JP2000302744A - 尿素誘導体の製造法 - Google Patents
尿素誘導体の製造法Info
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、カルバメートとアミン化合物を反
応させて、高反応速度及び高選択率で、目的とする尿素
誘導体を製造する方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、アリールカルバメート
を、塩基存在下、４級アンモニウム塩又は４級ホスホニ
ウム塩を共存させて、アミン化合物と反応させて、尿素
誘導体を生成させることを特徴とする尿素誘導体の製造
法によって解決される。
応させて、高反応速度及び高選択率で、目的とする尿素
誘導体を製造する方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 本発明の課題は、アリールカルバメート
を、塩基存在下、４級アンモニウム塩又は４級ホスホニ
ウム塩を共存させて、アミン化合物と反応させて、尿素
誘導体を生成させることを特徴とする尿素誘導体の製造
法によって解決される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はカルバメート（特に
アリールカルバメート）とアミン化合物を反応させて尿
素誘導体を製造する方法に関する。尿素誘導体は、医
薬、農薬、各種ファインケミカルズ、及びこれらの合成
原料として広範な用途を有する有用な化合物である。
アリールカルバメート）とアミン化合物を反応させて尿
素誘導体を製造する方法に関する。尿素誘導体は、医
薬、農薬、各種ファインケミカルズ、及びこれらの合成
原料として広範な用途を有する有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】カルバメートとアミン化合物を反応させ
て尿素誘導体を製造する方法としては例えば、（１）カ
ルバメートとアルキルアミンを無触媒で反応させる方法
（特開昭６２−１２６１６１号公報など）、（２）ｐ−
ニトロフェニルカルバメートとアルキルアミンを反応さ
せる方法〔Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，６，４２３（１９８
９）など〕、（３）アルキルカルバメートとアミンを高
温下で反応させる方法（特開昭５４−１４５６１６号公
報など）、（４）カルバメートとアミンを三級アミン又
は無機塩基触媒の存在下で反応させる方法（特開平９−
２４１２４３号公報など）が知られている。
て尿素誘導体を製造する方法としては例えば、（１）カ
ルバメートとアルキルアミンを無触媒で反応させる方法
（特開昭６２−１２６１６１号公報など）、（２）ｐ−
ニトロフェニルカルバメートとアルキルアミンを反応さ
せる方法〔Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，６，４２３（１９８
９）など〕、（３）アルキルカルバメートとアミンを高
温下で反応させる方法（特開昭５４−１４５６１６号公
報など）、（４）カルバメートとアミンを三級アミン又
は無機塩基触媒の存在下で反応させる方法（特開平９−
２４１２４３号公報など）が知られている。
【０００３】しかしながら、（１）の方法では、芳香族
アミンや立体的にかさ高いアミン等の反応性の低いアミ
ンを用いた場合には反応速度が著しく低下する、（２）
の方法では、原料のカルバメートが非常に反応性の高い
ｐ−ニトロフェニルカルバメートに限られる、（３）の
方法では、反応性の低いアルキルカルバメートを高温下
で反応させているためにイソシアナート誘導体が多量に
副生し、更に非対称尿素誘導体を製造する場合でも対称
尿素誘導体が優先して生成する、（４）の方法では、触
媒活性が低いなどの問題がある。
アミンや立体的にかさ高いアミン等の反応性の低いアミ
ンを用いた場合には反応速度が著しく低下する、（２）
の方法では、原料のカルバメートが非常に反応性の高い
ｐ−ニトロフェニルカルバメートに限られる、（３）の
方法では、反応性の低いアルキルカルバメートを高温下
で反応させているためにイソシアナート誘導体が多量に
副生し、更に非対称尿素誘導体を製造する場合でも対称
尿素誘導体が優先して生成する、（４）の方法では、触
媒活性が低いなどの問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、従来の
尿素誘導体の製造法は、原料のカルバメートやアミンが
制限される、副生物が多く生成する、触媒活性が低いな
ど、種々の問題を抱えている。本発明はこのような問題
を有していない尿素誘導体の製造法を提供することを課
題とする。即ち、本発明は、カルバメートとアミン化合
物を反応させて、高反応速度及び高選択率で、目的とす
る尿素誘導体を製造する方法を提供することを課題とす
る。
尿素誘導体の製造法は、原料のカルバメートやアミンが
制限される、副生物が多く生成する、触媒活性が低いな
ど、種々の問題を抱えている。本発明はこのような問題
を有していない尿素誘導体の製造法を提供することを課
題とする。即ち、本発明は、カルバメートとアミン化合
物を反応させて、高反応速度及び高選択率で、目的とす
る尿素誘導体を製造する方法を提供することを課題とす
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、化学構
造式（Ｉ）で表されるカルバメートを、
造式（Ｉ）で表されるカルバメートを、
【０００６】
【化４】 （式中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ2はアリール基を
表す。）
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ2はアリール基を
表す。）
【０００７】塩基存在下、４級アンモニウム塩又は４級
ホスホニウム塩を共存させて、化学構造式（II）で表さ
れるアミン化合物と反応させて、
ホスホニウム塩を共存させて、化学構造式（II）で表さ
れるアミン化合物と反応させて、
【化５】 （式中、Ｒ3はアルキル基、アラルキル基、アリール
基、複素環基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、チオアルコキシ基、スルホ
ニル基、水酸基、又はジ置換アミノ基を表す。Ｒ4は、
Ｒ3がアルキル基の場合、アルキル基、アラルキル基、
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ3がアルキル基以
外の前記置換基である場合、水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。）
基、複素環基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、チオアルコキシ基、スルホ
ニル基、水酸基、又はジ置換アミノ基を表す。Ｒ4は、
Ｒ3がアルキル基の場合、アルキル基、アラルキル基、
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ3がアルキル基以
外の前記置換基である場合、水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。）
【０００８】化学構造式（III）で表される尿素誘導体
を生成させることを特徴とする尿素誘導体の製造法によ
って解決される。
を生成させることを特徴とする尿素誘導体の製造法によ
って解決される。
【化６】 （式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4は前記と同様である。）
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明で使用されるカルバメート
は前記化学構造式（Ｉ）で表される。化学構造式（Ｉ）
において、Ｒ1は、水素原子、アルキル基（好ましくは
炭素数１〜２０のアルキル基）、アラルキル基（好まし
くは炭素数７〜２０のアラルキル基）、アリール基（好
ましくは炭素数６〜２０のアリール基）、又は複素環基
（好ましくは炭素数１〜１５で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ
原子を少なくとも１個含む複素環基）を表す。また、Ｒ
2はアリール基（好ましくは炭素数６〜２０のアリール
基）を表す。
は前記化学構造式（Ｉ）で表される。化学構造式（Ｉ）
において、Ｒ1は、水素原子、アルキル基（好ましくは
炭素数１〜２０のアルキル基）、アラルキル基（好まし
くは炭素数７〜２０のアラルキル基）、アリール基（好
ましくは炭素数６〜２０のアリール基）、又は複素環基
（好ましくは炭素数１〜１５で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ
原子を少なくとも１個含む複素環基）を表す。また、Ｒ
2はアリール基（好ましくは炭素数６〜２０のアリール
基）を表す。
【００１０】前記カルバメートにおいて、Ｒ1で表され
るアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基
（異性体を含む）が好ましく挙げられる。このアルキル
基はその炭素鎖の内部に不飽和結合（炭素−炭素二重結
合等）及び／又はヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んで
いてもよく、その炭素鎖が環構造（前記ヘテロ原子を含
むこともある）を形成していてもよい。但し、その炭素
鎖の内部に窒素原子を含む場合は、炭素数１〜１５のア
ルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基又は炭素数６
〜１４のアリール基が窒素原子上に置換基として他に１
個存在する。
るアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、シクロプロピル基、
シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル
基、シクロオクチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基
（異性体を含む）が好ましく挙げられる。このアルキル
基はその炭素鎖の内部に不飽和結合（炭素−炭素二重結
合等）及び／又はヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んで
いてもよく、その炭素鎖が環構造（前記ヘテロ原子を含
むこともある）を形成していてもよい。但し、その炭素
鎖の内部に窒素原子を含む場合は、炭素数１〜１５のア
ルキル基、炭素数７〜１５のアラルキル基又は炭素数６
〜１４のアリール基が窒素原子上に置換基として他に１
個存在する。
【００１１】前記アルキル基は、更に、炭素数１〜１５
のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等）、炭素数１〜１５のチオアルコキシ
基（チオメトキシ基、チオエトキシ基等）、炭素数６〜
１４のアリールオキシ基（フェノキシ基等）、炭素数６
〜１４のアリールチオオキシ基（チオフェノキシ基
等）、炭素数２〜１５のアルコキシカルボニル基（メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、炭素数
２〜１５のアシル基（アセチル基、ベンゾイル基等）、
炭素数２〜１５のジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基等）、ヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ
