JP6999558B2 - ガラス形成装置の形成体を支持する方法および装置 - Google Patents

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関連出願の相互参照

本願は、米国特許法第１２０条の下、２０１６年１月１１日出願の米国特許出願第１４／９９２５３２号の優先権の利益を主張し、その内容は依拠され、全体として参照により本明細書に組み込まれる。

本明細書は、概して、ガラス形成装置に関し、特に、ガラス形成装置の形成体を支持する方法および装置に関する。

溶融処理は、ガラスリボン形成技術の１つである。フロート、および、スロットドロー処理などの他のガラスリボン形成処理と比べて、溶融処理は、欠陥量が比較的低く、平坦性に優れた表面を有するガラスリボンを生成する。その結果、溶融処理は、ＬＥＤおよびＬＣＤ表示装置の製造で使用されるガラス基板、並びに、優れた平坦性および平滑性を必要とする他の基板を製造するために、広く採用されている。

溶融処理において、溶融ガラスを、根元部で収束する形成面を有する（アイソパイプとも称される）形成体の中に供給する。溶融ガラスは、形成体の形成面を均一に流れて、形成体の根元部から引き出されたままの表面を有する平坦なガラスリボンを形成する。

形成体は、概して、耐火性セラミックなど、比較的高温の溶融処理での耐久性が高い耐火性材料で作製される。しかしながら、最も温度安定性の高い耐火性セラミックでも、長い期間に亘って高温に曝されると、機械的特性が低下し、潜在的に、そこから製造されるガラスリボンの特性を低下させるか、または、形成体の破損さえ生じうる。いずれの場合にも、溶融処理の中断、製造歩留りの低下、および、製造コストの上昇を生じうる。

したがって、ガラス形成装置の形成体の劣化を軽減するような代わりの方法および装置が、必要である。

一実施形態によれば、ガラス形成装置は、根元部で収束する第１の形成面および第２の形成面を有する形成体を含みうる。ガラス形成装置は、互いにＶ字構成となるように向いた第１の接触面および第２の接触面を有する少なくとも１つのクレイドルアセンブリも含みうる。第１の接触面は、形成体の第１の形成面と係合し、第２の接触面は、形成体の第２の形成面と係合しうる。第１および第２の接触面は、上向き鉛直の力成分を有する保持力を、形成体に加えてもよい。形成体は、形成体の端面と係合する少なくとも１つ端部ブロックも含んでもよい。少なくとも１つ端部ブロックは、圧縮力を、形成体の長さ方向に平行で、かつ、拘束力成分に垂直である方向に、形成体に対して加えてもよい。

他の実施形態によれば、根元部で収束する第１の形成面および第２の形成面を有する形成体の支持方法は、第１の形成面および第２の形成面に対して、上向き鉛直の力成分を有する保持力を加えて、それにより、形成体の下向き鉛直方向の移動を防ぐ工程を含みうる。更に、方法は、逆のモーメントを加える圧縮力を、形成体の長さ方向に平行な方向に、形成体の端面に対して加えて、形成体の長さに沿ったサグを軽減する工程を含みうる。

本明細書に記載のガラス形成装置の更なる特徴および利点を、以下の詳細な記載に示し、部分的には、当業者には、その記載から明らかであるか、または、以下の詳細な記載、請求項、および図面を含む本明細書に記載の実施形態を実施することによって、分かるだろう。

上記概略的記載、および、以下の詳細な記載の両方が、様々な実施形態を記載し、請求した主題の本質および特徴を理解するための概観または枠組みを提供することを意図すると理解すべきである。添付の図面は、様々な実施形態の更なる理解のために含められたものであり、本明細書に組み込まれ、その一部を構成する。図面は、本明細書に記載の様々な実施形態を示し、記載と共に、請求した主題の原理および動作を説明する役割を果たす。

本明細書に示し、記載した１つ以上の実施形態によるガラス形成装置の一実施形態を、概略的に示している。 本明細書に示し、記載した１つ以上の実施形態によるクレイドルアセンブリによって支持されたガラス形成体を、概略的に示す斜視図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるクレイドルアセンブリによって支持されたガラス形成体を、概略的に示す断面図である。 クレイドルアセンブリのクレイドルブロックを形成面から外した状態の形成体を、概略的に示す断面図である。 本明細書に記載の１つ以上の実施形態によるクレイドルアセンブリによって支持された形成体を、概略的に示す断面図である。 クレイドルアセンブリのクレイドルブロックを形成面から外した状態の形成体を、概略的に示す断面図である。 従来の方法で、両端部においてピアブロックによって支持された形成体を、概略的に示している。 １つの端部において、クレイドルアセンブリによって支持され、他方の端部において、ピアブロックによって支持された形成体を、概略的に示している。 異なる支持条件下の３つの形成体について、モデル化した形成体の応力を、時間の関数としてグラフで示している。 異なる支持条件下の３つの形成体について、モデル化した形成体の変形を、形成体の長さに沿った位置の関数としてグラフで示している。

ここで、添付の図面に例を示したガラス形成装置の実施形態を、詳細に記載する。全図を通して、同じ、または、類似部分を称するには、可能な限り同じ参照番号を用いている。ガラス形成装置１０の一実施形態を、図１（および２？）に、概略的に示している。ガラス形成装置１０は、第１の形成面６２および第２の形成面６４を有する形成体６０を含み、第１の形成面６２と第２の形成面６４は、根元部７０で収束しうる。ガラス形成装置１０は、少なくとも１つのクレイドルアセンブリ１２０も含み、それは、互いにＶ字構成となるように向いた第１の接触面１３２および第２の接触面１３４を有する。第１の接触面１３２は、形成体６０の第１の形成面６２と係合し、第２の接触面１３４は、形成体６０の第２の形成面６４と係合しうる。第１の接触面１３２および第２の接触面１３４は、形成体６０に、上向き鉛直の力成分を有する保持力を加えうる。形成体６０は、形成体６０の端面と係合する少なくとも１つの端部ブロック１７０ａも、含みうる。少なくとも１つの端部ブロック１７０ａは、形成体６０に、形成体６０の長さに平行で、かつ、上記拘束力成分に垂直である方向に、圧縮力を加えうる。本明細書において、添付の図面を具体的に参照して、ガラス形成装置１０の成形体６０を支持するためのガラス形成装置１０および方法の様々な実施形態を、更に詳細に記載する。

