JP2000309679A - 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 - Google Patents
封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置Info
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Abstract
でき、成形性が良好で、耐リフロー性、耐湿性及び高温
放置特性などの信頼性に優れた封止用エポキシ樹脂成形
材料及び電子部品装置を提供する。 【解決手段】(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を
持つエポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、
(D)無機充填剤、を必須成分とし、(B)成分の硬化
剤が、数平均分子量が300〜1500でかつ重量平均
分子量が650〜10000である、フェノール性水酸
基を有する化合物(a)とトリアジン誘導体(b)とア
ルデヒド基を有する化合物(c)との重縮合物(E)を
含むことを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料。こ
の封止用エポキシ樹脂成形材料により封止された素子を
備える電子部品装置。
Description
脂成形材料、特に環境対応の観点から要求されるノンハ
ロゲン、ノンアンチモンの封止用エポキシ樹脂成形材料
で、耐湿性、耐リフロー性、高温放置特性など厳しい信
頼性を要求されるVLSIの封止用に好適な成形材料及
びその成形材料で封止した素子を備える電子部品装置に
関する。
部品封止の分野ではエポキシ樹脂成形材料が広く用いら
れている。この理由としては、エポキシ樹脂が電気特
性、耐湿性、耐熱性、機械特性、インサート品との接着
性などの諸特性にバランスがとれているためである。こ
れらのエポキシ樹脂成形材料の難燃化は主にテトラブロ
モビスフェノールAのジグリシジルエーテル等のブロム
化樹脂と酸化アンチモンの組合せにより行われている。
また、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを用いずに難燃化
を達成する手法としては、特開平9−227765号公
報に開示されている赤燐を用いたもの、特開平9−23
5449号公報に開示されている燐酸エステル化合物を
用いたもの、特開平8−225714号公報に開示され
ているホスファゼン化合物を用いたもの、特開平9−2
41483号公報に開示されている金属水酸化物を用い
たもの、特開平9−100337号公報に開示されてい
る金属水酸化物と金属酸化物を併用して用いたもの、さ
らには特開平7−82343号公報に開示されている充
填剤の割合を高くしたもの等の手法が主に知られてい
る。
からダイオキシンの問題に端を発し、デカブロムをはじ
めハロゲン化樹脂についても規制の動きがある。同様に
アンチモン化合物も規制の動きがあり、封止用エポキシ
樹脂成形材料についても脱ハロゲン化(脱ブロム化)、
脱アンチモン化の要求が出てきている。また、プラスチ
ック封止ICの高温放置特性にブロムイオンが悪影響を
及ぼすことが知られており、この観点からもブロム化樹
脂量の低減が望まれている。この脱ハロゲン、脱アンチ
モン化の要求に対して、燐化合物、窒素化合物及び金属
化合物等、種々の難燃剤が検討されている。しかし、先
に示した特開平9−227765号公報に開示されてい
るような赤燐を用いた組成物は耐湿信頼性の低下や赤燐
の打撃発火性に起因する安全性の問題、特開平9−23
5449号公報に開示されているような燐酸エステル化
合物を用いた組成物や特開平8−225714号公報に
開示されているホスファゼン化合物を用いた組成物は可
塑化による成形性の低下や耐湿信頼性の低下の問題、特
開平9−241483号公報に開示されている金属水酸
化物を用いた組成物や特開平9−100337号公報に
開示されている金属水酸化物と金属酸化物を併用して用
いた組成物、さらには特開平7−82343号公報に開
示されている充填剤の割合を高くした組成物は流動性の
低下の問題がそれぞれあり、いずれの場合もブロム化樹
脂と酸化アンチモンを用いた組成物と同等の成形性、信
頼性を得るに至っていない。本発明はかかる状況に鑑み
なされたもので、脱ハロゲン化、脱アンチモン化で、成
形性が良好で、かつ耐リフロー性、耐湿性及び高温放置
特性等の信頼性の優れた封止用エポキシ樹脂材料及びそ
れを用いた電子部品装置を提供しようとするものであ
る。
解決するために鋭意検討を重ねた結果、エポキシ樹脂成
形材料に特定の硬化剤を配合することにより上記の目的
を達成しうることを見いだし、本発明を完成するに至っ
た。
中に2個以上のエポキシ基を持つエポキシ樹脂、(B)
硬化剤、(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤、を必須
成分とし、(B)成分の硬化剤が、数平均分子量が30
0〜1500でかつ重量平均分子量が650〜1000
0である、フェノール性水酸基を有する化合物(a)と
トリアジン誘導体(b)とアルデヒド基を有する化合物
(c)との重縮合物(E)を含むことを特徴とする封止
用エポキシ樹脂成形材料、(2)重縮合物(E)に用い
られるトリアジン誘導体(b)がベンゾグアナミン及び
/又はメラミンであることを特徴とする上記(1)記載
の封止用エポキシ樹脂成形材料、(3)重縮合物(E)
の分子量分布(重量平均分子量/数平均分子量)が1.
