JP2000296318A - ポリスルホン系血液処理モジュール - Google Patents
ポリスルホン系血液処理モジュールInfo
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- JP2000296318A JP2000296318A JP11103974A JP10397499A JP2000296318A JP 2000296318 A JP2000296318 A JP 2000296318A JP 11103974 A JP11103974 A JP 11103974A JP 10397499 A JP10397499 A JP 10397499A JP 2000296318 A JP2000296318 A JP 2000296318A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】放射線滅菌後の長期保管において、抗血栓性の
低下が抑制されたポリスルホン系血液処理モジュールを
提供する。 【解決手段】ポリスルホン系高分子、およびポリビニル
ピロリドンからなる分離膜を組み込んで放射線滅菌され
た血液処理モジュールにおいて、該分離膜中のラジカル
スピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下であ
ることを特徴とする、ポリスルホン系血液処理モジュー
ル。
低下が抑制されたポリスルホン系血液処理モジュールを
提供する。 【解決手段】ポリスルホン系高分子、およびポリビニル
ピロリドンからなる分離膜を組み込んで放射線滅菌され
た血液処理モジュールにおいて、該分離膜中のラジカル
スピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下であ
ることを特徴とする、ポリスルホン系血液処理モジュー
ル。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、体外循環による血
中老廃物の除去を目的とした血液処理モジュールに関す
るもので、血液浄化、特に腎機能を代用する血液透析、
血液濾過、および血液濾過透析といった治療分野で使用
されるものである。
中老廃物の除去を目的とした血液処理モジュールに関す
るもので、血液浄化、特に腎機能を代用する血液透析、
血液濾過、および血液濾過透析といった治療分野で使用
されるものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、膜分離技術が数多く実用化されて
おり、液体や気体の混合物から目的物を分離したり、不
純物を除去するために様々な分離膜が利用されている。
分離膜の素材としては一般に有機系高分子が汎用されて
おり、例えば天然高分子としてセルロース、合成高分子
としてはポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリオレフィン、ポリシロキサン、ポリスルホン、
ポリメタクリレート等が挙げられる。中でもポリスルホ
ン系高分子は工業用分離膜として幅広く利用されている
が、その理由は放射線、加熱、および酸・アルカリ等の
化学薬品に対して優れた耐性を示すためである。また、
生体適合性や安全性にも優れることから、最近では医療
用途においても分離膜素材として注目され、需要が増加
している。
おり、液体や気体の混合物から目的物を分離したり、不
純物を除去するために様々な分離膜が利用されている。
分離膜の素材としては一般に有機系高分子が汎用されて
おり、例えば天然高分子としてセルロース、合成高分子
としてはポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリイミ
ド、ポリオレフィン、ポリシロキサン、ポリスルホン、
ポリメタクリレート等が挙げられる。中でもポリスルホ
ン系高分子は工業用分離膜として幅広く利用されている
が、その理由は放射線、加熱、および酸・アルカリ等の
化学薬品に対して優れた耐性を示すためである。また、
生体適合性や安全性にも優れることから、最近では医療
用途においても分離膜素材として注目され、需要が増加
している。
【０００３】ところが、ポリスルホン系高分子は親水基
を持たない疎水性樹脂であり、医療用具、とりわけ血液
処理用の分離膜として使用する場合には、透水不良や血
