JP2000327362A - 光ファイバ線引き炉 - Google Patents
光ファイバ線引き炉Info
- Publication number
- JP2000327362A JP2000327362A JP11133451A JP13345199A JP2000327362A JP 2000327362 A JP2000327362 A JP 2000327362A JP 11133451 A JP11133451 A JP 11133451A JP 13345199 A JP13345199 A JP 13345199A JP 2000327362 A JP2000327362 A JP 2000327362A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- tube
- diameter
- upper member
- central hole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/80—Means for sealing the preform entry or upper end of the furnace
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/90—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles
- C03B2205/92—Manipulating the gas flow through the furnace other than by use of upper or lower seals, e.g. by modification of the core tube shape or by using baffles using means for gradually reducing the cross-section towards the outlet or around the preform draw end, e.g. tapered
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 大きな設備投資をすることなく、光ファイバ
線引き炉の内筒管上端開口部における気密部材とダミー
棒との間のクリアランスを小さくして、内筒管内に吹込
まれた不活性ガスの流出、外部からの空気、塵埃に侵入
を少なくする。 【解決手段】 炉心管４と該炉心管４の上端に連設した
内筒管５との内部に光ファイバ母材１を配置して、前記
炉心管４の周りに配置したヒータ７で前記光ファイバ母
材１の下端部を加熱し、光ファイバ１ａを下方に引き出
す光ファイバ線引き炉において、前記内筒管５の上端開
口部には比較的大きい径の下部中心孔１０ａを有する下
部部材１０と比較的小さい径の上部中心孔１１ｃを有す
る上部部材１１とで構成した気密部材９を備え、前記下
部部材１０は前記内筒管５の上端部に直接又は保持部材
８を介して設け、前記上部部材１１は前記下部部材１０
の上に水平方向摺動可能に載置する。そして、光ファイ
バ母材１の上部にはダミー棒３を連結して該ダミー棒３
を前記上部中心孔１１ｃ及び下部中心孔１０ａに貫通さ
せる。
線引き炉の内筒管上端開口部における気密部材とダミー
棒との間のクリアランスを小さくして、内筒管内に吹込
まれた不活性ガスの流出、外部からの空気、塵埃に侵入
を少なくする。 【解決手段】 炉心管４と該炉心管４の上端に連設した
内筒管５との内部に光ファイバ母材１を配置して、前記
炉心管４の周りに配置したヒータ７で前記光ファイバ母
材１の下端部を加熱し、光ファイバ１ａを下方に引き出
す光ファイバ線引き炉において、前記内筒管５の上端開
口部には比較的大きい径の下部中心孔１０ａを有する下
部部材１０と比較的小さい径の上部中心孔１１ｃを有す
る上部部材１１とで構成した気密部材９を備え、前記下
部部材１０は前記内筒管５の上端部に直接又は保持部材
８を介して設け、前記上部部材１１は前記下部部材１０
の上に水平方向摺動可能に載置する。そして、光ファイ
バ母材１の上部にはダミー棒３を連結して該ダミー棒３
を前記上部中心孔１１ｃ及び下部中心孔１０ａに貫通さ
せる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ファイバ母材か
ら光ファイバを線引きするに当たって使用する光ファイ
バ線引き炉に関する。
ら光ファイバを線引きするに当たって使用する光ファイ
バ線引き炉に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＶＡＤ法等で製造したガラス多孔質母材
を脱水・焼結して透明化して得た光ファイバ母材から光
ファイバを線引きして製造するに当たっては、光ファイ
バ線引き炉が使用される。図５は、従来技術による光フ
ァイバ線引き炉の一例の主要部を示す縦断面図であっ
て、１は光ファイバ母材、１ａは光ファイバ、２は連結
部、３はダミー棒、４は炉心管、５は内筒管、５ａはガ
ス吹込み口、６は外筒管、６ａはガス供給口、６ｂはガ
ス通路、７はヒータ、８は保持部材、９は気密部材であ
る。
を脱水・焼結して透明化して得た光ファイバ母材から光
ファイバを線引きして製造するに当たっては、光ファイ
バ線引き炉が使用される。図５は、従来技術による光フ
ァイバ線引き炉の一例の主要部を示す縦断面図であっ
て、１は光ファイバ母材、１ａは光ファイバ、２は連結
部、３はダミー棒、４は炉心管、５は内筒管、５ａはガ
ス吹込み口、６は外筒管、６ａはガス供給口、６ｂはガ
ス通路、７はヒータ、８は保持部材、９は気密部材であ
る。
【０００３】この光ファイバ線引き炉においては、炉心
管４とその炉心管４の上端に連設した内筒管５との内部
に光ファイバ母材１を配置して、光ファイバ母材１の下
端部を炉心管４の周りに配置したヒータ７で加熱し溶融
させて、光ファイバ１ａを下方に引き出す。また、光フ
ァイバ母材１の上端には連結部２を設けダミー棒３と連
結する。そして、ダミー棒３の上方を内筒管５の上方に
て図示しない支持部材で支持し、ダミー棒３によって光
ファイバ母材１を吊り下げ、光ファイバ１ａの線引きに
よる光ファイバ母材１の長さの縮小に合わせて、ダミー