等）を少なくとも１個含む炭素数１〜１５の複素環基
（ピリジル基、フリル基等）、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）などを置換基
として１個以上有していてもよい。
のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ
基、ブトキシ基等）、炭素数１〜１５のチオアルコキシ
基（チオメトキシ基、チオエトキシ基等）、炭素数６〜
１４のアリールオキシ基（フェノキシ基等）、炭素数６
〜１４のアリールチオオキシ基（チオフェノキシ基
等）、炭素数２〜１５のアルコキシカルボニル基（メト
キシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、炭素数
２〜１５のアシル基（アセチル基、ベンゾイル基等）、
炭素数２〜１５のジアルキルアミノ基（ジメチルアミノ
基、ジエチルアミノ基等）、ヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ
等）を少なくとも１個含む炭素数１〜１５の複素環基
（ピリジル基、フリル基等）、ニトロ基、シアノ基、水
酸基、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等）などを置換基
として１個以上有していてもよい。
【００１２】Ｒ1としてのアルキル基が有していてもよ
い、これら置換基は各種異性体を含む。そして、これら
置換基はそのアルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合
（炭素−炭素二重結合等）及び／又はヘテロ原子（Ｎ、
Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよく、また、そのアルキル部
分が前記アルキル基が有していてもよい置換基を少なく
とも１個有していても、環構造（前記ヘテロ原子を含む
こともある）を形成していてもよい。但し、そのアルキ
ル部分の炭素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同
様に窒素原子上に置換基が存在する。
い、これら置換基は各種異性体を含む。そして、これら
置換基はそのアルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合
（炭素−炭素二重結合等）及び／又はヘテロ原子（Ｎ、
Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよく、また、そのアルキル部
分が前記アルキル基が有していてもよい置換基を少なく
とも１個有していても、環構造（前記ヘテロ原子を含む
こともある）を形成していてもよい。但し、そのアルキ
ル部分の炭素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同
様に窒素原子上に置換基が存在する。
【００１３】前記カルバメートにおいて、Ｒ1で表され
るアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、
フェニルプロピル基、フェニルブチル基等の炭素数７〜
２０のアラルキル基（異性体を含む）が好ましく挙げら
れる。このアラルキル基はそのアルキル部分の炭素鎖の
内部に不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原
子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよい。但し、そのア
ルキル部分の炭素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記
と同様に窒素原子上に置換基が存在する。
るアラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基、
フェニルプロピル基、フェニルブチル基等の炭素数７〜
２０のアラルキル基（異性体を含む）が好ましく挙げら
れる。このアラルキル基はそのアルキル部分の炭素鎖の
内部に不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原
子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよい。但し、そのア
ルキル部分の炭素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記
と同様に窒素原子上に置換基が存在する。
【００１４】前記アラルキル基は、更に、炭素数１〜１
５のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等）や、炭素数７〜１５のアラルキル基（ベンジ
ル基、フェネチル基等）や、炭素数６〜１４のアリール
基（フェニル基、ナフチル基等）の置換基や、Ｒ1とし
てのアルキル基が有していてもよい置換基と同様の置換
基をその芳香環上に１個以上有していてもよい。なお、
これら置換基は各種異性体を含む。そして、これら置換
基はそのアルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合（炭
素−炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を
含んでいてもよく、そのアルキル部分が環構造（前記ヘ
テロ原子を含むこともある）を形成していてもよく、更
にＲ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を
１個以上有していてもい。但し、そのアルキル部分の炭
素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同様に窒素原
子上に置換基が存在する。
５のアルキル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等）や、炭素数７〜１５のアラルキル基（ベンジ
ル基、フェネチル基等）や、炭素数６〜１４のアリール
基（フェニル基、ナフチル基等）の置換基や、Ｒ1とし
てのアルキル基が有していてもよい置換基と同様の置換
基をその芳香環上に１個以上有していてもよい。なお、
これら置換基は各種異性体を含む。そして、これら置換
基はそのアルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合（炭
素−炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を
含んでいてもよく、そのアルキル部分が環構造（前記ヘ
テロ原子を含むこともある）を形成していてもよく、更
にＲ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を
１個以上有していてもい。但し、そのアルキル部分の炭
素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同様に窒素原
子上に置換基が存在する。
【００１５】前記カルバメートにおいて、Ｒ1で表され
るアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アン
トラニル基等の炭素数６〜１４のアリール基（異性体を
含む）が好ましく挙げられる。前記アリール基は、更
に、炭素数１〜１５のアルキル基（メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等）、炭素数７〜１５のアラ
ルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、炭素数６〜
１４のアリール基（フェニル基、ナフチル基等）や、Ｒ
1としてのアルキル基が有していてもよい置換基と同様
の置換基を１個以上有していてもよい。なお、これら置
換基は各種異性体を含む。そして、これら置換基はその
アルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合（炭素−炭素
二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでい
てもよく、そのアルキル部分が環構造（前記ヘテロ原子
を含むこともある）を形成していてもよく、更にＲ1と
してのアルキル基が有していてもよい置換基を１個以上
有していてもよい。但し、そのアルキル部分の炭素鎖の
内部に窒素原子を含む場合は、前記と同様に窒素原子上
に置換基が存在する。
るアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アン
トラニル基等の炭素数６〜１４のアリール基（異性体を
含む）が好ましく挙げられる。前記アリール基は、更
に、炭素数１〜１５のアルキル基（メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基等）、炭素数７〜１５のアラ
ルキル基（ベンジル基、フェネチル基等）、炭素数６〜
１４のアリール基（フェニル基、ナフチル基等）や、Ｒ
1としてのアルキル基が有していてもよい置換基と同様
の置換基を１個以上有していてもよい。なお、これら置
換基は各種異性体を含む。そして、これら置換基はその
アルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合（炭素−炭素
二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでい
てもよく、そのアルキル部分が環構造（前記ヘテロ原子
を含むこともある）を形成していてもよく、更にＲ1と
してのアルキル基が有していてもよい置換基を１個以上
有していてもよい。但し、そのアルキル部分の炭素鎖の
内部に窒素原子を含む場合は、前記と同様に窒素原子上
に置換基が存在する。
【００１６】置換基を有するアリール基としては、例え
ば、トリル基、キシリル基、ビフェニリル基、メトキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ニ
トロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、シアノフェニ
ル基、ジメチルアミノフェニル基などが挙げられる。
ば、トリル基、キシリル基、ビフェニリル基、メトキシ
フェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ニ
トロフェニル基、ヒドロキシフェニル基、シアノフェニ
ル基、ジメチルアミノフェニル基などが挙げられる。
【００１７】前記カルバメートにおいて、Ｒ1で表され
る複素環基としては、ピリジル基、ピリダジニル基、キ
ノリル基、イソキノリル基、ピリミジニル基、インドリ
ル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、チアジアゾリル基、イソキサゾリル基、フリル基、
ベンゾフリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、
テトラヒドロチエニル基、Ｎ−置換ピペリジニル基等の
ヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を少なくとも１個含む炭素
数１〜１５の複素環基（異性体を含む）が好ましく挙げ
られる。
る複素環基としては、ピリジル基、ピリダジニル基、キ
ノリル基、イソキノリル基、ピリミジニル基、インドリ
ル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル
