JP2000309534A

JP2000309534A - 血管新生阻害剤

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Publication number: JP2000309534A
Application number: JP2000048403A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Wakabayashi; 利明若林; Yasuhiro Funabashi; 泰博船橋; Taro Senba; 太郎仙波; Naoko Hata; 直子畑; Hiroyuki Yamamoto; 裕之山本; Yoichi Ozawa; 陽一小澤; Naoko Tsukahara; 直子塚原; Toru Haneda; 融羽田; Akihiko Tsuruoka; 明彦鶴岡; Junichi Kamata; 淳一鎌田
Original assignee: Eisai Co Ltd
Current assignee: Eisai Co Ltd
Priority date: 1999-02-26
Filing date: 2000-02-25
Publication date: 2000-11-07
Anticipated expiration: 2020-02-25
Also published as: JP4007743B2

Abstract

(57)【要約】【課題】血管新生阻害剤を提供する。【解決の手段】一般式（Ｉ）【化１】［式中、Ａ環は置換基を有していてもよい単環式または
二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有していてもよい６員
環式不飽和炭化水素または窒素原子を１個含む不飽和６
員ヘテロ環を、Ｃ環は置換基を有していてもよい窒素原
子を１または２個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合また
は−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ^１）−または酸素原
子を、Ｙは炭素原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ
（Ｒ^２）−または窒素原子を、Ｒ^１およびＲ^２は同一ま
たは異なって水素原子または低級アルキル基を意味す
る］で表わされるスルホンアミド誘導体およびスルホン
酸エステル誘導体またはその薬理学的に許容される塩あ
るいはそれらの水和物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はスルホンアミドまた
はスルホン酸エステル誘導体を有効成分とする血管新生
阻害剤に関する。さらに詳しくは、癌転移抑制剤、網膜
血管新生症、糖尿病性網膜症または炎症性疾患治療剤に
関する。

【０００２】

【従来の技術】癌の増殖と血管新生とは密接な関係にあ
ることが明らかとなってきた。すなわち、癌の部位に血
管新生が生じない場合、癌は微小な状態(dormant tumo
r)にとどまっている。しかし、血管新生が生じると腫瘍
に血中の酸素や栄養分が補給され癌の増殖や転移が促進
され臨床的に悪性となることがわかってきた。したがっ
て、癌の血管新生を阻害すれば癌の増殖および転移が抑
えられると考えられる。新生血管は宿主の内皮細胞や間
質細胞から構成されるため、血管新生阻害剤のターゲッ
トは癌細胞ではなく宿主のそれらの正常細胞となる。癌
細胞を直接のターゲットとしないことは既存抗癌剤不応
答の癌にも有効性が期待でき、さらに癌治療の大きな問
題である耐性癌が生じる可能性も少ないと考えられる。
また、血管新生は腫瘍特異的な現象であり、成熟個体で
は月経周期に伴う子宮内膜形成などに限られている。従
って、既存抗癌剤に比べて副作用も少ないと考えられ
る。最近、前臨床に於いては血管新生阻害剤が移植癌モ
デルでの癌増殖を抑制さらには縮小させ得ること、耐性
癌が生じないことが実験的に証明され、臨床では血管新
生と乳癌、前立腺癌、肺癌、大腸癌など多くの固形癌の
悪性化との相関が示されている。

【０００３】癌組織では癌細胞の増殖とアポトーシスが
絶えず起こっており、そのバランスで進行癌と dormant
tumorが生じていることがわかってきた。血管新生阻害
剤は癌細胞を直接的に死滅させるのではなく、栄養源を
断つことによってバランスをアポトーシスに傾けdorman
tあるいは癌の縮小に導くので、長期間の治療により優
れた効果（延命、再発抑止、転移抑制）を期待できる薬
剤である。

【０００４】いろいろな作用機序による血管新生阻害剤
が臨床ステージにあるが、前臨床での抗腫瘍効果が不十
分であることから臨床での有用性に疑問が持たれてお
り、効果の確実な血管新生阻害剤が渇望されている。ま
た、網膜症あるいは炎症において血管新生が関与してい
ることは知られている。網膜で血管が増殖すると視力が
衰え、ひどくなると盲目になる。現在有効な治療薬はな
く、有効な予防・治療剤が求められている。

【０００５】ＷＯ９３０１１８２はインドール骨格を有
する化合物の特異的チロシンキナーゼ阻害活性による抗
腫瘍剤を開示しているが、これらはインドリールメチレ
ン-2-インドリノン化合物であり本発明とは異なる。同
様にＷＯ９６４０１６はインドール骨格を有する化合物
の特異的チロシンキナーゼ阻害活性による抗腫瘍剤を開
示しているが、これらは2-インドリノン-3-メチレン誘
導体であり本発明とは異なる。また、特開平７−１６５
７０８および特開平８−２３１５０５には本発明と同じ
スルホンアミド化合物やスルホン酸エステル化合物が開
示されているが、血管新生阻害作用についてに記載は一
切なく、示唆もない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、優れた血管
新生阻害作用を有するスルホンアミド化合物およびスル
ホン酸エステル化合物の提供を目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記趣旨
に鑑み、優れた血管新生阻害剤を求めて鋭意研究を行っ
てきた結果、二環式ヘテロ環を有するスルホンアミド化
合物およびスルホン酸エステル化合物が優れた血管新生
阻害作用を有し、かつ低毒性であることを見出し、本発
明を完成した。すなわち、本発明は一般式（Ｉ）

【０００８】

【化２】

【０００９】（式中、Ａ環は置換基を有していてもよ
い、単環式または二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有し
ていてもよい、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原
子として窒素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環を、Ｃ
環は置換基を有していてもよい、窒素原子を１または２
個含む５員ヘテロ環を、Ｗは単結合または−ＣＨ＝ＣＨ
−を、Ｘは−Ｎ（Ｒ^１）−または酸素原子を、Ｙは炭素
原子または窒素原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ^２）−または窒素
原子を、Ｒ^１およびＲ^２は同一または異なって水素原子
または低級アルキル基を、意味する。）で表わされるス
ルホンアミド誘導体およびスルホン酸エステル誘導体ま
たはその薬理学的に許容される塩あるいはそれらの水和
物を有効成分とする血管新生阻害剤に関する。

【００１０】上記一般式（Ｉ）において、Ａ環の意味す
る「置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳
香環」とは、芳香族炭化水素、または窒素原子、酸素原
子および硫黄原子のうち少なくとも１個を含む芳香族ヘ
テロ環であり、当該環上には置換基１〜３個があっても
よい。Ａ環に含まれる主な芳香環を例示すると、ピロー
ル、ピラゾール、イミダゾール、チオフェン、フラン、
チアゾール、オキサゾール、ベンゼン、ピリジン、ピリ
ミジン、ピラジン、ピリダジン、ナフタレン、キノリ
ン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキ
サリン、キナゾリン、シンノリン、インドール、イソイ
ンドール、インドリジン、インダゾール、ベンゾフラ
ン、ベンゾチオフェン、ベンズオキサゾール、ベンズイ
ミダゾール、ベンゾピラゾール、ベンゾチアゾールなど
がある。上記芳香環は置換基１〜３個を有していてもよ
く、置換基が複数個ある場合には、同一または異なって
いてもよい。置換基としては、例えば、低級アルキル基
または低級シクロアルキル基で置換されていてもよいア
ミノ基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、
ニトロ基、メルカプト基、シアノ基、低級アルキルチオ
基、ハロゲン基、式−ａ−ｂ［式中、ａは単結合、−
（ＣＨ₂）_k −、−Ｏ−（ＣＨ₂）_k −、−Ｓ−（Ｃ
Ｈ₂）_k −または−Ｎ（Ｒ^３）−（ＣＨ₂）_k −を、ｋは
１〜５の整数を、Ｒ^３は水素原子または低級アルキル基
を、ｂは−ＣＨ₂−ｄ（式中、ｄは低級アルキル基で置
換されていてもよいアミノ基、ハロゲン基、水酸基、低
級アルキルチオ基、シアノ基または低級アルコキシ基を
意味する）を意味する］で示される基、式−ａ−ｅ−ｆ
［式中、ａは前記と同じ意味を、ｅは−ＳＯ−または−
ＳＯ₂−を、ｆは低級アルキル基または低級アルコキシ
基で置換されていてもよいアミノ基、低級アルキル基、
トリフルオロメチル基、−（ＣＨ₂）_m −ｂまたは−Ｎ
（Ｒ ^４）−（ＣＨ₂）_m−ｂ（式中、ｂは前記と同じ意味
を示し、Ｒ^４は水素原子または低級アルキル基を、ｍは
１〜５の整数を意味する）を意味する］で示される基、
式−ａ−ｇ−ｈ［式中、ａは前記と同じ意味を示し、ｇ
は−ＣＯ−または−ＣＳ−を、ｈは低級アルキル基で置
換されていてもよいアミノ基、水酸基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、−（ＣＨ₂）_n−ｂまたは−Ｎ
（Ｒ^５）−（ＣＨ₂）_n−ｂ（式中、ｂは前記と同じ意味
を示し、Ｒ^５は水素原子または低級アルキル基を、ｎは
１〜５の整数を意味する）を意味する］で示される基、
式−ａ−Ｎ（Ｒ^６）−ｇ−ｉ［式中、ａおよびｇは前記
と同じ意味を示し、Ｒ^６は水素原子または低級アルキル
基を、ｉは水素原子、低級アルコキシ基またはｆ（ｆは
前記と同じ意味を示す）を意味する］で示される基、式
−ａ−Ｎ（Ｒ^７）−ｅ−ｆ（式中、ａ、ｅおよびｆは前
記と同じ意味を示し、Ｒ^７は水素原子または低級アルキ
ル基を意味する）で示される基、式−（ＣＨ₂）_ｐ−ｊ
−（ＣＨ₂）_q−ｂ（式中、ｊは酸素原子または硫黄原子
を意味し、ｂは前記と同じ意味を示し、ｐおよびｑは同
一または異なって１〜５の整数を意味する）、式−（Ｃ
Ｈ₂）_u−Ａｒ（式中、Ａｒは低級アルキル基、低級アル
コキシ基またはハロゲン原子で置換されていてもよい、
フェニル基またはヘテロアリール基を意味し、ｕは０ま
たは１〜５の整数を意味する）、式−ＣＯＮＨ−（ＣＨ
₂）_u−Ａｒ（式中、Ａｒおよびｕは前記を意味する）、
または式−ＳＯ₂−（ＣＨ₂）_u−Ａｒ（式中、Ａｒおよ
びｕは前記を意味する）で示される基などを挙げること
ができる。

【００１１】上記置換基例において、アミノ基が２個の
アルキル基で置換されている場合には、これらのアルキ
ル基が結合して５または６員環を形成していてもよい。
また、Ａ環が水酸基またはメルカプト基を有する含窒素
ヘテロ環である場合には、これらの基が共鳴構造をとる
ことにより、オキソ基またはチオキソ基の形になってい
てもよい。

【００１２】Ｂ環の意味する「置換基を有していてもよ
い、６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒
素原子を１個含む不飽和６員ヘテロ環」とは、一部が水
素化されていてもよい、ベンゼンまたはピリジンであ
り、当該環上に置換基１または２個を有していてもよ
く、置換基が２個ある場合には同一または異なっていて
もよい。

【００１３】Ｃ環の意味する「置換基を有していてもよ
い、窒素原子を１または２個含む５員ヘテロ環」とは、
一部が水素化されていてもよい、ピロール、ピラゾー
ル、イミダゾールであり、当該環上に置換基１または２
個を有していてもよく、置換基が２個ある場合には同一
または異なっていてもよい。Ｂ環およびＣ環が有してい
てもよい置換基としては、例えば、ハロゲン基、シアノ
基、低級アルキル基、低級アルコキシ基、水酸基、オキ
ソ基、式−ＣＯ−ｒ（式中、ｒは水素原子、低級アルキ
ル基で置換されていてもよいアミノ基、低級アルキル
基、低級アルコキシ基または水酸基を意味する）、低級
アルキル基で置換されていてもよいアミノ基、トリフル
オロメチル基などを挙げることができる。

【００１４】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ^１、Ｒ^２
およびＡ環、Ｂ環、Ｃ環が有していてもよい置換基の定
義中の低級アルキル基としては、炭素数１〜６の直鎖も
しくは分枝状のアルキル基、例えばメチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
イソブチル基、sec −ブチル基、tert−ブチル基、ｎ−
ペンチル基（アミル基）、イソペンチル基、ネオペンチ
ル基、tert−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メ
チルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキ
シル基、イソヘキシル基、１−メチルペンチル基、２−
メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジ
メチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−
ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３
−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、１−
エチルブチル基、２−エチルブチル基、１，１，２−ト
リメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル
基、１−エチル−１−メチルプロピル基、１−エチル−
２−メチルプロピル基などを意味する。これらのうち好
ましい基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基など
を挙げることができ、これらのうち、最も好ましい基と
してはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基を挙げることができる。

【００１５】Ａ環が有していてもよい置換基の定義中の
低級シクロアルキル基としては、シクロプロピル基、シ
クロペンチル基、シクロヘキシル基などを挙げることが
できる。Ａ環、Ｂ環およびＣ環が有していてもよい置
換基の定義中の低級アルコキシ基とは、メトキシ基、エ
トキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−
ブトキシ基、イソブトキシ基、tert−ブトキシ基など上
記の低級アルキル基から誘導される低級アルコキシ基を
意味するが、これらのうち最も好ましい基としてはメト
キシ基、エトキシ基を挙げることができる。またハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子などが
挙げられる。