本明細書において使用する、例えば、上、下、右、左、前、後ろ、上面、底面などの方向を表す用語は、図面に関連してのみ、使用しており、絶対的な向きを意味することを意図していない。

別段の記載がない限り、本明細書に示した、いずれの方法も、工程を特定の順序で行うことを要すると解釈されること、いずれの装置も、特定の向きであることを要すると解釈されることを、意図していない。したがって、方法の請求項が、工程の順序を実際に記載しないか、または、装置の請求項が、個々の構成要素についての順序または向きを実際に記載しないか、若しくは、請求項または明細書で、そうではなく工程が特定の順序に限定されると、記載しないか、または、装置の構成要素の特定の順序または向きを記載しない場合には、順序または向きが推定されることを、全く意図していない。このことは、工程の配列、動作フロー、構成要素の順序、構成要素の向き、文法構造または句読点に由来する平易な意味、および、本明細書に記載した実施形態の数またはタイプについての論理事項を含む、明示されていないことに基づく全ての解釈に適用される。

本明細書において用いたように、原文の英語で単数を表す不定冠詞および定冠詞は、文脈から、そうでないことが明らかでない限りは、複数のものに言及することを包含する。したがって、例えば、原文の英語で、不定冠詞の付いた構成要素を記載した場合には、文脈から、そうでないことが明らかでない限りは、そのような構成要素を２つ以上有する態様を含む。

ここで、図１を参照すると、ガラスリボン１２などのガラス物品を製作するためのガラス形成装置１０を、概略的に示している。概して、ガラス形成装置１０は、保存容器１８からバッチ材料１６を受け取るように構成された溶融槽１５を含む。モータ２２で動くバッチ送出装置２０によって、バッチ材料１６を、溶融槽１５に導きうる。任意で、制御部２４を設けて、モータ２２を作動させてもよく、溶融ガラスレベルプローブ２８を用いて、立て管３０内の溶融ガラスレベルを測定して、測定した情報を制御部２４に伝達しうる。

ガラス形成装置１０は、第１の接続管３６によって溶融槽１５に連結された、清澄管などの清澄槽３８も含みうる。混合槽４２は、第２の接続管４０で、清澄槽３８に連結されている。送出槽４６は、送出路４４で、混合槽４２に連結されている。更に示すように、降下管４８を配置して、溶融ガラスを、送出槽４６から形成体６０の投入部５０へ送出する。本明細書において示し、記載した実施形態において、形成体６０は、アイソパイプとも称されうる溶融形成槽である。

溶融槽１５は、典型的には、耐火性（例えば、セラミック）煉瓦などの耐火性材料で作られる。ガラス形成装置１０は、典型的には、例えば、白金、若しくは、白金ロジウム、白金イリジウム、および、それらの組合せなどの白金含有金属などの電導耐火性金属で作られた構成要素を、更に含んでもよい。そのような耐火性金属は、モリブデン、パラジウム、レニウム、タンタル、チタン、タングステン、ルテニウム、オスミウム、ジルコニウム、および、それらの合金、並びに／若しくは、二酸化ジルコニウムも含みうる。白金含有構成要素は、第１の接続管３６、清澄槽３８、第２の接続管４０、立て管３０、混合槽４２、送出路４４、送出槽４６、降下管４８、および、投入部５０の１つ以上を含みうる。

図２および３を参照すると、概して、形成体６０は、トラフ部６１、第１の形成面６２、および、第２の形成面６４を含む。トラフ部６１は、形成体６０の上部６５に位置する。第１の形成面６２および第２の形成面６４は、形成体６０の上部６５から、下流側方向に（つまり、図面に示した座標軸の－Ｚ方向に）延伸して、互いに近付いて収束し、根元部７０で一緒になる。根元部７０は、形成体６０の下縁部を形成する。したがって、第１の形成面６２と第２の形成面６４は、形成体６０の上部６５から延伸する逆二等辺（または、正）三角形を形成し、根元部７０が、その三角形の下流側方向の最も低い頂点を形成すると、理解すべきである。概して、ドロー平面７２は、図面に示した座標軸の＋／－Ｙ方向に、根元部７０を二等分して、下流側に延伸する。

ここで、図１～３を参照すると、動作中、バッチ材料１６、具体的には、ガラスを形成するためのバッチ材料が、バッチ送出装置２０によって、保存容器１８から溶融槽１５へ供給される。バッチ材料１６は、溶融槽１５で溶けて、溶融ガラスになる。溶融ガラスは、溶融槽１５から清澄槽３８へ、第１の接続管３６を通って送られる。ガラスの欠陥を生じうる溶解した気体を、清澄槽３８で、溶融ガラスから除去する。次に、溶融ガラスは、清澄槽３８から混合槽４２へと、第２の接続管４０を通って送られる。混合槽４２は、攪拌などによって、溶融ガラスを均質化し、均質化した溶融ガラスを、送出路４４を通って、送出槽４６に送る。送出槽４６は、均質化した溶融ガラスを、降下管４８を通って投入部５０へと放出し、そこから、均質化した溶融ガラスを、形成体６０のトラフ部６１へと送る。

均質化した溶融ガラスは、形成体６０のトラフ部６１を満たし、最終的には、形成体６０の上部６５を長さＬに沿って越えて、下流側方向に流れる。均質化した溶融ガラスは、形成体の上部６５から、第１の形成面６２および第２の形成面６４上へと流れる。第１の形成面６２および第２の形成面６４の上を流れる均質化した溶融ガラスの流れは、根元部７０で合流して融着し（したがって、「溶融形成」し）、（不図示の）引張ロールによって、ドロー平面７２上を下流側方向に引き出されるガラスリボン１２を、形成する。更に、ガラスリボン１２を別々のガラスシートに分ける、ガラスリボン１２を、それ自体に巻き上げる、および／または、１つ以上の被膜をガラスリボン１２に形成するなどによって、ガラスリボン１２を、形成体６０の下流側で処理してもよい。

形成体６０は、典型的には、溶融ガラスと化学反応を起こさず、溶融形成処理に関連した高温に耐えることが可能な耐火性セラミック材料から形成される。形成体を形成する典型的な材料は、ジルコン、炭化ケイ素、ゼノタイム、および／または、アルミナ系耐火性セラミックを含むが、それらに限定されない。形成体６０と溶融ガラスの合計質量と、溶融形成処理の高い温度とにより、形成体６０は、材料のクリープによるサグを、長さＬに沿って下流側方向に生じる傾向がある。このサグは、形成体６０の長さＬのうち、支持されていない中点で、最も顕著でありうる。