基、チアジアゾリル基、イソキサゾリル基、フリル基、
ベンゾフリル基、テトラヒドロフリル基、チエニル基、
テトラヒドロチエニル基、Ｎ−置換ピペリジニル基等の
ヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を少なくとも１個含む炭素
数１〜１５の複素環基（異性体を含む）が好ましく挙げ
られる。
【００１８】前記複素環基は、更に、Ｒ1としてのアル
キル基、アラルキル基、アリール基が有していてもよい
置換基と同様の置換基を１個以上有していてもよい。こ
れら置換基は異性体を含む。また、前記と同様にそのア
ルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合やヘテロ原子を
含んでいてもよく、環構造を形成していてもよく、更に
Ｒ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を１
個以上有していてもよい。但し、そのアルキル部分の炭
素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同様に窒素原
子上に置換基が存在する。
キル基、アラルキル基、アリール基が有していてもよい
置換基と同様の置換基を１個以上有していてもよい。こ
れら置換基は異性体を含む。また、前記と同様にそのア
ルキル部分の炭素鎖の内部に不飽和結合やヘテロ原子を
含んでいてもよく、環構造を形成していてもよく、更に
Ｒ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を１
個以上有していてもよい。但し、そのアルキル部分の炭
素鎖の内部に窒素原子を含む場合は前記と同様に窒素原
子上に置換基が存在する。
【００１９】Ｒ2で表されるアリール基としては、フェ
ニル基、ナフチル基、アントラニル基等の炭素数６〜１
４のアリール基（異性体を含む）が好ましく挙げられ
る。これらアリール基は、更に、炭素数１〜１５のアル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等）や、Ｒ1としてのアリール基と同様の置換基を１個
以上有していてもよい。
ニル基、ナフチル基、アントラニル基等の炭素数６〜１
４のアリール基（異性体を含む）が好ましく挙げられ
る。これらアリール基は、更に、炭素数１〜１５のアル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等）や、Ｒ1としてのアリール基と同様の置換基を１個
以上有していてもよい。
【００２０】前記カルバメートとしては、例えば、下記
の化合物が挙げられる。即ち、Ｒ1が水素原子であるカ
ルバメートとしては、フェニル カルバメートなどが挙
げられる。
の化合物が挙げられる。即ち、Ｒ1が水素原子であるカ
ルバメートとしては、フェニル カルバメートなどが挙
げられる。
【００２１】Ｒ1がアルキル基であるカルバメートとし
ては、フェニル Ｎ−メチルカルバメート、フェニル
Ｎ−エチルカルバメート、フェニル Ｎ−プロピルカル
バメート、フェニル Ｎ−ブチルカルバメート、フェニ
ル Ｎ−シクロヘキシルカルバメートなどが挙げられ
る。更に、４−ニトロフェニル Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバメート、４−フェノキシフェニル Ｎ−シクロヘキ
シルカルバメート、４−アセチルフェニル Ｎ−シクロ
ヘキシルカルバメートなども挙げられる。
ては、フェニル Ｎ−メチルカルバメート、フェニル
Ｎ−エチルカルバメート、フェニル Ｎ−プロピルカル
バメート、フェニル Ｎ−ブチルカルバメート、フェニ
ル Ｎ−シクロヘキシルカルバメートなどが挙げられ
る。更に、４−ニトロフェニル Ｎ−シクロヘキシルカ
ルバメート、４−フェノキシフェニル Ｎ−シクロヘキ
シルカルバメート、４−アセチルフェニル Ｎ−シクロ
ヘキシルカルバメートなども挙げられる。
【００２２】Ｒ1がアラルキル基であるカルバメートと
しては、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメート、フェニ
ル Ｎ−１−フェネチルカルバメートなどが挙げられ
る。
しては、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメート、フェニ
ル Ｎ−１−フェネチルカルバメートなどが挙げられ
る。
【００２３】Ｒ1がアリール基であるカルバメートとし
ては、フェニル Ｎ−フェニルカルバメート、フェニル
Ｎ−（４−メチルフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（２−クロロフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−ニトロフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−シアノフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバメート、１−ナ
フチル Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバメート、１
−ナフチル Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバメー
トなどが挙げられる。
ては、フェニル Ｎ−フェニルカルバメート、フェニル
Ｎ−（４−メチルフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（２−クロロフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−ニトロフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−シアノフェニル）カルバメート、フェニル
Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバメート、１−ナ
フチル Ｎ−（４−クロロフェニル）カルバメート、１
−ナフチル Ｎ−（４−メトキシフェニル）カルバメー
トなどが挙げられる。
【００２４】更に、４−メチルフェニル Ｎ−フェニル
カルバメート、４−フルオロフェニル Ｎ−フェニルカ
ルバメート、４−クロロフェニル Ｎ−フェニルカルバ
メート、４−ニトロフェニル Ｎ−フェニルカルバメー
ト、４−メトキシフェニルＮ−フェニルカルバメートな
ども、Ｒ1がアリール基であるカルバメートとして挙げ
られる。
カルバメート、４−フルオロフェニル Ｎ−フェニルカ
ルバメート、４−クロロフェニル Ｎ−フェニルカルバ
メート、４−ニトロフェニル Ｎ−フェニルカルバメー
ト、４−メトキシフェニルＮ−フェニルカルバメートな
ども、Ｒ1がアリール基であるカルバメートとして挙げ
られる。
【００２５】Ｒ1が複素環基であるカルバメートとして
は、フェニル Ｎ−（２−ピリジル）カルバメート、フ
ェニル Ｎ−（４−ピリダジニル）カルバメート、フェ
ニルＮ−（１−ベンジル−４−ピペリジニル）カルバメ
ートなどが挙げられ、更に４−ニトロフェニル Ｎ−
（４−ピリジル）カルバメートなども挙げられる。
は、フェニル Ｎ−（２−ピリジル）カルバメート、フ
ェニル Ｎ−（４−ピリダジニル）カルバメート、フェ
ニルＮ−（１−ベンジル−４−ピペリジニル）カルバメ
ートなどが挙げられ、更に４−ニトロフェニル Ｎ−
（４−ピリジル）カルバメートなども挙げられる。
【００２６】本発明で使用されるアミン化合物は前記化
学構造式（II）で表される。化学構造式（II）におい
て、Ｒ3は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０の
アルキル基）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜２
０のアラルキル基）、アリール基（好ましくは炭素数６
〜２０のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数３
〜１５で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ原子を少なくとも１個
含む複素環基）、アシル基（好ましくは炭素数２〜１０
のアシル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１
５のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭
素数６〜１５のアリールオキシ基）、アラルキルオキシ
基（好ましくは炭素数７〜１６のアラルキルオキシ
基）、チオアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１５の
チオアルコキシ基）、スルホニル基（好ましくは炭素数
１〜１５のスルホニル基）、水酸基、又はジ置換アミノ
基を表す。
学構造式（II）で表される。化学構造式（II）におい
て、Ｒ3は、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０の
アルキル基）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜２
０のアラルキル基）、アリール基（好ましくは炭素数６
〜２０のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数３
〜１５で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ原子を少なくとも１個
含む複素環基）、アシル基（好ましくは炭素数２〜１０
のアシル基）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１
５のアルコキシ基）、アリールオキシ基（好ましくは炭
素数６〜１５のアリールオキシ基）、アラルキルオキシ
基（好ましくは炭素数７〜１６のアラルキルオキシ
基）、チオアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１５の
チオアルコキシ基）、スルホニル基（好ましくは炭素数
１〜１５のスルホニル基）、水酸基、又はジ置換アミノ
基を表す。
【００２７】このジ置換アミノ基を構成する置換基とし
ては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０のアルキ
ル基）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜２０のア
ラルキル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０
のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数３〜１５
で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ原子を少なくとも１個含む複
素環基）、アシル基（好ましくは炭素数２〜１０のアシ
ル基）、又はスルホニル基（好ましくは炭素数１〜１５
のスルホニル基）が挙げられる。
ては、アルキル基（好ましくは炭素数１〜２０のアルキ
ル基）、アラルキル基（好ましくは炭素数７〜２０のア
ラルキル基）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２０
のアリール基）、複素環基（好ましくは炭素数３〜１５
で、Ｎ、Ｏ、Ｓ等のヘテロ原子を少なくとも１個含む複
素環基）、アシル基（好ましくは炭素数２〜１０のアシ
ル基）、又はスルホニル基（好ましくは炭素数１〜１５