【００１６】上記一般式（Ｉ）で示されるスルホンアミ
ド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体は酸または塩
基と塩を形成する場合もある。本発明は化合物（Ｉ）の
塩をも包含する。酸との塩としては、たとえば塩酸塩、
臭化水素酸塩、硫酸塩等の無機酸塩や酢酸、乳酸、コハ
ク酸、フマル酸、マレイン酸、クエン酸、安息香酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸などの有機酸
との塩を挙げることができる。また、塩基との塩として
は、ナトリウム塩、カリウム塩、カルシウム塩などの無
機塩、トリエチルアミン、アルギニン、リジン等の有機
塩基との塩を挙げることができる。

【００１７】また、これら化合物の水和物はもちろんの
こと光学異性体が存在する場合はそれらすべてが含まれ
ることはいうまでもない。また、本発明は生体内で酸
化、還元、加水分解などの代謝を受けて本発明化合物を
生成する化合物をも包含する。次に本発明化合物（Ｉ）
は種々の方法によって製造することができるが、それら
のうち代表的な方法を示せば、以下の通りである。１）一般式（II）

【００１８】

【化３】

【００１９】（式中、Ａａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｗは前記と同じ意味を示す）で表
わされるスルホン酸またはその反応性誘導体と一般式
（III ）

【００２０】

【化４】

【００２１】（式中、Ｂａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、６員環式不飽和
炭化水素またはヘテロ原子として窒素原子を１個含む不
飽和６員ヘテロ環を、Ｃａ環は保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、窒素原子を１ま
たは２個含む５員ヘテロ環を意味し、Ｘ、ＹおよびＺは
前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を反応させ
ることにより製造することができる。

【００２２】スルホン酸（II）の反応性誘導体として
は、例えばハロゲン化スルホニル、スルホン酸無水物、
Ｎ−スルホニルイミダゾリドなどのような一般的によく
利用される反応性誘導体を挙げることができるが、特に
好適な例はハロゲン化スルホニルである。反応に使用す
る溶媒は特に限定されないが、原料物質を溶解し、かつ
これらと容易に反応しないものが望ましく、例えばピリ
ジン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、エ
チルエーテル、ジクロロメタン、ジメチルホルムアミ
ド、あるいはこれらから選ばれた２種以上の混合溶媒な
どが利用され得る。また、本反応においてハロゲン化ス
ルホニルを用いた場合の如く、反応の進行に伴い酸が遊
離してくる場合には、適当な脱酸剤の存在下に行われる
のが好ましいので、ピリジンのような塩基性溶媒の使用
は特に好適である。中性溶媒を使用するときは、炭酸ア
ルカリ、有機第３級アミンなどの塩基性物質を添加して
もよい。勿論、使用し得る溶媒はここに挙げたものに限
定されるものではない。一般に本反応は室温で進行する
が、必要に応じて冷却または加熱してもよい。反応時間
は通常10分〜20時間であるが、原料化合物の種類、反応
温度によって任意に選ばれる。

【００２３】得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホン
アミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を
得ることが可能である。２）一般式（IV）

【００２４】

【化５】

【００２５】（式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｗ、ＸおよびＺ
は前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物をハロゲ
ン化剤と反応させることにより製造することができる。
ハロゲン化剤としては、Ｎ−クロロコハク酸イミド、Ｎ
−ブロモコハク酸イミド、１，３−ジブロモ−５，５−
ジメチルヒダントイン、Ｎ−ブロモアセトアミド、塩
素、臭素などを例示することができる。反応に使用する
溶媒は特に限定されないが、通常ジクロロメタン、クロ
ロホルム、四塩化炭素等の塩化アルキル化合物やクロロ
ベンゼン、ジクロロベンゼン等の芳香族塩化物等が使用
されるが、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ピリジ
ン、アセトニトリル等の水溶性溶媒も使用することがで
きる。反応温度はハロゲン化剤および基質の種類によっ
て異なるが、通常−50℃から 100℃の間で行われる。

【００２６】得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホン
アミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を
得ることが可能である。３）一般式（Ｖ）

【００２７】

【化６】

【００２８】（式中、Ａａ環、Ｂａ環、Ｗ、ＸおよびＺ
は前記と同じ意味を示し、Ｅは脱水によりシアノ基へ変
換可能な置換基を意味する）で表わされる化合物を脱水
剤と反応させることにより製造することができる。脱水
によりシアノ基へ変換可能な置換基としては、例えば
（ヒドロキシイミノ）メチル基、カルバモイル基などを
挙げることができる。

【００２９】また、原料のアルデヒドまたはカルボン酸
からまずオキシムまたは酸アミドを合成し、これを単離
することなく脱水剤と反応させることも可能である。脱
水剤としてはニトリルの合成に一般に用いられる方法、
例えば無水酢酸、塩化チオニル、オキシ塩化リン、二酸
化セレン、１，３−ジシクロヘキシルカルボジイミドな
どを挙げることができる。反応に使用する溶媒は特に限
定されないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易に
反応しないものが望ましく、例えばピリジン、エチルエ
ーテル、ベンゼン、ジメチルホルムアミド、四塩化炭
素、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、あるいはこ
れらから選ばれた２種以上の混合溶媒などが利用され得
る。反応温度は脱水剤および基質の種類によって異なる
が、通常−50℃から 150℃の間で行われる。

【００３０】得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホン
アミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体（Ｉ）を
得ることが可能である。４）一般式（VI）

【００３１】

【化７】

【００３２】（式中、Ａｂ環は、還元によりアミノ基へ
変換可能な置換基を有し、他に保護されたまたは保護さ
れていない置換基を有していてもよい、単環式または二
環式芳香環を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、Ｙおよ
びＺは前記と同じ意味を示す）で表わされる化合物を還
元剤と反応させることにより製造することができる。還
元によりアミノ基へ変換可能な置換基としてはニトロ
基、ニトロソ基、ヒドロキシアミノ基、アゾ基などがあ
る。

【００３３】還元には、一般に用いられるニトロ基の還
元法を使用することができるが、好ましい例としてはパ
ラジウム−炭素、酸化白金等を触媒とした接触還元や亜
鉛、鉄またはスズと酸による還元等を挙げることができ
る。接触還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒中、常圧または加
圧下で行うことができる。

【００３４】得られた生成物において、水酸基が保護さ
れている場合には、所望により酸処理、アルカリ処理、
接触還元など通常の脱保護法を行うことにより、遊離の
水酸基を有するスルホンアミド誘導体またはスルホン酸
エステル誘導体（Ｉ）を得ることが可能である。５）一般式（VII ）

【００３５】

【化８】

【００３６】（式中、Ａｃ環は、脱離基を環上または置
換基中に有し、他に保護されたまたは保護されていない
置換基を有していてもよい、単環式または二環式芳香環
を意味し、Ｂａ環、Ｃａ環、Ｗ、Ｘ、ＹおよびＺは前記
と同じ意味を示す）で表わされる化合物を求核剤と反応
させることにより製造することができる。脱離基として
は、例えばハロゲン基、メタンスルホニルオキシ基、ｐ
−トルエンスルホニルオキシ基などを挙げることができ
る。求核剤としては、例えばアミン類、アルコール類、
チオール類などを挙げることができる。アルコール類、
チオール類などの場合にはアルカリ金属などとの塩の形
で反応させてもよい。反応に使用する溶媒は特に限定さ
れないが、原料物質を溶解し、かつこれらと容易に反応
しないものが望ましく、例えば、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、ジメチルホルムアミド、水などが利用され
得る。反応温度は基質の種類によって異なるが、通常−
50℃から 150℃の間で行われる。

【００３７】得られた生成物において、アミノ基または
水酸基が保護されている場合には、所望により酸処理、
アルカリ処理、接触還元など通常の脱保護法を行うこと
により、遊離の水酸基またはアミノ基を有するスルホン
アミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導体 (I)を得
ることが可能である。

【００３８】次に本発明に用いられる原料化合物（II）
およびその反応性誘導体ならびに（III ）を製造する方
法について説明する。原料化合物（II）およびその反応
性誘導体には公知化合物および新規化合物が含まれる。
新規化合物の場合、既に報告されている公知化合物の合
成法を応用することにより、または、それらを組み合わ
せることにより製造することが可能である。例えば、新
規スルホニルクロリドは Chem. Ber., 90, 841 (1957),
J. Med. Chem., 6, 307 (1963), J. Chem. Soc.(c), 1
968, 1265, Chem. Lett., 1992, 1483, J. Am. Chem. S
oc., 59, 1837 (1937), J. Med. Chem., 23, 1376 (198
0), J. Am. Chem. Soc., 70, 375 (1948), J. Am. Che
m. Soc., 78, 2171 (1956) などに記載されている合成
法を応用した方法により製造することができる。

【００３９】原料化合物（III ）には公知化合物および
新規化合物が含まれる。原料化合物（III ）においてＨ
−Ｘ−がアミノ基Ｈ_２Ｎ−を意味する場合には、当該
ニトロ化合物を一般的に利用されるニトロ基の還元法で
還元することによりＨ_２Ｎ体（III ）を得ることがで
きる。還元法の好ましい例としてはパラジウム−炭素を
触媒とした接触還元や亜鉛末−塩酸による還元などがあ
る。接触還元は通常メタノール、テトラヒドロフラン、
ジメチルホルムアミドなどの有機溶媒中常圧または加圧
下で行うことができる。

【００４０】原料化合物（III ）において、Ｈ−Ｘ−が
水酸基ＨＯ−を意味する場合には、上記アミノ体をジア
ゾ化した後、加水分解することによりＨＯ体（III）を
得ることができる。

【００４１】原料化合物が新規化合物の場合、既に報告
されている公知化合物の合成法を応用することにより、
またはそれらを組み合わせることにより製造することが
可能である。新規化合物は Can. J. Chem., 42, 1235
(1964), Chem. Abst., 59, 8855f (1963), Tetrahedron
Lett., 30, 2129 (1989)などに記載された方法を応用
して、例えば、次に示す経路で製造することが可能であ
る。反応式１

【００４２】

【化９】

【００４３】式中、Ｑは同一または異なった置換基を意
味し、Ｇはハロゲン基を意味し、ｔは０〜２の整数であ
る。反応式２

【００４４】

【化１０】

【００４５】式中、Ｑおよびｔは前記と同じ意味を示
す。反応式３

【００４６】

【化１１】

【００４７】式中、Ｑ、Ｇおよびｔは前記と同じ意味を
示し、ＤＰＰＡはジフェニルホスホリルアジドを意味す
る。反応式４

【００４８】

【化１２】

【００４９】式中、Ｑ、Ｇおよびｔは前記と同じ意味を
示し、ＤＤＱは２，３−ジクロロ−５，６−ジシアノ−
１，４−ベンゾキノンを意味する。

【００５０】本発明化合物を医薬として使用する場合
は、経口もしくは非経口的に投与される。投与量は、症
状の程度、患者の年齢、性別、体重、感受性差、投与方
法、投与時期、投与間隔、医薬製剤の性質、調剤、種
類、有効成分の種類等によって異なり特に限定されない
が、通常成人１日あたり10〜6000mg、好ましくは約50〜
4000mg、さらに好ましくは 100〜3000mgでありこれを通
常１日１〜３回に分けて投与する。

【００５１】経口用固形製剤を調製する場合は、主薬に
賦形剤さらに必要に応じて結合剤、崩壊剤、滑沢剤、着
色剤、矯味矯臭剤などを加えた後、常法により錠剤、被
覆錠剤、顆粒剤、細粒剤、散剤、カプセル剤等とする。
賦形剤としては、例えば乳糖、コーンスターチ、白糖、
ぶどう糖、ソルビット、結晶セルロース、二酸化ケイ素
などが、結合剤としては、例えばポリビニルアルコー
ル、エチルセルロース、メチルセルロース、アラビアゴ
ム、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルメチルセルロース等が、滑沢剤としては、例えばステ
アリン酸マグネシウム、タルク、シリカ等が、着色剤と
しては医薬品に添加することが許可されているものが、
矯味矯臭剤としては、ココア末、ハッカ脳、芳香酸、ハ
ッカ油、龍脳、桂皮末等が用いられる。これらの錠剤、
顆粒剤には糖衣、ゼラチン衣、その他必要により適宜コ
ーティングすることは勿論差し支えない。

【００５２】注射剤を調製する場合には、必要により主
薬にpH調整剤、緩衝剤、懸濁化剤、溶解補助剤、安定化
剤、等張化剤、保存剤などを添加し、常法により静脈、
皮下、筋肉内注射剤とする。その際必要により、常法に
より凍結乾燥物とすることもある。懸濁化剤としては、
例えばメチルセルロース、ポリソルベート80、ヒドロキ
シエチルセルロース、アラビアゴム、トラガント末、カ
ルボキシメチルセルロースナトリウム、ポリオキシエチ
レンソルビタンモノラウレートなどを挙げることができ
る。

【００５３】溶解補助剤としては、例えばポリオキシエ
チレン硬化ヒマシ油、ポリソルベート80、ニコチン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、
マクロゴール、ヒマシ油脂肪酸エチルエステルなどを挙
げることができる。また安定化剤としては、例えば亜硫
酸ナトリウム、メタ亜硫酸ナトリウム等を、保存剤とし
ては、例えばパラオキシ安息香酸メチル、パラオキシ安
息香酸エチル、ソルビン酸、フェノール、クレゾール、
クロロクレゾールなどを挙げることができる。