液凝固系の活性化を引き起こすことがあった。そこで、
これらを改善するために、通常は親水化剤によって膜表
面に親水性が付与されている。親水化剤としては、グリ
セリンのような低分子化合物からポリエチレングリコー
ルやポリビニルピロリドンのような親水性高分子まで幅
広く使用されており、前者では膜表面に塗布、後者では
製膜原液に若干量を添加することで、親水性が改善され
た分離膜が得られている。
を持たない疎水性樹脂であり、医療用具、とりわけ血液
処理用の分離膜として使用する場合には、透水不良や血
液凝固系の活性化を引き起こすことがあった。そこで、
これらを改善するために、通常は親水化剤によって膜表
面に親水性が付与されている。親水化剤としては、グリ
セリンのような低分子化合物からポリエチレングリコー
ルやポリビニルピロリドンのような親水性高分子まで幅
広く使用されており、前者では膜表面に塗布、後者では
製膜原液に若干量を添加することで、親水性が改善され
た分離膜が得られている。
【０００４】これらの分離膜を医療用具として使用する
ためには、ハウジングに組み込んでモジュール化した
後、滅菌処理が必要となる。医療用具の滅菌方法は、従
来からガス滅菌や高圧蒸気滅菌が知られているが、物質
浸透性、および生産性に優れるという理由から、最近で
は放射線滅菌が汎用されている。しかしながら、放射線
滅菌により、モジュールの構成素材の中で化学的に不安
定な部分に損傷が生じることが知られている。ハウジン
グは放射線耐性の素材を選択すればよく、また、分離膜
中のポリスルホン系高分子も放射線耐性が大きいため、
このような問題は小さいが、親水性高分子はその化学構
造ゆえに一般に放射線耐性が低く、加水分解や主鎖切
断、架橋などの変成を起こしやすい。通常、血液処理モ
ジュールは、製造後数ヶ月から２〜３年の間に使用され
るが、その間は病院・施設の保管場所に置かれている。
この様な長期保管中に変成が徐々に進行し、その結果、
使用時までに抗血栓性が低下するおそれがあった。
ためには、ハウジングに組み込んでモジュール化した
後、滅菌処理が必要となる。医療用具の滅菌方法は、従
来からガス滅菌や高圧蒸気滅菌が知られているが、物質
浸透性、および生産性に優れるという理由から、最近で
は放射線滅菌が汎用されている。しかしながら、放射線
滅菌により、モジュールの構成素材の中で化学的に不安
定な部分に損傷が生じることが知られている。ハウジン
グは放射線耐性の素材を選択すればよく、また、分離膜
中のポリスルホン系高分子も放射線耐性が大きいため、
このような問題は小さいが、親水性高分子はその化学構
造ゆえに一般に放射線耐性が低く、加水分解や主鎖切
断、架橋などの変成を起こしやすい。通常、血液処理モ
ジュールは、製造後数ヶ月から２〜３年の間に使用され
るが、その間は病院・施設の保管場所に置かれている。
この様な長期保管中に変成が徐々に進行し、その結果、
使用時までに抗血栓性が低下するおそれがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は上記
の課題を解決するため、放射線滅菌後に長期保管しても
抗血栓性の低下が起こらない、ポリスルホン系血液処理
モジュールを提供することを目的とする。
の課題を解決するため、放射線滅菌後に長期保管しても
抗血栓性の低下が起こらない、ポリスルホン系血液処理
モジュールを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは前記目的を
達成するために鋭意検討した結果、放射線滅菌後に膜中
に残留するラジカルスピン含有量が一定値以下であれ
ば、長期保管における抗血栓性の低下を抑制できること
を見出した。すなわち、本発明のポリスルホン系血液処
理モジュールは、ポリスルホン系高分子、およびポリビ
ニルピロリドンからなる分離膜を組み込んで放射線滅菌
された血液処理モジュールにおいて、該分離膜中のラジ
カルスピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下
であることを特徴とする。
達成するために鋭意検討した結果、放射線滅菌後に膜中
に残留するラジカルスピン含有量が一定値以下であれ
ば、長期保管における抗血栓性の低下を抑制できること
を見出した。すなわち、本発明のポリスルホン系血液処
