JP2000296463A5 - - Google Patents

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【請求項3】 前記キャリア旋回運動機構と共に、前記キャリアを前記下定盤の中心軸を中心に回転させるキャリア自転機構を備え、
前記キャリアの透孔が、前記ワーク給排手段によってワークが供給もしくは排出される位置に、前記キャリア停止手段と前記キャリア自転機構とによって順次停止されることを特徴とする請求項1又は2記載の両面研磨装置システム。
また、前記キャリア旋回運動機構と共に、前記キャリアを前記下定盤の中心軸を中心に回転させるキャリア自転機構を備え、前記キャリアの透孔が、前記ワーク給排手段によってワークが供給もしくは排出される位置に、前記キャリア停止手段と前記キャリア自転機構とによって順次停止されることを特徴とする
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