【００５４】

【発明の効果】以下に薬理実験例により本化合物の効果
を示す。薬理実験例１血管新生阻害作用ラット大動脈片をコラーゲン内にて培養した際に観察さ
れる新生血管に対する阻害度を血管新生阻害活性とし
た。すなわち、Sprague-Dawley系雌ラット（１０−１２
週齢）より摘出した大動脈をハンクス液で洗浄しながら
周辺の脂肪組織を丁寧に除去する。大動脈を切開し２mm
角の切片を作成した後、２４ウェルプレート内へ内皮細
胞面を上にして静置する。次に、500μlの中性化したタ
イプIコラーゲン（Cell Matrix Type I-A:新田ゼラチ
ン）を各ウェルへ注ぎ、クリーンベンチ内で室温下約２
０分間放置してゲルを固まらせる。ゲルが固まったこと
を確認した後に500μlのMCDB131培地（クロレラ工業）
を加え、CO₂インキュベーター（５％CO₂）で３７℃下培
養する。翌日、試験化合物を含む500μlのMCDB131培地
と培養液を交換し、培養を続ける。３日後に再び試験化
合物を含む500μlのMCDB131培地と交換し、試験化合物
添加開始より７日目の時点で大動脈周囲に形成された毛
細血管数を顕微鏡下に計測した。試験化合物含有溶液は
10μg/mlを最高濃度として３倍希釈系列で調整した。

【００５５】以下の式より抑制率を算出し、各試験化合
物の５０％抑制濃度(IC₅₀値)を求めた。抑制率（％）＝ (C - T) / C x 100 C:化合物無添加時の毛細血管数 T:化合物添加時の毛細血管数

【００５６】

【表１】

【００５７】次に、本発明化合物の原料化合物の製造を
示す製造例および発明化合物の代表的化合物について実
施例を挙げるが、本発明がこれらのみに限定されるもの
ではない。製造例１７−ブロモ−１Ｈ−インドール２−ブロモニトロベンゼン5.05ｇ（25ミリモル）のテト
ラヒドロフラン溶液（250ml）に窒素雰囲気下−40℃で
ビニルマグネシウムブロミド 1.0Ｍテトラヒドロフラン
溶液 100ml（ 100ミリモル）を加え、そのまま40分間撹
拌した。反応混合物を飽和塩化アンモニウム水溶液 500
ml中に注ぎ、エチルエーテルで抽出した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製し、表題化合物2.89ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.56(1H, dd, J=2.9, 1.8
Hz), 6.94(1H, t, J=7.8Hz), 7.30(1H, d, J=7.8Hz),
7.40(1H, t, J=2.9Hz), 7.56(1H, d, J=7.8Hz), 11.16-
11.46(1H, br m)

【００５８】製造例２７−アミノ−１Ｈ−インドール製造例１の化合物2.70ｇ（13.8ミリモル）のテトラヒド
ロフラン溶液（50ml）に窒素雰囲気下−70℃でｎ−ブチ
ルリチウム 2.5Ｍヘキサン溶液16.5ml（41.3ミリモル）
を滴下し、−70℃で15分間、ついで−20〜−10℃で30分
間撹拌した。−70℃に再び冷却後、ジフェニルホスホリ
ルアジド 3.9ml（18ミリモル）を滴下し、−70℃で１時
間、ついで−40℃で１時間撹拌した。ナトリウムビス
（２−メトキシエトキシ）アルミニウムハイドライド
3.4Ｍトルエン溶液22.3ml（75.8ミリモル）を−40℃で
加えた後、−30〜−20℃で30分間、ついで室温で30分間
撹拌した。pH 7.0リン酸緩衝液を加え、不溶物を濾取
し、濾液をエチルエーテルで抽出した。有機層を飽和重
曹水、飽和食塩水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製し、表題化合物1.29ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.01(2H, br s), 6.25-6.
33(2H, m), 6.70(1H, dd, J=7.9, 7.3Hz), 6.78(1H, d
d, J=7.9, 0.7Hz), 7.23(1H, t, J=2.7Hz), 10.48-10.7
2(1H, br m) 製造例１および２と同様にして、２−ブロモニトロベン
ゼン誘導体から以下の原料化合物を合成した。

【００５９】７−アミノ−４−メトキシ−１Ｈ−インドール７−アミノ−４−ブロモ−１Ｈ−インドール

【００６０】製造例３７−ブロモ−３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−インドー
ル２−ブロモ−５−メチルニトロベンゼンから製造例１と
同様にして合成した７−ブロモ−４−メチル−１Ｈ−イ
ンドール 5.8ｇ（27.6ミリモル）のアセトニトリル溶液
（ 250ml）にＮ−クロロコハク酸イミド 4.0ｇ（30.0ミ
リモル）を加え室温で一晩撹拌した。１Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液50mlを加え、酢酸エチルで抽出した。有機層
を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物
6.7ｇを得た。^１ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 2.74(3H, s), 6.75-7.26(3
H, m), 8.23(1H, br s)

【００６１】製造例４７−アミノ−３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−インドー
ル製造例３の化合物6.37ｇ（26.1ミリモル）から製造例２
と同様にして表題化合物 2.6ｇを得た。^１ H-NMR(CDCl₃) δ(ppm) : 2.70(3H, s), 6.39-7.14(3
H, m), 8.15(1H, br s)

【００６２】製造例５４−スルファモイルベンゼンスルホニルクロリド４−アミノベンゼンスルホンアミド 6.4ｇ（37.2ミリモ
ル）を水12.5mlと濃塩酸 6.3mlの混液に加え撹拌した。
これに亜硝酸ナトリウム2.56ｇ（37.1ミリモル）の飽和
水溶液を０℃以下で滴下した。反応液を二酸化イオウ飽
和酢酸液（二酸化イオウを酢酸35mlに飽和させ、塩化第
二銅・２水和物 1.5ｇを加えた液）に氷冷、撹拌下加え
た。10分後反応液を氷水に注ぎ、沈澱を濾取、水洗し
た。沈澱をテトラヒドロフランに溶解し、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、濃縮乾固し、表題化合物 3.5ｇを得た。

【００６３】製造例６４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホニルクロ
リド４−ニトロフェニルメタンスルホンアミド 5.0ｇ（23.1
ミリモル）を90％酢酸に懸濁し、パラジウム−炭素存在
下常温常圧で水素添加した。触媒を濾去後濃縮乾固し、
４−アミノフェニルメタンスルホンアミド 4.3ｇを得
た。これを水40mlと濃塩酸 4.1mlの混液に加え、撹拌し
た。０℃以下で亜硝酸ナトリウム1.63ｇ（23.6ミリモ
ル）の飽和水溶液を滴下した。反応液を二酸化イオウ飽
和酢酸液（二酸化イオウを酢酸30mlに飽和させ、塩化第
二銅・２水和物0.97ｇを加えた液）に氷冷、撹拌下加え
た。室温で40分撹拌後反応液を氷水中に注ぎ、食塩を飽
和させた。酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネシウムで乾
燥後、濃縮乾固し、表題化合物1.7ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 4.26(2H, s), 7.32(2H,
d, J=8.4Hz), 7.59(2H, d, J=8.4Hz) 製造例５または６と同様にして以下の化合物を合成し
た。

【００６４】４−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼ
ンスルホニルクロリド４−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホニル
クロリド４−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド４−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスル
ホニルクロリド４−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホニルクロリド４−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド４−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリド３−シアノベンゼンスルホニルクロリド４−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホニルクロリド４−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベ
ンゼンスルホニルクロリド

【００６５】製造例７３−シアノ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インドール 10.15ｇ
（53.4ミリモル）をジメチルホルムアミド 150mlに溶解
し、ヒドロキシルアミン塩酸塩3.93ｇ（56.0ミリモル）
とピリジン 4.5ml（55.6ミリモル）を加えた。70−80℃
で２時間加熱撹拌後、二酸化セレン 6.3ｇ（56.8ミリモ
ル）と硫酸マグネシウム約５ｇを加えた。70−80℃でさ
らに 2.5時間加熱後、不溶物を濾去し、濃縮した。水を
加えて析出した結晶を濾取し、水、エチルエーテルで順
次洗浄した。結晶をテトラヒドロフランとアセトンの混
液に溶解し、不溶物を濾去した。濃縮後、酢酸エチルを
加え結晶を濾取し、表題化合物8.61ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 7.48(1H, t, J=8.1Hz),
8.17(1H, d, J=8.1Hz), 8.27(1H, d, J=8.1Hz), 8.47(1
H, s), 12.70-13.00(1H, br)

【００６６】製造例８７−アミノ−３−シアノ−１Ｈ−インドール製造例７の化合物2.80ｇ（15.0ミリモル）をメタノール
100mlに懸濁し、パラジウム−炭素存在下常温常圧で水
素添加した。触媒を濾別後、濃縮乾固し、表題化合物2.
31ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.32, 5.34(2H, s+s), 6.
47(1H, d, J=7.5Hz), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.94(1H,
dd, J=7.9, 7.5Hz), 8.13(1H, s), 11.55-11.90(1H, b
r),

【００６７】製造例９７−アミノ−３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール２−ブロモ−５−クロロニトロベンゼンから製造例１と
同様にして得られた７−ブロモ−４−クロロ−１Ｈ−イ
ンドールを製造例３と同様にしてまず塩素化し、ついで
製造例２と同様にしてブロモ基をアミノ基へ変換するこ
とにより表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.26(2H, s), 6.29(1H,
d, J=8.1Hz), 6.74(1H, d, J=8.1Hz), 7.45-7.51(1H,
m), 11.08-11.27(1H, m) 同様にして、７−アミノ−４−ｔｅｒｔ−ブチルジメチ
ルシリルオキシ−３−クロロ−１Ｈ−インドールを合成
した。

【００６８】製造例１０７−アミノ−３−クロロ−１Ｈ−インドール７−ニトロ−１Ｈ−インドール 1.076g （6.64ミリモ
ル）をアセトニトリル 30ml に溶解し、Ｎ−クロロコハ
ク酸イミド920mg （6.89ミリモル）を加えた。室温で36
時間撹拌後、飽和重曹水を加え、沈殿を濾取、水洗し、
３−クロロ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール1.2gを得
た。この粉末863mg （4.39ミリモル）をエタノール10ml
に懸濁し、塩化第一スズ・２水和物4.95g （21.9ミリモ
ル）と濃塩酸100 μl を加えた。30分間加熱還流後、飽
和重曹水を加え、不溶物を濾去した。酢酸エチルを加え
て抽出後、硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物490mg
を得た。

【００６９】表題化合物は３−クロロ−７−ニトロ−１
Ｈ−インド−ルを白金−炭素触媒存在下常温常圧で水素
添加しても得られた。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.14(2H, s), 6.36(1H, d
d, J=7.5, 1.0Hz), 6.68(1H, dd, J=7.9, 0.73Hz), 6.8
1(1H, dd, J=7.9, 7.5Hz), 7.39(1H, d, J=2.7Hz), 10.
85(1H, br s)

【００７０】製造例１１４−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスルホニル
クロリドクロロスルホン酸 2.4ｇ（36.5ミリモル）に、氷冷下２
−フェニルエタンスルホンアミド 1.3ｇ（7.3 ミリモ
ル）を20分かけて加え、室温でさらに90分撹拌した。反
応混合液を氷水に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、飽和重曹
水、飽和食塩水で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
した。溶媒を減圧留去し、表題化合物 1.6ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.97-3.02(2H, m), 3.21-
3.26(2H, m), 7.21(2H,d, J=8.4Hz), 7.53(2H, d, J=8.
4Hz) 同様にして以下の原料化合物を合成した。

【００７１】４−［２−（メチルスルホニル）エチル］
ベンゼンスルホニルクロリド４−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチ
ル］ベンゼンスルホニルクロリド４−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼン
スルホニルクロリド４−（Ｎ−メチルアセトアミド）ベンゼンスルホニルク
ロリド

【００７２】製造例１２５−ブロモ−７−ニトロ−１Ｈ−インドール１−アセチル−５−ブロモ−７−ニトロインドリン5.05
ｇ（17.7ミリモル）をエタノール６mlと６Ｎ塩酸40mlの
混液に加え、３時間加熱還流した。炭酸ナトリウムを加
えて中和後、酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、５−ブロモ−７−ニトロインドリン
4.13ｇを得た。この化合物 301mg（1.24ミリモル）をト
ルエン10mlに加え、次に２，３−ジクロロ−５，６−ジ
シアノ−１，４−ベンゾキノン 580mg（2.55ミリモル）
を加えた。撹拌しながら 3.5時間加熱還流後、不溶物を
濾去し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製し、表題化合物 252mgを得た。

【００７３】製造例１３５−ブロモ−３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インド
ールジメチルホルムアミド 1.0ｇ（14ミリモル）に窒素雰囲
気下０℃でオキシ塩化リン 210mg（ 1.4ミリモル）を加
え、30分間撹拌した。製造例１２の化合物 240mg（ 1.0
ミリモル）を０℃で加え、０℃で20分間、ついで 100℃
で30分間撹拌した。反応混合液を氷冷後氷水に注ぎ、１
Ｎ水酸化ナトリウム水溶液を加えpH７−８に保ちながら
30分間撹拌した。生じた沈澱を濾取、水洗後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物 239
mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 8.31(1H, d, J=1.8Hz),
8.55(1H, s), 8.65(1H, d, J=1.8Hz), 10.05(1H, s), 1
2.89(1H, br s)

【００７４】製造例１４７−アミノ−５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−インドー
ル製造例１３の化合物から製造例７と同様にして得られた
５−ブロモ−３−シアノ−７−ニトロ−１Ｈ−インドー
ル 214mg（ 0.8ミリモル）をメタノール10mlとテトラヒ
ドロフラン10mlの混液に溶解した。酸化白金の存在下、
3.0kg ／cm^２で水素添加後、触媒を濾去、濃縮乾固し、
表題化合物 189mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.68-5.71(2H, m), 6.60
(1H, d, J=2.0Hz), 6.91(1H, d, J=2.0Hz), 8.16(1H,
s)