のスルホニル基）が挙げられる。
【００２８】前記アミン化合物において、Ｒ3で表され
るアルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基と
しては、前記のＲ1で表わされるアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、複素環基と同様のものが挙げられ
る。そして、このアルキル基は、前記のＲ1で表わされ
るアルキル基と同様に、その炭素鎖の内部に不飽和結合
（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ
等）を含んでいてもよく、環構造（前記ヘテロ原子を含
むこともある）を形成していてもよい。また、このアラ
ルキル基は、前記のＲ1で表わされるアラルキル基と同
様に、そのアルキル部分の炭素鎖に不飽和結合（炭素−
炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含ん
でいてもよい。
るアルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基と
しては、前記のＲ1で表わされるアルキル基、アラルキ
ル基、アリール基、複素環基と同様のものが挙げられ
る。そして、このアルキル基は、前記のＲ1で表わされ
るアルキル基と同様に、その炭素鎖の内部に不飽和結合
（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ
等）を含んでいてもよく、環構造（前記ヘテロ原子を含
むこともある）を形成していてもよい。また、このアラ
ルキル基は、前記のＲ1で表わされるアラルキル基と同
様に、そのアルキル部分の炭素鎖に不飽和結合（炭素−
炭素二重結合等）やヘテロ原子（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含ん
でいてもよい。
【００２９】更に、Ｒ3で表されるアルキル基、アラル
キル基、アリール基は、Ｒ1で表わされるアルキル基、
アラルキル基、アリール基、複素環基が有すると同様の
置換基を１個以上有していてもよい。そして、この置換
基は、前記のＲ1と同様に、そのアルキル部分の炭素鎖
に不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原子
（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよく、環構造（前記ヘ
テロ原子を含むこともある）を形成していてもよく、更
にＲ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を
１個以上有していてもよい。
キル基、アリール基は、Ｒ1で表わされるアルキル基、
アラルキル基、アリール基、複素環基が有すると同様の
置換基を１個以上有していてもよい。そして、この置換
基は、前記のＲ1と同様に、そのアルキル部分の炭素鎖
に不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）やヘテロ原子
（Ｎ、Ｏ、Ｓ等）を含んでいてもよく、環構造（前記ヘ
テロ原子を含むこともある）を形成していてもよく、更
にＲ1としてのアルキル基が有していてもよい置換基を
１個以上有していてもよい。
【００３０】また、前記アミン化合物において、Ｒ3で
表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基等の炭素数２〜１５のアシル基が、Ｒ
3で表されるアルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１５
のアルコキシ基が、Ｒ3で表されるアリールオキシ基と
しては、フェノキシ基等の炭素数６〜１５のアリールオ
キシ基が、Ｒ3で表されるアラルキルオキシ基として
は、ベンジルオキシ基等の炭素数７〜１６のアラルキル
オキシ基が、Ｒ3で表されるチオアルコキシ基として
は、チオメトキシ基、チオエトキシ基等の炭素数１〜１
５のチオアルコキシ基が、Ｒ3で表されるジ置換アミノ
基としては、ジメチルアミノ基等の炭素数２〜２０のジ
置換アミノ基がそれぞれ好ましく挙げられる。
表されるアシル基としては、アセチル基、プロピオニル
基、ベンゾイル基等の炭素数２〜１５のアシル基が、Ｒ
3で表されるアルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜１５
のアルコキシ基が、Ｒ3で表されるアリールオキシ基と
しては、フェノキシ基等の炭素数６〜１５のアリールオ
キシ基が、Ｒ3で表されるアラルキルオキシ基として
は、ベンジルオキシ基等の炭素数７〜１６のアラルキル
オキシ基が、Ｒ3で表されるチオアルコキシ基として
は、チオメトキシ基、チオエトキシ基等の炭素数１〜１
５のチオアルコキシ基が、Ｒ3で表されるジ置換アミノ
基としては、ジメチルアミノ基等の炭素数２〜２０のジ
置換アミノ基がそれぞれ好ましく挙げられる。
【００３１】前記アミン化合物において、Ｒ4は、Ｒ3が
アルキル基の場合、アルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、又は複素環基を表し、Ｒ3がアルキル基以外の前
記置換基である場合、Ｒ4は、水素原子、アルキル基、
アラルキル基、アリール基、又は複素環基を表すが、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基は前記
のＲ3と同様のものである。
アルキル基の場合、アルキル基、アラルキル基、アリー
ル基、又は複素環基を表し、Ｒ3がアルキル基以外の前
記置換基である場合、Ｒ4は、水素原子、アルキル基、
アラルキル基、アリール基、又は複素環基を表すが、ア
ルキル基、アラルキル基、アリール基、複素環基は前記
のＲ3と同様のものである。
【００３２】前記アミン化合物としては、例えば、下記
の化合物が具体的に挙げられる。即ち、Ｒ3がアルキル
基で、Ｒ4がアルキル基であるものとしては、ジメチル
アミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルエチ
ルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチ
ルプロピルアミン、Ｎ−エチルシクロヘキシルアミン等
が挙げられる。更に、ピロリジン、３−ピロリン、ピロ
ール、ピラゾール、ピペリジン、モルホリン等も挙げら
れる。
の化合物が具体的に挙げられる。即ち、Ｒ3がアルキル
基で、Ｒ4がアルキル基であるものとしては、ジメチル
アミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブ
チルアミン、ジシクロヘキシルアミン、Ｎ−メチルエチ
ルアミン、Ｎ−メチルシクロヘキシルアミン、Ｎ−エチ
ルプロピルアミン、Ｎ−エチルシクロヘキシルアミン等
が挙げられる。更に、ピロリジン、３−ピロリン、ピロ
ール、ピラゾール、ピペリジン、モルホリン等も挙げら
れる。
【００３３】Ｒ3がアラルキル基で、Ｒ4がアルキル基で
あるものとしては、Ｎ−メチル ベンジルアミン、Ｎ−
メチル フェネチルアミン、Ｎ−メチル フェニルプロ
ピルアミン、Ｎ−メチル フェニルヘキシルアミン、Ｎ
−エチル ベンジルアミン、Ｎ−エチル フェネチルア
ミン、Ｎ−エチル フェニルプロピルアミン、Ｎ−エチ
ル フェニルヘキシルアミン等が挙げられる。
あるものとしては、Ｎ−メチル ベンジルアミン、Ｎ−
メチル フェネチルアミン、Ｎ−メチル フェニルプロ
ピルアミン、Ｎ−メチル フェニルヘキシルアミン、Ｎ
−エチル ベンジルアミン、Ｎ−エチル フェネチルア
ミン、Ｎ−エチル フェニルプロピルアミン、Ｎ−エチ
ル フェニルヘキシルアミン等が挙げられる。
【００３４】Ｒ3がアラルキル基で、Ｒ4がアラルキル基
であるものとしては、ジベンジルアミン、ジフェネチル
アミン、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン等が挙げられ
る。Ｒ3がアラルキル基で、Ｒ4が水素原子であるものと
しては、ベンジルアミン、フェネチルアミン、フェニル
ブチルアミン、フェニルヘキシルアミン等が挙げられ
る。
であるものとしては、ジベンジルアミン、ジフェネチル
アミン、Ｎ−ベンジルフェネチルアミン等が挙げられ
る。Ｒ3がアラルキル基で、Ｒ4が水素原子であるものと
しては、ベンジルアミン、フェネチルアミン、フェニル
ブチルアミン、フェニルヘキシルアミン等が挙げられ
る。
【００３５】Ｒ3がアリール基で、Ｒ4がアルキル基であ
るものとしては、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニ
リン、Ｎ−ブチルアニリン、Ｎ−オクチルアニリン、Ｎ
−デシルアニリン等が挙げられる。更に、インドール等
も挙げられる。Ｒ3がアリール基で、Ｒ4がアリール基で
あるものとしては、ジフェニルアミン、ジナフチルアミ
ン等が挙げられる。更に、カルバゾール等も挙げられ
る。
るものとしては、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ−エチルアニ
リン、Ｎ−ブチルアニリン、Ｎ−オクチルアニリン、Ｎ
−デシルアニリン等が挙げられる。更に、インドール等
も挙げられる。Ｒ3がアリール基で、Ｒ4がアリール基で
あるものとしては、ジフェニルアミン、ジナフチルアミ
ン等が挙げられる。更に、カルバゾール等も挙げられ
る。
【００３６】Ｒ3がアリール基で、Ｒ4が水素原子である
ものとしては、アニリン、２−トルイジン、４−トルイ
ジン、２，４−ジメチルアニリン、２−エチルアニリ
ン、４−エチルアニリン、２，４−ジエチルアニリン、
４−トリフルオロアニリン、２−アニシジン、４−アニ
シジン、４−エトキシアニリン、２−フルオロアニリ
ン、４−フルオロアニリン、２−クロロアニリン、４−
クロロアニリン、２−ブロモアニリン、４−ブロモアニ
リン、４−メチルチオアニリン、４−ジエチルアミノア
ニリン、２−メチル−４−ニトロアニリン、２−メトキ
シ−４−ニトロアニリン、２−クロロ−４−ニトロアニ
リン、２−シアノ−４−メチル−６−ニトロアニリン、
２−アミノジフェニル、２−アミノジフェニルエーテ
ル、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン等が挙げ
られる。
ものとしては、アニリン、２−トルイジン、４−トルイ
ジン、２，４−ジメチルアニリン、２−エチルアニリ
ン、４−エチルアニリン、２，４−ジエチルアニリン、
４−トリフルオロアニリン、２−アニシジン、４−アニ
シジン、４−エトキシアニリン、２−フルオロアニリ
ン、４−フルオロアニリン、２−クロロアニリン、４−
クロロアニリン、２−ブロモアニリン、４−ブロモアニ
リン、４−メチルチオアニリン、４−ジエチルアミノア
ニリン、２−メチル−４−ニトロアニリン、２−メトキ
シ−４−ニトロアニリン、２−クロロ−４−ニトロアニ
リン、２−シアノ−４−メチル−６−ニトロアニリン、
２−アミノジフェニル、２−アミノジフェニルエーテ
ル、１−ナフチルアミン、２−ナフチルアミン等が挙げ
られる。
【００３７】Ｒ3が複素環基で、Ｒ4がアルキル基である
ものとしては、Ｎ−メチル（２−アミノピリジン）、Ｎ
−メチル（４−アミノピリジン）、Ｎ−メチル（２−ア
ミノフラン）、Ｎ−メチル（２−アミノピラン）、Ｎ−
メチル（２−アミノピロール）、Ｎ−メチル（２−アミ
ノチオフェン）、Ｎ−エチル（２−アミノピリジン）、
Ｎ−エチル（４−アミノピリジン）、Ｎ−エチル（２−
アミノフラン）、Ｎ−エチル（２−アミノピラン）、Ｎ
−エチル（２−アミノピロール）、Ｎ−エチル（２−ア