6〜15であることを特徴とする上記(1)又は(2)
記載の封止用エポキシ樹脂成形材料、(4)(A)成分
が下記一般式(I)のエポキシ樹脂を含むことを特徴と
する上記(1)〜(3)記載のいずれかの封止用エポキ
シ樹脂成形材料、
は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、すべて同一で
も異なっていてもよい。nは0〜3を示す。) (5)(B)成分が下記一般式(II)の硬化剤をさらに
含むことを特徴とする上記(1)〜(4)記載のいずれ
かの封止用エポキシ樹脂成形材料、
換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜8を示
す。) (6)下記一般式(III)で示される燐化合物(F)を
さらに含むことを特徴とする上記(1)〜(5)記載の
いずれかの封止用エポキシ樹脂成形材料、
全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示
す。) (7)上記(1)〜(6)記載のいずれかの封止用エポ
キシ樹脂成形材料により封止された素子を備える電子部
品装置、である。
成分のエポキシ樹脂は、封止用エポキシ樹脂成形材料で
一般に使用されているもので特に限定はないが、例え
ば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オルソクレ
ゾールノボラック型エポキシ樹脂をはじめとするフェノ
ール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノ
ール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジ
ヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を
有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得
られるノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェ
ノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS、アル
キル置換又は非置換のビフェノール等のジグリシジルエ
ーテル、フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸とエピクロ
ルヒドリンの反応により得られるグリシジルエステル型
エポキシ樹脂、ジアミノジフェニルメタン、イソシアヌ
ル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの反応により
得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、ジシクロペ
ンタジエンとフェノ−ル類の共縮合樹脂のエポキシ化
物、ナフタレン環を有するエポキシ樹脂、ナフトールア
ラルキル樹脂のエポキシ化物、トリメチロールプロパン
型エポキシ樹脂、テルペン変性エポキシ樹脂、オレフィ
ン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族
エポキシ樹脂、及び脂環族エポキシ樹脂などが挙げら
れ、耐リフロー性の面からは下記一般式(I)のビフェ
ニル型エポキシ樹脂が好適である。
は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、すべて同一で
も異なっていてもよい。nは0〜3を示す。) これを例示すると、4,4’−ビス(2,3−エポキシ
プロポキシ)ビフェニルや4,4’−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3’,5,5’−テトラメチ
ルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂、エピクロル
ヒドリンと4,4’−ビフェノールや4,4’−(3,
3’,5,5’−テトラメチル)ビフェノールとを反応
して得られるエポキシ樹脂等が挙げられる。中でも4,
4’−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,
3’,5,5’−テトラメチルビフェニルを主成分とす
るエポキシ樹脂が好ましい。このビフェニル型エポキシ
樹脂を使用する場合、その配合量はエポキシ樹脂全量に
対し60重量%以上とすることが好ましい。60重量%
未満では当該エポキシ樹脂の低吸湿性、高接着性の特長
が発揮されにくく、耐リフロー性に対して効果が小さく
なりがちである。これらのエポキシ樹脂は単独で用いて
も2種類以上併用してもよい。
化剤は、数平均分子量が300〜1500でかつ重量平
均分子量が650〜10000である、フェノール性水
酸基を有する化合物(a)とトリアジン誘導体(b)と
アルデヒド基を有する化合物(c)との重縮合物(E)
を含んでいればよく、それ以外に封止用エポキシ樹脂成
形材料で一般に使用されている硬化剤を併用することも
できる。重縮合物(E)と併用する硬化剤としては、例
えば、フェノール、クレゾール、レゾルシン、カテコー
ル、ビスフェノールA、ビスフェノールF、フェニルフ
ェノール、アミノフェノール等のフェノール類又はα−
ナフトール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン
等のナフトール類とホルムアルデヒド等のアルデヒド基
を有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて
得られる樹脂、フェノール類とジメトキシパラキシレン
