JP2000329420A - 吸収冷凍機の冷水温度制御機構 - Google Patents
吸収冷凍機の冷水温度制御機構Info
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- Y02B30/62—Absorption based systems
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 冷水出口温度を一定にする温度制御の応答性
を向上する。 【解決手段】 吸収冷凍機では、高圧再生器４０に供給
する蒸気流量を制御することにより高圧再生器４０の温
度を調節することができる。また、蒸発器１０から送出
される冷水Ｗ１の温度は、高圧再生器４０の温度に対応
する。現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に等しく
する制御を行うため、冷水出口温度制御系の調節計１１
２の出力を、高圧再生器温度制御系の調節計１１４の設
定値として、カスケード制御をする。このため、大きな
時定数を有する吸収冷凍機であっても、冷水出口温度の
制御の応答性を向上させることができる。
を向上する。 【解決手段】 吸収冷凍機では、高圧再生器４０に供給
する蒸気流量を制御することにより高圧再生器４０の温
度を調節することができる。また、蒸発器１０から送出
される冷水Ｗ１の温度は、高圧再生器４０の温度に対応
する。現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に等しく
する制御を行うため、冷水出口温度制御系の調節計１１
２の出力を、高圧再生器温度制御系の調節計１１４の設
定値として、カスケード制御をする。このため、大きな
時定数を有する吸収冷凍機であっても、冷水出口温度の
制御の応答性を向上させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、吸収冷凍機の冷水
温度制御機構に関し、冷水出口温度の変動を迅速に補正
して、冷水出口温度を一定に維持する制御を応答性良く
行うことができるように工夫したものである。具体的に
は、調節計を２段（ないし３段）に組んだカスケード制
御を利用することにより、冷水出口温度の変動を迅速に
補正することができるようにしたものである。
温度制御機構に関し、冷水出口温度の変動を迅速に補正
して、冷水出口温度を一定に維持する制御を応答性良く
行うことができるように工夫したものである。具体的に
は、調節計を２段（ないし３段）に組んだカスケード制
御を利用することにより、冷水出口温度の変動を迅速に
補正することができるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】吸収冷凍機は、水を冷媒、臭化リチウム
溶液を吸収剤とし、蒸気や燃料（ガスまたは油）をエネ
ルギー源とした冷凍機である。この吸収冷凍機は、蒸発
器と吸収器と再生器と凝縮器を主要部材として構成され
ている。前記蒸発器及び吸収器の内部は、高真空（絶対
圧力が６〜７mmHg）に保持されている。
溶液を吸収剤とし、蒸気や燃料（ガスまたは油）をエネ
ルギー源とした冷凍機である。この吸収冷凍機は、蒸発
器と吸収器と再生器と凝縮器を主要部材として構成され
ている。前記蒸発器及び吸収器の内部は、高真空（絶対
圧力が６〜７mmHg）に保持されている。
【０００３】前記蒸発器では、冷媒ポンプにより送られ
てきた冷媒（水）を、冷水（１２℃）が流通する蒸発器
チューブに向けて散布することにより、冷媒が加熱され
て冷媒蒸気となる。つまり、蒸発器は高真空容器となっ
ているので水（冷媒）は４〜６℃位で沸騰して蒸発気化
するので、１２℃の冷水を熱源水とすることができるの
である。
てきた冷媒（水）を、冷水（１２℃）が流通する蒸発器
チューブに向けて散布することにより、冷媒が加熱され
て冷媒蒸気となる。つまり、蒸発器は高真空容器となっ
ているので水（冷媒）は４〜６℃位で沸騰して蒸発気化
するので、１２℃の冷水を熱源水とすることができるの
である。
【０００４】そして冷水は、冷媒（水）に与えた蒸発潜
熱分だけ温度低下（７℃になる）して、蒸発器から出て
いく。このように温度低下（７℃となった）冷水はビル
の冷房装置等（冷房負荷）に送られ、冷房に利用され
る。冷房に利用された冷水は温度上昇し１２℃の温度に
なって再び蒸発器の蒸発器チューブに流入してくる。
熱分だけ温度低下（７℃になる）して、蒸発器から出て
いく。このように温度低下（７℃となった）冷水はビル
の冷房装置等（冷房負荷）に送られ、冷房に利用され
る。冷房に利用された冷水は温度上昇し１２℃の温度に
なって再び蒸発器の蒸発器チューブに流入してくる。
【０００５】吸収器では、蒸発器で発生した冷媒蒸気
を、臭化リチウム溶液により吸収する。水分を吸収して
濃度が薄くなった臭化リチウム溶液（以下「臭化リチウ
ム希溶液」と称する）は吸収器の底部に集められる。こ
の吸収器では、冷媒蒸気が臭化リチウム溶液に吸収され
て気体（水蒸気）から液体（水）に変化するときの凝縮
潜熱と、臭化リチウム溶液が水分を吸収して濃度が薄く
なるときの希釈熱が発生するので、冷却水（上記「冷
水」とは別の系に流通している）によりこれらの熱を取
り除いている。なお、臭化リチウム溶液は、その水蒸気
分圧が水の飽和蒸気よりも低いので、吸湿性に富み、冷
媒蒸気を吸収するのに好適な物質である。
を、臭化リチウム溶液により吸収する。水分を吸収して
濃度が薄くなった臭化リチウム溶液（以下「臭化リチウ
ム希溶液」と称する）は吸収器の底部に集められる。こ
の吸収器では、冷媒蒸気が臭化リチウム溶液に吸収され
て気体（水蒸気）から液体（水）に変化するときの凝縮
潜熱と、臭化リチウム溶液が水分を吸収して濃度が薄く
なるときの希釈熱が発生するので、冷却水（上記「冷
水」とは別の系に流通している）によりこれらの熱を取
り除いている。なお、臭化リチウム溶液は、その水蒸気
分圧が水の飽和蒸気よりも低いので、吸湿性に富み、冷
媒蒸気を吸収するのに好適な物質である。
【０００６】再生器では、吸収器から送られてくる臭化
リチウム希溶液を加熱する。このため、臭化リチウム希
溶液中の冷媒は一部が蒸発気化し、溶液は濃縮された臭
化リチウム溶液（以下「臭化リチウム濃溶液」と称す
る）となる。濃度が元の状態まで高められた臭化リチウ
ム濃溶液は、吸収器に送られ再び冷媒蒸気を吸収する。
一方、蒸発した冷媒蒸気は、凝縮器に送られる。
リチウム希溶液を加熱する。このため、臭化リチウム希
溶液中の冷媒は一部が蒸発気化し、溶液は濃縮された臭
化リチウム溶液（以下「臭化リチウム濃溶液」と称す
る）となる。濃度が元の状態まで高められた臭化リチウ
ム濃溶液は、吸収器に送られ再び冷媒蒸気を吸収する。
一方、蒸発した冷媒蒸気は、凝縮器に送られる。
【０００７】なお実機では、熱効率を上げ加熱エネルギ
ーを減少させる目的で、再生器を２段に配置した二重効
用型の吸収冷凍機が採用されている。この二重効用型の
吸収冷凍機では、再生器として、供給された蒸気により
臭化リチウム希溶液を加熱する高圧再生器と、高圧再生
器で発生した高温の冷媒蒸気を加熱源として臭化リチウ
ム希溶液を加熱する低圧再生器とを備えている。
ーを減少させる目的で、再生器を２段に配置した二重効
用型の吸収冷凍機が採用されている。この二重効用型の
吸収冷凍機では、再生器として、供給された蒸気により
臭化リチウム希溶液を加熱する高圧再生器と、高圧再生
器で発生した高温の冷媒蒸気を加熱源として臭化リチウ
ム希溶液を加熱する低圧再生器とを備えている。
【０００８】凝縮器では、再生器から送られてきた冷媒
蒸気を冷却水により冷却して、凝縮液化する。凝縮した
水は冷媒（水）として再び蒸発器に供給される。
蒸気を冷却水により冷却して、凝縮液化する。凝縮した
水は冷媒（水）として再び蒸発器に供給される。
【０００９】このように、吸収冷凍機では、冷媒（水）
が、水−水蒸気−水と変化（相の変化）をすると共に、
臭化リチウム溶液が、濃溶液−希溶液−濃溶液と変化
（濃度の変化）をする。吸収冷凍機は、上述した相の変
化（冷媒）と濃度の変化（臭化リチウム溶液）の過程
で、水の蒸発潜熱により冷水を製造し、臭化リチウム溶
液の吸収能力により水蒸気を吸収する作用を、高真空密
閉系内で繰り返し行わせる装置である。
が、水−水蒸気−水と変化（相の変化）をすると共に、
臭化リチウム溶液が、濃溶液−希溶液−濃溶液と変化
（濃度の変化）をする。吸収冷凍機は、上述した相の変
化（冷媒）と濃度の変化（臭化リチウム溶液）の過程
で、水の蒸発潜熱により冷水を製造し、臭化リチウム溶
液の吸収能力により水蒸気を吸収する作用を、高真空密
閉系内で繰り返し行わせる装置である。
【００１０】蒸気式吸収冷凍機では、高圧再生器に流通
する蒸気の量を増加して加熱量を増大し、臭化リチウム
溶液の濃度を濃くすることにより、蒸発器から出ていく
冷水の温度を下げることができる。逆に、高圧再生器に
流通する蒸気の量を減少して加熱量を減少し、臭化リチ
ウム溶液の濃度を薄くすることにより、蒸発器から出て
いく冷水の温度を上げることができる。このように、臭
化リチウム溶液の濃度調整をすることにより、冷水温度
を制御して、蒸発器から出て行く冷水の温度を設定温度
（７℃）にしている。
する蒸気の量を増加して加熱量を増大し、臭化リチウム
溶液の濃度を濃くすることにより、蒸発器から出ていく
冷水の温度を下げることができる。逆に、高圧再生器に
流通する蒸気の量を減少して加熱量を減少し、臭化リチ
ウム溶液の濃度を薄くすることにより、蒸発器から出て
いく冷水の温度を上げることができる。このように、臭
化リチウム溶液の濃度調整をすることにより、冷水温度
を制御して、蒸発器から出て行く冷水の温度を設定温度
（７℃）にしている。
【００１１】ここで、蒸気式吸収冷凍機の全体の構成・
動作を、図４を参照して、冷房運転時の動作と共に説明
する。冷房運転時には、バルブＶ９は閉じており（図で
は黒塗りして示している）、バルブＶ１〜Ｖ８は開いて
いる（図では白抜きして示している）。
動作を、図４を参照して、冷房運転時の動作と共に説明
する。冷房運転時には、バルブＶ９は閉じており（図で
は黒塗りして示している）、バルブＶ１〜Ｖ８は開いて
いる（図では白抜きして示している）。
【００１２】図４に示すように、蒸発器１０と吸収器２
０は、同一のシェル（高真空容器）内に構成されてい
る。
０は、同一のシェル（高真空容器）内に構成されてい
る。
【００１３】蒸発器１０内には蒸発器チューブ１１が配
置されている。この蒸発器チューブ１１には、冷水入口
ラインＬ１を介して冷水Ｗ１が供給され、蒸発器チュー
ブ１１を流通した冷水Ｗ１は冷水出口ラインＬ２を介し
て外部に送出される。また、冷媒ラインＬ１１を介して
冷媒ポンプＰ１により汲み上げられた冷媒（水）Ｒは、
蒸発器チューブ１１に向けて散布される。散布された冷
媒Ｒは、蒸発器チューブ１１内を流通する冷水Ｗ１から
気化の潜熱を奪って蒸発気化して冷媒蒸気ｒとなる。こ
の冷媒蒸気ｒは吸収器２０側に流入していく。
置されている。この蒸発器チューブ１１には、冷水入口
ラインＬ１を介して冷水Ｗ１が供給され、蒸発器チュー
ブ１１を流通した冷水Ｗ１は冷水出口ラインＬ２を介し
て外部に送出される。また、冷媒ラインＬ１１を介して
冷媒ポンプＰ１により汲み上げられた冷媒（水）Ｒは、
蒸発器チューブ１１に向けて散布される。散布された冷
媒Ｒは、蒸発器チューブ１１内を流通する冷水Ｗ１から
気化の潜熱を奪って蒸発気化して冷媒蒸気ｒとなる。こ
の冷媒蒸気ｒは吸収器２０側に流入していく。
【００１４】前記冷水Ｗ１は、１２℃の温度で蒸発器１
０に入り、蒸発器チューブ１１にて冷却されて、蒸発器
１０から７℃の温度で送出される。冷水出口ラインＬ２
から出てくる７℃の冷水Ｗ１は、ビルの冷房や工場のプ
ロセス用として用いられる。ビル冷房等の冷房負荷にお
いて冷房に供せられた冷水Ｗ１は、温度上昇し１２℃の
温度となって再び蒸発器１０に流入してくる。
０に入り、蒸発器チューブ１１にて冷却されて、蒸発器
１０から７℃の温度で送出される。冷水出口ラインＬ２
から出てくる７℃の冷水Ｗ１は、ビルの冷房や工場のプ
ロセス用として用いられる。ビル冷房等の冷房負荷にお
いて冷房に供せられた冷水Ｗ１は、温度上昇し１２℃の
温度となって再び蒸発器１０に流入してくる。
【００１５】吸収器２０内には吸収器チューブ２１が配
置されている。この吸収器チューブ２１には、冷却水ラ
