JP2000315664A - Slicing method - Google Patents

Slicing method

Info

Publication number
JP2000315664A
JP2000315664A JP12336999A JP12336999A JP2000315664A JP 2000315664 A JP2000315664 A JP 2000315664A JP 12336999 A JP12336999 A JP 12336999A JP 12336999 A JP12336999 A JP 12336999A JP 2000315664 A JP2000315664 A JP 2000315664A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
jig
base material
point material
slicing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP12336999A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kenichi Okajima
健一 岡島
Takeshi Inao
健 稲男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP12336999A priority Critical patent/JP2000315664A/en
Publication of JP2000315664A publication Critical patent/JP2000315664A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a slicing method, capable of solving clogging of a wheel and preventing reduction in the processing quality of chipping, etc. SOLUTION: In a method for slicing a processing matter 1 by an outer peripheral blade wheel 6, the processing matter 1 is mounted on a substrate 2 and the both are held in parallelism, while the both are fixed via a low fusing point material layer 3 therebetween, and the processing matter 1 is sliced so that the leading end of the outer peripheral blade wheel 6 is positioned in a middle part of the low meeting point material layer 3. The sliced substrate 2 and a processing matter 1a are heated, and the low fusing point material layer 3 therebetween is meeted to isolate the processing matter 1a from the substrate 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は単結晶材料やセラミ
ックスなどの被加工物をスライシング加工する方法、お
よびスライシング加工に用いられる被加工物固定構造体
に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for slicing a work such as a single crystal material or ceramics, and a work fixing structure used for slicing.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、セラミックスウエハやシリコンウ
エハなどの被加工物を外周刃砥石を持つブレードで多数
のチップに分割する際、スライシング加工が行なわれ
る。スライシング加工は、被加工物であるウエハを粘着
シートの表面に貼り付けるとともに、粘着シートの裏面
をエアチャックテーブルなどの表面に吸着保持し、外周
刃砥石を持つブレードを回転させ、テーブルを水平方向
へ移動させることで、被加工物を切り込んでスライシン
グするのが一般的である。
2. Description of the Related Art Conventionally, when a workpiece such as a ceramic wafer or a silicon wafer is divided into a large number of chips by a blade having an outer peripheral grindstone, slicing is performed. In the slicing process, the wafer to be processed is attached to the surface of the adhesive sheet, the back surface of the adhesive sheet is sucked and held on the surface of an air chuck table, etc. In general, the workpiece is cut and sliced by moving the workpiece.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】粘着シートには、例え
ばポリエチレンテレフタレートなどのキャリヤフィルム
が用いられ、その表面に熱発泡粘着剤やUV硬化性粘着
剤などからなる粘着層が形成されている。スライシング
加工中、ブレードは被加工物だけでなく、粘着層やキャ
リヤフィルムも切り込むため、キャリヤフィルムの一部
が砥石に溶着したり、粘着剤の一部が砥石に付着する。
そのため、砥石は目詰まり状態となり、ブレードの切れ
味が早期に低下するとともに、被加工物に過負荷が生
じ、チッピングなどの加工品質の低下を招いていた。ま
た、粘着層の剛性が低いので、スライシング加工中、ブ
レードによる押し付け荷重によって粘着層が弾性変形
し、そのため切断面の直角精度が出にくいという問題が
あった。さらに、ブレードは被加工物および粘着層だけ
でなくキャリヤフィルムも切り込むため、一度使用した
粘着シートは再利用できないという経済的な欠点もあっ
た。
As the pressure-sensitive adhesive sheet, a carrier film such as polyethylene terephthalate is used, and a pressure-sensitive adhesive layer made of a heat-foamable pressure-sensitive adhesive or a UV-curable pressure-sensitive adhesive is formed on the surface thereof. During slicing, the blade cuts not only the workpiece, but also the adhesive layer and the carrier film, so that a part of the carrier film is welded to the grindstone, and a part of the adhesive adheres to the grindstone.
For this reason, the grindstone is clogged, the sharpness of the blade is reduced at an early stage, the workpiece is overloaded, and the processing quality such as chipping is reduced. In addition, since the rigidity of the adhesive layer is low, the adhesive layer is elastically deformed by the pressing load by the blade during the slicing process, so that there is a problem that it is difficult to obtain a right angle accuracy of the cut surface. Furthermore, since the blade cuts not only the workpiece and the adhesive layer but also the carrier film, there is an economic disadvantage that the adhesive sheet once used cannot be reused.