【００７５】製造例１５３−アセチル−７−アミノ−１Ｈ−インドール窒素雰囲気下、７−ニトロ−１Ｈ−インドール 1.2ｇ
（ 7.5ミリモル）のジクロロメタン溶液(50ml)に０℃で
ジメチルアルミニウムクロリド 1.0Ｍヘキサン溶液11ml
（11ミリモル）を加えた。ついで、０℃で塩化アセチル
2.1ml（29.5ミリモル）を加え、室温で４時間撹拌し
た。反応系に飽和塩化アンモニウム水を加え、生じた沈
澱を濾取した。この沈澱を熱エタノールで十分に洗浄
し、洗液を濾液と合わせ、濃縮した。残渣に水を加え、
酢酸エチルで抽出、飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、３−アセチル−７−
ニトロ−１Ｈ−インドールを得た。これをメタノール 1
00mlに溶解し、パラジウム−炭素存在下、常温常圧で水
素添加した。触媒を濾去後濃縮乾固し、表題化合物 790
mgを得た。

【００７６】合成例１Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニトロベン
ゼンスルホンアミド製造例２の化合物1.50ｇ（11.3ミリモル）をピリジン40
mlに溶解し、室温撹拌下４−ニトロベンゼンスルホニル
クロリド2.57ｇ（11.6ミリモル）を加えた。室温で一晩
撹拌後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチルと 0.2Ｎ
塩酸を加えた。有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウム
で乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラム
クトマトグラフィーで精製し、表題化合物3.50ｇを得
た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.42(1H, dd, J=2.8, 2.0
Hz), 6.66(1H, d, J=7.6Hz), 6.83(1H, dd, J=8.0, 7.6
Hz), 7.31(1H, dd, J=3.2, 2.8Hz), 7.36(1H, d,J=8.0H
z), 7.94-8.02(2H, m), 8.30-8.38(2H, m), 10.23(1H,
s), 10.74-10.87(1H, m)

【００７７】合成例２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−ニトロベンゼンスルホンアミド合成例１の化合物8.98ｇ（28.3ミリモル）をジクロロメ
タン 280mlとジメチルホルムアミド７mlの混合溶媒に溶
解し、窒素雰囲気下撹拌しながらＮ−クロロコハク酸イ
ミド4.16ｇ（31.2ミリモル) を加えた。室温で 1.5時間
撹拌後、水50mlを加え液量が約80mlになるまで濃縮し
た。酢酸エチルと 0.2Ｎ塩酸を加えて有機層を分取し、
飽和重曹水、飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物7.98ｇを
得た。融点：199.5-200.5 ℃ (クロロホルムから再結晶)^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.72(1H, d, J=7.6Hz),
6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31(1H, d, J=8.0Hz),
7.47-7.53(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,
m), 10.33(1H, s), 11.07-11.22(1H, m)

【００７８】合成例３４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例２の化合物7.98ｇ（22.7ミリモル）をメタノール
220mlに溶解し、撹拌しながら加熱還流した。これに10
分間隔で濃塩酸10mlと亜鉛末7.40ｇを３回加え、さらに
10分間還流した。冷却後、大過剰の重曹を加えて中和
し、不溶物を濾取した。濾液を濃縮後、残渣を酢酸エチ
ルに溶解し、飽和重曹水、２Ｎ炭酸ナトリウム水溶液、
飽和食塩水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥
後、溶媒を減圧留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーで精製し、表題化合物7.21ｇを得た。融点：174.5-176 ℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 5.97(2H, br s), 6.48(2
H, d, J=8.8Hz), 6.88(1H, d, J=7.6Hz), 6.95(1H, dd,
J=8.0, 7.6Hz), 7.19(1H, d, J=8.0Hz), 7.36(2H, d,
J=8.8Hz), 7.46(1H, d, J=2.4Hz), 9.56(1H, s), 10.86
-10.98(1H, m)

【００７９】合成例４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド合成例３の化合物68mg（ 0.211ミリモル）をピリジン１
mlに溶解し、メタンスルホニルクロリド15μl （ 0.194
ミリモル）を加えた。室温で一晩撹拌後、重曹水を加
え、酢酸エチルで抽出した。有機層を希塩酸、水で順次
洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣を
シリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製し、表題化合
物76mgを得た。融点：213.5-214 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.08(3H, s), 6.83(1H,
d, J=7.5Hz), 6.96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H,
d, J=8.8Hz), 7.24(1H, d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d, J=
2.7Hz), 7.68(2H, d, J=8.8Hz), 9.92(1H, br s), 10.3
8(1H, br s), 10.99(1H, br s)

【００８０】合成例５４−ブロモメチル−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イ
ル）ベンゼンスルホンアミド４−ブロモメチルベンゼンスルホニルクロリドと製造例
２の化合物を等モルのピリジン存在下テトラヒドロフラ
ン中室温で反応させ、合成例１と同様に処理して表題化
合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 4.70(2H, s), 6.40(1H, d
d, J=3.1, 1.1Hz), 6.71(1H, ddd, J=7.4, 3.2, 0.92H
z), 6.81(1H, ddd, J=8.1, 7.4, 0.92Hz), 7.29-7.32(2
H, m), 7.57(2H, d, J=8.2Hz), 7.73(2H, d, J=8.4Hz),
9.96(1H, br s),10.75(1H, br s)

【００８１】合成例６Ｎ−（１，３−ジヒドロ−２Ｈ−インドール−２−オン
−７−イル）−４−メチルベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点：246 ℃付近から徐々に分解し始め、267-269 ℃で
急速に分解（ジオキサンから再結晶）

【００８２】合成例７３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして合成した３−クロロ−Ｎ−（１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド2.18
ｇ（7.11ミリモル）を実施例２と同様にして塩素化し、
表題化合物1.86ｇを得た。融点：180-181 ℃（ジクロロメタン−ジイソプロピルエ
ーテルから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d_６) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.6Hz),
6.97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz),
7.45-7.51(1H, m), 7.51-7.76(4H, m), 10.09(1H, s),
11.02-11.18(1H, m)

【００８３】合成例８４−アミノ−Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして合成したＮ−（３，４−ジクロロ
−１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニトロベンゼン
スルホンアミド2.43ｇ（6.29ミリモル）から実施例３と
同様にして表題化合物2.03ｇを得た。融点：205-206.5 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.00(2H, s), 6.50(2H,
d, J=8.4Hz), 6.77(1H, d, J=8.0Hz), 6.94(1H, d, J=
8.0Hz), 7.35(2H, d, J=8.4Hz), 7.51-7.58(1H, m), 9.
57(1H, s), 11.20-11.38(1H, m)

【００８４】合成例９４−［Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）スルファモ
イル］安息香酸合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d_６) δ(ppm) : 6.40(1H, dd, J=2.9, 1.
9Hz), 6.67(1H, d, J=7.5Hz), 6.82(1H, dd, J=7.9, 7.
5Hz), 7.31(1H, dd, J=2.9, 2.7Hz), 7.33(1H, d, J=7.
9Hz), 7.81-7.88(2H, m), 7.99-8.07(2H, m), 10.07(1
H, s), 10.73-10.83(1H, m), 13.30-13.58(1H, br)

【００８５】合成例１０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−シアノベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして合成した４−シアノ−Ｎ−（１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド 100
mgから実施例２と同様にして表題化合物76mgを得た。融点：210-211 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.71(1H, dd, J=7.6, 0.8
Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0
Hz), 7.48(1H, dd, J=2.4, 0.8Hz), 7.82-7.90(2H, m),
7.97-8.05(2H, m), 10.25(1H, s), 11.04-11.15(1H,
m)

【００８６】合成例１１３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−４−メトキシ−１Ｈ−
インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして合成した３−クロロ−Ｎ−（４−
メトキシ−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスル
ホンアミド 100mgから実施例２と同様にして表題化合物
52mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.79(3H, s), 6.37(1H,
d, J=8.4Hz), 6.45(1H, d, J=8.4Hz), 7.24-7.31(1H,
m), 7.48-7.77(4H, m), 9.76(1H, s), 11.06-11.17(1H,
m)

【００８７】合成例１２３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−４−ヒドロキシ−１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして合成したＮ−（４−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルオキシ−３−クロロ−１Ｈ−インド
ール−７−イル）−３−クロロベンゼンスルホンアミド
220mg（0.47ミリモル）を40％フッ化水素水溶液−アセ
トニトリル（１：10）混液（２ml）に加えた。室温で一
晩撹拌後、水を加えて酢酸エチルで抽出し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、表題化合物 141mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.15(1H, dd, J=8.2, 1.5
Hz), 6.26(1H, d, J=8.2Hz), 7.12(1H, s), 7.47-7.64
(4H, m), 9.54(1H, s), 10.85(1H, s)

【００８８】合成例１３Ｎ−（１Ｈ−インダゾール−７−イル）−４−メトキシ
ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点：155-156 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.77(3H, s), 6.91-6.99
(2H, m), 6.98-7.07(2H,m), 7.45-7.53(1H, m), 7.64-
7.74(2H, m), 8.01-8.07(1H, m), 9.97(1H, s), 12.61-
12.72(1H, m)

【００８９】合成例１４６−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド６−クロロ−３−ピリジンスルホニルクロリドと製造例
２の化合物を実施例１と同様に反応させて得られた６−
クロロ−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）−３−ピ
リジンスルホンアミドを実施例２と同様にして塩素化
し、表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.73(1H, d, J=7.7Hz),
6.97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H, d, J=7.9Hz),
7.46(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(1H, d, J=8.4Hz), 8.03(1
H, dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.62(1H, d, J=2.6Hz), 10.18-
10.34(1H, br), 11.06-11.17(1H, m)

【００９０】合成例１５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルチオメチル）ベンゼンスルホンアミド合成例５の化合物1.97ｇ（5.37ミリモル）をテトラヒド
ロフラン10mlに溶解し、室温で15％ナトリウムメチルチ
オラート水溶液10ml（39.4ミリモル）と触媒量のメチル
トリオクチルアンモニウムクロリドを加え一晩撹拌し
た。水20mlを加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水
洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１Ｈ−イン
ドール−７−イル）−４−（メチルチオメチル）ベンゼ
ンスルホンアミド1.51ｇを得た。これを実施例２と同様
にして塩素化し、表題化合物 839mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.87(3H, s), 3.70(2H,
s), 6.77(1H, dd, J=7.6,2.1Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9,
7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.42(2H, d, J=8.2H
z), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.67(2H, d, J=8.4Hz), 9.
96(1H, br s), 11.01(1H, br s)

【００９１】合成例１６３−クロロ−Ｎ−（３−ホルミル−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミドジメチルホルムアミド14.5ml中に窒素雰囲気下撹拌しな
がらオキシ塩化リン 1.3ml(13.9 ミリモル）を10℃以下
で滴下した。約５℃で30分間撹拌後、実施例１と同様に
して合成した３−クロロ−Ｎ−（１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド2.50ｇ（8.15ミリモ
ル）を３回に分けて加えた。約５℃でさらに30分間撹拌
後、冷水 200mlを加えた。１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液
を加えて、反応混合物のpHを約14にし、ついで１Ｎ塩酸
でpHを約２にした。酢酸エチルを加えて抽出し、有機層
を飽和食塩水で洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃
縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物1.45ｇを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.70(1H, dd, J=7.6, 0.8
Hz), 7.06(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.51-7.75(4H, m),
7.93(1H, d, J=8.0Hz), 8.22-8.28(1H, m), 9.93(1H,
s), 10.17(1H, s), 11.86-11.98(1H, m)

【００９２】合成例１７３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１６の化合物1.20ｇ（3.58ミリモル）のジメチル
ホルムアミド溶液（18ml) に撹拌下70〜80℃でヒドロキ
シルアミン塩酸塩 274mg（3.94ミリモル）とピリジン0.
32ml（3.96ミリモル）を加えた。そのまま 2.5時間撹拌
した後、二酸化セレン 437mg（3.94ミリモル）と硫酸マ
グネシウム粉末約 100mgを加えた。さらに２時間同温で
撹拌した後、溶媒を減圧留去し、残渣に酢酸エチルを加
えて不溶物を濾取した。濾液を 0.1Ｎ塩酸、飽和食塩水
で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、表題化合物 678mgを得た。融点：204.5-205 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再
結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.71(1H, d, J=7.6Hz),
7.08(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.47(1H, d, J=8.0Hz),
7.50-7.76(4H, m), 8.17-8.25(1H, m), 10.21(1H,s), 1
1.92-12.09(1H, m)

【００９３】合成例１８６−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.77(1H, d, J=7.9Hz),
7.12(1H, t, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=7.9Hz), 7.72(1
H, d, J=8.4Hz), 8.06(1H, dd, J=8.4, 2.6Hz), 8.23(1
H, d, J=2.6Hz), 8.65(1H, d, J=2.6Hz), 10.34-10.48
(1H, br), 11.98-12.12(1H, m)

【００９４】合成例１９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−スルファモイルベンゼンスルホンアミド製造例５の化合物 767mg（3.0 ミリモル）と製造例２の
化合物 264mg（2.0 ミリモル）を実施例１と同様に反応
させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）−
４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド 445mgを得
た。これを実施例２と同様にして塩素化し、表題化合物
349mgを得た。融点：220 ℃付近から部分的に黒く着色し始め、240 ℃
付近より徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再
結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.75(1H, d, J=7.6Hz),
6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d, J=7.6Hz),
7.50(1H, d, J=2.8Hz), 7.58(2H, s), 7.90-7.98(4H,
m), 10.23(1H, s), 11.07-11.17(1H, m)