形成体６０のサグは、形成面６２、６４を流れる均質化した溶融ガラスを再分配して、形成面６２、６４上に溶融ガラスの非均一な流れを生成し、結果的に得られるガラスリボン１２の寸法属性を変化させる。例えば、ガラスリボン１２の厚さは、サグにより、ガラスリボンの中心に近接した位置で増加する。更に、サグにより、溶融ガラスの流れが、長さＬに沿って形成面６２、６４の中心に向かって再分配されることで、形成体６０の端部に近接したガラスの流れが減少し、結果的に、ガラスリボン１２の寸法を、図面に示した座標軸の＋／－Ｘ方向に不均一にする。

サグ軽減技術は、形成体６０に応力を加え、それが材料クリープと組み合わさって、形成体の耐用寿命を短くしうると、判断された。本明細書に記載のガラス形成装置１０および形成体６０の実施形態は、形成体６０の応力およびサグを軽減し、それにより、形成体の耐用寿命を延ばすと共に、ガラスリボン１２の寸法特性を安定させる。

ここで、図１～４を参照すると、本明細書に記載のガラス形成装置１０の実施形態は、形成体６０の形成面６２、６４と係合して形成体６０のサグを軽減する、少なくとも１つのクレイドルアセンブリ１２０を含む。第１および第２のクレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂを、図１および２に示し、単一のクレイドルアセンブリ１２０を、図３および４に示している。一実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０は、一対のクレイドルブロック（つまり、第１のクレイドルブロック１２２、および、第１のクレイドルブロック１２２とは分かれた独立の第２のクレイドルブロック１２４）を含む。図３は、形成体６０の断面を概略的に示し、クレイドルアセンブリ１２０が、形成体の形成面６２、６４と係合している。図４は、クレイドルアセンブリ１２０を概略的に示し、記載を容易にするために、クレイドルブロック１２２、１２４を、形成体６０の形成面６２、６４から外してある。

クレイドルアセンブリ１２０の第１のクレイドルブロック１２２は、形成体６０の第１の形成面６２と係合する第１の接触面１３２を含む。実施形態において、第１のクレイドルブロック１２２の第１の接触面１３２は、第１のクレイドルブロック１２２の基部１２３に対して、α１の角度で傾いて、角度α１は、ドロー平面７２と形成体６０の第１の形成面６２との間に形成される角度β１に対して、余角となる。

同様に、クレイドルアセンブリ１２０の第２のクレイドルブロック１２４は、形成体６０の第２の形成面６４と係合する第２の接触面１３４を含む。実施形態において、第２のクレイドルブロック１２４の第２の接触面１３４は、第２のクレイドルブロック１２４の基部１２５に対して、α２の角度で傾いて、角度α２は、ドロー平面７２と形成体６０の第２の形成面６４との間に形成される角度β２に対して、余角となる。本実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０の第１の接触面１３２と第２の接触面１３４は、互いにＶ字構成となるように向いている。

クレイドルアセンブリ１２０のクレイドルブロック１２２、１２４は、形成体６０に対して、形成体６０の根元部７０が、クレイドルアセンブリ１２０を通って延伸して、クレイドルアセンブリ１２０の下に、下流側方向に位置するように配置される。しかしながら、代わりの配置も企図しており、可能であると理解すべきである。例えば、代わりの実施形態（不図示）において、クレイドルアセンブリ１２０のクレイドルブロック１２２、１２４は、形成体６０に対して、根元部７０が、クレイドルブロック１２２、１２４の各々の基部１２３、１２５と同じ平面に位置するように配置される。他の代わりの実施形態（不図示）において、根元部７０を、クレイドルアセンブリ１２０のクレイドルブロック１２２、１２４の各々の基部１２３、１２５の上流側に配置してもよい。

クレイドルアセンブリ１２０のクレイドルブロック１２２、１２４は、各々の構造部材３０２、３０４上に摺動自在に配置され、次に、構造部材３０２、３０４を、土台に静止して取り付けて、クレイドルブロック１２２、１２４が、図面に示した座標軸の＋Ｚ方向に支持されるようにしてもよい。

図３および４に示したクレイドルアセンブリ１２０の実施形態において、クレイドルブロック１２２、１２４は付勢されて、各々、形成体６０の形成面６２、６４に接触し、クレイドルブロック１２２、１２４の接触面１３２、１３４が、各々、形成体６０の形成面６２、６４に保持力Ｆ_ｈを加えるようにする。本明細書で用いたように、「付勢」および「付勢され」という用語は、クレイドルブロック１２２、１２４を、各々、形成体６０の形成面６２、６４に対して押圧することを意味する。保持力Ｆ_ｈは、第１のクレイドルブロック１２２と第２のクレイドルブロック１２４の間の形成体６０に加わる。更に、クレイドルブロック１２２、１２４の接触面１３２、１３４に角度のついたことにより、クレイドルブロック１２２、１２４の各々によって形成体６０の形成面６２、６４に対して加わる保持力Ｆ_ｈは、図面に示した座標軸の＋Ｚ方向（つまり、上流側または上向き鉛直方向）の拘束力成分Ｆ_ｒを含む。拘束力成分Ｆ_ｒは、形成体の下流側方向の移動を制限し、それにより、図面に示した座標軸の－Ｚ方向について、形成体の位置を維持する。

更に図１～４を参照すると、クレイドルブロック１２２、１２４によって、形成体６０の形成面６２、６４に対して加えられた保持力Ｆ_ｈは、図面に示した座標軸の＋Ｙ方向（クレイドルブロック１２２から）、および、－Ｙ方向（クレイドルブロック１２４から）の衝撃力成分Ｆ_ｉも含みうる。衝撃力成分は、形成体６０の横方向（つまり、＋／－Ｙ方向）の移動を制限する。