やビス(メトキシメチル)ビフェニルから合成されるフ
ェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラルキル樹
脂などが挙げられ、中でも耐リフロー性の面からは下記
一般式(II)で表されるフェノール・アラルキル樹脂が
好適である。この一般式(II)の硬化剤を用いる場合、
配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対し
て60重量%以上とすることが好ましい。
換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜8を示
す。) 中でも下記の式(IV)で示され、nが平均的に0〜8の
ものが好ましい。
よい。
(E)を含む(B)成分の硬化剤との当量比、すなわ
ち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数/硬化剤中の水酸基
数の比は、特に限定はされないが、それぞれの未反応分
を少なく抑えるために0.7〜1.3の範囲に設定する
ことが好ましく、特に成形性、耐リフロー性に優れる成
形材料を得るためには0.8〜1.2の範囲に設定する
ことが好ましい。
化促進剤は特に限定はないが、例えば、封止用エポキシ
樹脂成形材料で一般に使用されているもので、1,8−
ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、1,
5−ジアザ−ビシクロ(4,3,0)ノネン、5、6−
ジブチルアミノ−1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,
0)ウンデセン−7等のシクロアミジン化合物及びこれ
らの化合物に無水マレイン酸、1,4−ベンゾキノン、
2,5−トルキノン、1,4−ナフトキノン、2,3−
ジメチルベンゾキノン、2,6−ジメチルベンゾキノ
ン、2,3−ジメトキシ−5−メチル−1,4−ベンゾ
キノン、2,3−ジメトキシ−1,4−ベンゾキノン、
フェニル−1,4−ベンゾキノン等のキノン化合物、ジ
アゾフェニルメタン、フェノール樹脂などのπ結合をも
つ化合物を付加してなる分子内分極を有する化合物、ベ
ンジルジメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチ
ルアミノエタノール、トリス(ジメチルアミノメチル)
フェノール等の3級アミン類及びこれらの誘導体、2−
メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−
フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール類
及びこれらの誘導体、トリブチルホスフィン、メチルジ
フェニルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス
(4−メチルフェニル)ホスフィン、ジフェニルホスフ
ィン、フェニルホスフィン等の有機ホスフィン類及びこ
れらのホスフィン類に無水マレイン酸、上記キノン化合
物、ジアゾフェニルメタン、フェノール樹脂等のπ結合
をもつ化合物を付加してなる分子内分極を有するリン化
合物、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリフェニルホスフィンテトラフェニルボレー
ト、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニ
ルボレート、N−メチルモルホリンテトラフェニルボレ
ート等のテトラフェニルボロン塩及びこれらの誘導体な
どが挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いて
も2種以上併用しても良い。
促進効果が達成される量であれば特に限定されるもので
はないが、成形材料全体に対して0.005〜2重量%
が好ましく、より好ましくは0.01〜0.5重量%で
ある。
機充填剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及
び強度向上のために成形材料に配合されるものであり、
例えば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコ
ン、珪酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウ
ム、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベ
リリア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステ
アタイト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又
はこれらを球形化したビーズ、ガラス繊維などが挙げら
れる。さらに、難燃効果のある無機充填剤としては水酸
化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硼酸亜鉛、モリ
ブデン酸亜鉛等が挙げられる。これらの無機充填剤は単
独で用いても2種類以上併用してもよい。上記の無機充
填剤の中で、線膨張係数低減の観点からは溶融シリカ
が、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、充填
剤形状は成形時の流動性及び金型摩耗性の点から球形が
好ましい。無機充填剤の配合量としては、難燃性の観
点、成形性、吸湿性、線膨張係数の低減及び強度向上の
観点から、成形材料全体に対して70重量%以上が好ま