棒３及び光ファイバ母材１を降下させる。
管４とその炉心管４の上端に連設した内筒管５との内部
に光ファイバ母材１を配置して、光ファイバ母材１の下
端部を炉心管４の周りに配置したヒータ７で加熱し溶融
させて、光ファイバ１ａを下方に引き出す。また、光フ
ァイバ母材１の上端には連結部２を設けダミー棒３と連
結する。そして、ダミー棒３の上方を内筒管５の上方に
て図示しない支持部材で支持し、ダミー棒３によって光
ファイバ母材１を吊り下げ、光ファイバ１ａの線引きに
よる光ファイバ母材１の長さの縮小に合わせて、ダミー
棒３及び光ファイバ母材１を降下させる。
【０００４】また、内筒管５の外側には外筒管６を設
け、外筒管壁に設けたガス供給口６ａから不活性ガスを
供給し、ガス通路６及び内筒管壁に設けたガス吹込み口
５ａを通して内筒管５内に不活性ガスを吹込む。この不
活性ガスは内筒管５及び炉心管４の内部を酸化劣化しな
いように保護するものであって、主として上方から下方
に流れ光ファイバ１ａの周辺から光ファイバ線引き炉の
外部に排出される。
け、外筒管壁に設けたガス供給口６ａから不活性ガスを
供給し、ガス通路６及び内筒管壁に設けたガス吹込み口
５ａを通して内筒管５内に不活性ガスを吹込む。この不
活性ガスは内筒管５及び炉心管４の内部を酸化劣化しな
いように保護するものであって、主として上方から下方
に流れ光ファイバ１ａの周辺から光ファイバ線引き炉の
外部に排出される。
【０００５】また、内筒管５の上端開口部は光ファイバ
母材１を内筒管５及び炉心管４の内部に挿入する入口と
なるため開閉可能になっているが、光ファイバ１ａを線
引きしている時は、ダミー棒３が貫通する部分を除いて
気密部材９でシールされる。気密部材９は、光ファイバ
母材１を内筒管５及び炉心管４内に収容した後、気密部
材９の中心孔にダミー棒３を通しながら気密部材９を上
方から降ろして、内筒管５の上端に設けた保持部材８の
上に載置する。気密部材９とダミー棒３との間は、ダミ
ー棒３が自由に上下出来るように数ｍｍのクリアランス
が設けられている。
母材１を内筒管５及び炉心管４の内部に挿入する入口と
なるため開閉可能になっているが、光ファイバ１ａを線
引きしている時は、ダミー棒３が貫通する部分を除いて
気密部材９でシールされる。気密部材９は、光ファイバ
母材１を内筒管５及び炉心管４内に収容した後、気密部
材９の中心孔にダミー棒３を通しながら気密部材９を上
方から降ろして、内筒管５の上端に設けた保持部材８の
上に載置する。気密部材９とダミー棒３との間は、ダミ
ー棒３が自由に上下出来るように数ｍｍのクリアランス
が設けられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した光ファイバ線
引き炉においては、内筒管の上端開口部をシールする気
密部材９が設けられているが、通常気密部材には石英ガ
ラス等で出来た中心孔を有する円盤状のものが用いられ
る。光ファイバ母材の下端部は加熱溶融されてそこから
光ファイバが引き出されるが、光ファイバが常に炉心管
の中心を通って下方に進行するように光ファイバ母材の
位置制御がなされている。従って、光ファイバ母材の下
部を炉心管の中心に合わせるように制御されるため、光
ファイバ母材の真直性が完全でなく光ファイバ母材がわ
ずかに曲がっている場合、光ファイバの上部及びダミー
棒の位置は内筒管の中心からずれることがある。そのた
め、ダミー棒が内筒管の中心から少しずれてもダミー棒
が気密部材に接触しないように、気密部材の中心孔径は
そのずれの余裕を考慮してクリアランスを有するように
作られている。
引き炉においては、内筒管の上端開口部をシールする気
密部材９が設けられているが、通常気密部材には石英ガ
ラス等で出来た中心孔を有する円盤状のものが用いられ
る。光ファイバ母材の下端部は加熱溶融されてそこから
光ファイバが引き出されるが、光ファイバが常に炉心管
の中心を通って下方に進行するように光ファイバ母材の
位置制御がなされている。従って、光ファイバ母材の下
部を炉心管の中心に合わせるように制御されるため、光
ファイバ母材の真直性が完全でなく光ファイバ母材がわ
ずかに曲がっている場合、光ファイバの上部及びダミー
棒の位置は内筒管の中心からずれることがある。そのた
め、ダミー棒が内筒管の中心から少しずれてもダミー棒
が気密部材に接触しないように、気密部材の中心孔径は
そのずれの余裕を考慮してクリアランスを有するように
作られている。
【０００７】光ファイバ母材が小型の場合はダミー棒の
内筒管の中心からのずれはそれほど大きくないが、光フ
ァイバ母材が大型化されてくると、それに伴いダミー棒
の内筒管の中心からのずれも大きくなることがある。気
密部材とダミー棒との間のクリアランスも、それに従い
大きなクリアランスが求められる。ところが、クリアラ
ンスが大きくなると、内筒管の内部に吹込まれた不活性
ガスがそこから流出したり、外部の空気がクリアランス
を通して侵入したりすることが多くなり、不活性ガスの
下方への流れが均一でなくなり、光ファイバの線径変動
を起こし易くなる。
内筒管の中心からのずれはそれほど大きくないが、光フ
ァイバ母材が大型化されてくると、それに伴いダミー棒
の内筒管の中心からのずれも大きくなることがある。気
密部材とダミー棒との間のクリアランスも、それに従い
大きなクリアランスが求められる。ところが、クリアラ
ンスが大きくなると、内筒管の内部に吹込まれた不活性
ガスがそこから流出したり、外部の空気がクリアランス
を通して侵入したりすることが多くなり、不活性ガスの
下方への流れが均一でなくなり、光ファイバの線径変動
を起こし易くなる。
【０００８】また、気密部材とダミー棒との間のクリア
ランスが大きくなると、そこから外部の空気、塵埃等が
巻込まれ易くなるので、内筒管、炉心管等の劣化が促進
され、炉心管等の寿命が短くなる。ダミー棒の内筒管の
中心からのずれに合わせて気密部材を水平方向に移動さ
せる制御機構を気密部材に取付けることによって、気密
部材とダミー棒との間のクリアランスを小さくすること
も可能であるが、制御が複雑で設備価格が高くなる。
ランスが大きくなると、そこから外部の空気、塵埃等が
巻込まれ易くなるので、内筒管、炉心管等の劣化が促進
され、炉心管等の寿命が短くなる。ダミー棒の内筒管の