実施形態において、衝撃力成分Ｆ_ｉを操作して、形成体６０の高さを、衝撃力成分Ｆ_ｉの大きさの調節によって、上流側か下流側のいずれかの方向に調節してもよい。第１のクレイドルブロック１２２、および／または、第２のクレイドルブロック１２４を他方に向かって前進させて、衝撃力成分Ｆ_ｉを増加または減少させることによって、衝撃力成分Ｆ_ｉを、調節してもよい。例えば、第１のクレイドルブロック１２２と第２のクレイドルブロック１２４の１つを他方に向かって前進させると、衝撃力成分Ｆ_ｉが増加する。クレイドルブロック１２２、１２４の第１と第２の接触面１３２、１３４の角度、および、形成体６０の形成面６２、６４の角度により、衝撃力成分Ｆ_ｉの増加は、形成体６０を、クレイドルブロック１２２、１２４に対して上流側に摺動させて、それにより、形成体の高さを高める。

第１のクレイドルブロック１２２、および／または、第２のクレイドルブロック１２４を、他方から離れるように移動させて、衝撃力成分Ｆ_ｉを減少させてもよい。例えば、第１のクレイドルブロック１２２と第２のクレイドルブロック１２４の１つを、他方から離れるように移動すると、衝撃力成分Ｆ_ｉは減少する。クレイドルブロック１２２、１２４の第１と第２の接触面１３２、１３４の角度、および、形成体６０の形成面６２、６４の角度により、衝撃力成分Ｆ_ｉの減少は、形成体６０を、クレイドルブロック１２２、１２４に対して下流側に摺動させて、それにより、形成体の高さを下げる。

本明細書に記載の実施形態において、第１のクレイドルブロック１２２と第２のクレイドルブロック１２４は、図３に示すようにラム３５２、３５４を用いて、他方に近づくように、または、離れるように付勢されてもよい。例えば、クレイドルアセンブリ１２０は、第１のクレイドルブロック１２２と係合した第１のラム３５２、および、第２のクレイドルブロック１２４と係合した第２のラム３５４を、更に含んでもよい。ラム３５２、３５４は、機械的ラムであっても、その代わりに、液圧ラムであってもよい。ラム３５２、３５４は、各々、クレイドルブロック１２２、１２４に連結されて、ラムが作動すると、クレイドルブロック１２２、１２４は、他方に向かって、または、離れるように進む。

図３は、クレイドルブロック１２２、１２４と各々が係合した第１のラム３５２および第２のラム３５４を示しているが、他の構成も企図しており、可能であると理解すべきである。例えば、代わりの実施形態（不図示）において、クレイドルアセンブリ１２０は、単一のラム（例えば、第１のクレイドルブロック１２２と係合した第１のラム３５２）を含み、第２のクレイドルブロック１２４は、図面に示した座標軸の＋／－Ｙ方向の位置を固定される。本実施形態において、第１のクレイドルブロック１２２の相対的位置を第１のラム３５２で調節することで、（拘束力成分Ｆ_ｒ、および、衝撃力成分Ｆ_ｉを含む）保持力Ｆ_ｈ、並びに、形成体６０の高さを調節する。

ここで、図５および６を参照すると、クレイドルアセンブリ１２０’の代わりの実施形態を概略的に示している。本実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０’は、単一のクレイドルブロック１５０を含む。図５は、形成体６０を、概略的に示す断面図であり、クレイドルアセンブリ１２０’が、形成体６０の形成面６２、６４と係合している。図６は、記載を容易にするために、クレイドルアセンブリ１２０’のクレイドルブロック１５０を形成体６０から取り外したクレイドルアセンブリ１２０’を、概略的に示している。

図５および６に示した実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０’のクレイドルブロック１５０は、形成体６０の第１の形成面６２と係合する第１の接触面１３２、および、形成体６０の第２の形成面６４と係合する第２の接触面１３４を有する。第１の接触面１３２と第２の接触面１３４は、互いにＶ字構成となるように向いている。本実施形態において、第１の接触面１３２と第２の接触面１３４は、クレイドルブロック１５０に形成されたＶ字形切込み１３５の対向する側である。

実施形態において、クレイドルブロック１５０の第１の接触面１３２は、クレイドルブロック１５０の基部１５２に平行な平面１５１に対して、角度α１で傾いて、角度α１は、ドロー平面７２と形成体６０の第１の形成面６２との間に形成される角度β１に対して、余角となる。同様に、クレイドルブロック１５０の第２の接触面１３４は、クレイドルブロック１５０の基部１５２に平行な平面１５１に対して、角度α２で傾いて、角度α２は、ドロー平面７２と形成体６０の第２の形成面６４との間に形成される角度β２に対して、余角となる。

形成体６０をクレイドルアセンブリ１２０’のクレイドルブロック１５０と係合させた場合に、形成体６０の根元部７０が、Ｖ字形切込み１３５の頂点に形成された緩衝用切込み部１５５内に位置すると共に、形成体６０の形成面６２、６４が、各々、クレイドルアセンブリ１２０’のクレイドルブロック１５０の接触面１３２、１３４に接触するように、形成体６０をＶ字形切込み１３５内に配置する。したがって、本実施形態において、形成体６０の根元部７０は、クレイドルアセンブリ１２０’を通って延伸せず、クレイドルブロック１５０の基部１５２より高い固定位置にある。

クレイドルアセンブリ１２０’のクレイドルブロック１５０を、土台に静止して取り付けた構造部材３０２、３０４上に配置して、クレイドルブロック１５０が、図面に示した座標軸の＋Ｚ方向に支持されるようにする。結果的に、クレイドルブロック１５０、特に、接触面１３２、１３４が、各々、保持力Ｆ_ｈを形成体６０の形成面６２、６４に加える。クレイドルブロック１５０の接触面１３２、１３４に角度がついていることにより、形成体６０の形成面６２、６４に対して加わる保持力Ｆ_ｈは、上流側または上向き鉛直方向の拘束力成分Ｆ_ｒを有するものとなる。拘束力成分Ｆ_ｒは、形成体の下流側方向への移動を制限し、それにより、図面に示した座標軸の＋／－Ｚ方向についての形成体の位置を維持する。形成体６０の形成面６２、６４に対して加えられた保持力Ｆ_ｈは、図面に示した座標軸における（接触面１３２から）＋Ｙ方向、および、（接触面１３４から）－Ｙ方向の衝撃力成分Ｆ_ｉも含んでもよい。衝撃力成分は、形成体６０の横方向（つまり、＋／－Ｙ方向）の移動を制限する。