しく、80〜95重量%の範囲がより好ましく、88〜
92重量%がさらに好ましい。70重量%未満では耐リ
フロー性が低下しやすく、95重量%を超える場合には
流動性が不足しがちである。
化剤に含まれる重縮合物(E)は、フェノール性水酸基
を有する化合物(a)とトリアジン誘導体(b)とアル
デヒド基を有する化合物(c)との重縮合物である。
(ゲルパーミエーションクロマトグラフで測定し、標準
ポリスチレン換算した値)は、300〜1500の範囲
内であることが必要で、好ましくは350〜1200、
より好ましくは380〜1000である。数平均分子量
が300未満であると成形性、耐リフロー性が低下し、
1500を超えると流動性が低下する。また、重縮合物
(E)の重量平均分子量(Mw)(ゲルパーミエーショ
ンクロマトグラフで測定し、標準ポリスチレン換算した
値)は、650〜10000の範囲内であることが必要
で、好ましくは700〜8000、より好ましくは80
0〜9000である。重量平均分子量が650未満であ
ると耐リフロー性が低下し、10000を超えると流動
性が低下する。重縮合物(E)の分子量分布(重量平均
分子量Mw/数平均分子量Mn)は、1.6〜15の範
囲内であることが好ましく、より好ましくは1.8〜1
2である。分子量分布が1.6未満であると耐リフロー
性が低下する傾向があり、15を超えると流動性が低下
しがちである。
量が300〜1500でかつ重量平均分子量が650〜
10000になれば特に制限はなく、フェノール性水酸
基を有する化合物(a)、トリアジン誘導体(b)及び
アルデヒド基を有する化合物(c)の各原料を反応させ
ることにより製造できる。例えば、フェノール性水酸基
を有する化合物(a)、トリアジン誘導体(b)及びア
ルデヒド基を有する化合物(c)とを、付加縮合重合反
応等により重縮合させるなどの一般的な方法で合成する
ことができる。還流反応させた後昇温脱水して重縮合さ
せることもできる。重縮合物(E)を合成する場合の反
応温度は、50〜250℃とすることが好ましく、より
好ましくは60〜220℃、さらに好ましくは80〜1
80℃である。50℃未満では、反応が不充分となり、
上記所望の分子量まで上がらず、成形性、耐熱性、耐水
性、難燃性、強度等が低下する傾向があり、250℃を
超えると(E)成分を合成する際に、生産設備的に不利
となる傾向がある。反応時間は、1〜40時間とするの
が好ましく、より好ましくは1〜30時間、さらに好ま
しくは2〜20時間である。1時間未満では反応が不充
分となりがちで、上記所望の分子量まで上がらず、成形
性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度等が低下する傾向が
あり、40時間を超えても収量的なメリットが得られな
くなるため、経済的に不利である。反応終了後、必要に
応じて、加熱減圧下等で未反応成分、水等を除去するこ
とができるが、その条件は、温度が80〜220℃、よ
り好ましくは100〜180℃、圧力が100mmHg
以下、より好ましくは60mmHg以下、時間が0.5
〜10時間とすることが好ましい。また、反応には必要
に応じてトリメチルアミン、トリエチルアミン等のアミ
ン系触媒、蓚酸等の酸触媒を、反応触媒としてフェノー
ル性水酸基を有する化合物1モルに対して、0.000
01〜0.01モル程度加えてもよい。反応系のpH
は、1〜10程度とするのが好ましい。
水酸基を有する化合物(a)としては特に限定はなく、
例えば、フェノール、クレゾール、キシレノール、エチ
ルフェノール、ブチルフェノール、ノニルフェノール、
オクチルフェノール等のアルキルフェノール類、レゾル
シン、カテコール、ビスフェノールA、ビスフェノール
F、ビスフェノールS等の多価フェノール類、α−ナフ
トール、β−ナフトール、ジヒドロキシナフタレン等の
ナフトール類、又は、フェニルフェノール、アミノフェ
ノール等のフェノール誘導体などが挙げられる。中で
も、成形性の観点からはフェノール、クレゾールが好ま
しい。トリアジン誘導体(b)としては、分子中にトリ
アジン核を有する化合物であれば特に限定はなく、例え
ば、メラミン、ベンゾグアナミン、アセトグアナミン等
のグアナミン誘導体、シアヌル酸、メチルシアヌレート
等のシアヌル酸誘導体などが挙げられ、これらを単独で
用いても2種類以上併用してもよい。中でも、成形性、
信頼性の観点からはメラミン、ベンゾグアナミン等のグ
アナミン誘導体が好ましい。また、アルデヒド基を有す
る化合物(c)としては、例えば、ホルムアルデヒド、
ホルマリン、パラホルムアルデヒド等が挙げられる。
ール性水酸基を有する化合物(a)、トリアジン誘導体
(b)及びアルデヒド基を有する化合物(c)の配合割
合は、重縮合物(E)の窒素含有量が1〜20重量%、
より好ましくは1〜15重量%、さらに好ましくは2〜
10重量%となるように設定されることが好ましい。具
体的には、フェノール性水酸基を有する化合物(a)1
00g対して、トリアジン誘導体(b)を3〜50gと
することが好ましく、4〜30gとすることがより好ま
しい。また、アルデヒド基を有する化合物(c)は、フ
ェノール性水酸基を有する化合物(a)100g対して
5〜100gとすることが好ましく、6〜70gとする
ことがより好ましい。このような範囲とすることで、最
終的に得られる重縮合物(E)の窒素含有量、分子量及
び分子量分布等を所望の範囲に調整することができる。
性、耐熱性、耐水性、難燃性、強度及び耐リフロー性等
の点から、標準ポリスチレン換算の分子量2050に対
応する点(ゲルパーミエーションクロマトグラフで測定
したグラフ上の点)における強度aと分子量655に対
応する点における強度bとの比a/bが、0.2〜1.