【００９５】合成例２０３−クロロ−Ｎ−（８−イミダゾ［１，２−ａ］ピリジ
ニル）ベンゼンスルホンアミド塩酸塩２，３−ジアミノピリジン1.97ｇ（18ミリモル）をテト
ラヒドロフランと水の混液に溶解し、３−クロロベンゼ
ンスルホニルクロリド1.90ｇ（9.0 ミリモル）のテトラ
ヒドロフラン溶液を加えた。室温で一晩撹拌後、濃縮
し、水とジクロロメタンを加えた。有機層を分取し、器
壁をこすり、析出した結晶を濾取し、Ｎ−（２−アミノ
−３−ピリジニル）−３−クロロベンゼンスルホンアミ
ド1.41ｇを得た。この結晶 530mg（1.87ミリモル）をメ
タノールに溶解し、40％クロロアセトアルデヒド水溶液
367mg（1.87ミリモル）を加えた。４時間加熱還流後、
濃縮乾固し、残渣にメタノール少量を加え、結晶を濾取
し、表題化合物 373mgを得た。融点：210 ℃付近より徐々に分解（エタノールから再結
晶）

【００９６】合成例２１Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−スルファモイルベンゼンスルホンアミド製造例５の化合物 429mg（1.68ミリモル）と製造例９の
化合物 250mg（1.24ミリモル）を実施例１と同様に反応
させ、処理し、表題化合物 200mgを得た。融点： 282℃付近より着色し始め、徐々に分解（エタノ
ール−エチルエーテルから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.62(1H, d, J=8.1Hz),
6.95(1H, d, J=8.1Hz), 7.53-7.62(3H, m), 7.87-7.99
(4H, m), 10.17-10.33(1H, br), 11.44-11.56(1H,m)

【００９７】合成例２２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルチオ）ベンゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.48(3H, s), 6.82(1H, d
d, J=7.9, 1.5Hz), 6.96(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.25
(1H, dd, J=7.9, 0.92Hz), 7.33(2H, d, J=8.8Hz), 7.4
9(1H, d, J=2.7Hz), 7.62(2H, d, J=8.6Hz), 9.96(1H,
br s), 11.02(1H,br s)

【００９８】合成例２３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド合成例２２の化合物54.2mg（0.154 ミリモル）をメタノ
ール２mlと水 1.2mlの混液に溶解し、室温でモリブデン
酸アンモニウム・４水和物30mgと30％過酸化水素水 0.6
mlを加えた。一晩撹拌後、水を加え、酢酸エチルで抽
出、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題
化合物29.4mgを得た。融点： 250℃付近より着色し始め、 264-266℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.28(3H, s), 6.75(1H,
d, J=7.7Hz), 6.97(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.30(1H,
d, J=8.1Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.97(2H, d, J=
8.2Hz), 8.09(2H, d, J=8.4Hz), 10.29(1H, br s), 11.
12(1H, br s)

【００９９】合成例２４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルフィニル）ベンゼンスルホンアミド合成例２２の化合物19.9mg（0.056 ミリモル）をジクロ
ロメタン２mlに溶解し、氷冷下撹拌しながらｍ−クロロ
過安息香酸10mg（0.058 ミリモル）を加えた。１時間
後、飽和重曹水を加え、酢酸エチルで抽出、水洗、硫酸
マグネシウムで乾燥した。濃縮後、シリカゲル薄層クロ
マトグラフィーで精製し、表題化合物14.4mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.76(3H, s), 6.78(1H, d
d, J=7.5, 1.1Hz), 6.96(1H, dt, Jd=0.55Hz, Jt=7.8H
z), 7.28(1H, dd, J=7.6, 0.82Hz), 7.48(1H, d,J=2.7H
z), 7.82(2H, d, J=8.6Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 1
0.15(1H, br s), 11.06(1H, br s)

【０１００】合成例２５３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−ピロロ［３，２
−ｃ］ピリジン−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 7.41-7.65(2H, m), 7.65-
7.77(2H, m), 7.74-7.86(2H, m), 8.40-8.62(1H, br
m), 12.38-12.58(1H, br), 13.56-13.74(1H, br)

【０１０１】合成例２６４−アセトアミド−Ｎ−（３−クロロ−４−メチル−１
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点：225 ℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.03(3H, s), 2.56(3H,
s), 6.54-6.60(2H, m), 7.33(1H, d, J=2.6Hz), 7.60(2
H, d, J=9.0Hz), 7.64(2H, d, J=9.0Hz), 9.63(1H,br
s), 10.24(1H, br s), 10.92(1H, br s)

【０１０２】合成例２７４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−４−メチル−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例２６の化合物3.75ｇ（9.9 ミリモル）を２Ｎ水酸
化ナトリウム水溶液25mlに溶解し、100 ℃で２時間撹拌
した。室温にもどした後、酢酸を加えてpH６にし、生じ
た沈澱を濾取、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製し、表題化合物 1.1ｇを得た。融点：230 ℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.56(3H, s), 5.93(2H, b
r s), 6.46(2H, d, J=8.8Hz), 6.59(1H, d, J=7.8Hz),
6.64(1H, d, J=7.8Hz), 7.31(2H, d, J=8.8Hz),7.36(1
H, d, J=2.9Hz), 9.34(1H, br s), 10.88(1H, br s)

【０１０３】合成例２８４−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点：250.5-252 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再
結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.67(1H, d, J=7.7Hz),
7.05(1H, t, J=7.9Hz), 7.44(1H, d, J=7.7Hz), 7.78-
7.87(2H, m), 7.97-8.05(2H, m), 8.16-8.23(1H, m), 1
0.28-10.43(1H, br), 11.92-12.09(1H, m)

【０１０４】合成例２９４−カルバモイル−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドー
ル−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１０の化合物 1.0ｇ（3.01ミリモル）をエタノー
ル4.8ml に加えた液に撹拌しながら30％過酸化水素水
2.4mlと６Ｎ水酸化ナトリウム水溶液 360μl を各々３
回に分けて加えた（反応温度約50℃）。50℃でさらに30
分間撹拌後、希塩酸を加えて酸性にし、酢酸エチルで抽
出した。有機層を分取、水洗、硫酸マグネシウムで乾燥
後、濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、表題化合物 600mgを得た。融点：248 ℃付近から着色、分解し始め、252.5-253.5
℃で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.76(1H, d, J=7.5Hz),
6.95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.27(1H, d, J=8.1Hz),
7.49(1H, d, J=2.6Hz), 7.59(1H, br s), 7.76-7.83(2
H, m), 7.91-7.98(2H, m), 8.12(1H, br s), 10.10(1H,
s), 11.01-11.12(1H, m)

【０１０５】合成例３０Ｎ−（４−ブロモ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−ニトロベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.35-6.41(1H, m), 6.56
(1H, d, J=8.4Hz), 7.06(1H, dd, J=8.4, 0.8Hz), 7.41
-7.48(1H, m), 7.92-8.02(2H, m), 8.30-8.41(2H,m), 1
0.34(1H, s), 11.18-11.32(1H, m)

【０１０６】合成例３１Ｎ−（３−クロロ−４−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−ニトロベンゼンスルホンアミド合成例３０の化合物 200mg（0.505 ミリモル）をＮ−メ
チルピロリドン0.8mlに溶解し、シアン化第一銅83mg
（0.91ミリモル）を加えた。180-190 ℃で３時間撹拌
後、氷水40mlを加え不溶物を濾取、水洗した。不溶物を
熱エタノールと熱クロロホルムで抽出し、濃縮後、残渣
をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製し、Ｎ−
（４−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４−ニ
トロベンゼンスルホンアミド65mgを得た。これを実施例
２と同様にして塩素化し、表題化合物42mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.98(1H, d, J=8.0Hz),
7.51(1H, d, J=8.0Hz), 7.79(1H, d, J=2.8Hz), 7.99-
8.08(2H, m), 8.31-8.40(2H, m), 10.75-10.95(1H,br),
11.62-11.73(1H, m)

【０１０７】合成例３２４−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−４−シアノ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例３１の化合物から合成例３と同様にして表題化合
物を得た。融点：232 ℃付近から徐々に分解し始め、249.5-255 ℃
で急速に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.09(2H, s), 6.52(2H,
d, J=8.8Hz), 7.10(1H, d, J=8.4Hz), 7.46(2H, d, J=
8.8Hz), 7.50(1H, d, J=8.4Hz), 7.72-7.79(1H, m), 1
0.20(1H, s), 11.40-11.59(1H, m)

【０１０８】合成例３３６−アミノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド合成例１４の化合物2.48ｇ（7.25ミリモル）とヨウ化リ
チウム679mg （5.07ミリモル）をエタノール25mlに加え
た。液体アンモニア10mlを加えて封管中120 ℃で26時間
加熱後、濃縮した。残渣を酢酸エチルに溶解し、飽和重
曹水、水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。濃
縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物982mg を得た。融点：206-207 ℃（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.37(1H, d, J=8.8Hz),
6.83-6.94(1H, m), 6.88(2H, br s), 6.99(1H, dd, J=
7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.48(1H,
d, J=2.7Hz), 7.56(1H, dd, J=8.8, 2.4Hz), 8.14(1H,
d, J=2.4Hz), 9.70(1H, s), 10.92-11.03(1H, m)

【０１０９】合成例３４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルフィニルメチル）ベンゼンスルホンアミ
ド合成例１５の化合物を実施例２４と同様に酸化して表題
化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.41(3H, s), 3.98(1H,
d, J=12.6Hz), 4.18(1H,d, J=12.8Hz), 6.77(1H, d, J=
7.5Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H,d, J=
7.9Hz), 7.43(2H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H, d, J=2.8H
z), 7.73(2H, d, J=8.1Hz), 10.01(1H, br s), 11.03(1
H, br s)

【０１１０】合成例３５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスルホンアミ
ド製造例１１の化合物865mg(3.05ミリモル）と製造例２の
化合物376mg(2.84ミリモル) を実施例１と同様に反応さ
せ、処理して得られたＮ−（１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（２−スルファモイルエチル）ベンゼンスル
ホンアミド957mg 実施例２と同様に塩素化して表題化合
物 980mgを得た。融点：217-219 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.01-3.06(2H, m), 3.23-
3.28(2H, m), 6.81(1H,dd, J=7.5, 0.37Hz), 6.88(2H,
br s), 6.95(1H, dd, J=8.1, 7.5Hz), 7.24(1H,dd, J=
7.8, 0.37Hz), 7.42(2H, d, J=8.4Hz), 7.49(1H, d, J=
2.6Hz), 7.68(2H,d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.02
(1H, br s)

【０１１１】合成例３６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。融点：180 ℃付近より着色し始め、201-203 ℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.92(3H, s), 3.01-3.07
(2H, m), 3.40-3.46(2H,m), 6.81(1H, d, J=7.9Hz), 6.
94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.7Hz), 7.
45(2H, d, J=8.2Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.68(2H,
d, J=8.2Hz), 9.99(1H, br s), 11.03(1H, br s)

【０１１２】合成例３７６−アミノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−３−ピリジンスルホンアミド合成例１８の化合物を実施例３３と同様にしてアミノ化
し、表題化合物を得た。融点：300 ℃以上（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.0Hz),
6.88(1H, d, J=7.7Hz), 6.89(2H, s), 7.11(1H, dd, J=
7.9, 7.7Hz), 7.41(1H, dd, J=7.9, 0.7Hz), 7.55(1H,
dd, J=9.0, 2.6Hz), 8.12(1H, d, J=2.6Hz), 8.19(1H,
s), 9.72-9.90(1H,br), 11.78-11.92(1H, m)

【０１１３】合成例３８４−アセトアミド−３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１
Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.14(3H, s), 6.77(1H,
d, J=7.7Hz), 6.98(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.29(1H,
d, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.64(1H, dd, J=
8.6, 2.2Hz), 7.75(1H, d, J=2.2Hz), 8.04(1H, d, J=
8.6Hz), 9.69(1H, br s), 10.04(1H, br s), 11.11(1H,
br s)

【０１１４】合成例３９Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−８
−キノリンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.68(1H, d, J=7.3Hz),
6.89(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H, d, J=8.1Hz),
7.69-7.74(2H, m), 8.21(1H, d, J=2.9Hz), 8.30(1H, d
d, J=8.2, 1.3Hz), 8.35(1H, dd, J=7.4, 1.4Hz), 8.54
(1H, dd, J=8.3, 1.7Hz), 9.15(1H, dd, J=4.3, 1.7H
z), 10.04(1H, br s), 12.14(1H, br s)

【０１１５】合成例４０５−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−チオフェンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.88(1H, ddd, J=7.7, 2.
2, 0.73Hz), 7.16(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.20(1H,
d, J=4.0Hz), 7.36(1H, d, J=4.2Hz), 7.51(1H, d, J=
8.1Hz), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.42(1H, br s), 12.
01(1H, br s)

【０１１６】合成例４１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メトキシカルボニルアミノ）ベンゼンスルホンアミ
ド合成例３の化合物38mg（0.18ミリモル）のピリジン溶液
（１ml）にクロロギ酸メチル 170mg（1.8 ミリモル）を
加え一晩室温で撹拌した。反応混合物を濃縮し、残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、表題化
合物20mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.80(1H,
d, J=7.7Hz), 6.93(1H, t, J=7.9Hz), 7.21(1H, dd, J=
7.7, 0.37Hz), 7.45(1H, d, J=2.7Hz), 7.51(2H,d, J=
9.0Hz), 7.63(2H, d, J=8.8Hz), 9.85(1H, br s), 10.0
7(1H, s), 10.97(1H, br s)

【０１１７】合成例４２４−アセチル−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.60(3H, s), 6.74(1H,
d, J=7.7Hz), 7.05(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.42(1H,
d, J=7.9Hz), 7.81-7.88(2H, m), 8.03-8.10(2H,m), 8.
21(1H, s), 10.18-10.50(1H, br), 11.92-12.07(1H, m)