インＬ３，Ｌ４を介して冷却水Ｗ２が供給される。そし
て、溶液ラインＬ２１を介して濃溶液ポンプＰ２により
圧送されてきた臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器チュ
ーブ２１に向けて散布される。このため、散布された臭
化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器２０側に流入してきた
冷媒蒸気ｒを吸収して、濃度が薄くなる。濃度が薄くな
った臭化リチウム希溶液Ｙ３は、吸収器２０の底部に集
められる。なお、吸収器２０内で発生する熱は、吸収器
チューブ２１内を流通する冷却水Ｗ２により冷却され
る。
置されている。この吸収器チューブ２１には、冷却水ラ
インＬ３，Ｌ４を介して冷却水Ｗ２が供給される。そし
て、溶液ラインＬ２１を介して濃溶液ポンプＰ２により
圧送されてきた臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器チュ
ーブ２１に向けて散布される。このため、散布された臭
化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器２０側に流入してきた
冷媒蒸気ｒを吸収して、濃度が薄くなる。濃度が薄くな
った臭化リチウム希溶液Ｙ３は、吸収器２０の底部に集
められる。なお、吸収器２０内で発生する熱は、吸収器
チューブ２１内を流通する冷却水Ｗ２により冷却され
る。
【００１６】吸収器２０の底部に集められた臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３は、再生器ポンプＰ３により圧送され、バ
ルブＶ２，Ｖ３，低温熱交換器３０，溶液ラインＬ２
２，熱回収器７０，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２
３を介して、高圧再生器４０に供給される。
ム希溶液Ｙ３は、再生器ポンプＰ３により圧送され、バ
ルブＶ２，Ｖ３，低温熱交換器３０，溶液ラインＬ２
２，熱回収器７０，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２
３を介して、高圧再生器４０に供給される。
【００１７】高圧再生器４０内には、蒸気ラインＬ３１
が貫通した状態で配置されており、この蒸気ラインＬ３
１のうち高圧再生器４０よりも上流側である蒸気入口側
には蒸気流量制御弁７１が介装されている。この蒸気流
量制御弁７１は、蒸気ラインＬ３１に流通させる蒸気量
を調整する。
が貫通した状態で配置されており、この蒸気ラインＬ３
１のうち高圧再生器４０よりも上流側である蒸気入口側
には蒸気流量制御弁７１が介装されている。この蒸気流
量制御弁７１は、蒸気ラインＬ３１に流通させる蒸気量
を調整する。
【００１８】この高圧再生器４０は、蒸気ラインＬ３１
を介して高温の蒸気が流通することにより、臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３を加熱する。高圧再生器４０に供給された
臭化リチウム希溶液Ｙ３は、加熱され、冷媒の一部が蒸
発気化して濃度が中程度の臭化リチウム中溶液Ｙ２とな
る。この臭化リチウム中溶液Ｙ２は、溶液ラインＬ２
４，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２５を通って低圧
再生器５０に供給される。
を介して高温の蒸気が流通することにより、臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３を加熱する。高圧再生器４０に供給された
臭化リチウム希溶液Ｙ３は、加熱され、冷媒の一部が蒸
発気化して濃度が中程度の臭化リチウム中溶液Ｙ２とな
る。この臭化リチウム中溶液Ｙ２は、溶液ラインＬ２
４，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２５を通って低圧
再生器５０に供給される。
【００１９】一方、高圧再生器４０にて蒸発した冷媒蒸
気ｒは、冷媒ラインＬ１２を介して、低圧再生器５０の
低圧再生器チューブ５１に供給され、更に、冷媒ライン
Ｌ１３を介して凝縮器６０に供給される。なお、低圧再
生器５０と凝縮器６０は、同一のシェル内に構成されて
いる。
気ｒは、冷媒ラインＬ１２を介して、低圧再生器５０の
低圧再生器チューブ５１に供給され、更に、冷媒ライン
Ｌ１３を介して凝縮器６０に供給される。なお、低圧再
生器５０と凝縮器６０は、同一のシェル内に構成されて
いる。
【００２０】低圧再生器５０では、溶液ラインＬ２５を
介して臭化リチウム中溶液Ｙ２が供給されるとともに、
溶液ラインＬ２６を介して溶液ラインＬ２２から分岐し
てきた臭化リチウム希溶液Ｙ３が低圧再生器チューブ５
１に向けて散布される。この低圧再生器５０では、低圧
再生器チューブ５１により溶液Ｙ２，Ｙ３が加熱され、
冷媒の一部が蒸発して溶液の濃度が更に濃くなり、高濃
度の臭化リチウム濃溶液Ｙ１が低圧再生器５０の底部に
集められる。この臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、濃溶液ポ
ンプＰ２により、再び吸収器２０に供給される。
介して臭化リチウム中溶液Ｙ２が供給されるとともに、
溶液ラインＬ２６を介して溶液ラインＬ２２から分岐し
てきた臭化リチウム希溶液Ｙ３が低圧再生器チューブ５
１に向けて散布される。この低圧再生器５０では、低圧
再生器チューブ５１により溶液Ｙ２，Ｙ３が加熱され、
冷媒の一部が蒸発して溶液の濃度が更に濃くなり、高濃
度の臭化リチウム濃溶液Ｙ１が低圧再生器５０の底部に
集められる。この臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、濃溶液ポ
ンプＰ２により、再び吸収器２０に供給される。
【００２１】凝縮器６０には、冷却水ラインＬ３，Ｌ５
により冷却水Ｗ２が供給される凝縮器チューブ６１が配
置されている。この凝縮器６０では、高圧再生器４０に
て蒸発して冷媒ラインＬ１２，低圧再生器チューブ５１
及び冷媒ラインＬ１３を介して供給されてきた冷媒蒸気
ｒと、低圧再生器５０にて蒸発して凝縮器６０側に流入
してきた冷媒蒸気ｒが、凝縮器チューブ６１にて冷却凝
縮されて冷媒（水）Ｒとなる。この冷媒Ｒは、重力及び
圧力差により、冷媒ラインＬ１４を介して蒸発器１０に
送られる。蒸発器１０の底部に集められた冷媒Ｒは、冷
媒ポンプＰ１により再び冷媒ラインＬ１１を介して蒸発
器チューブ１１に向けて散布される。
により冷却水Ｗ２が供給される凝縮器チューブ６１が配
置されている。この凝縮器６０では、高圧再生器４０に
て蒸発して冷媒ラインＬ１２，低圧再生器チューブ５１
及び冷媒ラインＬ１３を介して供給されてきた冷媒蒸気
ｒと、低圧再生器５０にて蒸発して凝縮器６０側に流入
してきた冷媒蒸気ｒが、凝縮器チューブ６１にて冷却凝
縮されて冷媒（水）Ｒとなる。この冷媒Ｒは、重力及び
圧力差により、冷媒ラインＬ１４を介して蒸発器１０に
送られる。蒸発器１０の底部に集められた冷媒Ｒは、冷
媒ポンプＰ１により再び冷媒ラインＬ１１を介して蒸発
器チューブ１１に向けて散布される。
【００２２】かかる構成となっている、蒸気を加熱源と
した吸収冷凍機では、蒸発器１０から出ていく冷水Ｗ１
の温度を設定温度（７°Ｃ）に維持するため、冷水温度
制御機構が採用されている。
した吸収冷凍機では、蒸発器１０から出ていく冷水Ｗ１
の温度を設定温度（７°Ｃ）に維持するため、冷水温度
制御機構が採用されている。
【００２３】次に、従来の冷水温度制御機構を説明す
る。図４に示すように、冷水出口ラインＬ２には、冷水
出口温度センサ１０１が配置されており、この冷水出口
温度センサ１０１は、蒸発器１０にて冷却された冷水Ｗ
１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ１を出力す
る。冷水出口温度調節計１０２は、冷水出口温度信号Ｓ
１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）になるように、設
定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号Ｓ１の偏差を
ＰＩＤ演算制御して、蒸気流量を示す蒸気流量設定値信
号Ｓ２を出力する。
る。図４に示すように、冷水出口ラインＬ２には、冷水
出口温度センサ１０１が配置されており、この冷水出口
温度センサ１０１は、蒸発器１０にて冷却された冷水Ｗ
１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ１を出力す
る。冷水出口温度調節計１０２は、冷水出口温度信号Ｓ
１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）になるように、設
定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号Ｓ１の偏差を
ＰＩＤ演算制御して、蒸気流量を示す蒸気流量設定値信
号Ｓ２を出力する。
【００２４】一方、蒸気ラインＬ３１のうち、蒸気流量
制御弁７１よりも上流側には、蒸気流量センサ１０３が
配置されている。この蒸気流量センサ１０３は、蒸気ラ
インＬ３１を介して高圧再生器４０に供給される蒸気流
量を示す蒸気流量信号Ｓ３を出力する。蒸気流量調節計
１０４は、蒸気流量信号Ｓ３の値が蒸気流量設定値信号
Ｓ３の値に等しくなるように、蒸気流量設定値信号Ｓ２
に対する蒸気流量信号Ｓ３の偏差をＰＩＤ演算制御し
て、蒸気流量操作信号Ｓ４を出力する。
制御弁７１よりも上流側には、蒸気流量センサ１０３が
配置されている。この蒸気流量センサ１０３は、蒸気ラ
インＬ３１を介して高圧再生器４０に供給される蒸気流
量を示す蒸気流量信号Ｓ３を出力する。蒸気流量調節計
１０４は、蒸気流量信号Ｓ３の値が蒸気流量設定値信号
Ｓ３の値に等しくなるように、蒸気流量設定値信号Ｓ２
に対する蒸気流量信号Ｓ３の偏差をＰＩＤ演算制御し
て、蒸気流量操作信号Ｓ４を出力する。
【００２５】蒸気流量制御弁７１は、蒸気流量操作信号
Ｓ４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０へ
供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気流
量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定冷
水出口温度となるように温度制御をすることができる。
Ｓ４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０へ
供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気流
量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定冷
水出口温度となるように温度制御をすることができる。
【００２６】かかる温度制御は、冷水生成能力と高圧再
生器４０内の臭化リチウム溶液の濃度が比例関係にある
ため、高圧再生器４０へ供給する蒸気の流量を制御する
ことにより冷水出口温度を制御することができる、とい
う原理に基づき行われている。
生器４０内の臭化リチウム溶液の濃度が比例関係にある
ため、高圧再生器４０へ供給する蒸気の流量を制御する
ことにより冷水出口温度を制御することができる、とい
う原理に基づき行われている。
【００２７】
【発明が解決しようとする課題】ところで上述した従来
の冷水温度制御機構では、システム構成の大きな吸収冷
凍機のシステム最終段の冷水出口温度を制御するため
に、システム最初段の蒸気流量を制御するようにしてい
るため、制御ループが大きくて時定数が大きく、制御の
応答性が悪かった。つまり、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度から変動した場合に、現在の冷水出口温度
を設定冷水出口温度に補正するまでに、大きな時間遅れ
があった。
の冷水温度制御機構では、システム構成の大きな吸収冷
凍機のシステム最終段の冷水出口温度を制御するため
に、システム最初段の蒸気流量を制御するようにしてい
るため、制御ループが大きくて時定数が大きく、制御の