【0004】そこで、本発明の目的は、上記のような問
題点を解消できるスライシング加工方法を提供すること
にある。また、他の目的は、粘着層による固定に比べて
被加工物の保持剛性が高く、高精度なスライシング加工
が可能な被加工物固定構造体を提供することにある。さ
らに他の目的は、上記の被加工物固定構造体を容易にか
つ高精度に製造できる被加工物固定構造体の製造方法を
提供することにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a slicing method capable of solving the above problems. Another object of the present invention is to provide a workpiece fixing structure that has a higher rigidity for holding the workpiece as compared with fixing with an adhesive layer and that can perform a high-precision slicing process. Still another object is to provide a method of manufacturing a workpiece fixing structure capable of easily and accurately manufacturing the above workpiece fixing structure.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1に記載の発明は、外周刃砥石によって被加
工物をスライシング加工する方法において、基材の上に
被加工物を低融点材料層を介して固定した被加工物固定
構造体を安定に保持する工程と、上記外周刃砥石の先端
が上記低融点材料層中に位置するように被加工物のスラ
イシングを行なう工程と、スライシング後の被加工物固
定構造体を加熱し、低融点材料層を融解させて被加工物
を基材から分離する工程と、を有することを特徴とする
スライシング加工方法を提供する。
In order to achieve the above object, an object of the present invention is to provide a method for slicing a workpiece with an outer peripheral grindstone. A step of stably holding the workpiece-fixed structure fixed via the material layer, a step of slicing the workpiece so that the tip of the outer peripheral grinding wheel is located in the low-melting point material layer, and a step of slicing. A step of heating the workpiece fixing structure later to melt the low-melting-point material layer to separate the workpiece from the base material, thereby providing a slicing method.

【0006】基材上に被加工物を低融点材料層を介して
固定した被加工物固定構造体を、例えばエアチャックテ
ーブルなどの上に安定に保持する。そして、外周刃砥石
を持つブレードを回転させ、テーブルを水平方向へ移動
させることにより、被加工物を切り込んでスライシング
する。このとき、ブレードは被加工物だけでなく低融点
材料層も切り込むが、基材を切り込むことはない。低融
点材料は比較的低温で融解するので、スライシング中の
温度によってブレードから容易に除去され、目詰まりを
起こすことがない。そのため、砥石の切れ味を維持で
き、チッピングが生じない。また、凝固状態の低融点材
料は粘着層に比べて剛性が高いので、加工中のブレード
の押し付け荷重によって殆ど弾性変形せず、切断面の高
い直角精度を得ることができる。さらに、ブレードの外
周刃は基材にまで到達しないので、基材には切り込み溝
が形成されない。つまり、基材を何回でも再利用でき、
経済的である。
A workpiece fixing structure in which a workpiece is fixed on a base material via a low melting point material layer is stably held on, for example, an air chuck table or the like. Then, by rotating a blade having an outer peripheral grindstone and moving the table in the horizontal direction, the workpiece is cut and sliced. At this time, the blade cuts not only the workpiece but also the low melting point material layer, but does not cut the base material. Since the low melting point material melts at a relatively low temperature, it is easily removed from the blade by the temperature during slicing and does not cause clogging. Therefore, the sharpness of the grindstone can be maintained, and chipping does not occur. In addition, since the solidified low-melting point material has higher rigidity than the adhesive layer, it hardly undergoes elastic deformation due to the pressing load of the blade during processing, and a high right-angle accuracy of the cut surface can be obtained. Furthermore, since the outer peripheral blade of the blade does not reach the base material, no cut groove is formed in the base material. In other words, the substrate can be reused any number of times,
It is economical.

【0007】低融点材料としては、例えばワックスを使
用できる。基材としては、ポリエチレンテレフタレート
などのキャリヤフィルムを使用してもよいし、平坦な表
面を有する剛性板を用いてもよい。いずれの場合も、ス
ライシング加工中に低融点材料と基材とが剥離しないよ
うに、低融点材料との密着性の良好な材料を用いる必要
がある。
As the low melting point material, for example, wax can be used. As the substrate, a carrier film such as polyethylene terephthalate may be used, or a rigid plate having a flat surface may be used. In any case, it is necessary to use a material having good adhesion to the low melting point material so that the low melting point material and the base material do not peel off during the slicing process.