【０１１８】合成例４３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メトキシスルファモイル）ベンゼンスルホンア
ミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.65(3H, s), 6.73(1H,
d, J=7.6Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.30(1H,
d, J=8.0Hz), 7.50(1H, d, J=2.4Hz), 7.98(4H, s), 1
0.29(1H, br s), 10.76(1H, br s), 11.12(1H, br s)

【０１１９】合成例４４Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−β
−スチレンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 7.14-7.20(2H, m), 7.32
(2H, s), 7.35-7.47(4H,m), 7.60-7.68(2H, m), 8.23(1
H, s), 9.70-10.03(1H, br), 11.85-12.12(1H, br)

【０１２０】合成例４５３−クロロ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−メチルベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.61(3H, s), 6.69(1H,
d, J=7.7Hz), 7.04(1H, t, J=7.9Hz), 7.36(1H, dd, J=
8.1, 7.9Hz), 7.42(1H, d, J=7.9Hz), 7.73(1H, dd, J=
8.1, 1.1Hz), 7.77(1H, dd, J=8.0, 0.82Hz), 8.25(1H,
d, J=3.1Hz), 10.37(1H, s), 11.99(1H, br s)

【０１２１】合成例４６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−イソプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド合成例１４の化合物 400mg（ 1.17 ミリモル）とイソプ
ロピルアミン0.80ml（9.39 ミリモル）をジオキサン５m
lに加え封管中 100℃で 7.5時間加熱した。濃縮後、酢
酸エチルに溶解し、希クエン酸水、飽和重曹水、水で順
次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾燥後、濃縮し、残渣
をシリカゲル薄層クロマトグラフィーで精製し、表題化
合物 235mgを得た。融点： 210℃付近から着色し始め、 213-215℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.09(6H, d, J=6.6Hz),
3.90-4.08(1H, m), 6.39(1H, d, J=9.0Hz), 6.90-7.05
(2H, m), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.33(1H, d, J=7.7H
z), 7.48(1H, d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6H
z), 8.22(1H, d, J=2.6Hz), 9.65-9.84(1H, br), 10.88
-11.04(1H, m)

【０１２２】合成例４７Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−［［２−（ジメチルアミノ）エチル］アミノ］−３−
ピリジンスルホンアミド合成例１４の化合物とＮ，Ｎ−ジメチルエチレンジアミ
ンから合成例４６と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.14(6H, s), 2.35(2H,
t, J=6.6Hz), 3.24-3.44(2H, m), 6.48(1H, d, J=9.0H
z), 6.92(1H, d, J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9,7.7H
z), 7.22(1H, d, J=7.9Hz), 7.27-7.39(1H, m), 7.47(1
H, d, J=2.4Hz), 7.54(1H, dd, J=9.0, 2.6Hz), 8.21(1
H, d, J=2.6Hz), 10.91-11.03(1H, m)

【０１２３】合成例４８Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−２
−フランスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.62(1H, ddd, J=3.7, 1.
8, 0.37Hz), 6.78(1H, d, J=7.5Hz), 7.04(1H, d, J=3.
5Hz), 7.12(1H, t, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=8.1Hz),
7.99-8.00(1H, m), 8.23(1H, d, J=3.1Hz), 10.49(1H,
br s), 12.04(1H,br s)

【０１２４】合成例４９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（ジメチルアミノスルホニル）アミノ］ベンゼンス
ルホンアミド合成例３の化合物とジメチルスルファモイルクロリドか
ら合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.66(6H, s), 6.81(1H, d
d, J=7.7, 0.92Hz), 6.95(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.2
0(2H, d, J=8.8Hz), 7.23(1H, d, J=8.1Hz), 7.47(1H,
d, J=2.7Hz), 7.64(2H, d, J=8.8Hz), 10.98(1H, br s)

【０１２５】合成例５０Ｎ−（３−メチル−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホンアミド３−ホルミル−７−ニトロ−１Ｈ−インドール 300mg
（1.58ミリモル）の２−プロパノール懸濁液（25ml）に
水素化ホウ素ナトリウム 580mg（15.3ミリモル）と10％
パラジウム−炭素 150mgを加え、６時間還流した。反応
系に水を加えた後、触媒を濾取した。濾液を酢酸エチル
で抽出し、飽和食塩水で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾
燥した。溶媒を減圧留去し、残渣をピリジン５mlに溶解
した。これを４−（メチルスルホニル）ベンゼンスルホ
ニルクロリド 170mg（0.67ミリモル）と実施例１と同様
に反応させ、処理し、表題化合物 149mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.18(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.69(1H, d, J=7.7Hz), 6.81(1H, t, J=7.7Hz), 7.
06(1H, br s), 7.25(1H, d, J=7.8Hz), 7.95(2H,d, J=
8.8Hz), 8.04(2H, d, J=8.2Hz), 10.14(1H, br s), 10.
40(1H, br s)

【０１２６】合成例５１３−シアノ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）ベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.71(1H, d, J=7.2Hz),
7.09(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.49(1H, d, J=8.0Hz),
7.74(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.94(1H, d, J=8.0Hz),
8.11-8.14(2H, m), 8.23(1H, d, J=2.8Hz), 10.30(1H,
br s), 12.05(1H,br s)

【０１２７】合成例５２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）ベンゼンスルホ
ンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。融点： 199-201℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.98(3H, s), 3.24(3H,
s), 6.83(1H, dd, J=7.7,0.37Hz), 6.96(1H, dd, J=7.
9, 7.7Hz), 7.26(1H, dd, J=7.9, 0.55Hz), 7.48(1H,
d, J=2.7Hz), 7.50-7.54(2H, m), 7.72-7.76(2H, m), 1
0.04(1H, br s), 11.02(1H, br s)

【０１２８】合成例５３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（メタンスルホンアミド）メチル］ベンゼンスルホ
ンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。融点： 180℃付近より着色し始め、 189-191℃で分解
（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.81(3H, s), 4.19(2H,
d, J=6.0Hz), 6.79(1H, d, J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J=
7.9, 7.7Hz), 7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.47(2H, d, J=
8.8Hz), 7.47-7.49(1H, m), 7.64(1H, t, J=6.4Hz), 7.
72(2H, d, J=8.4Hz), 10.00(1H, s), 11.03(1H, br s)

【０１２９】合成例５４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホンア
ミド４−（１−ピロリジニルスルホニル）ベンゼンスルホニ
ルクロリドと製造例１０の化合物から合成例１と同様に
して表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.55-1.59(4H, m), 3.07-
3.11(4H, m), 6.71(1H,d, J=7.6Hz), 6.95(1H, ddd, J=
8.2, 7.4, 1.2Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.46(1H,
d, J=2.4Hz), 7.89(2H, d, J=8.8Hz), 7.92(2H, d, J=
8.4Hz), 10.18(1H,br s), 11.03(1H, br s)

【０１３０】合成例５５Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−１
−メチル−４−イミダゾールスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.61(3H, s), 7.00(1H, d
d, J=7.7, 0.92Hz), 7.07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.3
5(1H, d, J=7.9Hz), 7.75-7.76(2H, m), 8.19(1H, d, J
=3.1Hz), 10.03(1H, br s), 11.92(1H, br s)

【０１３１】合成例５６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−［（２−ヒドロキシエチル）アミノ］−３−ピリジン
スルホンアミド合成例１４の化合物と２−アミノエタノールから合成例
４６と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.24-3.40(2H, m), 3.42-
3.52(2H, m), 4.66-4.77(1H, m), 6.48(1H, d, J=9.3H
z), 6.92(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, t, J=7.7Hz), 7.
24(1H, d, J=7.7Hz), 7.40-7.62(2H, m), 7.48(1H, d,
J=2.2Hz), 8.22(1H, d, J=2.6Hz), 9.63-9.90(1H, br),
10.90-11.07(1H, m)

【０１３２】合成例５７Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−メルカプト−３−ピリジンスルホンアミド合成例１４の化合物 340mg（0.99ミリモル）とチオウレ
ア 151mg（1.98ミリモル）をエタノール５mlに加え、２
時間加熱還流した。濃縮後、残渣に水 1.6mlと炭酸ナト
リウム57mgを加え、室温で10分間撹拌した。水酸化ナト
リウム85mgを加え、さらに10分間撹拌後、不溶物を濾去
した。塩酸酸性にして生じた沈澱を濾取し、水洗後、テ
トラヒドロフランに溶解し、硫酸マグネシウムで乾燥し
た。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフィー
で精製し、表題化合物 121mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.84(1H, d, J=7.6Hz),
7.03(1H, t, J=7.6Hz), 7.28(1H, d, J=9.2Hz), 7.31(1
H, d, J=7.6Hz), 7.44(1H, dd, J=9.2, 2.4Hz), 7.48(1
H, d, J=2.6Hz), 7.68(1H, d, J=2.4Hz), 9.58-9.80(1
H, br), 11.08-11.19(1H, m)

【０１３３】合成例５８７−（４−クロロベンゼンスルホンアミド）−１Ｈ−イ
ンドール−２−カルボン酸合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.65(1H, d, J=7.6Hz),
6.87(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.00(1H, s), 7.26(1H,
d, J=8.0Hz), 7.56-7.65(2H, m), 7.68-7.77(2H,m), 9.
62-10.00(1H, br), 11.40-11.74(1H, br)

【０１３４】合成例５９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−シクロプロピルアミノ−３−ピリジンスルホンアミド合成例４６と同様にして表題化合物を得た。融点：228 ℃付近から着色し始め、233.5-235 ℃で分解
（酢酸エチル−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 0.36-0.46(2H, m), 0.63-
0.75(2H, m), 2.44-2.64(1H, m), 6.45-6.64(1H, m),
6.93(1H, d, J=7.7Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.24(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz), 7.57-
7.73(2H, m), 8.25(1H, d, J=2.6Hz), 9.68-9.90(1H, b
r), 10.92-11.04(1H, m)

【０１３５】合成例６０Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−５
−メチル−３−ピリジンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点： 288℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.33(3H, s), 6.75(1H,
d, J=7.7Hz), 7.09(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.48(1H,
d, J=7.9Hz), 7.87-7.91(1H, m), 8.22(1H, d, J=3.1H
z), 8.58-8.67(2H, m), 10.28(1H, br s), 11.95-12.08
(1H, m)

【０１３６】合成例６１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.39(3H, d, J=5.2Hz),
6.71(1H, dd, J=7.8, 2.0Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.
6Hz), 7.30(1H, d, J=8.0Hz), 7.48(1H, d, J=2.8Hz),
7.68(1H, q, J=4.9Hz), 7.87-7.93(4H, m), 10.20(1H,
br s), 11.08(1H,br s)

【０１３７】合成例６２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メタンスルホンアミド）エチル］ベンゼンス
ルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.73-2.81(5H, m),3.13-
3.19(2H, m), 6.82(1H, d,J=7.7Hz), 6.95(1H, dd, J=
8.1, 7.7Hz), 7.09(1H, t, J=5.9Hz), 7.24(1H, d,J=8.
1Hz), 7.39(2H, d, J=8.2Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz),
7.68(2H, d, J=8.4Hz), 9.97(1H, br s), 11.02(1H, br
s)

【０１３８】合成例６３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホンアミド製造例６の化合物 389mg（1.44ミリモル）と製造例２の
化合物 159mg（ 1.2ミリモル）を実施例１と同様に反応
させ、処理し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−７−イル）−
４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホンアミド
233mgを得た。これを実施例２と同様にして塩素化し、
表題化合物 160mgを得た。融点： 237-238.5℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサ
ンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 4.33(2H, s), 6.84(1H, d
d, J=7.7, 0.73Hz), 6.93(2H, s), 6.92-6.97(1H, m),
7.24(1H, dd, J=7.9, 0.37Hz), 7.48(1H, d, J=2.7Hz),
7.48-7.52(2H, m), 7.75-7.79(2H, m), 10.08(1H, br
s), 11.04(1H, brs)

【０１３９】合成例６４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−チオカルバモイルベンゼンスルホンアミド合成例１０の化合物 400mg（1.21ミリモル）をジメチル
ホルムアミド10mlに溶解し、トリエチルアミン 0.5mlを
加えた。浴温60−70℃で硫化水素を45分間通じた。濃縮
後、残渣を酢酸エチルに溶解し、希塩酸、飽和重曹水、
水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を減
圧留去後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
で精製し、表題化合物 355mgを得た。融点： 223-225℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.81(1H, d, J=7.7Hz),
6.96(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz),
7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.73-7.80(2H, m), 7.86-7.93
(2H, m), 9.58-9.73(1H, br m), 10.02-10.18(1H, br
m), 10.15(1H, s), 11.03-11.12(1H, m)

【０１４０】合成例６５５−ブロモ−Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−２−ピリジンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点： 245.5-246.5℃（分解）（酢酸エチル−ｎ−ヘキ
サンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.82(1H, d, J=7.7Hz),
7.07(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.44(1H, d, J=7.9Hz),
7.80(1H, d, J=8.2Hz), 8.23(1H, d, J=2.2Hz), 8.29(1
H, dd, J=8.2, 2.2Hz), 8.92(1H, d, J=2.2Hz), 10.42-
10.67(1H, br), 11.93-12.08(1H, m)

【０１４１】合成例６６Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−２
−ナフタレンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.74(1H, dd, J=7.6, 2.8
Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.39(1H, dd, J=8.
0, 0.46Hz), 7.61-7.72(2H, m), 7.80(1H, dd, J=8.6,
1.8Hz), 8.01(1H, d, J=8.1Hz), 8.08(1H, s), 8.10(1
H, s), 8.21(1H, d,J=2.9Hz), 8.34(1H, d, J=1.6Hz),
10.23(1H, br s), 12.01(1H, br s)