理モジュールは、ポリスルホン系高分子、およびポリビ
ニルピロリドンからなる分離膜を組み込んで放射線滅菌
された血液処理モジュールにおいて、該分離膜中のラジ
カルスピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下
であることを特徴とする。
【０００７】本発明の血液処理用モジュールに組み込ま
れた分離膜において、第一の構成成分であるポリスルホ
ン系高分子とは、下記の化学構造式（１）、もしくは
（２）のユニットの繰り返し構造を有する芳香族ポリス
ルホン系高分子である。これには、芳香環上に官能基や
アルキル基が結合した、いわゆるポリスルホン誘導体も
範疇に含まれる。なお、式中のＡｒはパラ二置換のフェ
ニル基を示し、重合度や分子量については特に限定しな
い。 −Ｏ−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ３ ）３ − Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−ＳＯ３ −Ａｒ− （１） −Ｏ−Ａｒ−ＳＯ３ −Ａｒ− （２）
れた分離膜において、第一の構成成分であるポリスルホ
ン系高分子とは、下記の化学構造式（１）、もしくは
（２）のユニットの繰り返し構造を有する芳香族ポリス
ルホン系高分子である。これには、芳香環上に官能基や
アルキル基が結合した、いわゆるポリスルホン誘導体も
範疇に含まれる。なお、式中のＡｒはパラ二置換のフェ
ニル基を示し、重合度や分子量については特に限定しな
い。 −Ｏ−Ａｒ−Ｃ（ＣＨ３ ）３ − Ａｒ−Ｏ−Ａｒ−ＳＯ３ −Ａｒ− （１） −Ｏ−Ａｒ−ＳＯ３ −Ａｒ− （２）
【０００８】第二の構成成分はポリビニルピロリドン
（以下、ＰＶＰという）であるが、ポリスルホン系高分
子との相溶性に優れ、しかも血液凝固系の活性化が比較
的少ないとの理由から選択される。ＰＶＰは、様々なグ
レードが市販されているので、それらを利用すればよい
が、分離膜表面に残存して適当な親水性を付与させるた
めには、重量平均分子量が少なくとも１０万以上のもの
を用いることが好ましい。また、ポリスルホン系高分子
との親和性や膜表面の親水性を制御する目的から、酢酸
ビニル等、エステル系ビニルモノマーとの共重合物を含
んでもよい。
（以下、ＰＶＰという）であるが、ポリスルホン系高分
子との相溶性に優れ、しかも血液凝固系の活性化が比較
的少ないとの理由から選択される。ＰＶＰは、様々なグ
レードが市販されているので、それらを利用すればよい
が、分離膜表面に残存して適当な親水性を付与させるた
めには、重量平均分子量が少なくとも１０万以上のもの
を用いることが好ましい。また、ポリスルホン系高分子
との親和性や膜表面の親水性を制御する目的から、酢酸
ビニル等、エステル系ビニルモノマーとの共重合物を含
んでもよい。
【０００９】該分離膜中のＰＶＰの含有率は、本発明を
達成する重要なパラメーターの一つである。すなわち、
ＰＶＰの含有率が低すぎる場合、親水化効果が不十分で
抗血栓性が発揮できず、反対に高すぎる場合は、含水時
にＰＶＰの膨潤で細孔が狭窄し、透過性能が低下する可
能性がある。また、放射線滅菌後の分離膜中のラジカル
スピン含有量はＰＶＰ含有率にも依存するため、ＰＶＰ
含有率は不必要に上げすぎないほうが好ましい。従っ
て、両者を満足する好ましいＰＶＰ含有率の範囲は３．
０〜９．０重量％である。より好ましい範囲は、５．０
〜７．５重量％である。
達成する重要なパラメーターの一つである。すなわち、
ＰＶＰの含有率が低すぎる場合、親水化効果が不十分で
抗血栓性が発揮できず、反対に高すぎる場合は、含水時
にＰＶＰの膨潤で細孔が狭窄し、透過性能が低下する可
能性がある。また、放射線滅菌後の分離膜中のラジカル
スピン含有量はＰＶＰ含有率にも依存するため、ＰＶＰ
含有率は不必要に上げすぎないほうが好ましい。従っ
て、両者を満足する好ましいＰＶＰ含有率の範囲は３．
０〜９．０重量％である。より好ましい範囲は、５．０
〜７．５重量％である。
【００１０】本発明でいうラジカルスピン含有量とは、
分離膜をモジュールに組み込んで放射線滅菌した後、室
温保管９０±３日目の分離膜中のラジカルスピン量を電
子スピン共鳴装置で測定したもので、標準品として、
１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのラジカ
ルスピン量から、膜１ｇあたりのラジカルスピン量に換
算した値である。一般に、放射線滅菌後、生成した膜中
のラジカル種のなかで極めて不安定なものは直ちに消失
し、反応性がやや劣るものが長期間残留する。本発明者
らは、これらが９０日目で一定値以下であれば、その後
２年保管相当の加速試験を実施しても、抗血栓性の低下
が抑制されることを見出した。本発明の血液処理モジュ
ールにおいては、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量
が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下であり、その後の
長期保管を経ても、抗血栓性の低下は抑えられている。
より好ましくは１０．０×１０１５スピン／ｇ以下であ
り、３．０×１０１５スピン／ｇ以下とすることが最も
好ましい。
分離膜をモジュールに組み込んで放射線滅菌した後、室
温保管９０±３日目の分離膜中のラジカルスピン量を電
子スピン共鳴装置で測定したもので、標準品として、
１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのラジカ
ルスピン量から、膜１ｇあたりのラジカルスピン量に換
算した値である。一般に、放射線滅菌後、生成した膜中
のラジカル種のなかで極めて不安定なものは直ちに消失
し、反応性がやや劣るものが長期間残留する。本発明者
らは、これらが９０日目で一定値以下であれば、その後
２年保管相当の加速試験を実施しても、抗血栓性の低下
が抑制されることを見出した。本発明の血液処理モジュ
ールにおいては、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量
が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下であり、その後の
長期保管を経ても、抗血栓性の低下は抑えられている。
より好ましくは１０．０×１０１５スピン／ｇ以下であ
り、３．０×１０１５スピン／ｇ以下とすることが最も
好ましい。
【００１１】以下、本発明の血液処理モジュールの実施
態様について、詳細に説明する。製膜原液は、ポリスル
ホン系高分子とＰＶＰを溶剤に溶解し、減圧脱気したも
のを用いる。溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられるが、
これらは単独、あるいは任意の割合で混合して使用して
も構わない。さらに、凝固速度を制御する目的から少量
の水や塩類を含んでいてもよい。中空状に製膜するに
は、製造上、取り扱いやすい粘度にする必要があり、ま
た、膜のＰＶＰ含有率を所望の範囲に制御するため、製
膜原液の好ましい組成は、ポリスルホン系高分子が１６
〜１８重量％、ＰＶＰが４〜１０重量％であり、残りが
溶剤である。
態様について、詳細に説明する。製膜原液は、ポリスル
ホン系高分子とＰＶＰを溶剤に溶解し、減圧脱気したも
のを用いる。溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２
−ピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられるが、
これらは単独、あるいは任意の割合で混合して使用して
も構わない。さらに、凝固速度を制御する目的から少量
の水や塩類を含んでいてもよい。中空状に製膜するに
は、製造上、取り扱いやすい粘度にする必要があり、ま
た、膜のＰＶＰ含有率を所望の範囲に制御するため、製
膜原液の好ましい組成は、ポリスルホン系高分子が１６
〜１８重量％、ＰＶＰが４〜１０重量％であり、残りが
溶剤である。
【００１２】中空糸の形成は公知の方法に従えばよい
が、本発明でいう血液処理モジュールに好適な透過性能
を得るには、中空剤の組成を制御することが重要であ
る。分離膜の透過性能を安定に制御するには、中空剤に
水と溶剤との混合液を用いる方法が好ましく、溶剤は
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスル
ホキシドから選択される。中空剤の好ましい組成は溶剤
が５〜４０重量％であり、残りが水である。溶剤の割合
がこれ以上高くなると、凝固までに中空形状を保持でき