【0008】スライシング加工のために、請求項2に記
載のような3層構造よりなる被加工物固定構造体を使用
するのが望ましい。すなわち、基材と被加工物との平行
度が保たれ、低融点材料の高い剛性と相俟って、切断面
の良好な直角度と高い寸法精度を得ることができる。被
加工物固定構造体は、スライシング加工後、僅かに加熱
することで低融点材料を簡単に除去できるので、切断さ
れたチップ状の被加工物に負荷をかけずに基材から取り
出すことができる。
For slicing, it is desirable to use a work fixing structure having a three-layer structure as described in claim 2. That is, the parallelism between the base material and the workpiece is maintained, and a good squareness and high dimensional accuracy of the cut surface can be obtained in combination with the high rigidity of the low melting point material. After the slicing process, the workpiece fixing structure can easily remove the low-melting point material by slightly heating, so that it can be taken out of the base material without applying a load to the cut chip-shaped workpiece. .

【0009】請求項2に記載のような被加工物固定構造
体を製造するため、請求項3のように、下面側が開口し
かつ天井面に被加工物を真空吸着する第1の吸着面を有
する充填空間を設けた第1の治具と、上面に第1の吸着
面と平行でかつ基材を吸着する第2の吸着面を有する第
2の治具とを用いるのがよい。すなわち、第2の治具の
第2の吸着面に基材を吸着し、第1の吸着面に被加工物
を真空吸着する。そして、基材上に第1の治具の下端開
口面を密着させ、第1の治具の充填空間に低融点材料を
充填し、凝固させる。その後、基材上に低融点材料層と
被加工物とを残して基材から第1の治具を分離し、第2
の治具から基材を分離する。このようにすれば、被加工
物が第1の治具の第1吸着面に面で吸着されるので、被
加工物にソリや捩れがあっても、ソリや捩れを矯正して
基材と被加工物とを高い平行度をもって固定することが
できる。したがって、スライシング時の加工精度も高く
なる。
In order to manufacture the workpiece fixing structure as described in claim 2, as in claim 3, the first suction surface having an opening on the lower surface side and vacuum-sucking the workpiece on the ceiling surface is provided. It is preferable to use a first jig provided with a filling space and a second jig having an upper surface parallel to the first suction surface and having a second suction surface for sucking the substrate. That is, the substrate is sucked on the second suction surface of the second jig, and the workpiece is vacuum-sucked on the first suction surface. Then, the lower end opening surface of the first jig is brought into close contact with the base material, and the filling space of the first jig is filled with a low melting point material and solidified. Thereafter, the first jig is separated from the substrate while leaving the low melting point material layer and the workpiece on the substrate.
Separate the substrate from the jig. With this configuration, the workpiece is attracted to the first suction surface of the first jig by the surface. Therefore, even if the workpiece has warpage or twist, the workpiece is corrected by warping or twisting. The workpiece and the workpiece can be fixed with high parallelism. Therefore, the processing accuracy during slicing is also increased.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】図1は本発明にかかるスライシン
グ加工用の被加工物固定構造体Aの一例を示す。この被
加工物固定構造体Aは、被加工物1と基材2と低融点材
料層3との三層構造を有している。被加工物1は例えば
焼成済みのセラミックスウエハやシリコーンウエハなど
のウエハである。基材2は例えばポリエチレンテレフタ
レートなどのキャリヤフィルムで構成されている。基材
2は一定長さに切断されたシートであってもよいし、長
く延びる連続シートであってもよい。低融点材料層3は
例えばワックスなどよりなり、被加工物1と基材2との
間に所定厚みtで介装され、被加工物1は基材2に対し
平行に取り付けられている。低融点材料層3の厚みt
は、後述する外周刃砥石によってスライシング加工を行
なう際の砥石の逃がし代を確保するため、例えば0.1
mm程度に設定される。
FIG. 1 shows an example of a workpiece fixing structure A for slicing according to the present invention. The workpiece fixed structure A has a three-layer structure of a workpiece 1, a base material 2, and a low-melting material layer 3. The workpiece 1 is, for example, a wafer such as a fired ceramic wafer or silicone wafer. The substrate 2 is made of a carrier film such as polyethylene terephthalate. The base material 2 may be a sheet cut to a certain length, or may be a continuous sheet extending long. The low-melting-point material layer 3 is made of, for example, wax or the like, and is interposed between the workpiece 1 and the substrate 2 with a predetermined thickness t, and the workpiece 1 is attached in parallel to the substrate 2. Thickness t of low melting point material layer 3
For example, in order to ensure a clearance allowance of the grindstone when performing slicing with the outer peripheral grindstone described below, for example, 0.1
mm.