【０１４２】合成例６７Ｎ−（３−アセチル−１Ｈ−インドール−７−イル）−
３−クロロベンゼンスルホンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.44(3H, s), 6.65(1H,
d, J=7.5Hz), 7.01(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.53-7.63
(2H, m), 7.69-7.73(2H, m), 8.01(1H, dd, J=8.1, 0.7
3Hz), 8.26(1H, d, J=2.9Hz), 10.10(1H, s), 11.75(1
H, br s)

【０１４３】合成例６８４−アミノ−Ｎ−（５−ブロモ−３−シアノ−１Ｈ−イ
ンドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド４−ニトロベンゼンスルホニルクロリドと製造例１４の
化合物から実施例１と同様にして得られたＮ−（５−ブ
ロモ−３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−ニトロベンゼンスルホンアミドを酸化白金存在下常温
常圧で水素添加し、表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.07(2H, br s), 6.52(2
H, d, J=8.4Hz), 6.97-6.99(1H, m), 7.36(2H, dd, J=
8.7, 1.6Hz), 7.51(1H, br s), 8.25(1H, s), 9.93(1H,
d, J=5.5Hz), 11.97(1H, br s)

【０１４４】合成例６９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−エチルスルファモイル）ベンゼンスルホンアミ
ド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。融点： 213-215℃（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結
晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 0.90(3H, t, J=7.2Hz),
2.76(2H, dq, Jd=5.8Hz,Jq=7.2Hz), 6.70(1H, d, J=7.4
Hz), 6.95(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.29(1H, d,J=8.0H
z), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.78(1H, t, J=5.6Hz), 7.
90(4H, s), 10.18(1H, br s), 11.06(1H, br s)

【０１４５】合成例７０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（エタンスルホンアミド）ベンゼンスルホンアミド合成例４と同様にして表題化合物を得た。融点： 214-215℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.14(3H, t, J=7.3Hz),
3.16(2H, q, J=7.3Hz), 6.82(1H, d, J=7.5Hz), 6.96(1
H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.23(2H, d, J=8.8Hz), 7.24(1
H, d, J=7.5Hz), 7.47(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d,
J=8.8Hz), 9.90(1H, br s), 10.37(1H, br s), 10.96(1
H, br s)

【０１４６】合成例７１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル) −６
−［（２−シアノエチル）アミノ］−３−ピリジンスル
ホンアミド合成例４６と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.72(2H, t, J=6.4Hz)，
3.46-3.55(2H, m), 6.53(1H, d, J=9.0Hz), 6.90(1H,
d, J=7.7Hz), 6.99(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.25(1H,
d, J=7.9Hz), 7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.61(1H, dd, J=
9.0, 2.4Hz), 7.78-7.87(1H, m), 8.25(1H, d, J=2.4H
z), 9.70-9.95(1H, br), 10.92-11.04(1H, m)

【０１４７】合成例７２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル) −４
− (Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゼンスルホンアミド合成例９の化合物 533mg（1.68ミリモル）をジメチルホ
ルムアミド５mlとジメチルスルホキシド 2.5mlの混液に
溶解し、メチルアミン塩酸塩171mg （2.53ミリモル）、
トリエチルアミン 705μl （5.06ミリモル）を加えた。
ジフェニルホスホリルアジド 436μl （2.02ミリモル）
を加えて室温で一晩撹拌後濃縮した。酢酸エチルで抽出
し、希塩酸、飽和重曹水、水で順次洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィーで精製し、Ｎ−（１Ｈ−インドール−
７−イル）−４−（Ｎ−メチルカルバモイル）ベンゼン
スルホンアミド 465mgを得た。これを合成例２と同様に
塩素化し、表題化合物413mg を得た。融点：252-253 ℃（分解）（エタノール−ｎ−ヘキサン
から再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.76(3H, d, J=4.6Hz),
6.74(1H, d, J=7.7Hz), 6.94(1H, dd, J =7.9, 7.7Hz),
7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.49(1H, d, J=2.7Hz),7.76-
7.83(2H, m), 7.87-7.94(2H, m), 8.61(1H, q, J=4.6H
z), 10.10(1H, s),11.03-11.13(1H, m)

【０１４８】合成例７３Ｎ −（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（メチルスルホニルメチル）ベンゼンスルホンアミド合成例３４の化合物 510mgを30％過酸化水素水により実
施例２３と同様に酸化して表題化合物 307mgを得た。融点： 225℃付近より着色し始め、 235℃付近から徐々
に分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶)^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.88(3H, s), 4.57(2H,
s), 6.77(1H, d, J=7.6Hz), 6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7H
z), 7.25(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.
51-7.56(2H, m), 7.73-7.78(2H, m), 10.05(1H, br s),
11.04(1H, br s)

【０１４９】合成例７４Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル）ベンゼンスルホ
ンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.57(6H, s), 6.71(1H, d
d, J=7.4, 0.6Hz), 6.97(1H, dd, J=8.0, 7.6Hz), 7.31
(1H, d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.8Hz), 7.86(2H,
d, J=8.4Hz), 7.91(2H, d, J=8.4Hz), 10.19(1H, br
s), 11.04(1H, br s)

【０１５０】合成例７５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（１−ピロリジニルカルボニル）ベンゼンスルホンア
ミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.79(2H, dt, Jd=12.8Hz,
Jt=6.4Hz), 1.85(2H, dt, Jd=13.6Hz, Jt=6.8Hz), 3.2
2(2H, t, J=6.4Hz) , 3.44(2H, t, J=6.8Hz), 6.78(1H,
d, J=7.2Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0, 7.2Hz), 7.28(1H,
d, J=8.0Hz), 7.47(1H, d, J=2.4Hz), 7.60(2H, d, J=
8.0Hz), 7.74(2H, d, J=8.4Hz), 10.06(1H, br s), 11.
01(1H, br s)

【０１５１】合成例７６３−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド合成例７の化合物 120mg（0.352 ミリモル）をジメチル
ホルムアミド10mlに溶解し、水素化ナトリウム（60％）
19.2mg（0.479 ミリモル）を加えた。室温で30分間撹拌
後ヨウ化メチル30μl （0.482 ミリモル）を加えた。２
時間後水を加え、酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗、
硫酸マグネシウムで乾燥した。濃縮後、残渣をシリカゲ
ル薄層クロマトグラフィーで精製し、表題化合物87mgを
得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.26(3H, s), 6.51(1H, d
d, J=7.6, 0.64Hz), 7.00(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.4
7(1H, d, J=8.1Hz), 7.53(1H, d, J=2.7Hz), 7.54-7.59
(2H, m), 7.65(1H, t, J=7.9Hz), 7.84(1H, ddd, J=8.
1, 2.1, 1.1Hz), 11.62(1H, br s)

【０１５２】合成例７７Ｎ−（３，４−ジクロロ−１Ｈ−インドール−７−イ
ル）−４−（スルファモイルメチル）ベンゼンスルホン
アミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。融点： 297℃付近から徐々に分解（エタノール−ｎ−ヘ
キサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 4.34(2H, s), 6.72(1H,
d, J=8.1Hz), 6.93(2H, s), 6.94(1H, d, J=8.1Hz), 7.
51(2H, d, J=8.1Hz), 7.57(1H, dd, J=2.7, 0.55Hz),
7.75(2H, d, J=8.2Hz), 10.10(1H, br s), 11.44(1H, b
r s)

【０１５３】合成例７８Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（メチルスルホニル）エチル］ベンゼンスルホ
ンアミド合成例１と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.94(3H, s), 3.03-3.08
(2H, m), 3.42-3.47(2H,m), 6.77(1H, dd, J=7.7, 0.37
Hz), 7.05(1H, t, J=7.9Hz), 7.41(1H, d, J=8.1Hz),
7.46(2H, d, J=8.2Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 8.20(1
H, s), 10.09(1H,br s), 11.92(1H, br s)

【０１５４】合成例７９Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（Ｎ−メチルアセトアミド) ベンゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.84(3H, br s), 3.16(3
H, s), 6.81(1H, d, J=7.7Hz), 6.96(1H, dd, J=8.0,
7.6Hz), 7.27(1H, d, J=7.9Hz), 7.45-7.49(2H, m), 7.
47(1H, d, J=2.7Hz), 7.70-7.75(2H, m), 10.02(1H, br
s), 11.01(1H, brs)

【０１５５】合成例８０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−６
−ヒドロキシ−３−ピリジンスルホンアミド氷冷下氷酢酸２mlに実施例３３の化合物100mg （0.31ミ
リモル）を溶かした液に、亜硝酸ナトリウム32mg（0.46
ミリモル）の水溶液１mlを滴下して加えた。１時間撹拌
後、重曹水を加えてpH約８にし、さらに10分間撹拌し
た。酢酸エチルで抽出し、水洗、硫酸マグネシウムで乾
燥した。濃縮後、残渣をシリカゲル薄層クロマトグラフ
ィーで精製し、表題化合物54mgを得た。融点： 244-245℃（分解）（酢酸エチル−ｎ−ヘキサン
から再結晶） ^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.39(1H, d, J=9.5Hz),
6.88(1H, d, J=7.7Hz), 7.04(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz),
7.32(1H, d, J=7.9Hz), 7.50(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(1
H, dd, J=9.5, 3.1Hz), 7.64(1H, d, J=3.1Hz), 9.76-
9.94(1H, br), 11.01-11.13(1H, m), 11.98-12.15(1H,
br)

【０１５６】合成例８１Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［２−（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）エチル］
ベンゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.69(3H, s), 2.76(3H,
s), 2.86(2H, t, J=7.5Hz), 3.26(2H, t, J=7.5Hz), 6.
78(1H, dd, J=7.4, 0.55Hz), 6.94(1H, t, J=7.7Hz),
7.24(1H, dd, J=7.7, 0.37Hz), 7.39(2H, d, J=8.2Hz),
7.48(1H, d, J=2.6Hz), 7.66(2H, d, J=8.2Hz), 9.94
(1H, br s), 11.02(1H, br s)

【０１５７】合成例８２Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−（トリフルオロメタンスルホンアミド）ベンゼンスル
ホンアミド合成例３の化合物62mg(0.19 ミリモル) のピリジン溶液
(5ml) に0 ℃でトリフルオロメタンスルホン酸無水物 1
28μl(0.76ミリモル）を加え、そのまま終夜撹拌した。
減圧下に反応液を濃縮し、pH7 のリン酸緩衝液を加え、
酢酸エチルで抽出後、飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。減圧下に溶媒を留去し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、表題化合物20mgを
得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.79(1H, d, J=7.7Hz),
6.94(1H, dd, J=7.9, 7.7Hz), 7.16(2H, d, J=8.6Hz),
7.23(1H, d, J=7.9Hz), 7.46(1H, d, J=2.7Hz), 7.58(2
H, d, J=8.1Hz), 9.84(1H, br s), 10.98(1H, br s)

【０１５８】合成例８３Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［（Ｎ−メチルメタンスルホンアミド）メチル］ベン
ゼンスルホンアミド合成例１および２と同様にして表題化合物を得た。融点： 200.5-202℃（エタノールから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.63(3H, s), 2.94(3H,
s), 4.27(2H, s), 6.80(1H, d, J=7.3Hz), 6.95(1H, d
d, J=8.1, 7.5Hz), 7.25(1H, d, J=7.9Hz), 7.45(2H,
d, J=8.2Hz), 7.47(1H, d, J=2.7Hz), 7.74(2H, d, J=
8.2Hz), 10.00(1H, s), 11.00(1H, br s)

【０１５９】合成例８４
３−クロロ−Ｎ−（３
−クロロ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］ピリジン−７−
イル）ベンゼンスルホンアミド２−ブロモ−３−ニトロピリジンから製造例１と同様に
して合成した７−ブロモ−１Ｈ−ピロロ［２，３−ｃ］
ピリジン600mg(3.05ミリモル）、銅粉194mg および塩化
第一銅 603mgを濃アンモニア水84mlに加え、封管中120
℃で１５時間加熱後、処理し、７−アミノ−１Ｈ−ピロ
ロ［２，３−ｃ］ピリジン170mg を得た。これを実施例
１および２と同様に反応、処理し、表題化合物57mgを得
た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.93(1H, d, J=6.6Hz),
7.45(1H, dd, J=6.6, 5.8Hz), 7.53(1H, dd, J=8.0, 7.
6Hz), 7.61(1H, d, J=7.6Hz), 7.73(1H, d, J=2.8Hz),
7.85(1H, d, J=8.0Hz), 7.96(1H, d, J=1.2Hz), 11.90-
12.10(1H, m), 12.72(1H, br s)

【０１６０】合成例８５Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［３−（１−イミダゾリル）プロピル］ベンゼンスル
ホンアミド４−（３−ブロモプロピル）−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ
−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミド 213
mg（0.5 ミリモル）にイミダゾール 170mg（2.5 ミリモ
ル）とジメチルホルムアミド６mlを加えた。窒素雰囲気
下80℃で３時間加熱後、反応混合物を水に注ぎ、クロロ
ホルムで抽出した。硫酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、
残渣をシリカゲルカムクロマトグラフィーで精製し、表
題化合物160mgを得た。融点：86〜90℃^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 1.95-2.04(2H,m),2.55(2
H,t,J=7.9Hz),3.92(2H,t,J=7.1Hz),6.81(1H,dd,J=7.7,
0.9Hz),6.88(1H,t,J=1.1Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),
7.16(1H,t,J=1.2Hz),7.23(1H,d,J=7.7Hz),7.32(2H,d,J=
8.4Hz),7.47(1H,d,J=2.7Hz),7.60(1H,br s),7.65(2H,d,
J=8.4Hz),9.91-10.01(1H,m),10.98-11.02(1H,m)