ミノチオフェン）等が挙げられる。
ものとしては、Ｎ−メチル（２−アミノピリジン）、Ｎ
−メチル（４−アミノピリジン）、Ｎ−メチル（２−ア
ミノフラン）、Ｎ−メチル（２−アミノピラン）、Ｎ−
メチル（２−アミノピロール）、Ｎ−メチル（２−アミ
ノチオフェン）、Ｎ−エチル（２−アミノピリジン）、
Ｎ−エチル（４−アミノピリジン）、Ｎ−エチル（２−
アミノフラン）、Ｎ−エチル（２−アミノピラン）、Ｎ
−エチル（２−アミノピロール）、Ｎ−エチル（２−ア
ミノチオフェン）等が挙げられる。
【００３８】Ｒ3が複素環基で、Ｒ4が水素原子であるも
のとしては、２−アミノピリジン、４−アミノピリジ
ン、２−アミノピリミジン、９−アミノアクリジン、４
−アミノアンチピリン、３−アミノ−５，６−ジメチル
−１，２，４−トリアジン、２−アミノキノリン、５−
アミノイミダゾール、７−アミノ−４−メチルクマリ
ン、３−アミノ−５−メチルイソオキサゾール、３−ア
ミノ−５−メチルピラゾール、３−アミノ−１−フェニ
ル−２−ピラゾリン−５−オン、８−アミノキナリジ
ン、α−アミノ−γ−ブチロラクトン、α−アミノ−ε
−カプロラクタム、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、
２−アミノチアゾール、２−アミノチアゾリン、２−ア
ミノベンゾチアゾール等が挙げられる。
のとしては、２−アミノピリジン、４−アミノピリジ
ン、２−アミノピリミジン、９−アミノアクリジン、４
−アミノアンチピリン、３−アミノ−５，６−ジメチル
−１，２，４−トリアジン、２−アミノキノリン、５−
アミノイミダゾール、７−アミノ−４−メチルクマリ
ン、３−アミノ−５−メチルイソオキサゾール、３−ア
ミノ−５−メチルピラゾール、３−アミノ−１−フェニ
ル−２−ピラゾリン−５−オン、８−アミノキナリジ
ン、α−アミノ−γ−ブチロラクトン、α−アミノ−ε
−カプロラクタム、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、
２−アミノチアゾール、２−アミノチアゾリン、２−ア
ミノベンゾチアゾール等が挙げられる。
【００３９】Ｒ3がアシル基で、Ｒ4が水素原子であるも
のとしては、ホルムアミド、アセトアミド、ベンズアミ
ド、アクリルアミド、ニコチンアミド、シアノアセトア
ミド等が挙げられる。Ｒ3がスルホニル基で、Ｒ4が水素
原子であるものとしては、メタンスルホンアミド、ベン
ゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等が
挙げられる。
のとしては、ホルムアミド、アセトアミド、ベンズアミ
ド、アクリルアミド、ニコチンアミド、シアノアセトア
ミド等が挙げられる。Ｒ3がスルホニル基で、Ｒ4が水素
原子であるものとしては、メタンスルホンアミド、ベン
ゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等が
挙げられる。
【００４０】本発明で使用される塩基としては、塩基性
のアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物が挙げられ
る。塩基性のアルカリ金属化合物としては、アルカリ金
属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸
塩、リン酸水素塩等の無機の塩基性アルカリ金属化合物
や、アルカリ金属のカルボン酸塩、アルコキシド、アリ
ールオキシド等の有機の塩基性アルカリ金属化合物など
が挙げられる。塩基性のアルカリ土類金属化合物も同様
の無機又は有機の塩基性アルカリ土類金属化合物が挙げ
られる。これら塩基は単独で使用しても複数で使用して
もよい。
のアルカリ金属又はアルカリ土類金属化合物が挙げられ
る。塩基性のアルカリ金属化合物としては、アルカリ金
属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩、リン酸
塩、リン酸水素塩等の無機の塩基性アルカリ金属化合物
や、アルカリ金属のカルボン酸塩、アルコキシド、アリ
ールオキシド等の有機の塩基性アルカリ金属化合物など
が挙げられる。塩基性のアルカリ土類金属化合物も同様
の無機又は有機の塩基性アルカリ土類金属化合物が挙げ
られる。これら塩基は単独で使用しても複数で使用して
もよい。
【００４１】無機の塩基性アルカリ金属化合物のうち、
アルカリ金属の酸化物としては、酸化ナトリウム、酸化
カリウム等が挙げられ、アルカリ金属の水酸化物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ
る。アルカリ金属の炭酸塩としては、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等が挙げられ、アルカリ金属の炭酸水素塩
としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が
挙げられる。また、アルカリ金属のリン酸塩としては、
リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等が挙げられ、アル
カリ金属のリン酸水素塩としては、リン酸水素ナトリウ
ム、リン酸水素カリウム等が挙げられる。
アルカリ金属の酸化物としては、酸化ナトリウム、酸化
カリウム等が挙げられ、アルカリ金属の水酸化物として
は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられ
る。アルカリ金属の炭酸塩としては、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等が挙げられ、アルカリ金属の炭酸水素塩
としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等が
挙げられる。また、アルカリ金属のリン酸塩としては、
リン酸ナトリウム、リン酸カリウム等が挙げられ、アル
カリ金属のリン酸水素塩としては、リン酸水素ナトリウ
ム、リン酸水素カリウム等が挙げられる。
【００４２】有機の塩基性アルカリ金属化合物のうち、
アルカリ金属のカルボン酸塩としては、ギ酸ナトリウ
ム、ギ酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プ
ロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム、酪酸ナ
トリウム、酪酸カリウム、イソ酪酸ナトリウム、イソ酪
酸カリウム、ピバリン酸ナトリウム、ピバリン酸カリウ
ム、吉草酸ナトリウム、吉草酸カリウム、イソ吉草酸ナ
トリウム、イソ吉草酸カリウム、カプロン酸ナトリウ
ム、カプロン酸カリウム、ヘプタン酸ナトリウム、ヘプ
タン酸カリウム、カプリル酸ナトリウム、カプリル酸カ
リウム、ウンデシレン酸ナトリウム、ウンデシレン酸カ
リウム等の炭素数１〜１２のアルカリ金属のカルボン酸
塩が挙げられる。
アルカリ金属のカルボン酸塩としては、ギ酸ナトリウ
ム、ギ酸カリウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プ
ロピオン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム、酪酸ナ
トリウム、酪酸カリウム、イソ酪酸ナトリウム、イソ酪
酸カリウム、ピバリン酸ナトリウム、ピバリン酸カリウ
ム、吉草酸ナトリウム、吉草酸カリウム、イソ吉草酸ナ
トリウム、イソ吉草酸カリウム、カプロン酸ナトリウ
ム、カプロン酸カリウム、ヘプタン酸ナトリウム、ヘプ
タン酸カリウム、カプリル酸ナトリウム、カプリル酸カ
リウム、ウンデシレン酸ナトリウム、ウンデシレン酸カ
リウム等の炭素数１〜１２のアルカリ金属のカルボン酸
塩が挙げられる。
【００４３】また、アルカリ金属のアルコキシドとして
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナ
トリウムプロポキシド、ナトリウムブトキシド等の炭素
数１〜１２のアルカリ金属のアルコキシドが挙げられ、
アルカリ金属のアリールオキシドとしては、ナトリウム
フェノキシド等の炭素数６〜１２のアルカリ金属のアリ
ールオキシドが挙げられる。
は、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナ
トリウムプロポキシド、ナトリウムブトキシド等の炭素
数１〜１２のアルカリ金属のアルコキシドが挙げられ、
アルカリ金属のアリールオキシドとしては、ナトリウム
フェノキシド等の炭素数６〜１２のアルカリ金属のアリ
ールオキシドが挙げられる。
【００４４】塩基の中では、アルカリ金属の炭酸塩（特
に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、炭酸水素塩（特
に、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、カルボ
ン酸塩（特に、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム）が好ま
しい。
に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム）、炭酸水素塩（特
に、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、カルボ
ン酸塩（特に、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム）が好ま
しい。
【００４５】本発明では、４級アンモニウム塩又は４級
ホスホニウム塩を共存させて反応が行われる。４級アン
モニウム塩、４級ホスホニウム塩はそれぞれ単独で使用
しても複数で使用してもよく、また両者を単独又は複数
で混合して使用してもよい。４級アンモニウム塩として
は、アルキル基、アラルキル基、アリール基等の有機置
換基が窒素原子上に結合している有機４級アンモニウム
塩が使用される。このアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基は、前記のＲ1と同様のアルキル基、アラルキル
基、アリール基であり、前記のＲ1が有すると同様の置
換基を有していてもよい。有機４級アンモニウム塩とし
ては、例えば、テトラアルキルアンモニウム塩、テトラ
アラルキルアンモニウム塩等が挙げられる。
ホスホニウム塩を共存させて反応が行われる。４級アン
モニウム塩、４級ホスホニウム塩はそれぞれ単独で使用
しても複数で使用してもよく、また両者を単独又は複数
で混合して使用してもよい。４級アンモニウム塩として
は、アルキル基、アラルキル基、アリール基等の有機置
換基が窒素原子上に結合している有機４級アンモニウム
塩が使用される。このアルキル基、アラルキル基、アリ
ール基は、前記のＲ1と同様のアルキル基、アラルキル
基、アリール基であり、前記のＲ1が有すると同様の置
換基を有していてもよい。有機４級アンモニウム塩とし
ては、例えば、テトラアルキルアンモニウム塩、テトラ
アラルキルアンモニウム塩等が挙げられる。
【００４６】また、４級ホスホニウム塩としては、アル
キル基、アラルキル基、アリール基等の有機置換基がリ
ン原子上に結合している有機４級ホスホニウム塩が使用
される。このアルキル基、アラルキル基、アリール基
は、前記のＲ1と同様の炭素数を有するアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基であり、これらが有すると同様
の置換基を有していてもよい。有機４級ホスホニウム塩
としては、例えば、テトラアルキルホスホニウム塩、テ
トラアラルキルホスホニウム塩、テトラアリールホスホ