【0011】次に、上記被加工物固定構造体Aを用いて
スライシング加工を行なう方法を図2に従って説明す
る。まず(a)のように、被加工物固定構造体Aをエア
チャックテーブル4上に載置し、吸引穴5から真空吸引
することにより、基材2をテーブル4の表面に吸着保持
する。次に、(b)のように、エアチャックテーブル4
の上方に外周刃砥石を有するブレード6を配置し、この
ブレード6を回転させながらテーブル4を紙面と垂直方
向に水平移動させることで、被加工物1をスライシング
加工する。この時、ブレード6の外周刃砥石の先端が低
融点材料層3の中に位置するように、ブレード6の高さ
を調整する。1本のスライシングを終了すれば、ブレー
ド6を横方向へ1ピッチ分だけずらし、スライシングを
繰り返す。スライシング加工中、低融点材料は比較的剛
性を有するので、ブレード6の押し付け荷重によって撓
まず、被加工物1の切断面の直角精度を確保できる。次
に、(c)のようにスライシングが終了した被加工物固
定構造体Aをエアチャックテーブル4から取り出す。こ
の段階では、チップ状に切断された被加工物1aは低融
点材料層3によって基材2に保持されている。最後に、
被加工物固定構造体Aを低融点材料層3が融解する温度
まで加熱することで、低融点材料層3を除去する。これ
により、(d)のようにチップ状に切断された被加工物
1aは基材2から分離される。この際、被加工物1aに
は殆ど負荷が掛からないので、脆弱な被加工物1aであ
っても割れや傷付きの危険を回避できる。
Next, a method of performing slicing using the workpiece fixing structure A will be described with reference to FIG. First, as shown in (a), the workpiece fixed structure A is placed on the air chuck table 4, and the substrate 2 is sucked and held on the surface of the table 4 by vacuum suction through the suction hole 5. Next, as shown in FIG.
The workpiece 1 is slicing-processed by disposing a blade 6 having an outer peripheral grindstone above the table 1 and horizontally moving the table 4 in a direction perpendicular to the paper surface while rotating the blade 6. At this time, the height of the blade 6 is adjusted so that the tip of the outer peripheral grindstone of the blade 6 is located in the low melting point material layer 3. When one slicing is completed, the blade 6 is shifted in the horizontal direction by one pitch, and the slicing is repeated. During slicing, the low-melting-point material has relatively rigidity, so that it does not bend due to the pressing load of the blade 6 and can secure the right-angle accuracy of the cut surface of the workpiece 1. Next, the workpiece fixing structure A for which slicing has been completed as shown in FIG. At this stage, the workpiece 1 a cut into chips is held on the base material 2 by the low melting point material layer 3. Finally,
The low-melting material layer 3 is removed by heating the workpiece fixing structure A to a temperature at which the low-melting material layer 3 melts. As a result, the workpiece 1a cut into chips as shown in FIG. At this time, since almost no load is applied to the workpiece 1a, even if the workpiece 1a is fragile, the risk of cracking or damage can be avoided.

【0012】上記のようにブレード6が低融点材料層3
は切り込むが、基材2を切り込まないように低融点材料
層3の厚みtを設定してあるので、ブレード6には基材
2の溶着屑が付着しない。低融点材料3はブレード6に
一時的に付着するが、スライシング加工中の温度で容易
に融解して除去されるので、ブレード6の目詰まりの原
因とはならない。そのため、ブレード6の切れ味が低下
せず、被加工物1のチッピングを防止できる。また、ス
ライシング後の基材2に傷が付かないので、基材2を何
回でも再利用することができる。
As described above, the blade 6 is made of the low melting point material layer 3.
However, since the thickness t of the low-melting material layer 3 is set so as not to cut the substrate 2, welding debris of the substrate 2 does not adhere to the blade 6. Although the low melting point material 3 temporarily adheres to the blade 6, it is easily melted and removed at the temperature during the slicing process, and thus does not cause clogging of the blade 6. Therefore, the sharpness of the blade 6 does not decrease, and chipping of the workpiece 1 can be prevented. Further, since the substrate 2 after slicing is not damaged, the substrate 2 can be reused any number of times.

