JP2000307051A - 銅及び銅基合金とその製造方法 - Google Patents

銅及び銅基合金とその製造方法

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JP2000307051A
JP2000307051A JP11424299A JP11424299A JP2000307051A JP 2000307051 A JP2000307051 A JP 2000307051A JP 11424299 A JP11424299 A JP 11424299A JP 11424299 A JP11424299 A JP 11424299A JP 2000307051 A JP2000307051 A JP 2000307051A
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copper
thickness
triazole compound
based alloy
less
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Masahiro Kataoka
正宏 片岡
Satoshi Takase
聡 高瀬
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Dowa Holdings Co Ltd
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Dowa Mining Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体機器のリードフレーム用銅及び銅基合
金に、ワイヤーボンディング用リード線を直接リードフ
レーム材に接合(ベアボンディング)することを可能に
するべアボンディング性に優れた銅及び銅基合金とその
製造方法を提案する。 【解決手段】 重量%においてP0.01〜0.5%、または
Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Zr
の群から選ばれる少なくとも1種を0.01〜5.5%含有
し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、トリア
ゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15nmであり、
さらに酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴とす
る銅及び銅基合金とその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体機器のリー
ドフレーム用銅および銅基合金に、ワイアーボンディン
グ用リード線を直接リードフレーム材に接合(ベアボン
ディング)することを可能にするベアボンディング性に
優れた銅及び銅基合金とその製造法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、半導体機器は、まず銅または銅基
合金のリードフレーム用素材を打抜きまたはエッチング
により所定の形状にし、次に半導体素子とリードフレー
ム材をアルミまたは金線等でワイアーボンディングする
ために、リードフレーム材のダイパット部およびアウタ
ーリード部分へのめっきを行なう。そして、めっきされ
たダイパット部へはんだ付け等により半導体素子を接合
(ダイボンディング)し、さらにリードフレームと半導
体素子をワイアーで接合(ワイアーボンディング)して
封止したのち、アウターリード部が基盤にはんだ付け等
によって実装されていた。
【0003】これから分るように、リードフレーム材と
ワイアー(ワイアーボンディグ)あるいはリードフレー
ム材と半導体素子(ダイボンディング)およびリードフ
レーム材と基盤の接合のために、リードフレーム材には
めっきが不可欠なものであった。
【0004】ところが、微少な箇所へのスポットめっき
の場合は、非常に高い精度を必要とし、めっきの良否が
ダイボンディング及びワイアーボンディングに影響を与
え、場合により不良品が発生する場合があった。この問
題は、全面めっきを行うことで解消することが可能であ
るが、全面めっきの場合はコストがかかりすぎるという
欠点がある。
【0005】このため、半導体素子のダイボンディング
時にペーストを用いて接合する技術が開発され、これに
よりめっきを省略する方法が開発されてはいるが、リー
ドフレーム部分には耐久性及び電導性といった問題のた
めに、依然としてAuまたはAgといった高価な貴金属
めっきを必要としている。従って、総工程数は減少せ
ず、また、コスト低減にも繋がっていない。特に、低コ
スト化要求が厳しくなっているディスクリート用リード
フレームにおいては、この問題は大きな障害になってお
り、めっきレス化の要求が非常に強くなっている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このような現状に対