2であることが好ましく、0.3〜1.0であることが
より好ましい。強度比a/bが0.2未満であると成形
性、耐リフロー性が低下する傾向があり、1.2を超え
ると流動性が低下しがちである。
核体含有量が15〜40重量%であることが好ましく、
20〜30重量%であることがより好ましい。フェノー
ル誘導体の2核体含有量が15重量%未満では、軟化点
が高くなり、流動性や混練性が低下する傾向があり、4
0重量%を超えると成形性、難燃性が低下する傾向があ
る。重縮合物(E)の軟化点は、40〜150℃である
ことが好ましく、60〜100℃であることがより好ま
しい。40℃未満では、成形性が低下する傾向があり、
150℃を超えると、流動性、混練性が低下する傾向が
ある。重縮合物(E)の窒素含有率は、難燃性、信頼性
の観点から、上述したように、1〜20重量%であるこ
とが好ましい。
ば、下記一般式(V)〜(XII)で示される樹脂等が挙げ
られる。
立に1〜10の数を示す。これらの式は、m個、n個、
l個の構成単位をランダムに含むもの、交互に含むも
の、規則的に含むもの、ブロック状に含むもののいずれ
かを示している。中でも、平均で2〜15核体、すなわ
ち、m+n+lの平均値が2〜15のものが好ましい。
成分の硬化剤全量中に2重量%以上配合されることが好
ましく、5重量%以上配合されることがより好ましい。
重縮合物(E)の配合量が2重量%未満である場合、難
燃性が低下する傾向がある。
は、難燃性の観点からは、さらに下記一般式(III)で
示される燐化合物(F)が配合されることが好ましい。
全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示
す。)
示すると、下記構造式(XIII)〜(XVII)で示される燐
化合物等が挙げられる。
を除く他の全配合成分に対して、燐原子の量で0.2〜
3重量%の範囲内であることが好ましい。0.2重量%
より少ない場合は難燃効果が弱く、3重量%を超えた場
合は成形性、耐湿性の低下や、成形時にこれらの燐化合
物がしみ出し、外観を阻害する場合がある。
成分と充項剤との接着性を高めるために、必要に応じ
て、エポキシシラン、メルカプトシラン、アミノシラ
ン、アルキルシラン、ウレイドシラン、ビニルシラン等
の各種シラン系化合物、チタン系化合物、アルミニウム
キレート類、アルミニウム/ジルコニウム系化合物等の
公知のカップリング剤を添加することができる。これら
を例示すると、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)
シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキ
シシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、γ-アニリノプロピルトリメトキシ
シラン、γ-アニリノプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−[ビス(β−ヒドロキシエチル)]アミノプロ
ピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−(β−ア
ミノエチル)アミノプロピルジメトキシメチルシラン、
N−(トリメトキシシリルプロピル)エチレンジアミ
ン、N−(ジメトキシメチルシリルイソプロピル)エチ
レンジアミン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジ
メトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、N−β−
(N−ビニルベンジルアミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメト
キシシラン、ヘキサメチルジシラン、ビニルトリメトキ
シシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシ
ラン等のシラン系カップリング剤、イソプロピルトリイ
ソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオ
クチルパイロホスフェート)チタネート、イソプロピル
トリ(N−アミノエチル−アミノエチル)チタネート、
テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタ
ネート、テトラ(2,2−ジアリルオキシメチル−1−
ブチル)ビス(ジトリデシル)ホスファイトチタネー
ト、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセ
テートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェー
ト)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタノイ
ルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロ
イルチタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンス
ルホニルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジ
アクリルチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホ
スフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェ
ニルチタネート、テトライソプロピルビス(ジオクチル
ホスファイト)チタネート等のチタネート系カップリン