ニウム塩等が挙げられる。
キル基、アラルキル基、アリール基等の有機置換基がリ
ン原子上に結合している有機４級ホスホニウム塩が使用
される。このアルキル基、アラルキル基、アリール基
は、前記のＲ1と同様の炭素数を有するアルキル基、ア
ラルキル基、アリール基であり、これらが有すると同様
の置換基を有していてもよい。有機４級ホスホニウム塩
としては、例えば、テトラアルキルホスホニウム塩、テ
トラアラルキルホスホニウム塩、テトラアリールホスホ
ニウム塩等が挙げられる。
【００４７】４級アンモニウム塩、４級ホスホニウム塩
において、アンモニウムカチオン又はホスホニウムカチ
オンの対アニオンとしては、例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ
-、Ｉ-等のハロゲンイオン、ＯＨ-、ＡｃＯ-（アセテー
トイオン）、ｐ−ＴｓＯ-（ｐ−トルエンスルホネート
イオン）、ＳＯ4 2-、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -等が挙げられる。
対イオンは反応中に安定なものであれば特に制限されな
い。
において、アンモニウムカチオン又はホスホニウムカチ
オンの対アニオンとしては、例えば、Ｆ-、Ｃｌ-、Ｂｒ
-、Ｉ-等のハロゲンイオン、ＯＨ-、ＡｃＯ-（アセテー
トイオン）、ｐ−ＴｓＯ-（ｐ−トルエンスルホネート
イオン）、ＳＯ4 2-、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -等が挙げられる。
対イオンは反応中に安定なものであれば特に制限されな
い。
【００４８】４級アンモニウム塩としては、例えば、以
下のものが具体的に挙げられる。即ち、テトラアルキル
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムク
ロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、テトラオクチルアンモニウ
ムクロリド、テトラドデシルアンモニウムクロリド、テ
トラキス（２−クロロエチル）アンモニウムクロリド、
ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、１，１−ジ
メチルピペリジニウムクロリド等のテトラアルキルアン
モニウムクロリドが挙げられる。
下のものが具体的に挙げられる。即ち、テトラアルキル
アンモニウム塩としては、テトラメチルアンモニウムク
ロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブ
チルアンモニウムクロリド、テトラオクチルアンモニウ
ムクロリド、テトラドデシルアンモニウムクロリド、テ
トラキス（２−クロロエチル）アンモニウムクロリド、
ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、１，１−ジ
メチルピペリジニウムクロリド等のテトラアルキルアン
モニウムクロリドが挙げられる。
【００４９】テトラアラルキルアンモニウム塩として
は、テトラベンジルアンモニウムクロリド、テトラフェ
ネチルアンモニウムクロリド等のテトラアラルキルアン
モニウムクロリドが挙げられる。
は、テトラベンジルアンモニウムクロリド、テトラフェ
ネチルアンモニウムクロリド等のテトラアラルキルアン
モニウムクロリドが挙げられる。
【００５０】その他、ベンジルトリメチルアンモニウム
クロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、
４−メチルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、
ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、（９−
アントラセニルメチル）トリメチルアンモニウムクロリ
ド等のアルキル基とアラルキル基を有するものや、フェ
ニルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルジメチ
ルナフチルアンモニウムクロリド等のアルキル基とアリ
ール基を有するものが挙げられる。
クロリド、ベンジルトリブチルアンモニウムクロリド、
４−メチルベンジルトリメチルアンモニウムクロリド、
ベンジルジメチルデシルアンモニウムクロリド、（９−
アントラセニルメチル）トリメチルアンモニウムクロリ
ド等のアルキル基とアラルキル基を有するものや、フェ
ニルトリメチルアンモニウムクロリド、ラウリルジメチ
ルナフチルアンモニウムクロリド等のアルキル基とアリ
ール基を有するものが挙げられる。
【００５１】４級ホスホニウム塩としては、例えば、以
下のものが具体的に挙げられる。即ち、テトラアルキル
ホスホニウム塩としては、テトラメチルホスホニウムク
ロリド、テトラエチルホスホニウムクロリド、テトラブ
チルホスホニウムクロリド、トリブチルメチルホスホニ
ウムクロリド等のテトラアルキルホスホニウムクロリド
が挙げられる。
下のものが具体的に挙げられる。即ち、テトラアルキル
ホスホニウム塩としては、テトラメチルホスホニウムク
ロリド、テトラエチルホスホニウムクロリド、テトラブ
チルホスホニウムクロリド、トリブチルメチルホスホニ
ウムクロリド等のテトラアルキルホスホニウムクロリド
が挙げられる。
【００５２】テトラアラルキルホスホニウム塩として
は、テトラベンジルホスホニウムクロリド等のテトラア
ラルキルホスホニウムクロリドが挙げられる。テトラア
リールホスホニウム塩としては、テトラフェニルホスホ
ニウムクロリド、テトラ（フェネチルアンモニウムクロ
リド等のテトラアリールホスホニウムクロリドが挙げら
れる。
は、テトラベンジルホスホニウムクロリド等のテトラア
ラルキルホスホニウムクロリドが挙げられる。テトラア
リールホスホニウム塩としては、テトラフェニルホスホ
ニウムクロリド、テトラ（フェネチルアンモニウムクロ
リド等のテトラアリールホスホニウムクロリドが挙げら
れる。
【００５３】その他、ベンジルトリエチルホスホニウム
クロリド、（４−メチルベンジル）トリブチルホスホニ
ウムクロリド等のアルキル基とアラルキル基を有するも
のや、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、４
−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、
ペンタメチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド、４−フルオロベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロリド、４−クロロベンジルトリフェニルホスホニウム
クロリド、ジフェニルメチルトリフェニルホスホニウム
クロリド、１−ナフチルメチルトリフェニルホスホニウ
ムクロリド、２−ナフチルメチルトリフェニルホスホニ
ウムクロリド等のアラルキル基とアリール基を有するも
のや、
クロリド、（４−メチルベンジル）トリブチルホスホニ
ウムクロリド等のアルキル基とアラルキル基を有するも
のや、ベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、４
−メチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリド、
ペンタメチルベンジルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド、４−フルオロベンジルトリフェニルホスホニウムク
ロリド、４−クロロベンジルトリフェニルホスホニウム
クロリド、ジフェニルメチルトリフェニルホスホニウム
クロリド、１−ナフチルメチルトリフェニルホスホニウ
ムクロリド、２−ナフチルメチルトリフェニルホスホニ
ウムクロリド等のアラルキル基とアリール基を有するも
のや、
【００５４】メチルトリフェニルホスホニウムクロリ
ド、ブチルトリフェニルホスホニウムクロリド等のアル
キル基とアリール基や、ベンジルメチルジフェニルホス
ホニウムクロリド等のアルキル基とアラルキル基とアリ
ール基を有するものが挙げられる。更に、これらホスホ
ニウムクロリドに対応するホスホニウムブロミドやホス
ホニウムヨージドも挙げることができる。
ド、ブチルトリフェニルホスホニウムクロリド等のアル
キル基とアリール基や、ベンジルメチルジフェニルホス
ホニウムクロリド等のアルキル基とアラルキル基とアリ
ール基を有するものが挙げられる。更に、これらホスホ
ニウムクロリドに対応するホスホニウムブロミドやホス
ホニウムヨージドも挙げることができる。
【００５５】前記カルバメートとアミン化合物の反応
は、例えば、反応器に所定量のカルバメート、アミン化
合物、塩基、４級アンモニウム塩又は４級ホスホニウム
塩を仕込み、必要に応じて反応溶媒を加えて行われる。
反応温度は原料化合物や反応溶媒により選択されるが、
０〜２００℃、更には１０〜１５０℃、特に２０〜１４
０℃の範囲であることが好ましい。反応圧力は特に制限
されず、加圧、常圧、減圧のいずれでもよい。なお、反
応は攪拌下で行うことが好ましいが、特に制限されるも
のではない。
は、例えば、反応器に所定量のカルバメート、アミン化
合物、塩基、４級アンモニウム塩又は４級ホスホニウム
塩を仕込み、必要に応じて反応溶媒を加えて行われる。
反応温度は原料化合物や反応溶媒により選択されるが、
０〜２００℃、更には１０〜１５０℃、特に２０〜１４
０℃の範囲であることが好ましい。反応圧力は特に制限
されず、加圧、常圧、減圧のいずれでもよい。なお、反
応は攪拌下で行うことが好ましいが、特に制限されるも
のではない。
【００５６】前記反応において、原料のカルバメートと
アミン化合物は、カルバメート１モルに対して、アミン
化合物が０．１〜２０モル、更には０．５〜５モル、特
に０．８〜２モルの割合で使用することが好ましい。ま
た、塩基は、カルバメート１モルに対して、０．０００
１〜０．５モル、更には０．００１〜０．１モルの割合
で使用することが好ましい。４級アンモニウム塩又は４
級ホスホニウム塩は、塩基に対して０．１〜５０倍モ
ル、更には０．２〜２０倍モルの割合で使用することが
好ましい。
アミン化合物は、カルバメート１モルに対して、アミン
化合物が０．１〜２０モル、更には０．５〜５モル、特
に０．８〜２モルの割合で使用することが好ましい。ま
た、塩基は、カルバメート１モルに対して、０．０００
１〜０．５モル、更には０．００１〜０．１モルの割合
で使用することが好ましい。４級アンモニウム塩又は４
級ホスホニウム塩は、塩基に対して０．１〜５０倍モ
ル、更には０．２〜２０倍モルの割合で使用することが
好ましい。
【００５７】前記反応においては反応溶媒を単独又は複
数で使用することもできる。特に、反応液全体が固化す
るような場合には、操作性をよくするために反応溶媒を
使用することが好ましい。反応溶媒は、原料のカルバメ
ートやアミン化合物、触媒、前記４級塩、及び原料に対
応して生成する目的の尿誘導体に対して不活性であるか
又は反応性の低いものであれば、特に制限されるもので
はない。反応溶媒の使用量は、カルバメート１重量部に
対して０〜５０重量部、更には０〜３０重量部、特に０
〜２０重量部であることが好ましい。
数で使用することもできる。特に、反応液全体が固化す
るような場合には、操作性をよくするために反応溶媒を
使用することが好ましい。反応溶媒は、原料のカルバメ
ートやアミン化合物、触媒、前記４級塩、及び原料に対
応して生成する目的の尿誘導体に対して不活性であるか
又は反応性の低いものであれば、特に制限されるもので
はない。反応溶媒の使用量は、カルバメート１重量部に