し、めっきを省略してリードフレームとボンディングワ
イアーを直接接合する方法、即ちベアワイアーボンディ
ングについての多くの研究が行われてきている。ベアワ
イアーボンディング性を改善させるべく、過去にリード
フレーム材料の観点から行われた検討には、例えば特公
昭62−46071号公報があり、ここでは材料の表面
粗さを最大表面粗さ(Rmax)で0.5μm以下とする
こと、あるいはさらに析出物、介在物等の単一面積を3
×10−6mm2以下にすることでベアボンディング性
が改善されることが開示されている。
【0007】しかしながら、実際に最大表面粗さ(Rm
ax)を0.5μm以下とするためには、圧延ロールを極
度なまでに平滑に研磨する必要があり、このために膨大
なコストおよび時間がかかる。また、析出物、介在物等
の単一面積が3×10−6mm2以下にするためには厳
しい熱処理条件の制御を必要とし、量産工程としては対
応が難しい。
【0008】また、ベアボンディング用銅合金として,
その金属表面の性状について様々な研究がなされてい
る。特開平8−236686号公報や特開平11−12
714号公報にはフレーム表面の酸化被膜厚さを低減さ
せることでベアボンディング性を改善する技術が公開さ
れている。しかしながら、銅および銅合金の場合、酸化
被膜厚さを低減させることで、金属表面を保護していた
自然酸化被膜まで除去されてしまい、このものは空気中
で放置しておくと速やかに変色がはじまることが知られ
ている。
【0009】これを解決するため、通常次工程で防錆処
理が行われるが、この防錆処理には通常銅と安定な錯体
を形成し、酸化に対して強い保護膜を有するトリアゾー
ル類化合物の中でもベンゾトリアゾールを含む防錆剤が
用いられることが多い。しかし、防錆処理により得られ
たベンゾトリアゾールを含む防錆層は有機被膜であり、
特にIC等で多用される金ワイアーの接合の際には接合
不良を起こすなど実用工程上問題がある。また,特開平
7−48641には表面酸化膜の密着性に関してこのX
線光電子分析中での防錆剤中の窒素のピークとの関係に
ついて記載されている。
【0010】このため、防錆剤濃度を薄くしたり、ベン
ゾトリアゾールを含有しない防錆剤を使用したりといっ
た試みも行われて来てはいるが、いずれも酸化に対する
効果が薄く、ベア材として使用するためには窒素封入等
を行い外気から遮断するなど、むしろコスト高に繋が
り、実用的ではない。
【0011】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、ベアボンディング性に優れた銅及び銅合金
とその製造方法を提案することを目的とする。特にベア
ボンディング性に大きな影響を及ぼす表面酸化被膜と防
錆剤の被膜の厚さの関係についてこれまでにない知見を
得たものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ダイボンデ
ィング時のはんだ付け性に及ぼす種々の材料因子につい
て鋭意検討を行ったところ、トリアゾール類化合物を含
むフレーム表面の防錆用被覆層の厚さと共にフレーム素
材の酸化被膜厚さを同時に制御することが重要であるこ
とを見いだした。
【0013】すなわち、トリアゾール類化合物を含む防
錆層の厚さを制御するだけではベアボンディング不良を
起こす場合があることが分った。また、酸化被膜厚さを
制御しただけでは、トリアゾール類化合物を含まない防
錆剤を併用したとしても上記したような変色等の問題が
生ずる。このことより、トリアゾール類化合物を含む防
錆層厚さおよび酸化被膜厚さを共に制御することで、は
じめてベアボンディング性に優れた実用的な材料が実現
できることが判明した。
【0014】すなわち、本発明は 1.トリアゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15n
mであり、酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴
とする銅及び銅基合金。
【0015】2.重量%においてP0.01〜0.5%、また
はFe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Z
rの群から選ばれる少なくとも1種を0.01〜5.5%含有
し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、トリア
ゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15nmであり、
さらに酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴とす
る銅及び銅基合金。
【0016】3.重量%においてP0.01〜0.5%、または
Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Zr
の群から選ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜5.