【0013】ここで、上記被加工物固定構造体Aの製造
方法について、図3を参照しながら説明する。まず
(a)のように、被加工物1および基材2の他に、第1
治具10と第2治具20とを準備する。第1治具10は
下面側が開口した充填空間11を備えており、充填空間
11の天井面には被加工物1を真空吸着するための第1
吸着面12が設けられている。吸着面12には真空吸引
手段と接続された多数の吸引穴13が設けられている。
また、第1治具10の下端開口面には、第1吸着面12
と平行な基準面14が設けられ、この基準面14から第
1吸着面12までの高さTが、被加工物1と低融点材料
層3との厚みの和となる。第1治具10の側壁には、低
融点材料を注入するための注入口15が形成されてい
る。一方、第2治具20は厚肉な板状に形成されてお
り、その上面に基材2を吸着するための平坦な第2吸着
面21が設けられている。そして、第2治具20には、
第2吸着面21に開口する多数の吸引穴22が設けられ
ている。次に(b)のように、第2治具20の第2吸着
面21に基材2を吸着保持し、第1治具10の基準面1
4を基材2上に密着させた状態で、被加工物1を第1吸
着面12に吸着保持する。この状態で、基材2と被加工
物1とは平行になる。次に(c)のように、第2治具2
0をヒータ23によって温めながら、注入口15よりワ
ックスなどの低融点材料3を注入する。この時、基材2
の表面が温められた状態にあるので、低融点材料3は流
動して充填空間11に隙間なく充填される。充填終了
後、第2治具20を冷却し、低融点材料3を凝固させ
る。低融点材料3の凝固後、第2治具20で基材2を吸
着したまま第1治具10を引き上げると、(d)のよう
に基材2上に低融点材料層3と被加工物1とを残して基
材2から第1治具10が分離される。その後、第2治具
20の吸着を解除し、基材2を第2治具20から分離す
ることで、図1に示す被加工物固定構造体Aを得ること
ができる。
Here, a method of manufacturing the workpiece fixing structure A will be described with reference to FIG. First, as shown in (a), in addition to the workpiece 1 and the base material 2, the first
A jig 10 and a second jig 20 are prepared. The first jig 10 includes a filling space 11 having an open lower surface, and a first surface for vacuum-sucking the workpiece 1 on a ceiling surface of the filling space 11.
A suction surface 12 is provided. The suction surface 12 is provided with a number of suction holes 13 connected to vacuum suction means.
Further, a first suction surface 12 is provided on the lower end opening surface of the first jig 10.
The height T from the reference surface 14 to the first suction surface 12 is the sum of the thicknesses of the workpiece 1 and the low-melting material layer 3. An injection port 15 for injecting the low melting point material is formed in the side wall of the first jig 10. On the other hand, the second jig 20 is formed in a thick plate shape, and a flat second suction surface 21 for sucking the substrate 2 is provided on an upper surface thereof. And, in the second jig 20,
A large number of suction holes 22 are provided on the second suction surface 21. Next, as shown in (b), the substrate 2 is suction-held on the second suction surface 21 of the second jig 20 and the reference surface 1 of the first jig 10 is held.
The workpiece 1 is suction-held on the first suction surface 12 in a state where the workpiece 4 is in close contact with the base material 2. In this state, the substrate 2 and the workpiece 1 are parallel. Next, as shown in (c), the second jig 2
The low melting point material 3 such as wax is injected from the injection port 15 while the heater 23 is heated by the heater 23. At this time, the substrate 2
Is warmed, the low melting point material 3 flows and fills the filling space 11 without gaps. After the filling is completed, the second jig 20 is cooled to solidify the low melting point material 3. After the solidification of the low melting point material 3, when the first jig 10 is pulled up while the substrate 2 is adsorbed by the second jig 20, the low melting point material layer 3 and the workpiece are formed on the substrate 2 as shown in FIG. 1 and the first jig 10 is separated from the base material 2. Thereafter, the suction of the second jig 20 is released, and the substrate 2 is separated from the second jig 20, so that the workpiece fixing structure A shown in FIG. 1 can be obtained.