中心からのずれに合わせて気密部材を水平方向に移動さ
せる制御機構を気密部材に取付けることによって、気密
部材とダミー棒との間のクリアランスを小さくすること
も可能であるが、制御が複雑で設備価格が高くなる。
【０００９】本発明は、上述した従来技術による光ファ
イバ線引き炉の問題点を解消し、設備価格をそれほど増
大させることなしに、気密部材とダミー棒との間のクリ
アランスを小さくし得る光ファイバ線引き炉を提供する
ものである。
イバ線引き炉の問題点を解消し、設備価格をそれほど増
大させることなしに、気密部材とダミー棒との間のクリ
アランスを小さくし得る光ファイバ線引き炉を提供する
ものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の光ファイバ線引
き炉は、炉心管と該炉心管の上端に連設した内筒管との
内部に光ファイバ母材を配置して、前記炉心管の周りに
配置したヒータで前記光ファイバ母材の下端部を加熱
し、光ファイバを下方に引き出す光ファイバ線引き炉に
おいて、前記内筒管の上端開口部には比較的大きい径の
下部中心孔を有する下部部材と比較的小さい径の上部中
心孔を有する上部部材とで構成される気密部材を備え、
前記下部部材は前記内筒管の上端部に直接又は保持部材
を介して設け、前記上部部材は前記下部部材の上に前記
上部中心孔が前記下部中心孔の範囲内で水平方向摺動可
能に載置し、前記光ファイバ母材の上部に該光ファイバ
母材を支持するダミー棒を連結して該ダミー棒を前記内
筒管の上方にて支持し、該ダミー棒を前記上部中心孔及
び前記下部中心孔に貫通させて前記内筒管の上端開口部
を前記気密部材にてシールするものである。
き炉は、炉心管と該炉心管の上端に連設した内筒管との
内部に光ファイバ母材を配置して、前記炉心管の周りに
配置したヒータで前記光ファイバ母材の下端部を加熱
し、光ファイバを下方に引き出す光ファイバ線引き炉に
おいて、前記内筒管の上端開口部には比較的大きい径の
下部中心孔を有する下部部材と比較的小さい径の上部中
心孔を有する上部部材とで構成される気密部材を備え、
前記下部部材は前記内筒管の上端部に直接又は保持部材
を介して設け、前記上部部材は前記下部部材の上に前記
上部中心孔が前記下部中心孔の範囲内で水平方向摺動可
能に載置し、前記光ファイバ母材の上部に該光ファイバ
母材を支持するダミー棒を連結して該ダミー棒を前記内
筒管の上方にて支持し、該ダミー棒を前記上部中心孔及
び前記下部中心孔に貫通させて前記内筒管の上端開口部
を前記気密部材にてシールするものである。
【００１１】このように気密部材を上部部材と下部部材
で構成することによって、ダミー棒と上部部材との間の
クリアランスを小さくしておいても、ダミー棒が内筒管
の中心から位置ずれした時に、ダミー棒に押された上部
部材は下部部材上を摺動して移動することが出来るの
で、上部部材からダミー棒に対する反作用も大きくな
く、光ファイバの線径変動を起こすことなく線引きを続
けることが出来る。このように、気密部材を上部部材と
下部部材との組み合わせ構成とすることによって、ダミ
ー棒と気密部材の上部部材との間のクリアランスを１ｍ
ｍ以下にすることが出来、クリアランスからの空気、塵
埃の侵入を少なくすることが出来る。
で構成することによって、ダミー棒と上部部材との間の
クリアランスを小さくしておいても、ダミー棒が内筒管
の中心から位置ずれした時に、ダミー棒に押された上部
部材は下部部材上を摺動して移動することが出来るの
で、上部部材からダミー棒に対する反作用も大きくな
く、光ファイバの線径変動を起こすことなく線引きを続
けることが出来る。このように、気密部材を上部部材と
下部部材との組み合わせ構成とすることによって、ダミ
ー棒と気密部材の上部部材との間のクリアランスを１ｍ
ｍ以下にすることが出来、クリアランスからの空気、塵
埃の侵入を少なくすることが出来る。
【００１２】
【発明の実施の形態】図１は本発明の光ファイバ線引き
炉の実施形態の主要部を示す縦断面図であって、図５と
同じ符号は同じものを示す。なお、図５を説明する箇所
で説明した内容と重複するところは説明を省略する。ま
た図１の光ファイバ線引き炉では、気密部材９を下部部
材１０と上部部材１１とで構成する。下部部材１０は下
部中心孔１０ａを有する円盤形状の物体とし、下部中心
孔１０ａの径は、ダミー棒３が内筒管５の中心位置から
ずれた時でも、ダミー棒が下部部材１０には接触しない
大きさとする。
炉の実施形態の主要部を示す縦断面図であって、図５と
同じ符号は同じものを示す。なお、図５を説明する箇所
で説明した内容と重複するところは説明を省略する。ま
た図１の光ファイバ線引き炉では、気密部材９を下部部
材１０と上部部材１１とで構成する。下部部材１０は下
部中心孔１０ａを有する円盤形状の物体とし、下部中心
孔１０ａの径は、ダミー棒３が内筒管５の中心位置から
ずれた時でも、ダミー棒が下部部材１０には接触しない
大きさとする。
【００１３】ダミー棒３と、下部部材１０に設けられた
下部中心孔１０ａとの関係は、室温２０℃において、ダ
ミー棒の外径をｄ、下部部材の下部中心孔の径をＤ’と
した時、ｄ＋１０（ｍｍ）≦Ｄ’とすることが望まし
い。これによって、ダミー棒３が内筒管５の中心位置か
ら多少ずれても、ダミー棒３が下部部材１０に接触しな
いようにすることが出来る。また、下部部材１０は、内
筒管５の上端に固定した保持部材８上に設け、その下部
中心孔１０ａにダミー棒３を貫通させる。また、下部部
材１０は内筒管５の上端部上に保持部材８を介すること
なく直接設けることもある。
下部中心孔１０ａとの関係は、室温２０℃において、ダ
ミー棒の外径をｄ、下部部材の下部中心孔の径をＤ’と
した時、ｄ＋１０（ｍｍ）≦Ｄ’とすることが望まし
い。これによって、ダミー棒３が内筒管５の中心位置か
ら多少ずれても、ダミー棒３が下部部材１０に接触しな
いようにすることが出来る。また、下部部材１０は、内
筒管５の上端に固定した保持部材８上に設け、その下部
中心孔１０ａにダミー棒３を貫通させる。また、下部部
材１０は内筒管５の上端部上に保持部材８を介すること
なく直接設けることもある。
【００１４】上部部材１１の詳細形状は図２に示す。図
２（Ａ）は斜視図、図２（Ｂ）は縦断面図である。上部
部材１１は、円筒部１１ｂとその一端の周囲に横方向に