図３～６に示したクレイドルアセンブリ１２０、１２０’の実施形態において、クレイドルブロック１２２、１２４、１５０は、比較的高温の溶融形成処理に耐えるのに適した耐火性セラミック材料から形成されてもよい。適した材料は、ジルコン、アルミナ、炭化ケイ素、および／または、ゼノタイムを含むが、それらに限定されない。いくつかの実施形態において、クレイドルブロック１２２、１２４、１５０を、形成体６０と同じ材料で形成して、形成体の上を流れる溶融ガラスと化学反応を確実に起こさないようにしてもよい。他の実施形態において、クレイドルブロック１２２、１２４、１５０を、形成体６０とは異なる材料から形成してもよい。

図１および２を再び参照すると、図１に示したガラス形成装置１０の実施形態、および、図２に示した形成体６０の実施形態において、形成体６０は、図３および４に示し、それについて記載したクレイドルアセンブリ１２０と同様の一対のクレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂを含む。本実施形態において、図１および２に示すように、第１のクレイドルアセンブリ１２０ａは、形成体６０と、形成体６０の第１の端部で係合し、第２のクレイドルアセンブリ１２０ｂは、形成体６０と、形成体の第１の端部と反対側の形成体の第２の端部で係合する。

図１および２は、図３および４に示したクレイドルアセンブリ１２０と同様のクレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂを有するガラス形成装置１０（図１）、および、形成体６０（図２）を概略的に示しているが、その代わりに、クレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂは、図５および６に示したクレイドルアセンブリ１２０’と同様に構成されてもよいと理解すべきである。

ここで、図２を参照すると、本明細書に記載の実施形態において、ガラス形成装置１０は、形成体６０の端面６６ａ、６６ｂと係合した少なくとも１つの端部ブロック（図２に示した端部ブロック１７０ａ、１７０ｂ）を更に含む。端部ブロック１７０ａ、１７０ｂを、各々、土台に静止して取り付けた構造部材３１０、３１２上に摺動自在に配置して、端部ブロック１７０ａ、１７０ｂが、図面に示した座標軸の＋Ｚ方向に支持されるようにしてもよい。

実施形態において、端部ブロック１７０ａ、１７０ｂを、比較的高温の溶融形成処理に耐えるのに適した耐火性セラミック材料から形成してもよい。適した材料は、ジルコン、アルミナ、炭化ケイ素、および／または、ゼノタイムを含むが、それらに限定されない。その代わりに、端部ブロックを、コバルト系、および／または、ニッケル系合金など、高温で用いるのに適した合金から形成してもよい。

端部ブロック１７０ａ、１７０ｂを互いに近付くように付勢して、端部ブロック１７０ａ、１７０ｂが、圧縮力Ｆ_ｃを、形成体６０の長さＬに平行な方向に、形成体６０に加えるようにする。つまり、圧縮力Ｆ_ｃは、図２に示した座標軸の＋／－Ｘ方向に略平行である。実施形態において、圧縮力Ｆ_ｃを、形成体６０の質量中心か、それより下で、端面６６ａ、６６ｂに加えて、圧縮力Ｆ_ｃが、形成体６０の根元部７０上か、または、隣接した位置に、直接作用するようにする。

本明細書に記載の実施形態において、圧縮力Ｆ_ｃは、本明細書で図３～６に示し、それについて記載した保持力Ｆ_ｈの拘束力成分Ｆ_ｒに略垂直である。実施形態において、図３に示し、本明細書において図３について記載したラム３５２、３５４と同様のラムなどのようなラムを用いて、圧縮力Ｆ_ｃを、端面６６ａ、６６ｂに加えてもよい。

形成体６０の６６ａ、６６ｂで加えられた圧縮力Ｆ_ｃは、形成体６０の長さＬに沿った中点で、上流側方向の曲げモーメントＭ_ｂを生成する。この曲げモーメントＭ_ｂは、形成体６０の根元部７０で、サグと逆に作用し、形成体６０を用いて形成するガラスリボン１２の寸法差異を軽減する。

本明細書に記載の実施形態において、本明細書に記載のクレイドルアセンブリを用いて、圧縮力Ｆ_ｃを形成体６０の端面６６ａ、６６ｂに直接加えることと、それとは別の保持力Ｆ_ｈを形成体６０の形成面６２、６４に直接加えることを組み合わせて、形成体のサグを相殺するのに必要な圧縮力を、形成体を拘束する従来の技術と比べて低下させることを見出した。これは、形成体６０上の応力を低下させる効果を有し、それは、形成体６０の破損リスクを低下させ、静疲労寿命を延ばす。

より具体的に、図７は、ガラス形成装置の形成体５００を支持するための従来の技術を、概略的に示している。従来の技術において、形成体５００を、形成体５００の両端部に、フランジ５０２、５０４を有するように形成する。フランジ５０２、５０４は、形成体５００の端面に当接するピアブロック５０６、５０８上に静止して支持される。形成体５００の根元部５７０および形成面（１つの形成面５６２を図７に示している）が、ピアブロック５０６、５０８の間に延伸する。しかしながら、ピアブロック５０６、５０８は、根元部５７０にも、形成面５６２にも接触しない。そうではなく、形成体を上流側方向に拘束する保持力Ｆ_ｈを、根元部５７０および形成面５６２より外側のフランジ５０２、５０４に対して、加える。この従来の技術において、圧縮力Ｆ_ｃを、形成体の端面に直接加えるのではなく、圧縮ブロック５１０、５１２を用いて、ピアブロック５０６、５０８に対して加える。しかしながら、ピアブロック５０６、５０８、および、圧縮ブロック５１０、５１２を使用することで、フランジに近接した形成体５００、特に、領域５２０、５２１で、形成体５００の亀裂または破損にもつながりうる大きい応力を生じることを見出した。以下に示す実施例１は、本明細書に記載のクレイドルアセンブリを用いた形成体上の応力の低下を示すモデルデータを、図７に示した形成体を支持する従来の技術と比較して、提供している。更に、図７に示したサグを軽減するための従来の技術において、保持力Ｆ_ｈ、および、圧縮力Ｆ_ｃを、圧縮ブロック５１０、５１２がピアブロック５０６、５０８を介して形成体５００に作用する連結構造の形成体に、加えている。この配置は、クレイドルブロックを用いる実施形態と比べて、同じ量のサグを軽減するのに、より大きい圧縮力を必要とすると判断された。以下に示す実施例２は、本明細書に記載のクレイドルアセンブリを用いたサグの改善を示すモデルデータを、図７に示した形成体を支持する従来の技術と比較して、提供している。