5%含有し、さらに必要に応じMn、Cd、Al、Pb、B
e、Te、In、Ag、B、Y、La、Ce、Au、Caの群か
ら選ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜2.0%含
有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、トリ
アゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15nmであ
り、さらに酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴
とする銅及び銅基合金。
【0017】4.前記トリアゾール類化合物がベンゾト
リアゾールであることを特徴とする上記1,2または3
記載の銅及び銅基合金。
【0018】5.トリアゾール類化合物濃度が体積%で
0.01〜5%であり、不純物であるFe、Ni、Sn、Zn、
Coのうち少なくとも一種以上を総量で500ppm以
下を含有することを特徴とする銅及び銅基合金の表面被
覆剤溶液。
【0019】6.前記トリアゾール類化合物がベンゾト
リアゾールであることを特徴とする上記5に記載の銅及
び銅基合金の表面被覆剤溶液。
【0020】7.トリアゾール類化合物濃度が体積%で
0.01〜5%で、不純物であるFe、Ni、Sn、Zn、Co
のうち少なくとも一種以上を総量で500ppm以下を
含有する防錆用被覆剤溶液を60〜95℃の温度に保持
し、該溶液中に銅または銅基合金を所定条件で浸漬させ
るか塗布することにより、トリアゾール類化合物を含む
被覆層の厚さが1〜15nmに成膜させることを特徴と
する銅及び銅基合金の製造方法。
【0021】8.前記トリアゾール類化合物を含む層の
厚さを1〜15nmに成膜する浸漬時間が、単位を面積
当り1〜3600sec/m2以内であることを特徴と
する上記7記載の銅及び銅基合金の製造方法。
【0022】9.前記トリアゾール類化合物がベンゾト
リアゾールであることを特徴とする上記7および8に記
載の銅及び銅合金の製造方法。
【0023】
【作用】以下に本発明について、その範囲限定理由を詳
細に述べる。トリアゾール類化合物を含む被覆層の厚さ
を15nm以下としたのは、15nmを超えると、ワイ
アーボンディング性(接合強度)が低下するためであ
る。この場合、1nm以下の被覆層ではトリアゾール類
化合物を含む場合でも酸化防止に対する効果が小さく、
材料保管中に変色等がおこるため実用的ではない。従っ
てトリアゾール類化合物を含む防錆用被覆層の厚さは1
〜15nmとし、好ましくは3〜10nmとする。
【0024】酸化被膜厚さを6nm以下とした理由とし
ては、安定なワイアーボンディング性を維持するためで
ある。すなわち、表面酸化被膜厚さが6nmを越えると
リードフレームとワイアーの接合強度が低下し、ベアボ
ンディング材として従来品の例えばNiめっき品並のボ
ンディング特性が得られない。従って、材料の表面酸化
被膜厚さは6nm以下とし、コスト面を考慮して、好ま
しくは2〜5nmの範囲とする。なおここでは、酸化被
膜厚さの定義として、定電流電解法による酸化物の還元
電気量をCuO+Cu2Oに換算した値を用いた。
【0025】防錆剤中のトリアゾール類化合物の濃度を
体積%で0.01〜5%としたのは、0.01%以下のベンゾトリ
アゾールでは上記防錆効果が得られず、また5%を超え
る場合、トリアゾール類化合物を含む防錆液自身の安定
性が劣る上、コスト高にも繋がり好ましくない。従っ
て、防錆剤溶液中のトリアゾール類化合物の濃度は体積
%で0.01〜5%とし、好ましくは0.1〜2.0%とする。な