グ剤などが挙げられ、これらを単独で用いても2種類以
上併用してもよい。
分の無機充填剤に対して0.05〜5重量%であること
が好ましく、より好ましくは0.1〜2.5重量%であ
る。0.05重量%未満ではフレームとの接着性が低下
しやすく、5重量%を超える場合にはパッケージの成形
性が低下しがちである。
料には、従来公知の難燃剤を添加することができる。例
えば、赤燐、メラミン、メラミン誘導体、トリアジン環
を有する化合物、シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘
導体等の窒素含有化合物、シクロホスファゼン等の燐/
窒素含有化合物、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化モリブデン、
フェロセン等の金属化合物等が挙げられる。
材料には、IC等の半導体素子の耐湿性、高温放置特性
を向上させる観点から陰イオン交換体を添加することも
できる。陰イオン交換体としては特に制限はなく、従来
公知のものを用いることができるが、例えば、ハイドロ
タルサイト類や、マグネシウム、アルミニウム、チタ
ン、ジルコニウム、ビスマスから選ばれる元素の含水酸
化物等が挙げられ、これらを単独又は2種類以上いくつ
でも併用して用いることができる。中でも、下記一般式
(XVIII)で示されるハイドロタルサイトが好ましい。
脂肪酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系
ワックス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型
剤、カーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイルや
シリコーンゴム粉末等の応力緩和剤などを必要に応じて
配合することができる。
各種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかな
る手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、
所定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合し
た後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練し
た後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。成形
条件に合うような寸法及び重量でタブレット化すると使
いやすい。
ア、配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、
半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ
等の能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素
子等の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポ
キシ樹脂成形材料で封止して、電子部品装置を製造する
ことができる。このような電子部品装置としては、例え
ば、テープキャリアにバンプで接続した半導体チップ
を、本発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したT
CPを挙げることができる。また、配線板やガラス上に
形成した配線に、ワイヤーボンディング、フリップチッ
プボンディング、はんだ等で接続した半導体チップ、ト
ランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の能動素子及び
/又はコンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子を、本
発明の封止用エポキシ樹脂成形材料で封止したCOBモ
ジュール、ハイブリッドIC、マルチチップモジュール
などを挙げることができる。本発明の封止用エポキシ樹
脂成形材料を用いて素子を封止する方法としては、低圧
トランスファー成形法が最も一般的であるが、インジェ
クション成形法、圧縮成形法等を用いてもよい。
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。
とトリアジン誘導体(b)とアルデヒド基を有する化合
物(c)との重縮合物(E)を以下のように合成した。 合成例1:重縮合物1の合成 撹拌機、還流冷却器及び温度計の付いたフラスコにフェ
ノール94g(1モル)、37重量%ホルマリン水5
0.2g(0.6モル)、メラミン6.51g(0.0
52モル)を入れ、トリエチルアミンを用い、pHを8
に調整後、90℃で6時間反応させた。さらに昇温し、
120℃まで2時間で昇温させ、120℃で3時間反応
させた。その後、140℃に昇温し、4時間反応させ
た。その後、140℃にて60mmHgの減圧下で未反
応フェノール、未反応ホルムアルデヒド及び水を除去し
て、下記一般式(V)で示される重縮合物1を得た。精
製した重縮合物1の量は60.2gであった。
レゾール108g(1モル)、37重量%ホルマリン水
50.2g(0.6モル)、メラミン6.51g(0.
052モル)を入れ、トリエチルアミンを用い、pHを
8に調整後、90℃で6時間反応させた。さらに昇温
し、120℃まで2時間で昇温させ、120℃で3時間
反応させた。その後、140℃に昇温し、4時間反応さ
せた。その後、140℃にて60mmHgの減圧下で未
反応フェノール、未反応ホルムアルデヒド及び水を除去
して、下記一般式(VIII)で示される重縮合物2を得
た。精製した重縮合物2の量は58.5gであった。