ずに糸切れ等の製造トラブルの原因となる。反対に低く
なると膜として十分な透過性能が達成できない。より好
ましい範囲は１０〜２５重量％である。
が、本発明でいう血液処理モジュールに好適な透過性能
を得るには、中空剤の組成を制御することが重要であ
る。分離膜の透過性能を安定に制御するには、中空剤に
水と溶剤との混合液を用いる方法が好ましく、溶剤は
Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスル
ホキシドから選択される。中空剤の好ましい組成は溶剤
が５〜４０重量％であり、残りが水である。溶剤の割合
がこれ以上高くなると、凝固までに中空形状を保持でき
ずに糸切れ等の製造トラブルの原因となる。反対に低く
なると膜として十分な透過性能が達成できない。より好
ましい範囲は１０〜２５重量％である。
【００１３】これらの製膜原液と中空剤とを５０〜８０
℃に保温した二重紡糸口金から同時に吐出させ、空中走
行を経て温水凝固浴に導入後、巻き上げると中空糸状の
分離膜が得られる。続いて、後述する水性媒体による抽
出工程の後、水洗し、さらに孔径保持剤として、グリセ
リンまたはポリエチレングリコール水溶液を付着させて
７０〜８０℃で乾燥処理を行えば、乾燥分離膜が得られ
る。
℃に保温した二重紡糸口金から同時に吐出させ、空中走
行を経て温水凝固浴に導入後、巻き上げると中空糸状の
分離膜が得られる。続いて、後述する水性媒体による抽
出工程の後、水洗し、さらに孔径保持剤として、グリセ
リンまたはポリエチレングリコール水溶液を付着させて
７０〜８０℃で乾燥処理を行えば、乾燥分離膜が得られ
る。
【００１４】上記の分離膜は、さらに処理工程を経た
後、ハウジングに組み込まれて血液処理モジュールとな
り、放射線滅菌を受ける。その際、分離膜に生成したラ
ジカル種の一部が残留し、長期保管中に徐々にＰＶＰの
変成を起こす結果、使用時までに抗血栓性が低下する可
能性があった。ところが、本発明者らは、分離膜表面に
存在している吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に除去しておく
と、ラジカルスピン含有量が減少し、長期保管中の抗血
栓性の低下が抑制されることを見出した。この理由は詳
細に解明されてはいないが、ラジカル種の生成やＰＶＰ
の変成が、おもに表面に出た部分で生じていることが原
因ではないかと推定される。すなわち、ＰＶＰ分子に
は、一部がポリスルホン系高分子中に強固に埋まり、残
りの部分が表面に出たものと、全体が表面に吸着してい
るだけのものがある。後者は、血液中では脱着してしま
う本来不要なものであるが、分子量が１０万〜数十万と
大きく、多点吸着しているために短時間の水洗程度では
除去されず、膜表面に残ってラジカル生成源になると思
われる。従って、この吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に十分
に除去しておけば、滅菌後のラジカルスピン含有量が軽
減し、膜表面の変成が抑制されるためだと考えられる。
後、ハウジングに組み込まれて血液処理モジュールとな
り、放射線滅菌を受ける。その際、分離膜に生成したラ
ジカル種の一部が残留し、長期保管中に徐々にＰＶＰの
変成を起こす結果、使用時までに抗血栓性が低下する可
能性があった。ところが、本発明者らは、分離膜表面に
存在している吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に除去しておく
と、ラジカルスピン含有量が減少し、長期保管中の抗血
栓性の低下が抑制されることを見出した。この理由は詳
細に解明されてはいないが、ラジカル種の生成やＰＶＰ
の変成が、おもに表面に出た部分で生じていることが原
因ではないかと推定される。すなわち、ＰＶＰ分子に
は、一部がポリスルホン系高分子中に強固に埋まり、残
りの部分が表面に出たものと、全体が表面に吸着してい
るだけのものがある。後者は、血液中では脱着してしま
う本来不要なものであるが、分子量が１０万〜数十万と
大きく、多点吸着しているために短時間の水洗程度では
除去されず、膜表面に残ってラジカル生成源になると思
われる。従って、この吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に十分
に除去しておけば、滅菌後のラジカルスピン含有量が軽