お、トリアゾール類化合物として、ベンゾトリアゾール
が好ましいが、それ以外のトリアゾール類化合物、例え
ばトリゾトリアゾール、ナフタリントリアゾール等の
1、2、3トリアゾール及びこれらとアミン又はカルボ
ン酸などの反応生成物やその他のトリアゾール類化合物
でも差し支えない。
【0026】また、処理液層の温度を60〜95℃とし
たのは、トリアゾール類化合物を含む防錆用被覆層を均
一に生成させるためである。60℃以下では反応が緩や
かで、トリアゾール類化合物を含む防錆被膜生成に膨大
な時間がかかり、実用的に好ましくない。また、95℃
以上では防錆剤の有効成分であるトリアゾール類化合物
そのものが分解してしまい、変色防止に対する効果が期
待できなくなる。従って、処理液層の温度は60〜95
℃とし、好ましくは75〜90℃とする。
【0027】なお、トリアゾール類化合物は銅または銅
基合金表面に酸化に対して安定な被膜を形成し、保護す
るために使用されるが、銅以外の元素とも反応するた
め、使用する溶液はできるだけ純水に近い方が良い。特
に不純物としてのFe、Ni、Sn、Zn、Coは微量でも
影響が大きいため、総量で500ppm以下とし、好ま
しくは100ppm以下とする。
【0028】浸漬時間を単位面積あたり1〜3600秒
/m2としたのも、トリアゾール類化合物を含む防錆用
被覆層を均一に生成させるためである。浸漬時間が1s
ec/m2以下では、トリアゾール類化合物の濃度を上
げても均一な防錆用被覆層が形成されない。また、36
00sec/m2以上では、処理時間が長すぎ実用的で
はない。従って、浸漬時間を単位面積あたり1〜360
0秒/m2とし、好ましくは10〜100sec/m2
とする。なお製造工程の都合上、単位時間あたり通板速
度で管理する場合であっても、単位面積換算後の浸漬時
間が上記浸漬時間内であれば使用できるものとする。
【0029】上記では、連続的に金属コイルをトリアゾ
ール類化合物を含む防錆用液中に浸漬通板する方法につ
いて述べたが、本願はこれに限定されるものではなく、
例えば、刷毛等で均一に塗布してもよいことは勿論であ
る。
【0030】次に、本発明に係る銅基合金の添加元素の
選択と、その含有量の範囲の限定理由について述べる。 (1)P Pは脱酸効果を持ち、溶解・鋳造時の製造性を向上す
る。また、Pの含有及びりん化物の形成により、耐熱性
を向上させる働きがある。さらに、ベアボンディング性
およびはんだ付け性を向上させる効果がある。しかし、
P含有量が0.01重量%未満ではこれらの効果が不十分で
あり、また他の添加元素と化合物を形成して分散析出す
る効果も十分に引き出せない。また0.5重量%を越える
と電気伝導性、はんだ耐候性が低下するほか、ベアボン
ディング性およびはんだ付け性も低下する。従って、P
の含有量は0.01〜0.50重量%とする。
【0031】(2)Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、S
i、Mg、Ti、Zr Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Zr
は、結晶粒径を均一化する働きがあり、強度、弾性を向
上させる効果もあわせ持つ。またFe,Ni,CoはPと
化合物を形成して耐熱性をも向上させる。さらに適度の
含有は、ベアボンディング性はんだ付け性を向上させる
効果を持つ。この効果を発揮させるためには0.01重量%
以上の含有が必要であるが、5.5重量%を越えて含有す
ると、電気伝導性の低下が顕著になる。また、ベアボン
ディング性やはんだ付け性が低下し、さらには経済的に
も不利になる。従って、これらの含有量の総量は0.01〜
