JP2000299278A5 - - Google Patents
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Description
【特許請求の範囲】
【請求項１】 原板に描画されている回路パターンを、可動ステージ上に搭載された感光基板上に投影する投影露光方法において、投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することを特徴とする投影露光方法。
【請求項２】 さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項３】 前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項４】 第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより、前記重ね合せマークを形成することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項５】 原板に描画されている回路パターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を搭載しかつ移動するステージと、前記ステージの位置制御を行うステージ位置制御系と、前記投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを求める手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項６】 前記求める手段は、さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】 前記求める手段は、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項８】 前記重ね合せマークは、第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより形成されたものであることを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項９】 請求項１乃至４のいずれかに記載の投影露光方法を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１０】 請求項５乃至８のいずれかに記載の投影露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１】 原板に描画されている回路パターンを、可動ステージ上に搭載された感光基板上に投影する投影露光方法において、投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することを特徴とする投影露光方法。
【請求項２】 さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項３】 前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項４】 第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより、前記重ね合せマークを形成することを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項５】 原板に描画されている回路パターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を搭載しかつ移動するステージと、前記ステージの位置制御を行うステージ位置制御系と、前記投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを求める手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
【請求項６】 前記求める手段は、さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項７】 前記求める手段は、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項８】 前記重ね合せマークは、第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより形成されたものであることを特徴とする請求項５に記載の投影露光装置。
【請求項９】 請求項１乃至４のいずれかに記載の投影露光方法を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
【請求項１０】 請求項５乃至８のいずれかに記載の投影露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法。
本発明の目的は、より正確にステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することができる投影露光方法、投影露光装置、及びそれらを用いたデバイスの製造方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
第１の発明は、原板に描画されている回路パターンを、可動ステージ上に搭載された感光基板上に投影する投影露光方法において、投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することを特徴とする投影露光方法である。
【課題を解決するための手段】
第１の発明は、原板に描画されている回路パターンを、可動ステージ上に搭載された感光基板上に投影する投影露光方法において、投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することを特徴とする投影露光方法である。
第２の発明は、さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする第１の発明の投影露光方法である。
第３の発明は、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする第１の発明の投影露光方法である。
第４の発明は、第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより、前記重ね合せマークを形成することを特徴とする第１の発明の投影露光方法である。
第５の発明は、原板に描画されている回路パターンを感光基板上に投影する投影光学系と、前記感光基板を搭載しかつ移動するステージと、前記ステージの位置制御を行うステージ位置制御系と、前記投影光学系によって、前記感光基板上に複数行かつ複数列配列され、かつ隣接ショット間で一部領域を重畳して転写された各ショット内で、計測マークの重なりにより形成された重ね合せマークの位置差を計測し、該計測されたデータを用いて、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを算出し、該位置ずれ及び該回転ずれに基づいて、前記ステージの移動軸の直線性及び回転ずれを求める手段と、を有することを特徴とする投影露光装置である。
第６の発明は、前記求める手段は、さらに、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれとともに、前記原板の投影像の歪み及び前記ステージの計測スケールの誤差による重ね合せマーク毎の位置差を算出することを特徴とする第５の発明の投影露光装置である。
第７の発明は、前記求める手段は、前記各ショットの位置ずれ及び回転ずれを最小二乗法を用いて算出することを特徴とする第５の発明の投影露光装置である。
第８の発明は、前記重ね合せマークは、第１及び第２の計測マークを有する原板を用いて、前記感光基板上の複数のショット位置に前記第１及び第２の計測マークを転写し、さらに前記第１の計測マークに重なるように前記第２の計測マークを転写することにより形成されたものであることを特徴とする第５の発明の投影露光装置である。
第９の発明は、第１の発明乃至第４の発明のいずれかの投影露光方法を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法である。
第１０の発明は、第５の発明乃至第８の発明のいずれかの投影露光装置を用いてデバイスを製造することを特徴とするデバイスの製造方法である。
【００４１】
【発明の効果】
本発明の効果は、より正確にステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することができる投影露光方法、投影露光装置、及びそれらを用いたデバイスの製造方法を提供できることである。
【発明の効果】
本発明の効果は、より正確にステージの移動軸の直線性及び回転ずれを調整することができる投影露光方法、投影露光装置、及びそれらを用いたデバイスの製造方法を提供できることである。
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Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10929299A JP4250252B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
Publications (3)
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|---|---|
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| JP10929299A Expired - Fee Related JP4250252B2 (ja) | 1999-04-16 | 1999-04-16 | 投影露光装置、投影露光方法、及びそれを用いたデバイスの製造方法 |
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