設けた盤状部１１ａとからなる。また、下部部材１０の
上に上部部材１１の盤状部１１ａが接触するようにして
載置することによって、上部部材１１は下部部材１０の
上を摺動することが出来る。なお上部部材１１の上部中
心孔１１ｃをダミー棒３が貫通している。
２（Ａ）は斜視図、図２（Ｂ）は縦断面図である。上部
部材１１は、円筒部１１ｂとその一端の周囲に横方向に
設けた盤状部１１ａとからなる。また、下部部材１０の
上に上部部材１１の盤状部１１ａが接触するようにして
載置することによって、上部部材１１は下部部材１０の
上を摺動することが出来る。なお上部部材１１の上部中
心孔１１ｃをダミー棒３が貫通している。
【００１５】また、上部部材１１の上部中心孔１１ｃの
径は、下部部材１０の下部中心孔１０ａの径よりも小さ
くする。ダミー棒３と上部部材１１との間のクリアラン
スを通して生じる空気、塵埃の内筒管への侵入を出来る
だけ少なくし、かつ、ダミー棒３の上下移動の支障にな
らないようにするためには、室温２０℃において、ダミ
ー棒３の外径をｄ、上部部材１１の上部中心孔１１ｃの
径をＤとした時、０．４（ｍｍ）＜Ｄ−ｄ＜１（ｍｍ）
とすることが望ましい。
径は、下部部材１０の下部中心孔１０ａの径よりも小さ
くする。ダミー棒３と上部部材１１との間のクリアラン
スを通して生じる空気、塵埃の内筒管への侵入を出来る
だけ少なくし、かつ、ダミー棒３の上下移動の支障にな
らないようにするためには、室温２０℃において、ダミ
ー棒３の外径をｄ、上部部材１１の上部中心孔１１ｃの
径をＤとした時、０．４（ｍｍ）＜Ｄ−ｄ＜１（ｍｍ）
とすることが望ましい。
【００１６】２０℃においてダミー棒３と上部部材１１
との間のクリアランスを小さくしておいても、光ファイ
バ線引き時の温度は上部部材１１の付近で２００℃〜３
００℃になるのでクリアランスが変わることがある。従
って、２００℃〜３００℃の使用時の温度においてもク
リアランスは、あまり変わらないことが望まれる。ダミ
ー棒３は通常棒状の石英ガラスが使われ、石英ガラスの
熱膨張率は約０．５〜０．６（×１０-6／℃）なので、
ダミー棒３の外径は実質的に変化しないと考えて良い。
との間のクリアランスを小さくしておいても、光ファイ
バ線引き時の温度は上部部材１１の付近で２００℃〜３
００℃になるのでクリアランスが変わることがある。従
って、２００℃〜３００℃の使用時の温度においてもク
リアランスは、あまり変わらないことが望まれる。ダミ
ー棒３は通常棒状の石英ガラスが使われ、石英ガラスの
熱膨張率は約０．５〜０．６（×１０-6／℃）なので、
ダミー棒３の外径は実質的に変化しないと考えて良い。
【００１７】また、上部部材１１の材質の熱膨張率が大
きいと、３００℃では中心孔径が大きくなり、上部部材
１１とダミー棒３との間のクリアランスが大きくなるの
で、上部部材１１の材質の熱膨張率は２０℃から３００
℃の範囲において２０（×１０-6／℃）以下であること
が望ましい。熱膨張率を上記範囲にすることにより、温
度が２０℃から３００℃に上昇した時のクリアランスの
増加は０．２３ｍｍ程度以下に抑えることが出来る。な
お、この範囲に入る材料としてはニッケル合金、ステン
レス合金、石英ガラス等がある。
きいと、３００℃では中心孔径が大きくなり、上部部材
１１とダミー棒３との間のクリアランスが大きくなるの
で、上部部材１１の材質の熱膨張率は２０℃から３００
℃の範囲において２０（×１０-6／℃）以下であること
が望ましい。熱膨張率を上記範囲にすることにより、温
度が２０℃から３００℃に上昇した時のクリアランスの
増加は０．２３ｍｍ程度以下に抑えることが出来る。な
お、この範囲に入る材料としてはニッケル合金、ステン
レス合金、石英ガラス等がある。
【００１８】上部部材１１とダミー棒３との間のクリア
ランスは小さくなっているので、光ファイバ母材１の位
置制御に追随してダミー棒３が内筒管５の中心位置から
ずれた時、ダミー棒３は気密部材９の上部部材１１に接
触し、上部部材１１を水平方向に押す。その場合、上部
部材１１は下部部材１０の上を摺動出来るようになって
いるので、ダミー棒３に押されて上部部材１１は水平方
向に移動し、ダミー棒３のずれを制限することがない。
ランスは小さくなっているので、光ファイバ母材１の位
置制御に追随してダミー棒３が内筒管５の中心位置から
ずれた時、ダミー棒３は気密部材９の上部部材１１に接
触し、上部部材１１を水平方向に押す。その場合、上部
部材１１は下部部材１０の上を摺動出来るようになって
いるので、ダミー棒３に押されて上部部材１１は水平方
向に移動し、ダミー棒３のずれを制限することがない。
【００１９】その時の、上部部材１１からダミー棒３へ
の反作用を出来るだけ無くするため、上部部材１１の摺
動は出来るだけ小さい力で行われるようにすることが望
ましい。そのため、上部部材１１を水平方向に摺動させ
る時の最大静止摩擦力を２００℃において１５０ｇ以下
にすることが望ましい。なお、上部部材１１の下面が下
部部材１０の上面に沿って摺動するので、摺動する両側
の面を精密に研磨して最大静止摩擦力が大きくならない
ようにすることが望ましい。
の反作用を出来るだけ無くするため、上部部材１１の摺
動は出来るだけ小さい力で行われるようにすることが望
ましい。そのため、上部部材１１を水平方向に摺動させ
る時の最大静止摩擦力を２００℃において１５０ｇ以下
にすることが望ましい。なお、上部部材１１の下面が下
部部材１０の上面に沿って摺動するので、摺動する両側
の面を精密に研磨して最大静止摩擦力が大きくならない
ようにすることが望ましい。
【００２０】気密部材９を配置する内筒管の上端開口部
においては、２００〜３００℃に加熱されることがある
ので、気密部材９の材質としては、耐熱性が要求され
る。また、下部部材は内筒管の内部に曝されるので、高
純度であってかつ粉塵が発生しない材質であることが求
められる。その要求を満たすものとして下部部材１０と
しては石英ガラスが好ましい。また、上部部材としては
石英ガラスを使うことが出来るが、耐熱性、耐酸化性、
強度等も要求されるのでニッケル合金、ステンレス合金
が好ましい。
においては、２００〜３００℃に加熱されることがある
ので、気密部材９の材質としては、耐熱性が要求され