【0014】上記実施例では、第1治具10の充填空間
11の天井面12に被加工物1を密着させるために、真
空吸着するようにしたが、これに代えてピンなどを用い
て被加工物1を天井面12に密着させてもよい。ただ、
多数の吸引穴13を有する吸着面12で吸着するように
すれば、被加工物1のソリや捩れを矯正できる効果があ
るので、望ましい。
In the above embodiment, the workpiece 1 is vacuum-adsorbed in order to bring the workpiece 1 into close contact with the ceiling surface 12 of the filling space 11 of the first jig 10. The workpiece 1 may be in close contact with the ceiling surface 12. However,
It is desirable that the suction is performed by the suction surface 12 having a large number of suction holes 13, since there is an effect of correcting the warp and twist of the workpiece 1.

【0015】図4は本発明の第2実施例を示す。この実
施例では、基材2として剛性板を用いたものである。こ
の場合には、被加工物固定構造体Bを製造するために、
(a)のように基材2の上に被加工物1を載置するとと
もに、第1治具10を基材2の上に密着させる。そし
て、基材2の下方からヒータ23で温めながら、第1治
具10の第1吸着面12で被加工物1を吸着し、注入口
15よりワックスなどの低融点材料3を充填空間11に
充填する。充填後、低融点材料3を凝固させる。低融点
材料3の凝固後、第1治具10を引き上げると、(b)
のように基材2上に低融点材料層3と被加工物1とが残
される。この実施例では、基材2が第2治具を兼ねるの
で、製造装置が簡素化されるとともに、基材2がほぼ非
変形に構成されているので、基材2が搬送用パレットと
しての機能を果たす。したがって、搬送中に低融点材料
3に割れなどが発生しにくく、搬送が容易になる。
FIG. 4 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a rigid plate is used as the substrate 2. In this case, in order to manufacture the workpiece fixing structure B,
As shown in (a), the workpiece 1 is placed on the substrate 2 and the first jig 10 is brought into close contact with the substrate 2. Then, the workpiece 1 is adsorbed on the first adsorption surface 12 of the first jig 10 while being warmed by the heater 23 from below the base material 2, and the low melting point material 3 such as wax is injected into the filling space 11 from the injection port 15. Fill. After filling, the low melting point material 3 is solidified. After solidification of the low melting point material 3, when the first jig 10 is pulled up, (b)
The low melting point material layer 3 and the workpiece 1 are left on the base material 2 as shown in FIG. In this embodiment, since the substrate 2 also serves as the second jig, the manufacturing apparatus is simplified, and since the substrate 2 is substantially non-deformed, the substrate 2 functions as a transport pallet. Fulfill. Accordingly, the low melting point material 3 is less likely to crack during transportation, and transportation is facilitated.

【0016】[0016]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、請求項1
に記載の発明によれば、外周刃砥石を持つブレードで被
加工物をスライシングする際、ブレードが基材を切り込
まないように低融点材料によって被加工物を浮かせて支
持してあるので、基材が溶着してブレードに付着するの
を防止できる。低融点材料は一時的にブレードに付着す
るが、低融点材料はスライシング中の温度によってブレ
ードから容易に除去されるので、目詰まりを起こすこと
がない。そのため、砥石の切れ味を維持でき、チッピン
グを防止できる。また、凝固状態の低融点材料は粘着層
に比べて剛性が高いので、加工中のブレードの押し付け
荷重によって殆ど弾性変形せず、切断面の高い直角精度
を得ることができる。さらに、ブレードの外周刃は基材
にまで到達しないので、基材には切り込み溝が形成され
ず、基材を何回でも再利用でき、経済的である。
As is apparent from the above description, claim 1
According to the invention described in (1), when slicing a workpiece with a blade having an outer peripheral grindstone, the workpiece is floated and supported by a low melting point material so that the blade does not cut into the base material. The material can be prevented from welding and adhering to the blade. The low melting material temporarily adheres to the blade, but does not clog because the low melting material is easily removed from the blade by the temperature during slicing. Therefore, the sharpness of the grindstone can be maintained and chipping can be prevented. In addition, since the solidified low-melting point material has higher rigidity than the adhesive layer, it hardly undergoes elastic deformation due to the pressing load of the blade during processing, and a high right-angle accuracy of the cut surface can be obtained. Further, since the outer peripheral edge of the blade does not reach the base material, no cut groove is formed in the base material, and the base material can be reused any number of times, which is economical.