応答性が悪かった。つまり、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度から変動した場合に、現在の冷水出口温度
を設定冷水出口温度に補正するまでに、大きな時間遅れ
があった。
【００２８】本発明は、上記従来技術に鑑み、冷水出口
温度を制御する場合の応答性を改善した吸収冷凍機の冷
水温度制御機構を提供することを目的とする。
温度を制御する場合の応答性を改善した吸収冷凍機の冷
水温度制御機構を提供することを目的とする。
【００２９】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は、供給されてきた冷水により冷媒を蒸発気化
させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出する蒸
発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の濃い臭
化リチウム溶液により吸収させる吸収器と、加熱源流量
制御弁が介装された加熱源ラインを通して加熱源が供給
されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄くなった臭
化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液中の冷媒を
蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くして前記吸収
器に供給する再生器と、前記再生器で発生した冷媒蒸気
を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器に供給する凝縮器
とを有する吸収冷凍機において、前記蒸発器から送出さ
れる冷水の温度である冷水出口温度を検出して冷水出口
温度信号を出力する冷水出口温度センサと、冷水出口温
度信号の値が設定冷水出口温度になるように、設定冷水
出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差を演算して、
前記再生器の設定温度を示す再生器温度設定値信号を出
力する冷水出口温度調節計と、前記再生器の温度を検出
して再生器温度信号を出力する温度センサと、再生器温
度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等しくなるよ
うに、再生器温度設定値信号に対する再生器温度信号の
偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力する再生器
温度調節計とを備え、前記加熱源流量制御弁の開度を、
前記加熱源流量操作信号の値に応じて調節することを特
徴とする。
明の構成は、供給されてきた冷水により冷媒を蒸発気化
させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出する蒸
発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の濃い臭
化リチウム溶液により吸収させる吸収器と、加熱源流量
制御弁が介装された加熱源ラインを通して加熱源が供給
されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄くなった臭
化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液中の冷媒を
蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くして前記吸収
器に供給する再生器と、前記再生器で発生した冷媒蒸気
を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器に供給する凝縮器
とを有する吸収冷凍機において、前記蒸発器から送出さ
れる冷水の温度である冷水出口温度を検出して冷水出口
温度信号を出力する冷水出口温度センサと、冷水出口温
度信号の値が設定冷水出口温度になるように、設定冷水
出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差を演算して、
前記再生器の設定温度を示す再生器温度設定値信号を出
力する冷水出口温度調節計と、前記再生器の温度を検出
して再生器温度信号を出力する温度センサと、再生器温
度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等しくなるよ
うに、再生器温度設定値信号に対する再生器温度信号の
偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力する再生器
温度調節計とを備え、前記加熱源流量制御弁の開度を、
前記加熱源流量操作信号の値に応じて調節することを特
徴とする。
【００３０】また本発明の構成は、供給されてきた冷水
により冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却
した冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷
媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる
吸収器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ライン
を通して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収し
て濃度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リ
チウム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃
度を濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生
器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸
発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、
前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度に
なるように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信
号の偏差を演算して、前記再生器の設定圧力を示す再生
器圧力設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前
記再生器の圧力を検出して再生器圧力信号を出力する圧
力センサと、再生器圧力信号の値が再生器圧力設定値信
号の値に等しくなるように、再生器圧力設定値信号に対
する再生器圧力信号の偏差を演算して、加熱源流量操作
信号を出力する再生器圧力調節計とを備え、前記加熱源
流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信号の値に応
じて調節することを特徴とする。
により冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却
した冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷
媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる
吸収器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ライン
を通して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収し
て濃度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リ
チウム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃
度を濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生
器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸
発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、
前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度に
なるように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信
号の偏差を演算して、前記再生器の設定圧力を示す再生
器圧力設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前
記再生器の圧力を検出して再生器圧力信号を出力する圧
力センサと、再生器圧力信号の値が再生器圧力設定値信
号の値に等しくなるように、再生器圧力設定値信号に対
する再生器圧力信号の偏差を演算して、加熱源流量操作
信号を出力する再生器圧力調節計とを備え、前記加熱源
流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信号の値に応
じて調節することを特徴とする。
【００３１】また本発明の構成は、供給されてきた冷水
により冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却
した冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷
媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる
吸収器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ライン
を通して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収し
て濃度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リ
チウム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃
度を濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生
器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸
発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、
前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度に
なるように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信
号の偏差を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生
器温度設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前
記再生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する温
度センサと、再生器温度信号の値が再生器温度設定値信
号の値に等しくなるように、再生器温度設定値信号に対
する再生器温度信号の偏差を演算して、加熱源流量設定
値信号を出力する再生器温度調節計と、前記加熱源ライ
ンに流れる加熱源の流量を検出して加熱源流量信号を出
力する加熱源流量センサと、加熱源流量信号の値が加熱
源流量設定値信号の値に等しくなるように、加熱源流量
設定値信号に対する加熱源流量信号の偏差を演算して、
加熱源流量操作信号を出力する加熱源流量調節計とを備
え、前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操
作信号の値に応じて調節することを特徴とする。
により冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却
した冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷
媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる
吸収器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ライン
を通して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収し
て濃度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リ
チウム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃
度を濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生
器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸
発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、
前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度に
なるように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信
号の偏差を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生
器温度設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前
記再生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する温
度センサと、再生器温度信号の値が再生器温度設定値信
号の値に等しくなるように、再生器温度設定値信号に対
する再生器温度信号の偏差を演算して、加熱源流量設定
値信号を出力する再生器温度調節計と、前記加熱源ライ
ンに流れる加熱源の流量を検出して加熱源流量信号を出
力する加熱源流量センサと、加熱源流量信号の値が加熱
源流量設定値信号の値に等しくなるように、加熱源流量
設定値信号に対する加熱源流量信号の偏差を演算して、
加熱源流量操作信号を出力する加熱源流量調節計とを備
え、前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操
作信号の値に応じて調節することを特徴とする。
【００３２】また本発明では、前記加熱源は、蒸気また
は燃料であることを特徴とする。
は燃料であることを特徴とする。
【００３３】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態にか
かる吸収冷凍機を、図面に基づき詳細に説明する。
かる吸収冷凍機を、図面に基づき詳細に説明する。
【００３４】＜蒸気式吸収冷凍機の全体の構成・動作＞
まずはじめに、システム構成図である図１を参照して、
本実施の形態にかかる蒸気式吸収冷凍機の全体の構成・
動作を、冷房運転時の動作と共に説明する。冷房運転時
には、バルブＶ９は閉じており（図では黒塗りして示し
ている）、バルブＶ１〜Ｖ８は開いている（図では白抜
きして示している）。
まずはじめに、システム構成図である図１を参照して、
本実施の形態にかかる蒸気式吸収冷凍機の全体の構成・
動作を、冷房運転時の動作と共に説明する。冷房運転時
には、バルブＶ９は閉じており（図では黒塗りして示し
ている）、バルブＶ１〜Ｖ８は開いている（図では白抜
きして示している）。
【００３５】図１に示すように、蒸発器１０と吸収器２
０は、同一のシェル（高真空容器）内に構成されてい
る。
０は、同一のシェル（高真空容器）内に構成されてい
る。
【００３６】蒸発器１０内には蒸発器チューブ１１が配
置されている。この蒸発器チューブ１１には、冷水入口
ラインＬ１を介して冷水Ｗ１が供給され、蒸発器チュー
ブ１１を流通した冷水Ｗ１は冷水出口ラインＬ２を介し
て外部に送出される。また、冷媒ラインＬ１１を介して
冷媒ポンプＰ１により汲み上げられた冷媒（水）Ｒは、
蒸発器チューブ１１に向けて散布される。散布された冷
媒Ｒは、蒸発器チューブ１１内を流通する冷水Ｗ１から
気化の潜熱を奪って蒸発気化して冷媒蒸気ｒとなる。こ
の冷媒蒸気ｒは吸収器２０側に流入していく。
置されている。この蒸発器チューブ１１には、冷水入口
ラインＬ１を介して冷水Ｗ１が供給され、蒸発器チュー
ブ１１を流通した冷水Ｗ１は冷水出口ラインＬ２を介し
て外部に送出される。また、冷媒ラインＬ１１を介して
冷媒ポンプＰ１により汲み上げられた冷媒（水）Ｒは、
蒸発器チューブ１１に向けて散布される。散布された冷
媒Ｒは、蒸発器チューブ１１内を流通する冷水Ｗ１から
気化の潜熱を奪って蒸発気化して冷媒蒸気ｒとなる。こ
の冷媒蒸気ｒは吸収器２０側に流入していく。
【００３７】前記冷水Ｗ１は、１２℃の温度で蒸発器１
０に入り、蒸発器チューブ１１にて冷却されて、蒸発器
１０から７℃の温度で送出される。冷水出口ラインＬ２
から出てくる７℃の冷水Ｗ１は、ビルの冷房や工場のプ
ロセス用として用いられる。ビル冷房等の冷房負荷にお
いて冷房に供せられた冷水Ｗ１は、温度上昇し１２℃の
温度となって再び蒸発器１０に流入してくる。
０に入り、蒸発器チューブ１１にて冷却されて、蒸発器
１０から７℃の温度で送出される。冷水出口ラインＬ２
から出てくる７℃の冷水Ｗ１は、ビルの冷房や工場のプ
ロセス用として用いられる。ビル冷房等の冷房負荷にお
いて冷房に供せられた冷水Ｗ１は、温度上昇し１２℃の
温度となって再び蒸発器１０に流入してくる。
【００３８】吸収器２０内には吸収器チューブ２１が配
置されている。この吸収器チューブ２１には、冷却水ラ
インＬ３，Ｌ４を介して冷却水Ｗ２が供給される。そし
て、溶液ラインＬ２１を介して濃溶液ポンプＰ２により
圧送されてきた臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器チュ
ーブ２１に向けて散布される。このため、散布された臭
化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器２０側に流入してきた
冷媒蒸気ｒを吸収して、濃度が薄くなる。濃度が薄くな
った臭化リチウム希溶液Ｙ３は、吸収器２０の底部に集
められる。なお、吸収器２０内で発生する熱は、吸収器
チューブ２１内を流通する冷却水Ｗ２により冷却され
る。
置されている。この吸収器チューブ２１には、冷却水ラ
インＬ３，Ｌ４を介して冷却水Ｗ２が供給される。そし
て、溶液ラインＬ２１を介して濃溶液ポンプＰ２により
圧送されてきた臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器チュ
ーブ２１に向けて散布される。このため、散布された臭
化リチウム濃溶液Ｙ１は、吸収器２０側に流入してきた
冷媒蒸気ｒを吸収して、濃度が薄くなる。濃度が薄くな
った臭化リチウム希溶液Ｙ３は、吸収器２０の底部に集
められる。なお、吸収器２０内で発生する熱は、吸収器
チューブ２１内を流通する冷却水Ｗ２により冷却され
る。
【００３９】吸収器２０の底部に集められた臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３は、再生器ポンプＰ３により圧送され、バ
ルブＶ２，Ｖ３，低温熱交換器３０，溶液ラインＬ２
２，熱回収器７０，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２
３を介して、高圧再生器４０に供給される。
ム希溶液Ｙ３は、再生器ポンプＰ３により圧送され、バ
ルブＶ２，Ｖ３，低温熱交換器３０，溶液ラインＬ２
２，熱回収器７０，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２
３を介して、高圧再生器４０に供給される。
【００４０】高圧再生器４０内には、蒸気ラインＬ３１
が貫通した状態で配置されており、この蒸気ラインＬ３
１のうち高圧再生器４０よりも上流側である蒸気入口側
には蒸気流量制御弁７１が介装されている。この蒸気流
量制御弁７１は、蒸気ラインＬ３１に流通させる蒸気量
を調整する。
が貫通した状態で配置されており、この蒸気ラインＬ３
１のうち高圧再生器４０よりも上流側である蒸気入口側
には蒸気流量制御弁７１が介装されている。この蒸気流
量制御弁７１は、蒸気ラインＬ３１に流通させる蒸気量
を調整する。
【００４１】この高圧再生器４０は、蒸気ラインＬ３１
を介して高温の蒸気が流通することにより、臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３を加熱する。高圧再生器４０に供給された
臭化リチウム希溶液Ｙ３は、加熱され、冷媒の一部が蒸
発気化して濃度が中程度の臭化リチウム中溶液Ｙ２とな
る。この臭化リチウム中溶液Ｙ２は、溶液ラインＬ２
４，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２５を通って低圧
再生器５０に供給される。
を介して高温の蒸気が流通することにより、臭化リチウ
ム希溶液Ｙ３を加熱する。高圧再生器４０に供給された
臭化リチウム希溶液Ｙ３は、加熱され、冷媒の一部が蒸
発気化して濃度が中程度の臭化リチウム中溶液Ｙ２とな
る。この臭化リチウム中溶液Ｙ２は、溶液ラインＬ２
４，高温熱交換器３１，溶液ラインＬ２５を通って低圧
再生器５０に供給される。
【００４２】一方、高圧再生器４０にて蒸発した冷媒蒸
気ｒは、冷媒ラインＬ１２を介して、低圧再生器５０の
低圧再生器チューブ５１に供給され、更に、冷媒ライン
Ｌ１３を介して凝縮器６０に供給される。なお、低圧再
生器５０と凝縮器６０は、同一のシェル内に構成されて
いる。
気ｒは、冷媒ラインＬ１２を介して、低圧再生器５０の
低圧再生器チューブ５１に供給され、更に、冷媒ライン
Ｌ１３を介して凝縮器６０に供給される。なお、低圧再
生器５０と凝縮器６０は、同一のシェル内に構成されて
いる。
【００４３】低圧再生器５０では、溶液ラインＬ２５を
介して臭化リチウム中溶液Ｙ２が供給されるとともに、
溶液ラインＬ２６を介して溶液ラインＬ２２から分岐し
てきた臭化リチウム希溶液Ｙ３が低圧再生器チューブ５
１に向けて散布される。この低圧再生器５０では、低圧
再生器チューブ５１により溶液Ｙ２，Ｙ３が加熱され、
冷媒の一部が蒸発して溶液の濃度が更に濃くなり、高濃
度の臭化リチウム濃溶液Ｙ１が低圧再生器５０の底部に
集められる。この臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、濃溶液ポ
ンプＰ２により、再び吸収器２０に供給される。
介して臭化リチウム中溶液Ｙ２が供給されるとともに、
溶液ラインＬ２６を介して溶液ラインＬ２２から分岐し
てきた臭化リチウム希溶液Ｙ３が低圧再生器チューブ５
１に向けて散布される。この低圧再生器５０では、低圧
再生器チューブ５１により溶液Ｙ２，Ｙ３が加熱され、
冷媒の一部が蒸発して溶液の濃度が更に濃くなり、高濃
度の臭化リチウム濃溶液Ｙ１が低圧再生器５０の底部に
集められる。この臭化リチウム濃溶液Ｙ１は、濃溶液ポ
ンプＰ２により、再び吸収器２０に供給される。
【００４４】凝縮器６０には、冷却水ラインＬ３，Ｌ５
により冷却水Ｗ２が供給される凝縮器チューブ６１が配
置されている。この凝縮器６０では、高圧再生器４０に
て蒸発して冷媒ラインＬ１２，低圧再生器チューブ５１
及び冷媒ラインＬ１３を介して供給されてきた冷媒蒸気
ｒと、低圧再生器５０にて蒸発して凝縮器６０側に流入
してきた冷媒蒸気ｒが、凝縮器チューブ６１にて冷却凝
縮されて冷媒（水）Ｒとなる。この冷媒Ｒは、重力及び
圧力差により、冷媒ラインＬ１４を介して蒸発器１０に
送られる。蒸発器１０の底部に集められた冷媒Ｒは、冷
媒ポンプＰ１により再び冷媒ラインＬ１１を介して蒸発
器チューブ１１に向けて散布される。
により冷却水Ｗ２が供給される凝縮器チューブ６１が配
置されている。この凝縮器６０では、高圧再生器４０に
て蒸発して冷媒ラインＬ１２，低圧再生器チューブ５１
及び冷媒ラインＬ１３を介して供給されてきた冷媒蒸気
ｒと、低圧再生器５０にて蒸発して凝縮器６０側に流入
してきた冷媒蒸気ｒが、凝縮器チューブ６１にて冷却凝
縮されて冷媒（水）Ｒとなる。この冷媒Ｒは、重力及び
圧力差により、冷媒ラインＬ１４を介して蒸発器１０に
送られる。蒸発器１０の底部に集められた冷媒Ｒは、冷