る。また、下部部材は内筒管の内部に曝されるので、高
純度であってかつ粉塵が発生しない材質であることが求
められる。その要求を満たすものとして下部部材１０と
しては石英ガラスが好ましい。また、上部部材としては
石英ガラスを使うことが出来るが、耐熱性、耐酸化性、
強度等も要求されるのでニッケル合金、ステンレス合金
が好ましい。
【００２１】また、上部部材１１を図２に示すように円
筒部１１ｂの一端の周囲に盤状部１１ａを設けた構造と
する理由は次の通りである。上部部材１１はダミー棒３
に押されて移動するが、その時上部部材１１が水平状態
から傾くとその上部中心孔１１ｃの内壁面の角がダミー
棒３に食い込むことがある。従って、盤状部１１ａと円
筒部とで構成することによって、上部部材の高さを高く
して上部部材が傾かないようにしている。また、全体直
径を大きくして高くすると全体の重量が大きくなり、最
大静止摩擦力が増加するので、円筒部１１ｂの部分は外
径を小さくし、重量を小さくしている。
筒部１１ｂの一端の周囲に盤状部１１ａを設けた構造と
する理由は次の通りである。上部部材１１はダミー棒３
に押されて移動するが、その時上部部材１１が水平状態
から傾くとその上部中心孔１１ｃの内壁面の角がダミー
棒３に食い込むことがある。従って、盤状部１１ａと円
筒部とで構成することによって、上部部材の高さを高く
して上部部材が傾かないようにしている。また、全体直
径を大きくして高くすると全体の重量が大きくなり、最
大静止摩擦力が増加するので、円筒部１１ｂの部分は外
径を小さくし、重量を小さくしている。
【００２２】図３、図４はそれぞれ、本発明の光ファイ
バ線引き炉で使用する気密部材の上部部材についての他
の形態を示す図であって、図３（Ａ）、図４（Ａ）はそ
れぞれの斜視図、図３（Ｂ）、図４（Ｂ）はそれぞれの
縦断面図である。１３、１４は共に上部部材、１３ａ、
１４ａは共に上部中心孔である。
バ線引き炉で使用する気密部材の上部部材についての他
の形態を示す図であって、図３（Ａ）、図４（Ａ）はそ
れぞれの斜視図、図３（Ｂ）、図４（Ｂ）はそれぞれの
縦断面図である。１３、１４は共に上部部材、１３ａ、
１４ａは共に上部中心孔である。
【００２３】図３に示す上部部材１３は、厚さ約１０ｍ
ｍ程度、外径約１００〜１１０ｍｍの円盤状の物体であ
って、ダミー棒を貫通させる上部中心孔１３ａを有して
いる。厚さを薄くすれば軽くなり上部部材を下部部材上
に載置した時の最大静止摩擦力も小さくなるが、上部部
材がダミー棒と接触した時、上部部材が少し傾けば上部
部材の上部中心孔の内壁面の角がダミー棒の側壁面に食
い込むことがある。従って、厚さは１０ｍｍ以上にする
ことが望ましい。この図３に示す上部部材１３は図２に
示す上部部材９に比べて形状が単純で製造は容易である
が、高さをあまり大きくすると重量が増加するので注意
が必要である。また、上部部材１３の下面を精密研磨す
る等により最大静止摩擦力を小さくすることが望まし
い。
ｍ程度、外径約１００〜１１０ｍｍの円盤状の物体であ
って、ダミー棒を貫通させる上部中心孔１３ａを有して
いる。厚さを薄くすれば軽くなり上部部材を下部部材上
に載置した時の最大静止摩擦力も小さくなるが、上部部
材がダミー棒と接触した時、上部部材が少し傾けば上部
部材の上部中心孔の内壁面の角がダミー棒の側壁面に食
い込むことがある。従って、厚さは１０ｍｍ以上にする
ことが望ましい。この図３に示す上部部材１３は図２に
示す上部部材９に比べて形状が単純で製造は容易である
が、高さをあまり大きくすると重量が増加するので注意
が必要である。また、上部部材１３の下面を精密研磨す
る等により最大静止摩擦力を小さくすることが望まし
い。
【００２４】また、図４に示す上部部材１４は、厚さを
５０ｍｍ程度に厚くした、上部中心孔１４ａを有する円
柱状物体である。この場合は、上部部材１４が傾くこと
は少ないので上部中心孔の内壁面の角がダミー棒の側壁
面に食い込むことはないが、軽い材質の材料で作るか壁
面の内部を空洞にするかして軽くしないと、上部部材を
下部部材上に載置した時の最大静止摩擦力を小さくする
ことが出来ない。
５０ｍｍ程度に厚くした、上部中心孔１４ａを有する円
柱状物体である。この場合は、上部部材１４が傾くこと
は少ないので上部中心孔の内壁面の角がダミー棒の側壁
面に食い込むことはないが、軽い材質の材料で作るか壁
面の内部を空洞にするかして軽くしないと、上部部材を
下部部材上に載置した時の最大静止摩擦力を小さくする
ことが出来ない。
【００２５】
【実施例】気密部材の下部部材として石英ガラスからな
り下部中心孔の径が５０ｍｍの円盤形状のものを使用
し、その上に載置する上部部材の形状、材質を種々変え
て、番号１〜６の上部部材事例について光ファイバ線引
き炉を構成し、光ファイバ母材から光ファイバの線引き
を行なった。その結果は表１に示す通りである。また、
光ファイバ母材は直径４０ｍｍの石英ガラスで出来たダ
ミー棒を連結して支持した。
り下部中心孔の径が５０ｍｍの円盤形状のものを使用
し、その上に載置する上部部材の形状、材質を種々変え
て、番号１〜６の上部部材事例について光ファイバ線引
き炉を構成し、光ファイバ母材から光ファイバの線引き
を行なった。その結果は表１に示す通りである。また、
光ファイバ母材は直径４０ｍｍの石英ガラスで出来たダ
ミー棒を連結して支持した。
【００２６】
【表１】
【００２７】表１において、形式欄は適用した上部部材
の形状を示す欄で、図２、図３、図４はその図に相当す
る形状の上部部材を使用したことを示している。なお図
２の場合、盤状部の寸法を厚さ５ｍｍ、外径１００ｍ
ｍ、円筒部の寸法を高さ８５ｍｍ、外径４８ｍｍとし
た。また図３の場合、外径は１１０ｍｍ、高さは１０ｍ
ｍとした。また図４の場合、外径は１１０ｍｍ、高さは
５０ｍｍとした。なお、以上の寸法は室温２０℃での値
である。また、それぞれの上部中心孔の径は表１に示す
値にした。
の形状を示す欄で、図２、図３、図４はその図に相当す
る形状の上部部材を使用したことを示している。なお図
２の場合、盤状部の寸法を厚さ５ｍｍ、外径１００ｍ
ｍ、円筒部の寸法を高さ８５ｍｍ、外径４８ｍｍとし
た。また図３の場合、外径は１１０ｍｍ、高さは１０ｍ
ｍとした。また図４の場合、外径は１１０ｍｍ、高さは