【0017】請求項2に記載の発明によれば、被加工物
と基材との間に設けられた低融点材料層によって、基材
と被加工物との平行度が確保されているので、基材を水
平に保持すれば、被加工物の水平度も自動的に確保さ
れ、高精度のスライシングが可能となる。しかも、スラ
イシング後、低融点材料は比較的低温で融解するので、
被加工物に機械的負荷あるいは熱的負荷をかけずに容易
に基材から取り出すことができる。
According to the second aspect of the present invention, the parallelism between the substrate and the workpiece is ensured by the low melting point material layer provided between the workpiece and the substrate. If the substrate is held horizontally, the level of the workpiece is also automatically secured, and high-precision slicing becomes possible. Moreover, after slicing, the low melting point material melts at a relatively low temperature,
The workpiece can be easily removed from the substrate without applying a mechanical load or a thermal load to the workpiece.

【0018】請求項3に記載の発明によれば、第1吸着
面を持つ充填空間を有する第1治具と、第2吸着面を有
する第2治具とを用い、第1吸着面に被加工物を吸着さ
せ、第2吸着面に基材を吸着させた状態で充填空間に低
融点材料を充填し、凝固させるようにしたので、基材と
被加工物との平行度を容易に得ることができ、しかも被
加工物にソリや捩れがあっても、これを矯正して高品質
の被加工物固定構造体を製造できる。
According to the third aspect of the present invention, a first jig having a filling space having a first suction surface and a second jig having a second suction surface are used to cover the first suction surface. The workpiece is adsorbed and the filling space is filled with the low melting point material while the base material is adsorbed on the second suction surface, and solidified, so that the parallelism between the base material and the workpiece can be easily obtained. Even if the workpiece is warped or twisted, it can be corrected to produce a high-quality workpiece fixing structure.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかる被加工物固定構造体の一例の断
面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an example of a workpiece fixing structure according to the present invention.

【図2】図1の被加工物固定構造体を用いたスライシン
グ加工の工程図である。
FIG. 2 is a process diagram of slicing processing using the workpiece fixing structure of FIG. 1;

【図3】図1の被加工物固定構造体の製造工程図であ
る。
FIG. 3 is a manufacturing process diagram of the workpiece fixing structure of FIG. 1;

【図4】本発明にかかる被加工物固定構造体の他の例の
製造工程図である。
FIG. 4 is a manufacturing process diagram of another example of the workpiece fixing structure according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A,B 被加工物固定構造体 1 被加工物 2 基材 3 低融点材料層 10 第1治具 20 第2治具 A, B Workpiece fixing structure 1 Workpiece 2 Base material 3 Low melting point material layer 10 First jig 20 Second jig