更に、保持力Ｆ_ｈを、形成体６０の端面６６ａ、６６ｂから離れて、形成体６０の形成面６２、６４に直接加えるので、圧縮力Ｆ_ｃを形成体６０の端面６６ａ、６６ｂに加える位置の自由度が高くなる。つまり、圧縮力Ｆ_ｃを端面６６ａ、６６ｂに加える位置を調節して、最も大きい曲げモーメントを、根元部７０で加えるようにし、それにより、形成体６０のサグが最も軽減されるようにしうる。理論に固執することを望まないが、圧縮力Ｆ_ｃを形成体の端面６６ａ、６６ｂに対して加える位置の自由度が高いほど、圧縮力Ｆ_ｃを、形成体の質量中心に対して、より正確に加えることが可能になり、次に、曲げモーメントを最大にしながら、圧縮力Ｆ_ｃの大きさを低下させることが可能であると考えられる。より詳しくは、図７に示したサグを軽減するための従来の技術において、保持力Ｆ_ｈ、および、圧縮力Ｆ_ｃを、圧縮ブロック５１０、５１２がピアブロック５０６、５０８を介して形成体５００に作用する連結構造の形成体に加え、加えた圧縮力を、端面の大きな領域に効果的に広げる。しかしながら、本明細書に記載の実施形態においては、圧縮力を、端面に直接加え、加える位置を形成体の質量中心に対して鉛直方向に調節しうるので、最小の圧縮力で、サグを軽減するための曲げモーメントを最大にすることが可能であり、次に、それは、形成体の応力を削減する。

更に、保持力Ｆ_ｈを、形成体６０の端面６６ａ、６６ｂから離れて、形成体６０の形成面６２、６４に直接加えるので、形成体の端部に近接したフランジ（図７）を省いて、形成面の面積を増加させ、幅寸法がより大きいガラスリボンの形成を可能にする。

更に、本明細書に記載の実施形態において、堰部領域Ｄは、形成体の長さＬのうち、ガラスリボン１２を形成するのに使用しうる部分のことを称する。本明細書に記載の実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂの内側の形成体６０の端面６６ａ、６６ｂから更にずらした別の堰部を有するのではなく、形成体６０の形成面６２、６４に取り付けられたクレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂも、溶融ガラスが形成体６０の端面６６ａ、６６ｂから流れるのを防ぐ堰部の代わりに使用してもよい。したがって、いくつかの実施形態において、クレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂを有する形成体６０の堰部領域Ｄが、第１のクレイドルアセンブリ１２０ａと第２のクレイドルアセンブリ１２０ｂの間に延伸し、第１のクレイドルアセンブリ１２０ａおよび第２のクレイドルアセンブリ１２０ｂと接触すると理解すべきである。

概して、図１および２は、形成体６０を支持する一対のクレイドルアセンブリ１２０ａ、１２０ｂの使用を示しているが、形成体の応力を低下させて、次に、形成体６０の破損リスクを低下させ、静疲労寿命を延ばしつつ、単一のクレイドルアセンブリを用いうると考えられる。例として図８を参照すると、一実施形態において、単一のクレイドルアセンブリ１２０を用いて、保持力を、形成面（図８に示した表面６４）に、形成体６０の１つの端部で加え、単一の端部ブロック１７０ａを用いて、圧縮力Ｆ_ｃを、単一のクレイドルアセンブリ１２０に隣接した形成体６０の端面６６ａに加えてもよい。本実施形態において、形成体６０の他方の端部を、ピアブロック５０８によって支持して、ピアブロック５０８を、端面６６ｂに対して固定するようにしてもよい。端部ブロック１７０ａを、他方の端面６６ｂを固定するピアブロック５０８に向かう方向に、端面６６ａに対して直接付勢することによって、圧縮力を、形成体６０の根元部７０に加えてもよい。本実施形態は、ピアブロック５０８を形成体６０の１つの端部で使用することを含むが、１つのクレイドルアセンブリ１２０を用いて、形成面に保持力Ｆ_ｈを直接加えることを、形成体６０の端面６６ａに圧縮力Ｆ_ｃを（ピアブロックを介してではなく）直接加えることと組み合わせることで、結果的に、図７に示した形成体を支持する従来の技術と比較して、形成体の応力を低下させると共に、形成体の使用可能な形成領域を増加させると、考えられる。更に、図８に概略的に示した実施形態を用いて、形成体６０を、よりよく方向付けてもよい。例えば、ピアブロック５０８と形成体６０の間の界面を基準面として作用させて、形成体を、図８に示した座標軸の鉛直平面および水平平面について方向付けてもよい。

本明細書に記載の実施形態を、以下の実施例によって、更に明らかにする。

実施例１
数学モデルを、形成体について、以下の３つの別々の支持条件で、開発した：（１）図７に示したような、従来の方法でピアブロックを用いて両端で支持された形成体であり、９０００ｌｂ（４０８２．３ｋｇ－Ｆ（約４００３３．３Ｎ））の圧縮力が加えられている；（２）図２に示したような、形成体の形成面に、形成体の両端部で接触したクレイドルアセンブリ（２つのクレイドルブロック構成）を用いて支持された形成体であり、端部ブロックが、９０００ｌｂ（４０８２．３ｋｇ－Ｆ（約４００３３．３Ｎ））の圧縮力を、形成体の端面に加えている；（３）図２に示したような、形成体の形成面に、形成体の両端部で接触したクレイドルアセンブリ（２つのクレイドルブロック構成）を用いて支持された形成体であり、端部ブロックが、８０００ｌｂ（３６２８．７ｋｇ－Ｆ（約３５５８５．０Ｎ）の圧縮力を、形成体の端面に加えている。モデル化した形成体は、溶融ガラスが、約２０００ｌｂ／時（９００ｋｇ／時）の速度で、約１３００℃の温度で送られるジルコンの形成体に基づくものだった。形成体の端面での投入応力を、時間（日数）の関数として計算した。モデル化した１年の期間に亘って、形成面のその長さに沿った変形（つまり、サグ）も、確定された。