５０ｍｍとした。なお、以上の寸法は室温２０℃での値
である。また、それぞれの上部中心孔の径は表１に示す
値にした。
【００２８】材質欄は上部部材を構成する材料を示す欄
で、ニッケル合金は室温から３００℃までの熱膨張率が
約１６（×１０-6／℃）のものを、ステンレス合金は室
温から３００℃までの熱膨張率が約１７（×１０-6／
℃）のものを、石英ガラスは室温から３００℃までの熱
膨張率が約０．６（×１０-6／℃）のものを、耐熱ゴム
は室温から３００℃までの熱膨張率が約８０（×１０-6
／℃）のものを使用した。なお、使用した耐熱ゴムはフ
ッ素系ゴム（バイトン：デユポンの商品名）であって、
金属、ガラス等に比べて軽い。
で、ニッケル合金は室温から３００℃までの熱膨張率が
約１６（×１０-6／℃）のものを、ステンレス合金は室
温から３００℃までの熱膨張率が約１７（×１０-6／
℃）のものを、石英ガラスは室温から３００℃までの熱
膨張率が約０．６（×１０-6／℃）のものを、耐熱ゴム
は室温から３００℃までの熱膨張率が約８０（×１０-6
／℃）のものを使用した。なお、使用した耐熱ゴムはフ
ッ素系ゴム（バイトン：デユポンの商品名）であって、
金属、ガラス等に比べて軽い。
【００２９】上部中心孔径の欄は上部部材の上部中心孔
の径を示す欄であって、２０℃の欄は室温２０℃におい
て測定した上部中心孔の径を、３００℃の欄は２０℃に
おける上部中心孔の径と上記の熱膨張率から計算で求め
た３００℃における上部中心孔の径の推定値である。な
お、ダミー棒の直径は３００℃においても、４０．０ｍ
ｍと推定されるので、３００℃におけるそれぞれの上部
中心孔の径から４０．０ｍｍを引いた値が、３００℃に
おけるダミー棒と上部部材との間のクリアランスという
ことになる。
の径を示す欄であって、２０℃の欄は室温２０℃におい
て測定した上部中心孔の径を、３００℃の欄は２０℃に
おける上部中心孔の径と上記の熱膨張率から計算で求め
た３００℃における上部中心孔の径の推定値である。な
お、ダミー棒の直径は３００℃においても、４０．０ｍ
ｍと推定されるので、３００℃におけるそれぞれの上部
中心孔の径から４０．０ｍｍを引いた値が、３００℃に
おけるダミー棒と上部部材との間のクリアランスという
ことになる。
【００３０】また、摩擦力の欄は、下部部材上に上部部
材を載置して、２００℃になった時の最大静止摩擦力を
上部部材にバネ秤を取付けて水平方向に引張って測定し
たものである。番号２、４、５で、形式、材質が同じで
あるにもかかわらず摩擦力が異なるのは、上部部材の下
部部材への接触面の仕上げ状態が通常仕上げか、精密仕
上げかで異なるためである。
材を載置して、２００℃になった時の最大静止摩擦力を
上部部材にバネ秤を取付けて水平方向に引張って測定し
たものである。番号２、４、５で、形式、材質が同じで
あるにもかかわらず摩擦力が異なるのは、上部部材の下
部部材への接触面の仕上げ状態が通常仕上げか、精密仕
上げかで異なるためである。
【００３１】線径変動の欄は、光ファイバ母材から外径
１２５μｍの光ファイバを線引きし、その時の光ファイ
バの外径の変動幅を調べたものである。
１２５μｍの光ファイバを線引きし、その時の光ファイ
バの外径の変動幅を調べたものである。
【００３２】表１に示す結果によれば、上部部材をステ
ンレス合金、ニッケル合金、石英ガラス、耐熱ゴムで作
ったものは共に下部部材への接触面の仕上げ状態を精密
にさえすれば、摩擦力を１５０ｇ以下にすることが可能
である。また、摩擦力が２００ｇになると、上部部材の
水平方向の摺動が妨げられ、光ファイバの線径変動制御
が出来なくなり、好ましくない。
ンレス合金、ニッケル合金、石英ガラス、耐熱ゴムで作
ったものは共に下部部材への接触面の仕上げ状態を精密
にさえすれば、摩擦力を１５０ｇ以下にすることが可能
である。また、摩擦力が２００ｇになると、上部部材の
水平方向の摺動が妨げられ、光ファイバの線径変動制御
が出来なくなり、好ましくない。
【００３３】また、耐熱ゴムを上部部材としたものは、
室温２０℃でダミー棒とのクリアランスを１ｍｍとして
おいても、３００℃になるとクリアランスが１．９ｍｍ
になり、その影響を受けて光ファイバの線径変動が±
０．４ｍｍと大きくなる。従って、上部部材の材質とし
ては、熱膨張率が２０（×１０-6／℃）以下であるニッ
ケル合金、ステンレス合金、石英ガラスといった材質が
望ましい。
室温２０℃でダミー棒とのクリアランスを１ｍｍとして
おいても、３００℃になるとクリアランスが１．９ｍｍ
になり、その影響を受けて光ファイバの線径変動が±
０．４ｍｍと大きくなる。従って、上部部材の材質とし
ては、熱膨張率が２０（×１０-6／℃）以下であるニッ
ケル合金、ステンレス合金、石英ガラスといった材質が
望ましい。
【００３４】また、番号２と５の比較から分かるよう
に、同じステンレス合金を使って摩擦力も同じにして
も、クリアランスが３００℃で１．４ｍｍと大きいと光
ファイバの線径変動も±０．３ｍｍと大きくなるので、
クリアランスは室温２０℃で０．４ｍｍを超え１．０ｍ
ｍ未満とすることが望ましい。
に、同じステンレス合金を使って摩擦力も同じにして
も、クリアランスが３００℃で１．４ｍｍと大きいと光
ファイバの線径変動も±０．３ｍｍと大きくなるので、
クリアランスは室温２０℃で０．４ｍｍを超え１．０ｍ
ｍ未満とすることが望ましい。
【００３５】表１の結果を総合すれば、番号１、２、３
のケースが最も好ましいケースであり、室温での上部部
材とダミー棒とのクリアランスは０．５〜０．８ｍｍが
最も好ましい。また、上部部材の材質としては石英ガラ
スも使用することが出来るが、ニッケル合金、ステンレ
ス合金がより好ましい。また、下部部材に対する上部部
材の最大静止摩擦力は５０ｇ以下が最も好ましい。
のケースが最も好ましいケースであり、室温での上部部
材とダミー棒とのクリアランスは０．５〜０．８ｍｍが
最も好ましい。また、上部部材の材質としては石英ガラ
スも使用することが出来るが、ニッケル合金、ステンレ
ス合金がより好ましい。また、下部部材に対する上部部
材の最大静止摩擦力は５０ｇ以下が最も好ましい。
【００３６】
【発明の効果】本発明の光ファイバ線引き炉は、炉心管
の上端に連設した内筒管の上端開口部においてダミー棒
を貫通させてシールする気密部材を比較的大きい径の下