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】外周刃砥石によって被加工物をスライシン
グ加工する方法において、基材の上に被加工物を低融点
材料層を介して固定した被加工物固定構造体を安定に保
持する工程と、上記外周刃砥石の先端が上記低融点材料
層中に位置するように被加工物のスライシングを行なう
工程と、スライシング後の被加工物固定構造体を加熱
し、低融点材料層を溶融させて被加工物を基材から分離
する工程と、を有することを特徴とするスライシング加
工方法。
1. A method for slicing a workpiece with an outer peripheral grindstone, comprising: a step of stably holding a workpiece fixing structure in which the workpiece is fixed on a base material via a low melting point material layer. A step of slicing the workpiece so that the tip of the outer peripheral grindstone is located in the low melting point material layer, and heating the workpiece fixed structure after slicing to melt the low melting point material layer. Separating the workpiece from the base material.
【請求項2】外周刃砥石によってスライシング加工され
る被加工物を固定した被加工物固定構造体において、被
加工物と、被加工物を支持する基材と、被加工物と基材
との間に介装され、基材と被加工物との平行度を保ちな
がら両者を固定する低融点材料層と、からなる被加工物
固定構造体。
2. A workpiece fixing structure to which a workpiece to be sliced by an outer peripheral grindstone is fixed, wherein the workpiece, a substrate supporting the workpiece, and And a low-melting-point material layer interposed therebetween and fixing the base material and the workpiece while maintaining the parallelism therebetween.
【請求項3】下面側が開口しかつ天井面に被加工物を真
空吸着する第1の吸着面を有する充填空間を設けた第1
の治具と、上面に第1の吸着面と平行でかつ基材を真空
吸着する第2の吸着面を有する第2の治具とを用い、第
2の治具の第2の吸着面に基材を吸着する工程と、第1
の吸着面に被加工物を真空吸着する工程と、基材上に第
1の治具の下端開口面を密着させる工程と、第1の治具
の充填空間に低融点材料を充填し、凝固させる工程と、
基材上に低融点材料層と被加工物とを残して基材から第
1の治具を分離する工程と、第2の治具から基材を分離
する工程と、を有する被加工物固定構造体の製造方法。
3. A first filling space having an opening on a lower surface side and a first suction surface on a ceiling surface for vacuum-sucking a workpiece.
And a second jig having an upper surface parallel to the first suction surface and having a second suction surface for vacuum-sucking the substrate, using the second suction surface of the second jig. A step of adsorbing the base material;
Vacuum-adhering the workpiece to the suction surface of the first jig, bringing the lower end opening surface of the first jig into close contact with the base material, filling the filling space of the first jig with a low-melting-point material, and solidifying The step of causing
Workpiece fixing having a step of separating the first jig from the base material while leaving the low melting point material layer and the work piece on the base material, and a step of separating the base material from the second jig The method of manufacturing the structure.
JP12336999A 1999-04-30 1999-04-30 Slicing method Pending JP2000315664A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12336999A JP2000315664A (en) 1999-04-30 1999-04-30 Slicing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12336999A JP2000315664A (en) 1999-04-30 1999-04-30 Slicing method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000315664A true JP2000315664A (en) 2000-11-14

Family

ID=14858889

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12336999A Pending JP2000315664A (en) 1999-04-30 1999-04-30 Slicing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000315664A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007509501A (en) * 2003-10-22 2007-04-12 ノースロップ・グラマン・コーポレーション Sewing process of hard substrate wafer
JP2016054192A (en) * 2014-09-03 2016-04-14 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 Semiconductor wafer dicing method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007509501A (en) * 2003-10-22 2007-04-12 ノースロップ・グラマン・コーポレーション Sewing process of hard substrate wafer
JP2016054192A (en) * 2014-09-03 2016-04-14 新日鉄住金マテリアルズ株式会社 Semiconductor wafer dicing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7140951B2 (en) Semiconductor device manufacturing apparatus and semiconductor device manufacturing method for forming semiconductor chips by dividing semiconductor wafer
JP2003529521A (en) Method for producing small glass sheet and large glass sheet as semi-finished product for producing small glass sheet
JP2011060985A (en) Method of manufacturing electronic component
JPH1027836A (en) Manufacture of semiconductor device and semiconductor manufacturing device
KR100817049B1 (en) Method of manufacturing chips of wafer for packaging
JP2005109155A (en) Processing method of semiconductor wafer
JP2007227594A (en) Cutting jig, and method for cutting optical substrate wafer
JP2000315664A (en) Slicing method
EP1316992A2 (en) Method for processing a semiconductor wafer and laminate substrate used as a support for said semiconductor wafer in said method
JP2005045149A (en) Method for expansion
JP4462940B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JP2002353170A (en) Dividing system, dividing method and dicing device for semiconductor wafer
CN111063631A (en) Method for processing wafer
JP2005116588A (en) Method of manufacturing chip component
JPH05286568A (en) Wafer sucking device and manufacture of semiconductor
US11094684B2 (en) Edge cut debond using a temporary filler material with no adhesive properties and edge cut debond using an engineered carrier to enable topography
TW556280B (en) Method of preventing silicon powder residue after wafer dicing
JP2803805B2 (en) Method for manufacturing semiconductor device
JPS644339B2 (en)
JP7463036B2 (en) Sheet sticking method and sheet sticking device
JP5489784B2 (en) Manufacturing method of semiconductor device
JPH06132382A (en) Plate-like material grooving support transfer method and jig therefor
JPS6181651A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2000195878A (en) Wafer transfer/fixing jig and manufacture of semiconductor device
JPS61135710A (en) Method of dicing semiconductor wafer