ノール94g(1モル)、37重量%ホルマリン水5
0.2g(0.6モル)、ベンゾグアナミン16.8g
(0.090モル)を入れ、トリエチルアミンを用い、
pHを8に調整後、90℃で6時間反応させた。さらに
昇温し、120℃まで2時間で昇温させ、120℃で3
時間反応させた。その後、140℃に昇温し、4時間反
応させた。その後、140℃にて60mmHgの減圧下
で未反応フェノール、未反応ホルムアルデヒド及び水を
除去して、下記一般式(VII)で示される重縮合物3を
得た。精製した重縮合物3の量は61.5gであった。
の合成 撹拌機、還流冷却器及び温度計の付いたフラスコにフェ
ノール94g(1モル)、37重量%ホルマリン水2
5.1g(0.3モル)、メラミン4.34g(0.0
34モル)をいれ、トリエチルアミンを用い、PHを8
に調整後、還流脱水させながら140℃まで4時間で昇
温させ、次いで140℃で5時間反応させた。その後、
140℃にて60mmHgの減圧下で未反応アルデヒ
ド、未反応フェノール及び水を除去して、比較重縮合物
である重縮合物4を得た。精製した重縮合物7の量は4
0.8gであった。
た各重縮合物の数平均分子量、重量平均分子量、分子量
分布(重量平均分子量Mw/数平均分子量Mn)、標準
ポリスチレン換算の分子量2,050に対応する点(保
持時間=26min)における強度aと分子量655に
対応する点(保持時間=30min)における強度bと
の強度比a/b、フェノール2核体含有量、軟化点及び
窒素含有率を表1に示す。ここで、数平均分子量、重量
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ
ーを用い、標準ポリスチレンを使用した検量線により換
算し算出した。分子量分布(重量平均分子量Mw/数平
均分子量Mn)、フェノール2核体量及び未反応フェノ
ール量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを
用い、面積法で算出した。また、窒素含有量は元素分析
法から算出した。なお、ゲルパーミエーションクロマト
グラフィーは、以下の条件で行った。 カラム:ゲルパックGL R-420+R-430+R-440(日立化成
工業株式会社製商品名) カラム温度:40℃ 検出器:RI 溶離液:テトラヒドロフラン 流量:1.6ml/min 検量線は、分子量が186,000(品番F-20)、43,900(品
番F-4)、10,300(品番F-1)、2,800(品番A-2500)及
び平均456(品番A-300、分子量578、402、370、266、16
2の5個のフラクションを含む)の標準ポリスチレン
(商品名TSK standard、トーソー株式会社製)を使用し
て、横軸に保持時間(分)、縦軸に分子量の対数をとり
作成した。
℃のビフェニル型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ株
式会社製商品名;エピコートYX−4000H)、また
はエポキシ当量375、軟化点80℃、臭素含量48重
量%のブロム化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、硬化
剤として、軟化点70℃のフェノール・アラルキル樹脂
(三井東圧化学株式会社製商品名;ミレックスXL−2
25)、重縮合物(E)として合成例1〜3で得られた
表1に示す重縮合物1〜3、比較重縮合物として比較合
成例で合成した表1に示す重縮合物4、硬化促進剤とし
て、トリフェニルホスフィンとp−ベンゾキノンとの付
加物(硬化促進剤1)、無機充填剤として平均粒径1
7.5μm、比表面積3.8m2/gの球状溶融シリ
カ、カップリング剤としてγ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン(エポキシシラン)、難燃剤として下
記構造式(XIV)の燐化合物1、その他の添加剤として
カルナバワックス、カーボンブラック、三酸化アンチモ
ンをそれぞれ表2に示す重量比で配合し、混練温度80
〜90℃、混練時間10分の条件でロール混練を行い、
実施例1〜4と比較例1〜3の成形材料を作製した。
形材料を、次の各試験により評価した。 (1)スパイラルフロー(流動性の指標) EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金
型を用いて成形し、流動距離(cm)を求めた。 (2)熱時硬度 直径50mm×厚さ3mmの円板をトランスファプレスにて180
±3℃、6.9±0.17MPa、90秒の条件で成形し、成形後直
ちにショアD型硬度計を用いて測定した。 (3)吸湿後熱時硬度 25℃/50%RHの条件で72時間保存後、上記
(2)と同様にして熱時硬度を測定した。 (4)耐リフロー性 8×10mmのシリコーンチップを搭載した外形寸法20×14
×2mmの80ピンフラットパッケージをトランスファ成形
により作製し、85℃/85%RHの条件で加湿して所定時
間毎に240℃/10秒の条件でリフロー処理を行い、クラ
ックの有無を観察し、不良パッケージ数/測定パッケー
ジ数で評価した。なお、フラットパッケージは、トラン
スファプレスにて180±3℃、6.9±0.17MPa、90秒の条件
で成形材料を成形し、その後180±5℃、5時間後硬化を
行って作製した。 (5)耐湿性 線幅10μm、厚さ1μmのアルミ配線を施した6×6×0.4
mmのテスト用シリコーンチップを搭載した外形寸法19×
14×2.7mmの80ピンフラットパッケージをトランスファ
成形により作製し、前処理を行った後、加湿して所定時
間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、不良パッ