部中心孔を有する下部部材と比較的小さい径の上部中心
孔を有する上部部材とで構成し、該下部部材は前記内筒
管の上端部に直接又は保持部材を介して設け、前記上部
部材は前記下部部材の上に水平方向摺動可能に載置する
ことにしたので、光ファイバ母材の位置制御に応じてダ
ミー棒の位置が水平方向にずれても、ダミー棒によって
上部部材を水平方向に押して摺動させることが出来る。
の上端に連設した内筒管の上端開口部においてダミー棒
を貫通させてシールする気密部材を比較的大きい径の下
部中心孔を有する下部部材と比較的小さい径の上部中心
孔を有する上部部材とで構成し、該下部部材は前記内筒
管の上端部に直接又は保持部材を介して設け、前記上部
部材は前記下部部材の上に水平方向摺動可能に載置する
ことにしたので、光ファイバ母材の位置制御に応じてダ
ミー棒の位置が水平方向にずれても、ダミー棒によって
上部部材を水平方向に押して摺動させることが出来る。
【００３７】従って、ダミー棒と上部部材との間のクリ
アランスを１ｍｍ以下と小さくすることが可能になり、
クリアランスの影響による光ファイバの線径変動を小さ
くすることが出来る。また、上記クリアランスからの空
気、塵埃の侵入も少なくなるので、それらによる炉心管
等の劣化も少なくなり炉心管等の寿命を伸ばすことが出
来る。
アランスを１ｍｍ以下と小さくすることが可能になり、
クリアランスの影響による光ファイバの線径変動を小さ
くすることが出来る。また、上記クリアランスからの空
気、塵埃の侵入も少なくなるので、それらによる炉心管
等の劣化も少なくなり炉心管等の寿命を伸ばすことが出
来る。
【図１】本発明の光ファイバ線引き炉の実施形態の主要
部を示す縦断面図である。
部を示す縦断面図である。
【図２】本発明の光ファイバ線引き炉で使用する気密部
材の上部部材の一例の形態を示す図であって、（Ａ）は
斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
材の上部部材の一例の形態を示す図であって、（Ａ）は
斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
【図３】本発明の光ファイバ線引き炉で使用する気密部
材の上部部材についての他の形態を示す図であって、
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
材の上部部材についての他の形態を示す図であって、
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
【図４】本発明の光ファイバ線引き炉で使用する気密部
材の上部部材についての他の形態を示す図であって、
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
材の上部部材についての他の形態を示す図であって、
（Ａ）は斜視図、（Ｂ）は縦断面図である。
【図５】従来技術による光ファイバ線引き炉の一例の主
要部を示す縦断面図である。
要部を示す縦断面図である。
１；光ファイバ母材 １ａ：光ファイバ ２：連結部 ３：ダミー棒 ４：炉心管 ５：内筒管 ５ａ：ガス吹込み口 ６：外筒管 ６ａ：ガス供給口 ６ｂ：ガス通路 ７：ヒータ ８：保持部材 ９：気密部材 １０：下部部材 １０ａ：下部中心孔 １１、１３、１４：上部部材 １１ａ：下部円盤部 １１ｂ：上部円筒部 １１ｃ、１３ａ、１４ａ：上部中心孔
フロントページの続き (72)発明者 千葉 航 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 早川 保 神奈川県横浜市栄区田谷町１番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内
Claims (6)
- 【請求項１】 炉心管と該炉心管の上端に連設した内筒
管との内部に光ファイバ母材を配置して、前記炉心管の
周りに配置したヒータで前記光ファイバ母材の下端部を
加熱し、光ファイバを下方に引き出す光ファイバ線引き
炉において、前記内筒管の上端開口部には比較的大きい
径の下部中心孔を有する下部部材と比較的小さい径の上
部中心孔を有する上部部材とで構成される気密部材を備
え、前記下部部材は前記内筒管の上端部に直接又は保持
部材を介して設け、前記上部部材は前記下部部材の上に
前記上部中心孔が前記下部中心孔の径の範囲内で水平方
向摺動可能に載置し、前記光ファイバ母材の上部に該光
ファイバ母材を支持するダミー棒を連結して該ダミー棒
を前記内筒管の上方にて支持し、該ダミー棒を前記上部
中心孔及び前記下部中心孔に貫通させて前記内筒管の上
端開口部を前記気密部材にてシールすることを特徴とす
る光ファイバ線引き炉。 - 【請求項２】 前記上部部材の前記下部部材に対する摺
動方向の最大静止摩擦力は、２００℃において１５０ｇ
以下であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイ
バ線引き炉。 - 【請求項３】 前記上部部材の上部中心孔の径Ｄ、前記
下部部材の下部中心孔の径Ｄ’と、前記ダミー棒の外径
ｄとの関係は、２０℃において、０．４（ｍｍ）＜Ｄ−
ｄ＜１（ｍｍ）、ｄ＋１０（ｍｍ）≦Ｄ’であることを
特徴とする請求項１に記載の光ファイバ線引き炉。 - 【請求項４】 前記上部部材の２０℃から３００℃まで
の範囲における熱膨張率は、２０（×１０-6／℃）以下
であることを特徴とする請求項１に記載の光ファイバ線
引き炉。 - 【請求項５】 前記下部部材は石英ガラスからなり、前
記上部部材はステンレス合金、ニッケル合金、石英ガラ
スの内のいずれかからなることを特徴とする請求項１に
記載の光ファイバ線引き炉。 - 【請求項６】 前記下部部材は円盤状であり、前記上部
部材は円筒部の一端の周囲に盤状部を設けたものであっ
て、該盤状部を下にして前記上部部材を前記下部部材上
に載置することを特徴とする請求項１に記載の光ファイ