5.5重量%の範囲とする。
【0032】(3)副成分について 副成分としてMn、Cd、Al、Pb、Be、Te、In、A
g、B、Y、La、Ce、Au、Caの群から選ばれる1種ま
たは2種以上を総量で0.01〜2.0%含有させると上記諸
特性をより向上させる。すなわち、これらの元素の添加
により本発明に係わる銅基合金の電気伝導性を低下させ
ることなく、強度、耐熱性およびプレス加工性を向上さ
せる。しかしながら、2.0%以上の含有は、ベアボンデ
ィング性およびはんだ付け性また、はんだの均一広がり
性を低下させる。従って、これらの含有量の総量は0.01
〜2.0重量%の範囲とする。次に、本発明の実施の形態
を実施例により説明する。
【0033】
【発明の実施の形態】実施例 表1に示す組成の合金を高周波溶解炉を用いて溶製し、
850℃に加熱した後、厚さ5.0mmまで熱間圧延し
た。次に表面の面削により、4.8mmとし冷間圧延と熱
処理を繰り返し、板厚0.25mmの板材を得た。この際、
途中工程で適宜所定の熱処理を実施した。このようにし
て得られた板材に酸洗浄を行ったのち、トリアゾール類
化合物の1つであるベンゾトリアゾールを含む防錆剤に
より表面処理を行った。
【0034】次に、上記材料について防錆層の厚さ、酸
化被膜厚さ、ベンゾトリアゾール濃度およびボンディン
グ性を調査した。防錆層の厚さは、赤外線吸収法により
測定した。この場合、標準試料との対比により、カーボ
ン量を測定することで、防錆層の厚さを算出した。ベン
ゾトリアゾールの濃度は吸光光度法により、265nm
の波長における吸収量を測定し、算出した。
【0035】酸化被膜厚測定には、電解液:0.1NーK
Cl、電流密度0.25mA/cm2の条件で定電流電解を
行い、その還元電気量をもって酸化被膜厚さに換算し
た。ここで酸化被膜については、CuO+Cu2Oと仮
定し計算した。また、合金の場合も添加元素を含んだ酸
化被膜が形成されるが、添加元素量が少量であり、酸化
被膜の主体は銅を主体とした酸化物であると考え、Cu
O+Cu2Oとして酸化被膜厚さを算出した。
【0036】ボンディング性の評価方法としては、プル
テスタにより接合強度および次式のワイアー破武断率を
求め評価した。 ワイアー破断率(%)=(ワイアー破断した本数/全試
験本数)×100 なお、ワイアーボンディングには超音波接合法を用い、
以下に示すボンディング条件で行った。
【0037】ボンディングワイアーの材質およびワイア
ー径:Al線 25μmφ、 雰囲気:超音波出力:0.2W、 基板温度:加圧力:0.25N、 時間:30ms、 ボンディング本数:20本/試料
【0038】
【表1】
【0039】結果を表1に示す。本願発明合金1〜5に
おいてはいずれも防錆剤の濃度または浸漬時間等を調整
することにより、ベンゾトリアゾールを含む防錆用被覆
層の厚さを15nm以下に制御した。また、防錆処理前
に試験片を5%の硫酸で洗浄することで、酸化被膜を6
nm以下に制御した。この結果、いずれも良好なワイア
ーボンディング性が得られていることが分る。
【0040】一方、防錆層の厚い比較例No.6〜10
は、ワイアーボンディング性に劣ることが分る。また、
防錆処理前に酸洗浄を行っていない比較例No.11、1
2は、防錆層の厚さが本願発明範囲内であっても、酸化
被膜厚さが厚く、ワイアーボンディング性に劣ることが
分る。
【0041】すなわち、表面酸化被膜が6nm以下で、
ベンゾトリアゾールを含む防錆用被覆層の厚さが15n
m以下という条件を備えた本発明のみ、はじめて従来の
めっき材である従来品13〜15並のワイアーボンディ
ング性が得られることがわかる。ここで、従来のNo.