媒ポンプＰ１により再び冷媒ラインＬ１１を介して蒸発
器チューブ１１に向けて散布される。
【００４５】＜本発明の第１の実施の形態＞上記構成と
なっている吸収冷凍機に対して本発明を適用した、第１
の実施の形態にかかる冷水温度制御機構を、図１を参照
して説明する。
なっている吸収冷凍機に対して本発明を適用した、第１
の実施の形態にかかる冷水温度制御機構を、図１を参照
して説明する。
【００４６】図１に示すように、冷水出口ラインＬ２に
は、冷水出口温度センサ１１１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１１１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ１
１を出力する。冷水出口温度調節計１１２は、冷水出口
温度信号Ｓ１１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ１１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定温度を示す高圧再生器温度設定値信号Ｓ１２を出力
する。
は、冷水出口温度センサ１１１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１１１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ１
１を出力する。冷水出口温度調節計１１２は、冷水出口
温度信号Ｓ１１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ１１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定温度を示す高圧再生器温度設定値信号Ｓ１２を出力
する。
【００４７】一方、高圧再生器４０には温度センサ１１
３が配置されている。この温度センサ１１３は、高圧再
生器４０の現在の温度を示す高圧再生器温度信号Ｓ１３
を出力する。
３が配置されている。この温度センサ１１３は、高圧再
生器４０の現在の温度を示す高圧再生器温度信号Ｓ１３
を出力する。
【００４８】高圧再生器温度調節計１１４は、高圧再生
器温度信号Ｓ１３の値が高圧再生器温度設定値信号Ｓ１
２の値に等しくなるように、高圧再生器温度設定値信号
Ｓ１２に対する高圧再生器温度信号Ｓ１３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量操作信号Ｓ１４を出力する。
器温度信号Ｓ１３の値が高圧再生器温度設定値信号Ｓ１
２の値に等しくなるように、高圧再生器温度設定値信号
Ｓ１２に対する高圧再生器温度信号Ｓ１３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量操作信号Ｓ１４を出力する。
【００４９】蒸気流量制御弁７１は、蒸気流量操作信号
Ｓ１４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
Ｓ１４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
【００５０】第１の実施の形態にかかる温度制御では、
高圧再生器４０の温度制御を行うのに、従来と同様の現
在の冷水出口温度に加えて、現在の高圧再生器温度を用
いている。現在の冷水出口温度は吸収冷凍機の全ての機
構を経由しているため、これを用いて温度制御をする場
合には従来と同様の時間遅れが発生するが、高圧再生器
温度にはこのような時間遅れがないため、全体の制御と
しては、制御の時間遅れを短くすることができる。この
結果、現在の冷水出口温度が設定冷水出口温度から変動
した場合であっても、現在の冷水出口温度を設定冷水出
口温度に補正するまでの時間が短くなる。かくして、冷
水出口温度を制御する場合の応答性を改善することがで
きる。
高圧再生器４０の温度制御を行うのに、従来と同様の現
在の冷水出口温度に加えて、現在の高圧再生器温度を用
いている。現在の冷水出口温度は吸収冷凍機の全ての機
構を経由しているため、これを用いて温度制御をする場
合には従来と同様の時間遅れが発生するが、高圧再生器
温度にはこのような時間遅れがないため、全体の制御と
しては、制御の時間遅れを短くすることができる。この
結果、現在の冷水出口温度が設定冷水出口温度から変動
した場合であっても、現在の冷水出口温度を設定冷水出
口温度に補正するまでの時間が短くなる。かくして、冷
水出口温度を制御する場合の応答性を改善することがで
きる。
【００５１】しかも、冷水出口温度調節計１１２の出力
信号（高圧再生器温度設定値信号Ｓ１２）を、高圧再生
器温度調節計１１４の設定値として用いるカスケード制
御回路機構とするだけでよいため、制御機構の構成は簡
単である。
信号（高圧再生器温度設定値信号Ｓ１２）を、高圧再生
器温度調節計１１４の設定値として用いるカスケード制
御回路機構とするだけでよいため、制御機構の構成は簡
単である。
【００５２】＜本発明の第２の実施の形態＞次に、本発
明の第２の実施の形態にかかる吸収冷凍機の冷水温度制
御機構を、図２を参照して説明する。
明の第２の実施の形態にかかる吸収冷凍機の冷水温度制
御機構を、図２を参照して説明する。
【００５３】図２に示すように、冷水出口ラインＬ２に
は、冷水出口温度センサ１２１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１２１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ２
１を出力する。冷水出口温度調節計１２２は、冷水出口
温度信号Ｓ２１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ２１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定圧力を示す高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２２を出力
する。
は、冷水出口温度センサ１２１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１２１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ２
１を出力する。冷水出口温度調節計１２２は、冷水出口
温度信号Ｓ２１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ２１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定圧力を示す高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２２を出力
する。
【００５４】一方、高圧再生器４０には圧力センサ１２
３が配置されている。この圧力センサ１２３は、高圧再
生器４０の現在の圧力を示す高圧再生器圧力信号Ｓ２３
を出力する。なお、高圧再生器４０の圧力は、高圧再生
器４０の温度に対して、ほぼ一対一に対応している。
３が配置されている。この圧力センサ１２３は、高圧再
生器４０の現在の圧力を示す高圧再生器圧力信号Ｓ２３
を出力する。なお、高圧再生器４０の圧力は、高圧再生
器４０の温度に対して、ほぼ一対一に対応している。
【００５５】高圧再生器圧力調節計１２４は、高圧再生
器圧力信号Ｓ２３の値が高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２
２の値に等しくなるように、高圧再生器圧力設定値信号
Ｓ２２に対する高圧再生器圧力信号Ｓ２３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量操作信号Ｓ２４を出力する。
器圧力信号Ｓ２３の値が高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２
２の値に等しくなるように、高圧再生器圧力設定値信号
Ｓ２２に対する高圧再生器圧力信号Ｓ２３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量操作信号Ｓ２４を出力する。
【００５６】蒸気流量制御弁７１は、蒸気流量操作信号
Ｓ２４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
Ｓ２４の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
【００５７】第２の実施の形態にかかる温度制御では、
高圧再生器４０の圧力を制御することにより、結果とし
て、高圧再生器４０の温度の制御をしている。高圧再生
器４０の圧力の制御には時間遅れがないため、第１の実
施の形態と同様に、全体の制御としては、制御の時間遅
れを短くすることができる。この結果、現在の冷水出口
温度が設定冷水出口温度から変動した場合であっても、
現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正するまで
の時間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御する
場合の応答性を改善することができる。
高圧再生器４０の圧力を制御することにより、結果とし
て、高圧再生器４０の温度の制御をしている。高圧再生
器４０の圧力の制御には時間遅れがないため、第１の実
施の形態と同様に、全体の制御としては、制御の時間遅
れを短くすることができる。この結果、現在の冷水出口
温度が設定冷水出口温度から変動した場合であっても、
現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正するまで
の時間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御する
場合の応答性を改善することができる。
【００５８】しかも、冷水出口温度調節計１２２の出力
信号（高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２２）を、高圧再生
器圧力調節計１２４の設定値として用いるカスケード制
御回路構成とするだけでよいため、制御機構の構成は簡
単である。
信号（高圧再生器圧力設定値信号Ｓ２２）を、高圧再生
器圧力調節計１２４の設定値として用いるカスケード制
御回路構成とするだけでよいため、制御機構の構成は簡
単である。
【００５９】＜本発明の第３の実施の形態＞次に、本発
明の第３の実施の形態にかかる吸収冷凍機の冷水温度制
御機構を、図３を参照して説明する。
明の第３の実施の形態にかかる吸収冷凍機の冷水温度制
御機構を、図３を参照して説明する。
【００６０】図３に示すように、冷水出口ラインＬ２に
は、冷水出口温度センサ１３１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１３１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ３
１を出力する。冷水出口温度調節計１３２は、冷水出口
温度信号Ｓ３１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ３１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定温度を示す高圧再生器温度設定値信号Ｓ３２を出力
する。
は、冷水出口温度センサ１３１が配置されており、この
冷水出口温度センサ１３１は、蒸発器１０にて冷却され
た冷水Ｗ１の冷水出口温度を示す冷水出口温度信号Ｓ３
１を出力する。冷水出口温度調節計１３２は、冷水出口
温度信号Ｓ３１の値が設定冷水出口温度（７°Ｃ）にな
るように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号
Ｓ３１の偏差をＰＩＤ演算制御して、高圧再生器４０の
設定温度を示す高圧再生器温度設定値信号Ｓ３２を出力
する。
【００６１】一方、高圧再生器４０には温度センサ１３
３が配置されている。この温度センサ１３３は、高圧再
生器４０の現在の温度を示す高圧再生器温度信号Ｓ３３
を出力する。
３が配置されている。この温度センサ１３３は、高圧再
生器４０の現在の温度を示す高圧再生器温度信号Ｓ３３
を出力する。