対して０〜５０重量部、更には０〜３０重量部、特に０
〜２０重量部であることが好ましい。
【００５８】前記反応溶媒としては、水、脂肪族アルコ
ール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、シ
クロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロオクタ
ノール、アリルアルコール、クロロエタノール、メトキ
シエタノール、シアノエタノール等の好ましくは炭素数
１〜１５の脂肪族アルコール；異性体を含む）、芳香脂
肪族アルコール（ベンジルアルコール、フェネチルアル
コール等の好ましくは炭素数７〜１６の芳香脂肪族アル
コール；異性体を含む）、芳香族アルコール（フェノー
ル、クレゾール等の好ましくは炭素数６〜１５の芳香族
アルコール；異性体を含む）が挙げられる。これらのア
ルコール（脂肪族アルコール、芳香脂肪族アルコール、
芳香族アルコール）においては、上記のように、そのア
ルキル部分が不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）を含
んでいてもよく、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、アルコキシ基、シアノ基、アルキル基などを置換
基として有していてもよい。
ール（メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、ペンタノール、ヘキサノール、オクタノール、シ
クロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロオクタ
ノール、アリルアルコール、クロロエタノール、メトキ
シエタノール、シアノエタノール等の好ましくは炭素数
１〜１５の脂肪族アルコール；異性体を含む）、芳香脂
肪族アルコール（ベンジルアルコール、フェネチルアル
コール等の好ましくは炭素数７〜１６の芳香脂肪族アル
コール；異性体を含む）、芳香族アルコール（フェノー
ル、クレゾール等の好ましくは炭素数６〜１５の芳香族
アルコール；異性体を含む）が挙げられる。これらのア
ルコール（脂肪族アルコール、芳香脂肪族アルコール、
芳香族アルコール）においては、上記のように、そのア
ルキル部分が不飽和結合（炭素−炭素二重結合等）を含
んでいてもよく、ハロゲン原子（Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、
Ｉ）、アルコキシ基、シアノ基、アルキル基などを置換
基として有していてもよい。
【００５９】更に、反応溶媒として、脂肪族炭化水素
（ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エー
テル、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタ
ン、シクロドデカン、リグロイン、デカリン、潤滑油
等）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロ
プロパン、１，４−ジクロロブタン等）、脂肪族エーテ
ル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−
ｎ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチ
ルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等）、脂肪族ケト
ン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等）、脂肪族ニトリル（アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アジポニトリル等）、脂肪族アミド（Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｎ−ブ
チルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、
メチルナフタレン等）、芳香族ハロゲン化炭化水素（ク
ロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロナフタレ
ン等）、芳香族エーテル（アニソール、ジフェニルエー
テル等）、芳香族ニトリル（ベンゾニトリル等）、ニト
ロ化合物（ニトロメタン、ニトロベンゼン等）や、Ｎ−
メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア、
ジメチルスルホキシドなども挙げられる。
（ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、石油エー
テル、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタ
ン、シクロドデカン、リグロイン、デカリン、潤滑油
等）、脂肪族ハロゲン化炭化水素（塩化メチレン、クロ
ロホルム、１，２−ジクロロエタン、１，２−ジクロロ
プロパン、１，４−ジクロロブタン等）、脂肪族エーテ
ル（ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ−
ｎ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレング
リコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチ
ルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル等）、脂肪族ケト
ン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン等）、脂肪族ニトリル（アセトニトリル、プロピ
オニトリル、アジポニトリル等）、脂肪族アミド（Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド等）、芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシ
レン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、ｎ−ブ
チルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、テトラリン、
メチルナフタレン等）、芳香族ハロゲン化炭化水素（ク
ロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロナフタレ
ン等）、芳香族エーテル（アニソール、ジフェニルエー
テル等）、芳香族ニトリル（ベンゾニトリル等）、ニト
ロ化合物（ニトロメタン、ニトロベンゼン等）や、Ｎ−
メチルピロリジノン、１，３−ジメチル−２−イミダゾ
リジノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルウレア、
ジメチルスルホキシドなども挙げられる。
【００６０】反応溶媒の中では前記アルコール（脂肪族
アルコール、芳香脂肪族アルコール、芳香族アルコー
ル）が好ましいが、中でも脂肪族アルコール（特に、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、２−メチル
−２−プロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノ
ール）や芳香脂肪族アルコール（特にベンジルアルコー
ル）が更に好ましい。
アルコール、芳香脂肪族アルコール、芳香族アルコー
ル）が好ましいが、中でも脂肪族アルコール（特に、メ
タノール、エタノール、２−プロパノール、２−メチル
−２−プロパノール、１−ブタノール、シクロヘキサノ
ール）や芳香脂肪族アルコール（特にベンジルアルコー
ル）が更に好ましい。
【００６１】反応終了後、生成した尿素誘導体は、必要
ならば適当な有機溶媒を加えた後に、反応液を希塩酸等
の酸性水溶液又は水で洗浄して、塩基、前記４級塩及び
残存するアミン化合物を除去し、次いで濃縮して溶媒や
副生したアリールヒドロキシ化合物（Ｒ2ＯＨに相当す
る）を除去することにより分離される。分離されたカル
バメートは、必要に応じて、再結晶、蒸留、昇華、カラ
ムクロマトグラフィーなどにより更に精製される。
ならば適当な有機溶媒を加えた後に、反応液を希塩酸等
の酸性水溶液又は水で洗浄して、塩基、前記４級塩及び
残存するアミン化合物を除去し、次いで濃縮して溶媒や
副生したアリールヒドロキシ化合物（Ｒ2ＯＨに相当す
る）を除去することにより分離される。分離されたカル
バメートは、必要に応じて、再結晶、蒸留、昇華、カラ
ムクロマトグラフィーなどにより更に精製される。
【００６２】生成した尿素誘導体が反応溶媒に難溶であ
って、かつ原料のカルバメートやアミン化合物、塩基、
前記４級塩、及び副生したアリールヒドロキシ化合物が
反応溶媒に易溶である場合には、尿素誘導体が析出した
反応液を濾過又は遠心分離するのみで高純度の尿素誘導
体を分離できる。このとき、反応溶媒を使用していない
か又は反応溶媒の使用量が少ないことで操作性が悪い場
合は、適当な溶媒を加えた後に同様の分離操作を行うこ
とが好ましい。また、塩基や前記４級塩が反応溶媒に難
溶の場合は、生成した尿素誘導体と共に濾過又は遠心分
離でこれらを分離した後に、分離した沈殿を、塩基や前
記４級塩を溶解することのできる溶媒で洗浄することに
より、高純度の尿素誘導体を分離できる。
って、かつ原料のカルバメートやアミン化合物、塩基、
前記４級塩、及び副生したアリールヒドロキシ化合物が
反応溶媒に易溶である場合には、尿素誘導体が析出した
反応液を濾過又は遠心分離するのみで高純度の尿素誘導
体を分離できる。このとき、反応溶媒を使用していない
か又は反応溶媒の使用量が少ないことで操作性が悪い場
合は、適当な溶媒を加えた後に同様の分離操作を行うこ
とが好ましい。また、塩基や前記４級塩が反応溶媒に難
溶の場合は、生成した尿素誘導体と共に濾過又は遠心分
離でこれらを分離した後に、分離した沈殿を、塩基や前
記４級塩を溶解することのできる溶媒で洗浄することに
より、高純度の尿素誘導体を分離できる。
【００６３】なお、前記のように反応液から尿素誘導体
を固体で分離した際に得られる母液は、必要に応じて副
生したアリールヒドロキシ化合物と分離の際に加えた溶
媒を蒸留で除いた後、原料のカルバメートやアミン化合
物及び必要ならば反応溶媒を加えることによって、繰り
返して反応に使用できる。
を固体で分離した際に得られる母液は、必要に応じて副
生したアリールヒドロキシ化合物と分離の際に加えた溶
媒を蒸留で除いた後、原料のカルバメートやアミン化合
物及び必要ならば反応溶媒を加えることによって、繰り
返して反応に使用できる。
【００６４】
【実施例】次に実施例及び比較例を挙げて本発明を具体
的に説明する。なお、分析は高速液体クロマトグラフィ
ーにより、尿素誘導体の収率は原料のカルバメートに対
して求めた。
的に説明する。なお、分析は高速液体クロマトグラフィ
ーにより、尿素誘導体の収率は原料のカルバメートに対
して求めた。
【００６５】実施例１ １０ｍｌ容ガラス製反応器に、フェニル Ｎ−ベンジル
カルバメート（５ｍｍｏｌ）、アニリン（６ｍｍｏ
ｌ）、炭酸水素ナトリウム（０．０１５ｍｍｏｌ）、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド（０．０１５ｍ
ｍｏｌ）、２−プロパノール（６ｍｌ）を仕込み、バス
温６０℃で１時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を