図９は、上記のような支持条件の３つのモデル化した形成体について、形成体の投入端部での応力を示すグラフである。図９に示すように、図２に示したようなクレイドルアセンブリを用いて支持した形成体は、図７に示すようなピアブロックで支えられた形成体より、非常に低い応力を有した。確かに、曲線（２）は、同じ負荷条件下において、ピアブロックではなく、クレイドルアセンブリを用いることで、形成体の応力は、５０ＰＳＩ（約３４５ｋＰａ）より大きく低下することを示している。応力が低いほど、静疲労を軽減することによって、形成体の耐用寿命を延ばす。更に、概して、図９のデータは、ピアブロックではなく、クレイドルアセンブリを用いることで、より低い圧縮力で、同じサグ比を実現しうることを示している。より低い圧縮力を加えることで、形成体の応力が更に低下し、それは、静疲労を軽減する。

図１０は、上記のような支持条件を有する３つモデル化した形成体について、形成体の変形またはサグを、形成体の長さに沿った位置の関数として示すグラフである。曲線（５）は、同じ圧縮力の負荷条件（９０００ｌｂ（約４０８２．３ｋｇ））下で、本明細書に記載のクレイドルアセンブリによって支持された形成体が、（曲線（４）に示す）ピアブロックによって支持された形成体より、非常に低いサグを、特に形成体の中心に近接して、有することを示している。曲線（６）は、より低い圧縮力（８０００ｌｂ）を加えて、クレイドルアセンブリによって支持された形成体が、ピアブロックによって支持された形成体より、僅かに大きいサグを有しうることを示している。しかしながら、このデータを、図９のデータと合わせて読むと、サグの増加は、形成体の応力の低下を伴っており、それは、静疲労を軽減することによって、耐久寿命を延ばしうる。このデータに基づくと、サグの軽減、および、形成体の応力の低下の両方を実現するような大きさの、加えられる圧縮力があり、それにより、形成体の耐久寿命を延ばすと考えられる。例えば、この実施例において、サグを軽減し、形成体の応力を削減しうる、８０００ｌｂ（約３６２８．７ｋｇ）と９０００ｌｂ（約４０８２．３ｋｇ）の間の大きさの圧縮力があると考えられる。

ここで、上記に基づいて、本明細書に記載のクレイドルアセンブリを用いて、ガラス形成装置の形成体を支持し、形成体のサグを削減しうると理解すべきである。形成体の形成面に連結されたクレイドルアセンブリを使用することで、保持力Ｆ_ｈ、より具体的には、保持力Ｆ_ｈの拘束力成分Ｆ_ｒを、圧縮力Ｆ_ｃから分けて、それにより、サグに逆に作用しつつ、形成体の応力量を削減する。形成体の応力の削減により、静疲労リスクを下げ、破損リスクを軽減して、形成体の耐久寿命を延ばす。

当業者には、請求した主題の精神および範囲を逸脱することなく、本明細書に記載の実施形態に、様々な変更および変形が可能なことが明らかだろう。したがって、本明細書は、本明細書に記載の様々な実施形態の変更および変形も、そのような変更および変形が、請求項、および、その等価物の範囲である限りは、網羅することを企図している。

以下、本発明の好ましい実施形態を項分け記載する。

実施形態１
ガラス形成装置において、
根元部で収束する第１の形成面および第２の形成面を含む形成体と、
互いにＶ字構成となるように向いて、上向き鉛直の力成分を有する保持力を前記形成体に加えるものである、該形成体の前記第１の形成面と係合する第１の接触面、および、該形成体の前記第２の形成面と係合する第２の接触面を含む、少なくとも１つのクレイドルアセンブリと、
前記形成体の端面と係合し、圧縮力を、該形成体の長さ方向に平行で、かつ、前記拘束力成分に垂直である方向に、該形成体に対して加える少なくとも１つ端部ブロックと、
を含む装置。

実施形態２
前記根元部が、前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリを通って延伸して、その下に位置するものである、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態３
前記第１の接触面は、第１のクレイドルブロック上に位置し、
前記第２の接触面は、前記第１のクレイドルブロックから独立した第２のクレイドルブロック上に位置するものである、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態４
前記第１のクレイドルブロックおよび前記第２のクレイドルブロックは、互いに近付くように付勢されて、それにより、それらの間の前記形成体に突き当たるものである、実施形態３に記載のガラス形成装置。

実施形態５
前記圧縮力を、前記形成体の質量中心より下で、該形成体の前記端面に加えるものである、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態６
前記第１の接触面および前記第２の接触面は、クレイドルブロックに形成されたＶ字形切込みの対向する側である、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態７
前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリは、第１のクレイドルアセンブリ、および、第２のクレイドルアセンブリを含み、
前記第１のクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第１の端部で係合し、
前記第２のクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第２の端部で係合するものである、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態８
前記少なくとも１つの端部ブロックは、第１の端部ブロック、および、第２の端部ブロックを含み、
前記第１の端部ブロックは、前記形成体の第１の端面と係合し、
前記第２の端部ブロックは、前記形成体の第２の端面と係合し、
前記第１の端部ブロックおよび前記第２の端部ブロックは、互いに近付くように付勢されて、それにより、前記形成体に対して、該形成体の前記長さ方向に前記圧縮力を加えるものである、実施形態７に記載のガラス形成装置。

実施形態９
前記形成体の堰部領域は、前記第１のクレイドルアセンブリから前記第２のクレイドルアセンブリまで延伸し、該第１のクレイドルアセンブリおよび該第２のクレイドルアセンブリに接触するものである、実施形態７に記載のガラス形成装置。

実施形態１０
前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第１の端部で係合し、
前記形成体の第２の端部は、ピアブロック上に支持されたものである、実施形態１に記載のガラス形成装置。

実施形態１１
前記少なくとも１つの端部ブロックは、前記形成体の第１の端面と係合し、
前記ピアブロックは、前記形成体の第２の端面と係合し、
前記少なくとも１つの端部ブロックは、前記ピアブロックの方に付勢され、それにより、前記形成体に対して、該形成体の前記長さ方向に前記圧縮力を加えるものである、実施形態１０に記載のガラス形成装置。

実施形態１２
根元部で収束する第１の形成面および第２の形成面を有する形成体の支持方法において、
前記第１の形成面および前記第２の形成面に対して、上向き鉛直の力成分を有する保持力を加えて、前記形成体の下向き鉛直方向の移動を防ぐ工程と、
逆のモーメントを加える圧縮力を、前記形成体の長さ方向に平行な方向に、該形成体の端面に対して加えて、該形成体の前記長さに沿ったサグを軽減する工程と、
を含む方法。

