
    理槽の処理液に順次浸漬されかつ搬送されるようになっ
    ている表面処理装置であって、所定の昇降作動量の上昇運動と、所定の前後作動量の前
    進運動と、前記昇降作動量の下降運動と、前記前後作動
    量の後退運動とからなる周期運動をするトランスファバ
    ー(76A,76B,79A,79B)を備えており、
    このトランスファバー(76A,76B,79A,79
    B)には、前記上昇運動をしたときに所定の処理槽上の
    複数の吊ビーム(49)を受けて前記前進運動をするこ
    とによりこれら吊ビーム(49)を一度に搬送しかつ前
    記下降運動をしたときにこれら吊ビーム(49)から離
    脱される吊ビーム受部(80,81)が備えられている
    ことを特徴とする表面処理装置
  2. 【請求項2】 一工程で他の工程の複数時間分浸漬す
    る処理槽(10)に対応する吊ビーム受部(80)は、
    次工程へ搬送するものを除き被処理物(36)を水平移
    動のみ行わせるように他の吊ビーム受部(81)よりも
    低くしたことを特徴とする請求項1の表面処理装置
  3. 【請求項3】 トランスファバー(76A,76B,7
    9A,79B)は処理槽の被処理物搬送方向の両側に配
    設されており、前記吊ビーム(49)の両端には、搬送
    方向前後に位置して2本のアーム(53)をビーム長手
    方向に平行に設け、両アーム(53)を夫々支持する一
    対の吊ビーム受部(81)のうち一方は他方よりも若干
    高くしたことを特徴とする請求項1又は2の表面処理装
  4. 【請求項4】 前記吊ビーム(49)の両端部には導電
    材料からなる支持脚(51)を設け、前記各処理槽の被
    処理物搬送方向の両端部に、搬送方向と平行に支持横杆
    (45,46)を設け、該支持横杆(45,46)に前
    記支持脚(51)を載置可能とし、処理槽の一側に設け
    た前記支持横杆(46)のうち、被処理物の電気的処理
    を行なう工程の支持横杆(46)に通電可能としたこと
    を特徴とする請求項1,2又は3の表面処理装置
  5. 【請求項5】 前記処理槽上部全体を覆うカバー(10
    5,106)を設けたことを特徴とする請求項1,2,
    3又は4の表面処理装置
  6. 【請求項6】 吊ビーム(49)を導電材料により構成
    し、処理槽の一側に設けられかつ通電された支持横杆
    (46)に吊ビームの一端側を電気的に接続することで
    被処理物(36)に給電するように構成するとともに、
    被処理物(36)の下方に対向状に設けられる対極(6
    2)に給電する給電線(61)を、処理槽の他側におい
    て支持横杆(46)の極性とは陰陽逆の電極に接続した
    ことを特徴とする請求項4の表面処理装置。
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