13〜15はNiめっき品であり、コスト面で問題があ
る。従って、本発明はベア材でありながら従来のNiめ
っき品に相当するワイアーボンディング性が得られ、大
幅なコスト削減が可能である。
【0042】
【発明の効果】本発明および本発明法は、銅及び銅基合
金において、表面酸化被膜およびトリアゾール類化合物
を含む防錆被覆層の厚さを共に制御することによって、
これまでなし得なかったトリアゾール類化合物を含む防
錆被膜を有していながら、ベア材でのワイアーボンディ
ング性が良好な材料の提供を可能としたものであり、信
頼性が要求されるリードフレーム材において、めっき工
程を省略することが可能となり、大幅なコスト低減を実
現できる極めて実用価値の高いものである。
【手続補正書】
【提出日】平成11年4月30日(1999.4.3
0)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項8
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】このような現状に対し、めっきを省略して
リードフレームとボンディングワイアーを直接接合する
方法、即ちワイアーボンディングについての多くの研究
が行われてきている。ワイアーボンディング性を改善さ
せるべく、過去にリードフレーム材料の観点から行われ
た検討には、例えば特公昭62−46071号公報があ
り、ここでは材料の表面粗さを最大表面粗さ(Rma
x)で0.5μm以下とすること、あるいはさらに析出
物、介在物等の単一面積を3×10−6mm以下にす
ることでベアボンディング性が改善されることが開示さ
れている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】このため、防錆剤濃度を薄くしたり、ベン
ゾトリアゾールを含有しない防錆剤を使用したりといっ
た試みも行われて来てはいるが、いずれも酸化抑制また
は防止に対する効果が薄く、ベア材として使用するため
には窒素封入等を行い外気から遮断するなど、むしろコ
スト高に繋がり、実用的ではない。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】本発明者は、ベアボンディング時に及ぼす
種々の材料因子について鋭意検討を行ったところ、トリ
アゾール類化合物を含むフレーム表面の防錆用被覆層の
厚さと共にフレーム素材の酸化被膜厚さを同時に制御す
ることが重要であることを見いだした。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】酸化被膜厚さを6nm以下とした理由とし
ては、安定なワイアーボンディング性を維持するためで
ある。すなわち、表面酸化被膜厚さが6nmを越えると
リードフレームとワイアーの接合強度が低下し、ベアボ
ンディング材として従来品の例えばNiめっき品並のボ
ンディング特性が得られない。従って、材料の表面酸化
被膜厚さは6nm以下とし、好ましくは2〜5nmの範
囲とする。なおここでは、酸化被膜厚さの定義として、
定電流電解法による酸化物の還元電気量をCuO+Cu
Oに換算した値を用いた。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0025
【補正方法】変更
【補正内容】
【0025】トリアゾール類化合物の濃度を体積%で0.
01〜5%としたのは、0.01%以下のトリアゾール類化合
物では上記防錆効果が得られず、また5%を超える場
合、トリアゾール類化合物を含む液体自身の安定性が劣
る上、コスト高にも繋がり好ましくない。従って、溶液
中のトリアゾール類化合物の濃度は体積%で0.01〜5%
とし、好ましくは0.1〜2.0%とする。なお、トリアゾー
ル類化合物として、ベンゾトリアゾールが好ましいが、
それ以外のトリアゾール類化合物、例えばトリゾトリア
ゾール、ナフタリントリアゾール等の1、2、3トリア
ゾール及びこれらとアミン又はカルボン酸などの反応生
成物やその他のトリアゾール類化合物でも差し支えな
い。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】浸漬時間を単位面積あたり1〜3600
ec/mとしたのも、トリアゾール類化合物を含む防
錆用被覆層を均一に生成させるためである。浸漬時間が
1sec/m以下では、トリアゾール類化合物の濃度
を上げても均一な防錆用被覆層が形成されない。また、
3600sec/m以上では、処理時間が長すぎ実用
的ではない。従って、浸漬時間を単位面積あたり1〜3
600sec/mとし、好ましくは10〜100se
c/mとする。なお製造工程の都合上、単位時間あた
り通板速度で管理する場合であっても、単位面積換算後
の浸漬時間が上記浸漬時間内であれば使用できるものと
する。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0040
【補正方法】変更
【補正内容】
【0040】一方、防錆層が本発明外の比較例No.6
〜10は、ワイアーボンディング性に劣ることが分る。
また、防錆処理前に酸洗浄を行っていない比較例No.