ケージ数/測定パッケージ数で評価した。なお、フラッ
トパッケージはトランスファプレスにて180±3℃、6.9
±0.17MPa、90秒の条件で成形材料を成形し、その後180
±5℃、5時間後硬化を行って作製した。前処理は85
℃、85%RH、72時間の条件でフラットパッケージを加
湿し、215℃、90秒間ベーパーフェーズリフロー処理を
行った。その後、加湿試験は2.02×105Pa、121℃の条
件で行った。 (6)高温放置特性 外形サイズ5×9mmで5μmの酸化膜を有するシリコン
サブストレート上にライン/スペースが10μmのアルミ
配線を形成したテスト素子を使用して、部分銀メッキを
施した42アロイのリードフレームに銀ペーストで接続
し、サーモニック型ワイヤボンダにより、200℃で素子
のボンディングパッドとインナリードをAu線にて接続
した。その後、トランスファ成形により、16ピン型DI
P(Dual InlinePackage)を作製し、得られた試験用IC
を200℃の高温槽に保管し、所定時間毎に取り出して導
通試験を行い、不良パッケージ数を調べ、測定パッケー
ジ数に占める割合で評価した。なお、試験用ICは、トラ
ンスファプレスにて180±3℃、6.9±0.17MPa、90秒の条
件で成形材料を成形し、その後180℃±5℃、5時間後硬
化を行って作製した。 (7)難燃性 厚さ1/16インチの試験片を成形する金型を使用し、トラ
ンスファプレスにて180±3℃、6.9±0.17MPa、90秒の条
件で成形材料を成形し、その後180±5℃、5時間後硬化
を行い、UL-94試験法に従って難燃性を評価した。評価
結果を表3に示す。
まない比較例ではいずれも、本発明の特性を満足してい
ない。すなわち、重量平均分子量が本発明の規定範囲に
満たない比較重縮合物を用いた比較例1及び比較例2
は、熱時硬度、特に吸湿後の熱時硬度が低いために成形
性が劣り、耐リフロー性、耐湿性も劣っている。また、
重縮合物(E)にかえて、難燃剤としてBr化エポキシ
樹脂とアンチモン化合物を用いた比較例3は高温放置特
性が劣っている。これに対して、本発明の(A)〜
(E)成分を全て含み、ノンハロゲン、ノンアンチモン
の実施例1〜4は、流動性、熱時硬度、耐湿性、高温放
置特性のいずれも良好であり、難燃性も全てV−0と良
好である。特に実施例3、4は耐リフロー性にも優れて
いる。
樹脂成形材料は実施例で示したようにノンハロゲン、ノ
ンアンチモンで難燃化を達成でき、これを用いてIC、
LSI等の電子部品を封止すれば成形性が良好であり、
耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性などの信頼性に
優れた製品を得ることができ、その工業的価値は大であ
る。
Claims (7)
- 【請求項1】(A)1分子中に2個以上のエポキシ基を
持つエポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促進剤、
(D)無機充填剤、を必須成分とし、(B)成分の硬化
剤が、数平均分子量が300〜1500でかつ重量平均
分子量が650〜10000である、フェノール性水酸
基を有する化合物(a)とトリアジン誘導体(b)とア
ルデヒド基を有する化合物(c)との重縮合物(E)を
含むことを特徴とする封止用エポキシ樹脂成形材料。 - 【請求項2】重縮合物(E)に用いられるトリアジン誘
導体(b)がベンゾグアナミン及び/又はメラミンであ
ることを特徴とする請求項1記載の封止用エポキシ樹脂
成形材料。 - 【請求項3】重縮合物(E)の分子量分布(重量平均分
子量/数平均分子量)が1.6〜15であることを特徴
とする請求項1又は請求項2記載の封止用エポキシ樹脂
成形材料。 - 【請求項4】(A)成分が下記一般式(I)のエポキシ
樹脂を含むことを特徴とする請求項1〜3各項記載のい
ずれかの封止用エポキシ樹脂成形材料。 【化1】 (ここで、R1〜R4は水素及び炭素数1〜10の置換又
は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、すべて同一で
も異なっていてもよい。nは0〜3を示す。) - 【請求項5】(B)成分が下記一般式(II)の硬化剤を
さらに含むことを特徴とする請求項1〜4各項記載のい
ずれかの封止用エポキシ樹脂成形材料。 【化2】 (ここで、Rは水素及び炭素数1〜10の置換又は非置
換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜8を示
す。) - 【請求項6】下記一般式(III)で示される燐化合物
(F)をさらに含むことを特徴とする請求項1〜5各項
記載のいずれかの封止用エポキシ樹脂成形材料。 【化3】 (式中の8個のRは炭素数1〜4のアルキル基を示し、
全て同一でも異なっていてもよい。Arは芳香族環を示
す。) - 【請求項7】請求項1〜6各項記載のいずれかの封止用
エポキシ樹脂成形材料により封止された素子を備える電
子部品装置。
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JP11119896A JP2000309679A (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 封止用エポキシ樹脂成形材料及び電子部品装置 |
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-
1999
- 1999-04-27 JP JP11119896A patent/JP2000309679A/ja active Pending
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