分析したところ、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメート
の転化率は５５．６％で、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−フェニ
ルウレアの収率は５５．２％（選択率９９．３％）であ
った。
カルバメート（５ｍｍｏｌ）、アニリン（６ｍｍｏ
ｌ）、炭酸水素ナトリウム（０．０１５ｍｍｏｌ）、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド（０．０１５ｍ
ｍｏｌ）、２−プロパノール（６ｍｌ）を仕込み、バス
温６０℃で１時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を
分析したところ、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメート
の転化率は５５．６％で、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−フェニ
ルウレアの収率は５５．２％（選択率９９．３％）であ
った。
【００６６】比較例１ テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドを加えなかっ
たほかは、実施例１と同様に反応と分析を行った。その
結果、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメートの転化率は
４１．４％で、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−フェニルウレアの
収率は４０．３％（選択率９７．３％）であった。
たほかは、実施例１と同様に反応と分析を行った。その
結果、フェニル Ｎ−ベンジルカルバメートの転化率は
４１．４％で、Ｎ−ベンジル−Ｎ’−フェニルウレアの
収率は４０．３％（選択率９７．３％）であった。
【００６７】実施例２、３ テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドの仕込み量を
表１記載のように変えたほかは、実施例１と同様に反応
と分析を行った。結果を表１に示す。
表１記載のように変えたほかは、実施例１と同様に反応
と分析を行った。結果を表１に示す。
【００６８】
【表１】
【００６９】実施例４〜９ テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドを表２記載の
４級アンモニウム塩又は４級ホスホニウム塩（０．０１
５ｍｍｏｌ）に変えたほかは、実施例１と同様に反応と
分析を行った。結果を表２に示す。
４級アンモニウム塩又は４級ホスホニウム塩（０．０１
５ｍｍｏｌ）に変えたほかは、実施例１と同様に反応と
分析を行った。結果を表２に示す。
【００７０】
【表２】
【００７１】実施例１０ １００ｍｌ容ガラス製反応器に、フェニル Ｎ−ベンジ
ルカルバメート（５０ｍｍｏｌ）、アニリン（６０ｍｍ
ｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（０．１５ｍｍｏｌ）、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド（０．１５ｍｍ
ｏｌ）、２−プロパノール（６０ｍｌ）を仕込み、バス
温８０℃で４時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を
濃縮して結晶を析出させ、次いで、濾過、ジイソプロピ
ルエーテル洗浄及び減圧乾燥することにより、純度９
９．５％のＮ−ベンジル−Ｎ’−フェニルウレアを収率
８５．８％で得た。
ルカルバメート（５０ｍｍｏｌ）、アニリン（６０ｍｍ
ｏｌ）、炭酸水素ナトリウム（０．１５ｍｍｏｌ）、テ
トラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリド（０．１５ｍｍ
ｏｌ）、２−プロパノール（６０ｍｌ）を仕込み、バス
温８０℃で４時間加熱攪拌した。反応終了後、反応液を
濃縮して結晶を析出させ、次いで、濾過、ジイソプロピ
ルエーテル洗浄及び減圧乾燥することにより、純度９
９．５％のＮ−ベンジル−Ｎ’−フェニルウレアを収率
８５．８％で得た。
【００７２】実施例１１〜１５ フェニル Ｎ−ベンジルカルバメートをフェニル Ｎ−
フェニルカルバメート（５ｍｍｏｌ）に代え、アニリン
を表３記載のアミン（６ｍｍｏｌ）に代えたほかは、実
施例１と同様に反応と分析を行った。結果を表３に示
す。
フェニルカルバメート（５ｍｍｏｌ）に代え、アニリン
を表３記載のアミン（６ｍｍｏｌ）に代えたほかは、実
施例１と同様に反応と分析を行った。結果を表３に示
す。
【００７３】比較例２〜６ テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムクロリドをそれぞれ加
えなかったほかは、実施例１１〜１５と同様に反応と分
析を行った。結果を表３に示す。
えなかったほかは、実施例１１〜１５と同様に反応と分
析を行った。結果を表３に示す。
【００７４】
【表３】
【００７５】
【発明の効果】本発明により、前述のような、従来の尿
素誘導体の製造法が抱える、原料のカルバメートやアミ
ンが制限される、副生物が多く生成する、触媒活性が低
いなどの種々の問題を有していない尿素誘導体の製造法
を提供することができる。即ち、本発明により、カルバ
メートとアミン化合物を温和な条件下で反応させて、好
ましくない副反応を進めることなく、目的とする尿素誘
導体を高反応速度及び高選択率で極めて容易に製造する
ことができる。
素誘導体の製造法が抱える、原料のカルバメートやアミ
ンが制限される、副生物が多く生成する、触媒活性が低
いなどの種々の問題を有していない尿素誘導体の製造法
を提供することができる。即ち、本発明により、カルバ
メートとアミン化合物を温和な条件下で反応させて、好
ましくない副反応を進めることなく、目的とする尿素誘
導体を高反応速度及び高選択率で極めて容易に製造する
ことができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｃ 275/28 Ｃ０７Ｃ 275/28 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC57 BA02 BA06 BA29 BA30 BA32 BA35 BA51 BA53 BA69 BB14 BB31 4H039 CA71 CD10 CD40
Claims (2)
- 【請求項１】 化学構造式（Ｉ）で表されるカルバメー
トを、 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子、アルキル基、アラルキル基、
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ2はアリール基を
表す。） 塩基存在下、４級アンモニウム塩又は４級ホスホニウム
塩を共存させて、化学構造式（II）で表されるアミン化
合物と反応させて、 【化２】 （式中、Ｒ3はアルキル基、アラルキル基、アリール
基、複素環基、アシル基、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキルオキシ基、チオアルコキシ基、スルホ
ニル基、水酸基、又はジ置換アミノ基を表す。Ｒ4は、
Ｒ3がアルキル基の場合、アルキル基、アラルキル基、
アリール基、又は複素環基を表し、Ｒ3がアルキル基以
外の前記置換基である場合、水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、又は複素環基を表す。） 化学構造式（III）で表される尿素誘導体を生成させる
ことを特徴とする尿素誘導体の製造法。 【化３】 （式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4は前記と同様である。） - 【請求項２】 反応溶媒としてアルコールを使用する、
請求項１記載の尿素誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12022799A JP3690180B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 尿素誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12022799A JP3690180B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 尿素誘導体の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000302744A true JP2000302744A (ja) | 2000-10-31 |
| JP3690180B2 JP3690180B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=14781023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12022799A Expired - Lifetime JP3690180B2 (ja) | 1999-04-27 | 1999-04-27 | 尿素誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3690180B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275148A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 非対称ウレア化合物及びその製造方法 |
| JP2005220129A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | メチルウレア化合物の製造方法 |
| JP2012136481A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ウレイド基を有する化合物の製造方法 |
-
1999
- 1999-04-27 JP JP12022799A patent/JP3690180B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002275148A (ja) * | 2001-03-16 | 2002-09-25 | Fuji Photo Film Co Ltd | 非対称ウレア化合物及びその製造方法 |
| JP2005220129A (ja) * | 2004-01-07 | 2005-08-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | メチルウレア化合物の製造方法 |
| JP4731915B2 (ja) * | 2004-01-07 | 2011-07-27 | 大日本住友製薬株式会社 | メチルウレア化合物の製造方法 |
| JP2012136481A (ja) * | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Asahi Kasei Chemicals Corp | ウレイド基を有する化合物の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3690180B2 (ja) | 2005-08-31 |
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