バ線引き炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133451A JP2000327362A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 光ファイバ線引き炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11133451A JP2000327362A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 光ファイバ線引き炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000327362A true JP2000327362A (ja) | 2000-11-28 |
Family
ID=15105096
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11133451A Pending JP2000327362A (ja) | 1999-05-14 | 1999-05-14 | 光ファイバ線引き炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000327362A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018209720A1 (zh) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | 江苏亨通光纤科技有限公司 | 一种光纤退火延伸管 |
| CN109665709A (zh) * | 2016-07-01 | 2019-04-23 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 光纤预制棒松散体的剥除装置 |
-
1999
- 1999-05-14 JP JP11133451A patent/JP2000327362A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109665709A (zh) * | 2016-07-01 | 2019-04-23 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 光纤预制棒松散体的剥除装置 |
| CN109678335A (zh) * | 2016-07-01 | 2019-04-26 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 光纤预制棒松散体的剥除方法 |
| CN109678335B (zh) * | 2016-07-01 | 2021-11-12 | 浙江富通光纤技术有限公司 | 光纤预制棒松散体的剥除方法 |
| WO2018209720A1 (zh) * | 2017-05-15 | 2018-11-22 | 江苏亨通光纤科技有限公司 | 一种光纤退火延伸管 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8702105B2 (en) | Seal member | |
| US9458051B2 (en) | Graphite heating furnace | |
| EP1069086B1 (en) | Furnace and method for optical fiber wire drawing | |
| JP6999558B2 (ja) | ガラス形成装置の形成体を支持する方法および装置 | |
| JP5556117B2 (ja) | 光ファイバ線引き方法および線引き装置 | |
| JP2000327362A (ja) | 光ファイバ線引き炉 | |
| WO2001093380A1 (fr) | Dispositif d'oscillation laser | |
| JP2870058B2 (ja) | 光ファイバ線引炉および線引方法 | |
| JP6513147B2 (ja) | 製造方法及びキャップ | |
| JP2013035742A (ja) | 光ファイバの線引装置および線引方法 | |
| JP2002068773A (ja) | 光ファイバ線引炉及び光ファイバの線引方法 | |
| CN109641778A (zh) | 光纤用拉丝炉的密封构造、光纤的制造方法 | |
| JP6638432B2 (ja) | 光ファイバの製造方法および製造装置 | |
| JP2013151393A (ja) | 光ファイバ用線引炉および線引方法 | |
| JP2542679B2 (ja) | 光ファイバ線引炉 | |
| JP3301146B2 (ja) | 光ファイバ母材製造用脱水焼結炉 | |
| JP3953088B2 (ja) | レーザ発振装置 | |
| Gulbransen et al. | Westinghouse Research Laboratories Pittsburgh, Pennsylvania | |
| JP4770720B2 (ja) | ハースベッドの支持構造 | |
| Gulbransen et al. | Invar Beam Balance for the Study of Fast Chemical Reactions | |
| JPS62162636A (ja) | 光フアイバ用多孔質母材焼結装置 | |
| JPH055439Y2 (ja) | ||
| JP2021089212A (ja) | 質量測定装置および質量測定方法 | |
| Gulbransen et al. | Chemistry Department, Westinghouse Research Laboratories Pitts burgh, Pennsylvania | |
| JPH11153385A (ja) | 高温炉用マッフルチューブ支持具 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050908 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080526 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080603 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20081104 |