【０１６１】合成例８６Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−［２−（２−ピリジニル）エチル］カルバモイ
ル］ベンゼンスルホンアミド４−（クロロスルホニル）安息香酸 2.82g（12.8ミリモ
ル）と７−アミノ−３−クロロ−１Ｈ−インドール 1.4
2g（8.54ミリモル）をピリジン中室温攪拌下に一晩反応
させて４−［Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）スルファモイル］安息香酸 2.33gを得た。これ
を 303mg（0.86ミリモル）にジメチルホルムアミド 260
μl ，ジフェニルホスホリルアジド 204μl （0.95ミリ
モル）、トリエチルアミン 132μl （0.95ミリモル）、
２−（２−アミノエチル）ピリジン 113μl （0.94ミリ
モル）を順次加え、室温で一晩撹拌した。濃縮後酢酸エ
チルと飽和重曹水を加え、有機層を分取、飽和食塩水で
洗浄した。溶媒を減圧留去後、残渣をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーで精製し、表題化合物 175mgを得
た。融点：220.5 〜222 ℃^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.95-2.99(2H,m),3.56-3.
62(2H,m),6.75(1H,d,J=7.5Hz),6.94(1H,dd,J=7.9,7.7H
z),7.19-7.28(3H,m),7.48(1H,d,J=2.8Hz),7.69(1H,dt,J
d=1.8Hz,Jt=7.7Hz),7.79(2H,d,J=8.6Hz),7.88(2H,d,J=
8.6Hz),8.48-8.51(1H,m),8.75(1H,t,J=5.2Hz),10.09-1
0.12(1H,m),11.06-11.09(1H,m)

【０１６２】合成例８７４−アミジノ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−
７−イル）ベンゼンスルホンアミド塩化アンモニウム 162mg（3.0 ミリモル）にトリメチル
アルミニウム 1.0Ｍヘキサン溶液 3.3ml（3.3 ミリモ
ル）とトルエン10mlを加えた。ガスの発生が止まってか
ら液量が約３mlになるまで減圧濃縮した。撹拌しながら
製造例４の化合物97mg（0.30ミリモル）を加え、80℃で
４時間加熱した。冷却後、濃アンモニア水を加え、不溶
物を濾去、濃縮した。酢酸エチルを加え不溶物を濾去、
濃縮し、残渣をシリカゲルカムクロマトグラフィーで精
製し、表題化合物35mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.93(1H,dd,J=7.7,1.5H
z),6.96(1H,dd,J=7.7,7.5Hz),7.24(1H,dd,J=7.5,1.3H
z),7.50(1H,d,J=2.7Hz),7.90(2H,d,J=8.6Hz),8.01(2H,
d,J=8.6Hz),9.16-9.62(2H,br),10.40-10.75(1H,br),11.
50(1H,s)

【０１６３】合成例８８Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−［２−（１−イミダゾリル）エチル］スルファ
モイル］ベンゼンスルホンアミド４−［Ｎ−（２−ブロモエチル）スルファモイル］−Ｎ
−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼ
ンスルホンアミド 557mg（1.13ミリモル）とイミダゾー
ル 820mg（12.0ミリモル）をジメチルホルムアミド10ml
に加え、80℃で２日間撹拌した。濃縮後残渣を酢酸エチ
ルに溶解し、水洗、硫酸ナトリウムで乾燥、濃縮した。
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、
表題化合物 324mgを得た。融点：200 ℃付近から徐々に着色し始め、 218〜221 ℃
で分解（エタノール−ｎ−ヘキサンから再結晶）^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 3.05(2H,ddd,J=6.2,6.0,
5.9Hz),3.96(2H,dd,J=6.0,5.9Hz),6.69-6.72(1H,m),6.8
4(1H,br s),6.92(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.08(1H,brs),7.
26(1H,d,J=7.5Hz),7.44(1H,d,J=2.7Hz),7.55(1H,br s),
7.82-7.88(4H,m),8.06(1H,t,J=5.9Hz),10.18-10.36(1H,
br),11.09(1H,d,J=2.4Hz)

【０１６４】合成例８９３−（５−ブロモニコチンアミド）−Ｎ−（３−シアノ
−１Ｈ−インドール−７−イル）ベンゼンスルホンアミ
ド３−ニトロベンゼンスルホニルクロリド 785mg（3.54ミ
リモル）と製造例３の化合物 506mg（3.22ミリモル）を
製造例４と同様に反応させ、処理してＮ−（３−シアノ
−１Ｈ−インドール−７−イル）−３−ニトロベンゼン
スルホンアミド950mgを得た。これを常法に従い、メタ
ノール30ml中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い３−アミノ−
Ｎ−（３−シアノ−１Ｈ−インドール−７−イル）ベン
ゼンスルホンアミド 459mgを得た。このもの 109mg（0.
35ミリモル）をピリジン２mlに溶解し、５−ブロモニコ
チノイルクロリド塩酸塩 179mg（0.70ミリモル）を加え
た。室温で一晩撹拌後濃縮し、希クエン酸水溶液を加え
た。生じた沈澱を濾取し、水、希重曹水、水、エーテル
で順次洗浄した。沈澱をテトラヒドロフランに溶解、硫
酸マグネシウムで乾燥、濃縮後、エーテルとｎ−ヘキサ
ンを加えて析出した結晶を濾取し、表題化合物 108mgを
得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.81(1H,dd,J=7.7,0.7H
z),7.07(1H,t,J=7.9Hz),7.42(1H,dd,J=7.9,0.7Hz),7.47
-7.51(1H,m),7.55(1H,t,J=7.9Hz),7.93-7.97(1H,m),8.2
1-8.23(1H,m),8.31(1H,t,J=1.8Hz),8.55(1H,dd,J=2.4,
2.0Hz),8.93(1H,d,J=2.4Hz),9.06(1H,d,J=2.0Hz),10.23
-10.25(1H,m),10.75(1H,br s),11.94-11.96(1H,m)

【０１６５】合成例９０Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−４
−［Ｎ−（２−チアゾリル）スルファモイル］ベンゼン
スルホンアミド .2g（20.4ミリモル）を水14mlと濃塩酸 3.4mlの混液に
加え撹拌した。これに亜硝酸ナトリウム2.1g（30.4ミリ
モル）の飽和水溶液を０℃以下で滴下後、酢酸５mlを加
えて５℃で約10分間撹拌した。この反応液に二酸化イオ
ウ飽和酢酸液（二酸化イオウを酢酸18mlに飽和させ、塩
化第二銅・２水和物 830mgを加えた液）を０℃で撹拌下
滴下した。５分後反応液を氷水に注ぎ、沈澱を濾取、水
洗、乾燥し、４−クロロスルホニル−Ｎ−（２−チアゾ
リル）ベンゼンスルホンアミド2.9gを得た。このもの 5
70mg（1.68ミリモル）と製造例１の化合物 200mg（1.2
ミリモル）を製造例４と同様に反応させ、処理し、表題
化合物 456mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 6.68(1H,dd,J=7.5,0.73H
z),6.87(1H,d,J=4.6Hz),6.93(1H,dd,J=8.1,7.5Hz),7.26
-7.30(1H,m),7.28(1H,d,J=4.6Hz),7.46(1H,d,J=2.7Hz),
7.82-7.88(2H,m),7.88-7.94(2H,m),10.10-10.26(1H,b
r),11.04-11.10(1H,m),12.83-13.01(1H,br)

【０１６６】合成例９１５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７
−イル）−４−（５−メチル−３−ピリジンスルホンア
ミド）−２−チオフェンスルホンアミド５−クロロ−４−ニトロ−２−チオフェンスルホニルク
ロリド 645mg（2.46ミリモル）と製造例１の化合物 410
mg（2.46ミリモル）を製造例４と同様に反応させ、処理
して５−クロロ−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール
−７−イル）−４−ニトロ−２−チオフェンスルホンア
ミド 194mgを得た。これを常法に従い、メタノール10ml
中亜鉛末−濃塩酸で還元を行い４−アミノ−５−クロロ
−Ｎ−（３−クロロ−１Ｈ−インドール−７−イル）−
２−チオフェンスルホンアミド75mgを得た。このもの72
mg（0.20ミリモル）をテトラヒドロフラン２mlに溶解
し、ピリジン18μl と５−メチル−３−ピリジンスルホ
ニルクロリド38mg（0.2 ミリモル）を加えた。室温で一
晩撹拌後、酢酸エチルと１Ｎ塩酸を加え有機層を分取、
水、重曹水、水で順次洗浄した。硫酸マグネシウムで乾
燥、濃縮後、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ーで精製し、表題化合物82mgを得た。^１ H-NMR(DMSO-d₆) δ(ppm) : 2.33(3H,s),6.76(1H,d,J=
7.7Hz),7.03(1H,dd,J=7.9,7.7Hz),7.35(1H,s),7.38(1H,
d,J=7.9Hz),7.51(1H,d,J=2.7Hz),7.80(1H,dd,J=2.0,1.5
Hz),8.60(1H,dd,J=2.0,0.4Hz),8.71(1H,dd,J=1.5,0.4H
z),10.35-10.40(1H,m),10.73-10.80(1H,br),11.16-11.1
9(1H,m)

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ａ６１Ｋ 31/4709 Ａ６１Ｋ 31/4709 Ａ６１Ｐ 17/06 Ａ６１Ｐ 17/06 19/02 19/02 27/04 27/04 29/00 29/00 35/04 35/04 43/00 43/00 // Ｃ０７Ｄ 209/08 Ｃ０７Ｄ 209/08 209/12 209/12 209/30 209/30 209/34 209/34 209/42 209/42 401/12 401/12 403/12 403/12 405/12 405/12 409/12 409/12 409/14 409/14 417/12 417/12 471/04 １０４ 471/04 １０４Ｚ１０８１０８Ｅ (72)発明者小澤陽一茨城県つくば市松代４−22−１−505 (72)発明者塚原直子茨城県つくば市二の宮４−４−24 (72)発明者羽田融茨城県牛久市神谷２−４−８ (72)発明者鶴岡明彦茨城県つくば市吾妻３−19−１−２−203 (72)発明者鎌田淳一茨城県つくば市天久保２−23−５−306 (72)発明者岡部忠志茨城県土浦市港町２−３−29−Ａ201 (72)発明者高橋恵子茨城県牛久市南３−19−１−Ｋ−Ｎ１ (72)発明者奈良一誠茨城県つくば市東２−15−１−201 (72)発明者濱岡進一茨城県つくば市稲荷前９−７−405 (72)発明者上田教博茨城県つくば市谷田部1077−140 (72)発明者大和隆志茨城県つくば市谷田部1144−303 (72)発明者岡内辰夫福岡県北九州戸畑区天神１丁目８−27シャトレ天神301 (72)発明者吉野博千葉県我孫子市つくし野２−４−７

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一般式（Ｉ）【化１】（式中、Ａ環は置換基を有していてもよい、単環式また
は二環式芳香環を、Ｂ環は置換基を有していてもよい、
６員環式不飽和炭化水素またはヘテロ原子として窒素原
子を１個含む不飽和６員ヘテロ環を、Ｃ環は置換基を有
していてもよい、窒素原子を１または２個含む５員ヘテ
ロ環を、Ｗは単結合または−ＣＨ＝ＣＨ−を、Ｘは−Ｎ
（Ｒ^１）−または酸素原子を、Ｙは炭素原子または窒素
原子を、Ｚは−Ｎ（Ｒ^２）−または窒素原子を、Ｒ^１お
よびＲ^２は同一または異なって水素原子または低級アル
キル基を、意味する。）で表わされるスルホンアミド誘
導体またはスルホン酸エステル誘導体、またはその薬理
学的に許容される塩あるいはそれらの水和物を有効成分
とする血管新生阻害剤。
【請求項２】Ｗが単結合である請求項１記載の化合物
またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれらの水
和物を有効成分とする血管新生阻害剤。
【請求項３】Ｗが単結合であり、ＸおよびＺがいずれ
も−ＮＨ−であり、かつＹが炭素原子である請求項１記
載の化合物またはその薬理学的に許容される塩あるいは
それらの水和物を有効成分とする血管新生阻害剤。
【請求項４】Ｂ環が置換基を有していてもよい、ベン
ゼンまたはピリジンである請求項１〜３記載の化合物ま
たはその薬理学的に許容される塩あるいはそれらの水和
物を有効成分とする血管新生阻害剤。
【請求項５】Ｃ環が置換基を有していてもよいピロー
ルである請求項１〜４記載の化合物またはその薬理学的
に許容される塩あるいはそれらの水和物を有効成分とす
る血管新生阻害剤。
【請求項６】Ａ環が置換基を有していてもよい、ベン
ゼンまたはピリジンであり、Ｂ環が置換基を有していて
もよいベンゼンであり、Ｃ環が置換基を有していてもよ
いピロールであり、Ｗが単結合であり、かつＸおよびＺ
がいずれも−ＮＨ−である請求項１記載の化合物または
その薬理学的に許容される塩あるいはそれらの水和物を
有効成分とする血管新生阻害剤。
【請求項７】請求項１〜６項のいずれか１項に記載の
スルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導
体、またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれら
の水和物を有効成分とする癌転移抑制剤。
【請求項８】請求項１〜６項のいずれか１項に記載の
スルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導
体、またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれら
の水和物を有効成分とする網膜血管新生症治療剤。
【請求項９】請求項１〜６項のいずれか１項に記載の
スルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導
体、またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれら
の水和物を有効成分とする糖尿病性網膜症治療剤。
【請求項１０】請求項１〜６項のいずれか１項に記載
のスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導
体、またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれら
の水和物を有効成分とする炎症性疾患治療剤。
【請求項１１】請求項１〜６項のいずれか１項に記載
のスルホンアミド誘導体またはスルホン酸エステル誘導
体、またはその薬理学的に許容される塩あるいはそれら
の水和物を有効成分とする変形関節炎、乾せん、遅延性
過敏反応からなる炎症性疾患治療剤。