減し、膜表面の変成が抑制されるためだと考えられる。
【００１５】膜表面に残っている吸着ＰＶＰを効率よく
除去するにあたっては、下記に示す水性媒体を使用して
分離膜を抽出すればよい。ここでいう水性媒体とは、ポ
リスルホン系高分子を溶解せずにＰＶＰだけを溶解でき
る組成で、しかも、ポリスルホン系高分子表面にある吸
着ＰＶＰに対して脱着作用を有する媒体である。具体的
には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、グリセロール等の水混和性アルコールを各々、３
０〜９５容量％含有する水溶液、および、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン等の水混和性非プロトン性有機溶媒を
各々、３０〜６０容量％含有する水溶液が挙げられる。
これらの中から任意に選択すればよい。水性媒体による
抽出は、温度が高いほど吸着ＰＶＰの除去効果が高い
が、製造上の取り扱い性の点から、３５〜９０℃で使用
することが望ましい。この温度範囲で１５〜１２０分間
抽出すれば、吸着ＰＶＰを十分に除去することができ
る。温度が低すぎると、これ以上に時間をかける必要が
あり、生産性が低下してしまう。抽出方法は特に問わな
いが、製膜後の巻き束を水性媒体に完全浸漬させるか、
あるいはシャワーリングすればよい。もちろん、分離膜
をハウジングに組み込んだ後にモジュール内部に通液し
てもよく、抽出効率が高くなるため好ましい。
除去するにあたっては、下記に示す水性媒体を使用して
分離膜を抽出すればよい。ここでいう水性媒体とは、ポ
リスルホン系高分子を溶解せずにＰＶＰだけを溶解でき
る組成で、しかも、ポリスルホン系高分子表面にある吸
着ＰＶＰに対して脱着作用を有する媒体である。具体的
には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノ
ール、グリセロール等の水混和性アルコールを各々、３
０〜９５容量％含有する水溶液、および、テトラヒドロ
フラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル
−２−ピロリドン等の水混和性非プロトン性有機溶媒を
各々、３０〜６０容量％含有する水溶液が挙げられる。
これらの中から任意に選択すればよい。水性媒体による
抽出は、温度が高いほど吸着ＰＶＰの除去効果が高い
が、製造上の取り扱い性の点から、３５〜９０℃で使用
することが望ましい。この温度範囲で１５〜１２０分間
抽出すれば、吸着ＰＶＰを十分に除去することができ
る。温度が低すぎると、これ以上に時間をかける必要が
あり、生産性が低下してしまう。抽出方法は特に問わな
いが、製膜後の巻き束を水性媒体に完全浸漬させるか、
あるいはシャワーリングすればよい。もちろん、分離膜
をハウジングに組み込んだ後にモジュール内部に通液し
てもよく、抽出効率が高くなるため好ましい。
【００１６】膜表面の吸着ＰＶＰが除去されたことの評
価は以下のように行う。すなわち、後述の方法で膜面積
１．５ｍ２のモジュールを作成し、放射線滅菌後に、３
７℃の４０容量％エタノール水溶液２００ｃｃを中空糸
内側に２時間循環し、溶出するＰＶＰ濃度を測定する。
循環液中のＰＶＰは、ゲル濾過カラムを取り付け、５０
ｍＭの食塩水をキャリアーとした高速液体クロマトグラ
フ装置において、２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターを
行ったときに数千〜数十万の分子量領域に見られるピー
ク全てについて、ＰＶＰ標準品の検量線から濃度を求め
ればよい。この濃度が１０ｐｐｍ以下であれば、クロマ
トグラム上で分子量が１０万以上の高分子量ＰＶＰピー
クは認められず、膜表面の吸着ＰＶＰは実質的に除去さ
れていると判断する。
価は以下のように行う。すなわち、後述の方法で膜面積
１．５ｍ２のモジュールを作成し、放射線滅菌後に、３
７℃の４０容量％エタノール水溶液２００ｃｃを中空糸
内側に２時間循環し、溶出するＰＶＰ濃度を測定する。
循環液中のＰＶＰは、ゲル濾過カラムを取り付け、５０
ｍＭの食塩水をキャリアーとした高速液体クロマトグラ
フ装置において、２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターを
行ったときに数千〜数十万の分子量領域に見られるピー
ク全てについて、ＰＶＰ標準品の検量線から濃度を求め
ればよい。この濃度が１０ｐｐｍ以下であれば、クロマ
トグラム上で分子量が１０万以上の高分子量ＰＶＰピー
クは認められず、膜表面の吸着ＰＶＰは実質的に除去さ
れていると判断する。
【００１７】続いて、分離膜に残った水性媒体を水で洗
浄し、さらに孔径保持剤としてグリセリン水溶液を付着
させた後、７０〜８０℃で１０時間以上の乾燥処理を行
なえば、乾燥した分離膜が得られる。
浄し、さらに孔径保持剤としてグリセリン水溶液を付着
させた後、７０〜８０℃で１０時間以上の乾燥処理を行
なえば、乾燥した分離膜が得られる。
【００１８】分離膜の形状は中空状であるが、血液処理
用途としての強度や実用性とを考慮すると、内径が８０
〜４００μｍの中空部と、厚みが３５〜８５μｍの膜厚
部からなることが好ましい。内径がこれ以下に小さいと
血流抵抗が高まり、必要以上に大きくなっても血中の物
質移動効率が悪くなって、治療効果の低下につながる。
また、膜厚が薄すぎると強度が保てず、取り扱い時の潰
れの原因となり、厚すぎると膜中の物質移動抵抗が大き
くなり、透過性能が低下するので好ましくない。
用途としての強度や実用性とを考慮すると、内径が８０
〜４００μｍの中空部と、厚みが３５〜８５μｍの膜厚
部からなることが好ましい。内径がこれ以下に小さいと
血流抵抗が高まり、必要以上に大きくなっても血中の物
質移動効率が悪くなって、治療効果の低下につながる。
また、膜厚が薄すぎると強度が保てず、取り扱い時の潰
れの原因となり、厚すぎると膜中の物質移動抵抗が大き
くなり、透過性能が低下するので好ましくない。
【００１９】モジュール化の方法も特に限定せず、公知
の手法を用いればよい。すなわち、分離膜をハウジング
に挿入した後、両端をポッティングして所定の膜面積を
有するモジュールに成形する。ハウジングの素材は、ポ
リスチレンのブロック共重合体やポリカーボネート等、
透明度が高くしかも放射線照射に耐える樹脂が用いられ
る。形状は、透析液や濾液を通すためのノズルが両端付
近にそれぞれ付いていればよい。該モジュール内の分離
膜の充填密度は、透析液の偏流れによる透析効率の低
下、あるいはハウジングへの挿入時の膜の破損が起こら
ない範囲であればよく、５５〜７０％が好ましい。ま
た、膜面積は分離膜の血液接触面を均一な平面と仮定し
た時の総表面積であるが、０．０１〜２．５ｍ２の範囲
が好ましい。これ以上に小さいと、血液処理モジュール
としての治療効果が発揮されず、反対に大きすぎると体
外に持ち出される血液量が増えるため、好ましくない。
の手法を用いればよい。すなわち、分離膜をハウジング
に挿入した後、両端をポッティングして所定の膜面積を
有するモジュールに成形する。ハウジングの素材は、ポ
リスチレンのブロック共重合体やポリカーボネート等、
透明度が高くしかも放射線照射に耐える樹脂が用いられ
る。形状は、透析液や濾液を通すためのノズルが両端付
近にそれぞれ付いていればよい。該モジュール内の分離
膜の充填密度は、透析液の偏流れによる透析効率の低
下、あるいはハウジングへの挿入時の膜の破損が起こら
ない範囲であればよく、５５〜７０％が好ましい。ま
た、膜面積は分離膜の血液接触面を均一な平面と仮定し
た時の総表面積であるが、０．０１〜２．５ｍ２の範囲
が好ましい。これ以上に小さいと、血液処理モジュール
としての治療効果が発揮されず、反対に大きすぎると体
外に持ち出される血液量が増えるため、好ましくない。
【００２０】次に、ハウジングの両端にポッティング剤
を注入して硬化後、両端面を切断して中空糸を開口させ
る。ポッティング剤としては、ポリウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、およびシリコン樹脂が汎用されており、これ
らの何れを使用しても構わない。このハウジングに、血
液の導入・排出用のノズルがついたヘッダーをゴムパッ
キンと共に取り付け、締結するか溶着して外れないよう
に固定する。上記の血液処理モジュールは、分離膜とハ
ウジング以外の空間が空気や不活性ガスで満たされた、
あるいは減圧状態に保たれたドライ状態、もしくは水溶
液で満たされたウェット状態の何れであっても構わな
い。ただし、ヒドロキシラジカルに誘起されるラジカル