【００６２】高圧再生器温度調節計１３４は、高圧再生
器温度信号Ｓ３３の値が高圧再生器温度設定値信号Ｓ３
２の値に等しくなるように、高圧再生器温度設定値信号
Ｓ３２に対する高圧再生器温度信号Ｓ３３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量設定値信号Ｓ３４を出力す
る。
器温度信号Ｓ３３の値が高圧再生器温度設定値信号Ｓ３
２の値に等しくなるように、高圧再生器温度設定値信号
Ｓ３２に対する高圧再生器温度信号Ｓ３３の偏差をＰＩ
Ｄ演算制御して、蒸気流量設定値信号Ｓ３４を出力す
る。
【００６３】一方、蒸気ラインＬ３１のうち、蒸気流量
制御弁７１よりも上流側には、蒸気流量センサ１３５が
配置されている。この蒸気流量センサ１３５は、蒸気ラ
インＬ３１を介して高圧再生器４０に供給される蒸気流
量を示す蒸気流量信号Ｓ３５を出力する。
制御弁７１よりも上流側には、蒸気流量センサ１３５が
配置されている。この蒸気流量センサ１３５は、蒸気ラ
インＬ３１を介して高圧再生器４０に供給される蒸気流
量を示す蒸気流量信号Ｓ３５を出力する。
【００６４】蒸気流量調節計１３６は、蒸気流量信号Ｓ
３５の値が蒸気流量設定値信号Ｓ３４の値に等しくなる
ように、蒸気流量設定値信号Ｓ３４に対する蒸気流量信
号Ｓ３５の偏差をＰＩＤ演算制御して、蒸気流量操作信
号Ｓ３６を出力する。
３５の値が蒸気流量設定値信号Ｓ３４の値に等しくなる
ように、蒸気流量設定値信号Ｓ３４に対する蒸気流量信
号Ｓ３５の偏差をＰＩＤ演算制御して、蒸気流量操作信
号Ｓ３６を出力する。
【００６５】蒸気流量制御弁７１は、蒸気流量操作信号
Ｓ３６の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
Ｓ３６の値に応じて、弁開度を調節し、高圧再生器４０
へ供給する蒸気流量を調節する。このようにして、蒸気
流量を調節することにより、現在の冷水出口温度が設定
冷水出口温度となるように温度制御をすることができ
る。
【００６６】第３の実施の形態にかかる温度制御では、
高圧再生器４０の温度制御を行うと共に、高圧再生器４
０への蒸気流量の制御もしているため、蒸気流量の変動
があった場合にも、この変動を補正して蒸気流量を定常
量に戻す制御が行われる。このため、起動時など蒸気流
量の変動がある場合にあっても、安定した制御ができ
る。
高圧再生器４０の温度制御を行うと共に、高圧再生器４
０への蒸気流量の制御もしているため、蒸気流量の変動
があった場合にも、この変動を補正して蒸気流量を定常
量に戻す制御が行われる。このため、起動時など蒸気流
量の変動がある場合にあっても、安定した制御ができ
る。
【００６７】もちろん、第３の実施の形態では、時間遅
れの無い高圧再生器温度を用いて制御をしているため、
全体の制御としては、制御の時間遅れを短くすることが
できる。この結果、現在の冷水出口温度が設定冷水出口
温度から変動した場合であっても、現在の冷水出口温度
を設定冷水出口温度に補正するまでの時間が短くなる。
かくして、冷水出口温度を制御する場合の応答性を改善
することができる。
れの無い高圧再生器温度を用いて制御をしているため、
全体の制御としては、制御の時間遅れを短くすることが
できる。この結果、現在の冷水出口温度が設定冷水出口
温度から変動した場合であっても、現在の冷水出口温度
を設定冷水出口温度に補正するまでの時間が短くなる。
かくして、冷水出口温度を制御する場合の応答性を改善
することができる。
【００６８】＜実施の形態の変形例＞なお、第１〜第３
の実施の形態において、各調節計の出力を補正する補正
回路を、調節計の後段に接続するようにしてもよい。つ
まり、調節計の出力と、調節計の出力を受けて制御動作
をする機器（調節計や流量制御弁）との対応が、線形と
なっていない場合に、両者の特性を併せるような補正制
御をする補正回路を介在させるようにしても良い。
の実施の形態において、各調節計の出力を補正する補正
回路を、調節計の後段に接続するようにしてもよい。つ
まり、調節計の出力と、調節計の出力を受けて制御動作
をする機器（調節計や流量制御弁）との対応が、線形と
なっていない場合に、両者の特性を併せるような補正制
御をする補正回路を介在させるようにしても良い。
【００６９】また本発明は、蒸気を加熱源とする蒸気式
吸収冷凍機のみならず、燃料（ガスや油）を加熱源とし
た吸収冷凍機にも適用することができることは勿論であ
る。
吸収冷凍機のみならず、燃料（ガスや油）を加熱源とし
た吸収冷凍機にも適用することができることは勿論であ
る。
【００７０】
【発明の効果】以上実施の形態と共に具体的に説明した
ように本発明では、供給されてきた冷水により冷媒を蒸
発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出
する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の
濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収器と、加熱
源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通して加熱源
が供給されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄くな
った臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液中の
冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くして前
記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で発生した冷
媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器に供給する
凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記蒸発器から
送出される冷水の温度である冷水出口温度を検出して冷
水出口温度信号を出力する冷水出口温度センサと、冷水
出口温度信号の値が設定冷水出口温度になるように、設
定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差を演算
して、前記再生器の設定温度を示す再生器温度設定値信
号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再生器の温度
を検出して再生器温度信号を出力する温度センサと、再
生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等しく
なるように、再生器温度設定値信号に対する再生器温度
信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力する
再生器温度調節計とを備え、前記加熱源流量制御弁の開
度を、前記加熱源流量操作信号の値に応じて調節する構
成とした。
ように本発明では、供給されてきた冷水により冷媒を蒸
発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出
する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の
濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収器と、加熱
源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通して加熱源
が供給されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄くな
った臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液中の
冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くして前
記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で発生した冷
媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器に供給する
凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記蒸発器から
送出される冷水の温度である冷水出口温度を検出して冷
水出口温度信号を出力する冷水出口温度センサと、冷水
出口温度信号の値が設定冷水出口温度になるように、設
定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差を演算
して、前記再生器の設定温度を示す再生器温度設定値信
号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再生器の温度
を検出して再生器温度信号を出力する温度センサと、再
生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等しく
なるように、再生器温度設定値信号に対する再生器温度
信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力する
再生器温度調節計とを備え、前記加熱源流量制御弁の開
度を、前記加熱源流量操作信号の値に応じて調節する構
成とした。
【００７１】かかる構成の本発明の冷水温度制御機構で
は、再生器の温度制御を行うのに、従来と同様の現在の
冷水出口温度に加えて、現在の再生器温度を用いてい
る。現在の冷水出口温度は吸収冷凍機の全ての機構を経
由しているため、これを用いて温度制御をする場合には
従来と同様の時間遅れが発生するが、再生器温度にはこ
のような時間遅れがないため、全体の制御としては、制
御の時間遅れを短くすることができる。この結果、現在
の冷水出口温度が設定冷水出口温度から変動した場合で
あっても、現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補
正するまでの時間が短くなる。かくして、冷水出口温度
を制御する場合の応答性を改善することができる。しか
も、冷水出口温度調節計の出力信号（再生器温度設定値
信号）を、再生器温度調節計の設定値として用いるカス
ケード制御回路機構とするだけでよいため、制御機構の
構成は簡単である。
は、再生器の温度制御を行うのに、従来と同様の現在の
冷水出口温度に加えて、現在の再生器温度を用いてい
る。現在の冷水出口温度は吸収冷凍機の全ての機構を経
由しているため、これを用いて温度制御をする場合には
従来と同様の時間遅れが発生するが、再生器温度にはこ
のような時間遅れがないため、全体の制御としては、制
御の時間遅れを短くすることができる。この結果、現在
の冷水出口温度が設定冷水出口温度から変動した場合で
あっても、現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補
正するまでの時間が短くなる。かくして、冷水出口温度
を制御する場合の応答性を改善することができる。しか
も、冷水出口温度調節計の出力信号（再生器温度設定値
信号）を、再生器温度調節計の設定値として用いるカス
ケード制御回路機構とするだけでよいため、制御機構の
構成は簡単である。
【００７２】また本発明では、供給されてきた冷水によ
り冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した
冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸
気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収
器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通
して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃
度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウ
ム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を
濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で
発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器
に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記
蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温度を
検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度セン
サと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になる
ように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の
偏差を演算して、前記再生器の設定圧力を示す再生器圧
力設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再
生器の圧力を検出して再生器圧力信号を出力する圧力セ
ンサと、再生器圧力信号の値が再生器圧力設定値信号の
値に等しくなるように、再生器圧力設定値信号に対する
再生器圧力信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号
を出力する再生器圧力調節計とを備え、前記加熱源流量
制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信号の値に応じて
調節する構成とした。
り冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した
冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸
気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収
器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通
して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃
度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウ
ム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を
濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で
発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器
に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記
蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温度を
検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度セン
サと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になる
ように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の
偏差を演算して、前記再生器の設定圧力を示す再生器圧
力設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再
生器の圧力を検出して再生器圧力信号を出力する圧力セ
ンサと、再生器圧力信号の値が再生器圧力設定値信号の
値に等しくなるように、再生器圧力設定値信号に対する
再生器圧力信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号
を出力する再生器圧力調節計とを備え、前記加熱源流量
制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信号の値に応じて
調節する構成とした。
【００７３】かかる構成の本発明の冷水温度制御機構で
は、再生器の圧力を制御することにより、結果として、
再生器の温度の制御をしている。再生器の圧力の制御に
は時間遅れがないため、全体の制御としては、制御の時
間遅れを短くすることができる。この結果、現在の冷水
出口温度が設定冷水出口温度から変動した場合であって
も、現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正する
までの時間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御
する場合の応答性を改善することができる。しかも、冷
水出口温度調節計の出力信号（再生器圧力設定値信号）
を、再生器圧力調節計の設定値として用いるカスケード
制御回路構成とするだけでよいため、制御機構の構成は
簡単である。
は、再生器の圧力を制御することにより、結果として、
再生器の温度の制御をしている。再生器の圧力の制御に
は時間遅れがないため、全体の制御としては、制御の時
間遅れを短くすることができる。この結果、現在の冷水
出口温度が設定冷水出口温度から変動した場合であって
も、現在の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正する
までの時間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御
する場合の応答性を改善することができる。しかも、冷
水出口温度調節計の出力信号（再生器圧力設定値信号）
を、再生器圧力調節計の設定値として用いるカスケード
制御回路構成とするだけでよいため、制御機構の構成は
簡単である。
【００７４】また本発明では、供給されてきた冷水によ
り冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した
冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸
気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収
器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通
して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃
度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウ
ム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を
濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で
発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器
に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記
蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温度を
検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度セン
サと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になる
ように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の
偏差を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生器温
度設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再
生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する温度セ
ンサと、再生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の
値に等しくなるように、再生器温度設定値信号に対する
再生器温度信号の偏差を演算して、加熱源流量設定値信
号を出力する再生器温度調節計と、前記加熱源ラインに
流れる加熱源の流量を検出して加熱源流量信号を出力す
る加熱源流量センサと、加熱源流量信号の値が加熱源流
量設定値信号の値に等しくなるように、加熱源流量設定
値信号に対する加熱源流量信号の偏差を演算して、加熱
源流量操作信号を出力する加熱源流量調節計とを備え、
前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信
号の値に応じて調節する構成とした。
り冷媒を蒸発気化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した
冷水を送出する蒸発器と、前記蒸発器で発生した冷媒蒸
気を濃度の濃い臭化リチウム溶液により吸収させる吸収
器と、加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通
して加熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃
度が薄くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウ
ム溶液中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を
濃くして前記吸収器に供給する再生器と、前記再生器で
発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒を前記蒸発器
に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機において、前記
蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温度を
検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度セン
サと、冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になる
ように、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の
偏差を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生器温
度設定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、前記再
生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する温度セ
ンサと、再生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の
値に等しくなるように、再生器温度設定値信号に対する
再生器温度信号の偏差を演算して、加熱源流量設定値信
号を出力する再生器温度調節計と、前記加熱源ラインに
流れる加熱源の流量を検出して加熱源流量信号を出力す
る加熱源流量センサと、加熱源流量信号の値が加熱源流
量設定値信号の値に等しくなるように、加熱源流量設定
値信号に対する加熱源流量信号の偏差を演算して、加熱
源流量操作信号を出力する加熱源流量調節計とを備え、
前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信
号の値に応じて調節する構成とした。
【００７５】かかる構成の本発明の冷水温度制御機構で
は、再生器の温度制御を行うと共に、再生器への蒸気流
量の制御もしているため、蒸気流量の変動があった場合
にも、この変動を補正して蒸気流量を定常量に戻す制御
が行われる。このため、起動時など蒸気流量の変動があ
る場合にあっても、安定した制御ができる。もちろん、
本発明では、時間遅れの無い再生器温度を用いて制御を
しているため、全体の制御としては、制御の時間遅れを
短くすることができる。この結果、現在の冷水出口温度
が設定冷水出口温度から変動した場合であっても、現在