実施形態１３
前記保持力を加える工程は、
クレイドルアセンブリの第１の接触面を、前記形成体の前記第１の形成面と係合させる工程と、
前記クレイドルアセンブリの第２の接触面を、前記形成体の前記第２の形成面と係合させる工程と、
を含み、
前記第１の接触面と前記第２の接触面は、互いにＶ字構成となるように向いたものである、実施形態１２に記載の形成体支持方法。

実施形態１４
前記クレイドルアセンブリは、第１のクレイドルブロック、および、前記第１のクレイドルブロックから独立した第２のクレイドルブロックを含み、
前記第１の接触面は、前記第１のクレイドルブロック上に位置し、
前記第２の接触面は、前記第２のクレイドルブロック上に位置するものである、実施形態１３に記載の形成体支持方法。

実施形態１５
前記第１の接触面を前記第１の形成面と係合させる工程、および、前記第２の接触面を前記第２の形成面と係合させる工程は、前記第１のクレイドルブロックと前記第２のクレイドルブロックを、互いに近付くように付勢する工程を含むものである、実施形態１４に記載の形成体支持方法。

実施形態１６
前記根元部は、前記クレイドルアセンブリを通って延伸して、その下に位置するものである、実施形態１３に記載の形成体支持方法。

実施形態１７
前記クレイドルアセンブリは、クレイドルブロックを含み、
前記第１の接触面と前記第２の接触面は、前記クレイドルブロックに形成されたＶ字形切込みの対向する側である、実施形態１３に記載の形成体支持方法。

実施形態１８
前記圧縮力を加える工程は、少なくとも１つの端部ブロックを、前記形成体の端面と係合させる工程を含むものである、実施形態１２に記載の形成体支持方法。

実施形態１９
前記圧縮力を、前記形成体の質量中心より下で加えるものである、実施形態１２に記載の形成体支持方法。

１０ ガラス形成装置
１２ ガラスリボン
１５ 溶融槽
２４ 制御部
３０ 立て管
３６ 第１の接続管
３８ 清澄槽
４０ 第２の接続管
４２ 混合槽
４４ 送出路
４６ 送出槽
４８ 降下管
５０ 投入部
６０、５００ 形成体
６１ トラフ部
６２ 第１の形成面
６４ 第２の形成面
７０、５７０ 根元部
１２０、１２０’、１２０ａ、１２０ｂ クレイドルアセンブリ
１２２ 第１のクレイドルブロック
１２４ 第２のクレイドルブロック
１３２ 第１の接触面
１３４ 第２の接触面
１５０ クレイドルブロック
１５５ 切込み
１７０ａ、１７０ｂ 端部ブロック

Claims (11)

1. ガラス形成装置において、
   上部と、前記上部に位置するトラフ部と、根元部で収束する第１の形成面および第２の形成面とを含む形成体と、
   互いにＶ字構成となるように向いて、上向き鉛直の力成分である拘束力成分を有する保持力を前記形成体に加えるものである、該形成体の前記第１の形成面と係合する第１の接触面、および、該形成体の前記第２の形成面と係合する第２の接触面を含む、少なくとも１つのクレイドルアセンブリと、
   前記形成体の端面と係合し、圧縮力を、該形成体の長さ方向に平行で、かつ、前記拘束力成分に垂直である方向に、該形成体に対して加える少なくとも１つの端部ブロックと、
   を含み、
   前記第１の形成面および前記第２の形成面は、前記形成体の上部から、下流側方向に延伸するよう構成されており、
   前記形成体の前記トラフ部を満たした溶融ガラスが、前記形成体の長さに沿って超えて、下流側方向に流れ、前記形成体の上部から前記第１の形成面および前記第２の形成面上へと流れ、前記根元部で合流して融着するよう構成されている、ガラス形成装置。
2. 前記根元部が、前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリを通って延伸して、その下に位置するものである、請求項１に記載のガラス形成装置。
3. 前記第１の接触面は、第１のクレイドルブロック上に位置し、
   前記第２の接触面は、前記第１のクレイドルブロックから独立した第２のクレイドルブロック上に位置するものである、請求項１または２に記載のガラス形成装置。
4. 前記第１のクレイドルブロックおよび前記第２のクレイドルブロックは、互いに近付くように付勢されて、それにより、それらの間の前記形成体に突き当たるものである、請求項３に記載のガラス形成装置。
5. 前記圧縮力を、前記形成体の質量中心より下で、該形成体の前記端面に加えるものである、請求項１から４のいずれか１項に記載のガラス形成装置。
6. 前記第１の接触面および前記第２の接触面は、クレイドルブロックに形成されたＶ字形切込みの対向する側である、請求項１に記載のガラス形成装置。
7. 前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリは、第１のクレイドルアセンブリ、および、第２のクレイドルアセンブリを含み、
   前記第１のクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第１の端部で係合し、
   前記第２のクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第２の端部で係合するものである、請求項１から６のいずれか１項に記載のガラス形成装置。
8. 前記少なくとも１つの端部ブロックは、第１の端部ブロック、および、第２の端部ブロックを含み、
   前記第１の端部ブロックは、前記形成体の第１の端面と係合し、
   前記第２の端部ブロックは、前記形成体の第２の端面と係合し、
   前記第１の端部ブロックおよび前記第２の端部ブロックは、互いに近付くように付勢されて、それにより、前記形成体に対して、該形成体の前記長さ方向に前記圧縮力を加えるものである、請求項７に記載のガラス形成装置。
9. 前記形成体の堰部領域は、前記第１のクレイドルアセンブリから前記第２のクレイドルアセンブリまで延伸し、該第１のクレイドルアセンブリおよび該第２のクレイドルアセンブリに接触するものである、請求項７に記載のガラス形成装置。
10. 前記少なくとも１つのクレイドルアセンブリは、前記形成体と、該形成体の第１の端部で係合し、
    前記形成体の第２の端部は、ピアブロック上に支持されたものである、請求項１から６のいずれか１項に記載のガラス形成装置。
11. 前記少なくとも１つの端部ブロックは、前記形成体の第１の端面と係合し、
    前記ピアブロックは、前記形成体の第２の端面と係合し、
    前記少なくとも１つの端部ブロックは、前記ピアブロックの方に付勢され、それにより、前記形成体に対して、該形成体の前記長さ方向に前記圧縮力を加えるものである、請求項１０に記載のガラス形成装置。

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