11、12は、防錆層の厚さが本願発明範囲内であって
も、酸化被膜厚さが厚く、ワイアーボンディング性に劣
ることが分る。 ─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年5月25日(1999.5.2
5)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】しかしながら、実際に最大表面粗さ(Rm
ax)を0.5μm以下とするためには、圧延ロールを極
度なまでに平滑に研磨する必要があり、このために膨大
なコストおよび時間がかかる。また、析出物、介在物等
の単一面積が3×10−6mm以下にするためには厳
しい熱処理条件の制御を必要とし、量産工程としては対
応が難しい。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】8.前記トリアゾール類化合物を含む層の
厚さを1〜15nmに成膜する浸漬時間が、単位を面積
当り1〜3600sec/m以内であることを特徴と
する上記7記載の銅及び銅基合金の製造方法。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0035
【補正方法】変更
【補正内容】
【0035】酸化被膜厚測定には、電解液:0.1NーK
Cl、電流密度0.25mA/cmの条件で定電流電解を
行い、その還元電気量をもって酸化被膜厚さに換算し
た。ここで酸化被膜については、CuO+CuOと仮
定し計算した。また、合金の場合も添加元素を含んだ酸
化被膜が形成されるが、添加元素量が少量であり、酸化
被膜の主体は銅を主体とした酸化物であると考え、Cu
O+CuOとして酸化被膜厚さを算出した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C22C 9/05 C22C 9/05 9/06 9/06 9/08 9/08 9/10 9/10

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 トリアゾール類化合物を含む層の厚さが
    1〜15nmであり、酸化被膜厚さが6nm以下である
    ことを特徴とする銅及び銅基合金。
  2. 【請求項2】 重量%においてP0.01〜0.5%、または
    Fe、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Zr
    の群から選ばれる少なくとも1種を0.01〜5.5%含有
    し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、トリア
    ゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15nmであり、
    さらに酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴とす
    る銅及び銅基合金。
  3. 【請求項3】 重量%においてP0.01〜0.5%、またはF
    e、Ni、Sn、Zn、Cr、Co、Si、Mg、Ti、Zrの
    群から選ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜5.5
    %含有し、さらに必要に応じMn、Cd、Al、Pb、B
    e、Te、In、Ag、B、Y、La、Ce、Au、Caの群か
    ら選ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜2.0%含
    有し、残部がCuおよび不可避的不純物からなり、トリ
    アゾール類化合物を含む層の厚さが1〜15nmであ
    り、さらに酸化被膜厚さが6nm以下であることを特徴
    とする銅及び銅基合金。
  4. 【請求項4】 前記トリアゾール類化合物がベンゾトリ
    アゾールであることを特徴とする請求項1,2または3
    記載の銅及び銅基合金。
  5. 【請求項5】 トリアゾール類化合物濃度が体積%で0.
    01〜5%であり、不純物であるFe、Ni、Sn、Zn、C
    oのうち少なくとも一種以上を総量で500ppm以下
    を含有することを特徴とする銅及び銅基合金の表面被覆
    剤溶液。
  6. 【請求項6】 前記トリアゾール類化合物がベンゾトリ
    アゾールであることを特徴とする請求項5記載の銅及び
    銅基合金の表面被覆剤溶液。
  7. 【請求項7】 トリアゾール類化合物濃度が体積%で0.
    01〜5%で、不純物であるFe、Ni、Sn、Zn、Coの
    うち少なくとも一種以上を総量で500ppm以下を含
    有する防錆用被覆剤溶液を60〜95℃の温度に保持
    し、該溶液中に銅または銅基合金を所定条件で浸漬させ
    るか塗布することにより、トリアゾール類化合物を含む
    被覆層の厚さが1〜15nmに成膜させることを特徴と
    する銅及び銅基合金の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記トリアゾール類化合物を含む層の厚
    さを1〜15nmに成膜する浸漬時間が、単位を面積当
    り1〜3600sec/m2以内であることを特徴とす
    る請求項7記載の銅及び銅基合金の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記トリアゾール類化合物がベンゾトリ
    アゾールであることを特徴とする請求項7又は8記載の
    銅及び銅合金の製造方法。
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