の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正するまでの時
間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御する場合
の応答性を改善することができる。
は、再生器の温度制御を行うと共に、再生器への蒸気流
量の制御もしているため、蒸気流量の変動があった場合
にも、この変動を補正して蒸気流量を定常量に戻す制御
が行われる。このため、起動時など蒸気流量の変動があ
る場合にあっても、安定した制御ができる。もちろん、
本発明では、時間遅れの無い再生器温度を用いて制御を
しているため、全体の制御としては、制御の時間遅れを
短くすることができる。この結果、現在の冷水出口温度
が設定冷水出口温度から変動した場合であっても、現在
の冷水出口温度を設定冷水出口温度に補正するまでの時
間が短くなる。かくして、冷水出口温度を制御する場合
の応答性を改善することができる。
【００７６】また本発明では、前記加熱源は、蒸気また
は燃料であるようにした。このため、汎用されている各
種の吸収冷凍機における冷水温度制御に、本発明を適用
することができ、吸収冷凍機の性能を向上させることが
できる。
は燃料であるようにした。このため、汎用されている各
種の吸収冷凍機における冷水温度制御に、本発明を適用
することができ、吸収冷凍機の性能を向上させることが
できる。
【図１】本発明の第１の実施の形態にかかる吸収冷凍機
の冷水温度制御機構を示す構成図。
の冷水温度制御機構を示す構成図。
【図２】本発明の第２の実施の形態にかかる吸収冷凍機
の冷水温度制御機構を示す構成図。
の冷水温度制御機構を示す構成図。
【図３】本発明の第３の実施の形態にかかる吸収冷凍機
の冷水温度制御機構を示す構成図。
の冷水温度制御機構を示す構成図。
【図４】吸収冷凍機の従来の冷水温度制御機構を示す構
成図。
成図。
１０ 蒸発器 １１ 蒸発器チューブ ２０ 吸収器 ２１ 吸収器チューブ ３０ 低温熱交換器 ３１ 高温熱交換器 ４０ 高圧再生器 ５０ 低圧再生器 ５１ 低圧再生器チューブ ６０ 凝縮器 ６１ 凝縮器チューブ ７０ 熱回収器 ７１ 蒸気流量制御弁 １０１，１１１，１２１，１３１ 冷水出口温度センサ １０２，１１２，１２２，１３２ 冷水出口温度調節計 １０３，１３５ 蒸気流量センサ １０４，１３６ 蒸気流量調節計 １１３，１３３ 温度センサ １１４，１３４ 高圧再生器温度調節計 １２３ 圧力センサ １２４ 高圧再生器圧力調節計 Ｐ１ 冷媒ポンプ Ｐ２ 濃溶液ポンプ Ｐ３ 再生器ポンプ Ｌ１ 冷水入口ライン Ｌ２ 冷水出口ライン Ｌ３，Ｌ４，Ｌ５ 冷却水ライン Ｌ１１〜Ｌ１４ 冷媒ライン Ｌ２１〜Ｌ２６ 溶液ライン Ｌ３１ 蒸気ライン Ｒ 冷媒（水） ｒ 冷媒蒸気 Ｙ１ 臭化リチウム濃溶液 Ｙ２ 臭化リチウム中溶液 Ｙ３ 臭化リチウム希溶液 Ｗ１ 冷水 Ｗ２ 冷却水
Claims (4)
- 【請求項１】 供給されてきた冷水により冷媒を蒸発気
化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出する
蒸発器と、 前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウ
ム溶液により吸収させる吸収器と、 加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通して加
熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄
くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液
中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くし
て前記吸収器に供給する再生器と、 前記再生器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒
を前記蒸発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機に
おいて、 前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、 冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になるよう
に、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差
を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生器温度設
定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、 前記再生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する
温度センサと、 再生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等し
くなるように、再生器温度設定値信号に対する再生器温
度信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力す
る再生器温度調節計とを備え、 前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信
号の値に応じて調節することを特徴とする吸収冷凍機の
冷水温度制御機構。 - 【請求項２】 供給されてきた冷水により冷媒を蒸発気
化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出する
蒸発器と、 前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウ
ム溶液により吸収させる吸収器と、 加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通して加
熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄
くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液
中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くし
て前記吸収器に供給する再生器と、 前記再生器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒
を前記蒸発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機に
おいて、 前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、 冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になるよう
に、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差
を演算して、前記再生器の設定圧力を示す再生器圧力設
定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、 前記再生器の圧力を検出して再生器圧力信号を出力する
圧力センサと、 再生器圧力信号の値が再生器圧力設定値信号の値に等し
くなるように、再生器圧力設定値信号に対する再生器圧
力信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力す
る再生器圧力調節計とを備え、 前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信
号の値に応じて調節することを特徴とする吸収冷凍機の
冷水温度制御機構。 - 【請求項３】 供給されてきた冷水により冷媒を蒸発気
化させて冷媒蒸気とすると共に冷却した冷水を送出する
蒸発器と、 前記蒸発器で発生した冷媒蒸気を濃度の濃い臭化リチウ
ム溶液により吸収させる吸収器と、 加熱源流量制御弁が介装された加熱源ラインを通して加
熱源が供給されることにより、冷媒を吸収して濃度が薄
くなった臭化リチウム溶液を加熱し、臭化リチウム溶液
中の冷媒を蒸発させて臭化リチウム溶液の濃度を濃くし
て前記吸収器に供給する再生器と、 前記再生器で発生した冷媒蒸気を凝縮させ凝縮した冷媒
を前記蒸発器に供給する凝縮器とを有する吸収冷凍機に
おいて、 前記蒸発器から送出される冷水の温度である冷水出口温
度を検出して冷水出口温度信号を出力する冷水出口温度
センサと、 冷水出口温度信号の値が設定冷水出口温度になるよう
に、設定冷水出口温度に対する冷水出口温度信号の偏差
を演算して、前記再生器の設定温度を示す再生器温度設
定値信号を出力する冷水出口温度調節計と、 前記再生器の温度を検出して再生器温度信号を出力する
温度センサと、 再生器温度信号の値が再生器温度設定値信号の値に等し
くなるように、再生器温度設定値信号に対する再生器温
度信号の偏差を演算して、加熱源流量設定値信号を出力
する再生器温度調節計と、 前記加熱源ラインに流れる加熱源の流量を検出して加熱
源流量信号を出力する加熱源流量センサと、 加熱源流量信号の値が加熱源流量設定値信号の値に等し
くなるように、加熱源流量設定値信号に対する加熱源流
量信号の偏差を演算して、加熱源流量操作信号を出力す
る加熱源流量調節計とを備え、 前記加熱源流量制御弁の開度を、前記加熱源流量操作信
号の値に応じて調節することを特徴とする吸収冷凍機の
冷水温度制御機構。 - 【請求項４】前記加熱源は、蒸気または燃料であること
を特徴とする請求項１または請求項２または請求項３の
吸収冷凍機の冷水温度制御機構。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135429A JP2000329420A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 吸収冷凍機の冷水温度制御機構 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11135429A JP2000329420A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 吸収冷凍機の冷水温度制御機構 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000329420A true JP2000329420A (ja) | 2000-11-30 |
Family
ID=15151532
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11135429A Withdrawn JP2000329420A (ja) | 1999-05-17 | 1999-05-17 | 吸収冷凍機の冷水温度制御機構 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000329420A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014163522A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Ebara Refrigeration Equipment & Systems Co Ltd | 吸収ヒートポンプ及び吸収ヒートポンプの運転方法 |
-
1999
- 1999-05-17 JP JP11135429A patent/JP2000329420A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014163522A (ja) * | 2013-02-21 | 2014-09-08 | Ebara Refrigeration Equipment & Systems Co Ltd | 吸収ヒートポンプ及び吸収ヒートポンプの運転方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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