生成量が少ないためか、ドライ状態の方が膜中のラジカ
ルスピン含有量が少なくなるので、モジュール内部の空
間はドライ状態の方がより好ましい。この場合、分離膜
の含水率は特に限定しない。
を注入して硬化後、両端面を切断して中空糸を開口させ
る。ポッティング剤としては、ポリウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、およびシリコン樹脂が汎用されており、これ
らの何れを使用しても構わない。このハウジングに、血
液の導入・排出用のノズルがついたヘッダーをゴムパッ
キンと共に取り付け、締結するか溶着して外れないよう
に固定する。上記の血液処理モジュールは、分離膜とハ
ウジング以外の空間が空気や不活性ガスで満たされた、
あるいは減圧状態に保たれたドライ状態、もしくは水溶
液で満たされたウェット状態の何れであっても構わな
い。ただし、ヒドロキシラジカルに誘起されるラジカル
生成量が少ないためか、ドライ状態の方が膜中のラジカ
ルスピン含有量が少なくなるので、モジュール内部の空
間はドライ状態の方がより好ましい。この場合、分離膜
の含水率は特に限定しない。
【００２１】該モジュールへ放射線滅菌を行うにあた
り、放射線の線源は特に限定しないが、医療用具の放射
線滅菌に汎用されているのはコバルト６０によるγ線で
ある。他にもＸ線や電子線も利用できるが、物質浸透性
の点からγ線を使用することが最も好ましい。照射線量
は、一般的な医療用具の滅菌条件に準じればよく、１５
〜５０ＫＧｙの範囲であればよく、好ましくは２０〜３
５ＫＧｙである。以上により、本発明の血液処理モジュ
ールが得られる。
り、放射線の線源は特に限定しないが、医療用具の放射
線滅菌に汎用されているのはコバルト６０によるγ線で
ある。他にもＸ線や電子線も利用できるが、物質浸透性
の点からγ線を使用することが最も好ましい。照射線量
は、一般的な医療用具の滅菌条件に準じればよく、１５
〜５０ＫＧｙの範囲であればよく、好ましくは２０〜３
５ＫＧｙである。以上により、本発明の血液処理モジュ
ールが得られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明をさら
に詳細に説明するが、本発明はそれに限定されるもので
はない。なお、実施例で用いた諸数値は以下の手順によ
って測定したものである。
に詳細に説明するが、本発明はそれに限定されるもので
はない。なお、実施例で用いた諸数値は以下の手順によ
って測定したものである。
【００２３】（分離膜中のラジカルスピン含有量の測
定）放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モジュールか
ら分離膜５０本×５cm分を取り出し、４時間凍結乾燥さ
せた。窒素気流下で減圧を解除し、窒素ガスと共に測定
試料管に挿入して密栓後、翌日の測定開始までドライア
イスで氷冷した。測定は、電子スピン共鳴装置（日本電
子 ＪＥＳ−ＦＥ２ＸＧ）を用いて、室温下、磁場３４
００±１００Ｇ、マイクロ波照射０．４ｍＷ、掃引時間
１分、強度２００倍で実施した。また、標準品として
は、１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのベ
ンゼン溶液（２．９×１０−６ｍｏｌ／リットル）を用
い、装置内蔵のマンガンマーカーとの相対比から、試料
中のラジカルスピン含有量を算出した。この値を分離膜
の乾燥重量で割って、膜１ｇあたりのラジカルスピン含
有量とした。
定）放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モジュールか
ら分離膜５０本×５cm分を取り出し、４時間凍結乾燥さ
せた。窒素気流下で減圧を解除し、窒素ガスと共に測定
試料管に挿入して密栓後、翌日の測定開始までドライア
イスで氷冷した。測定は、電子スピン共鳴装置（日本電
子 ＪＥＳ−ＦＥ２ＸＧ）を用いて、室温下、磁場３４
００±１００Ｇ、マイクロ波照射０．４ｍＷ、掃引時間
１分、強度２００倍で実施した。また、標準品として
は、１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのベ
ンゼン溶液（２．９×１０−６ｍｏｌ／リットル）を用
い、装置内蔵のマンガンマーカーとの相対比から、試料
中のラジカルスピン含有量を算出した。この値を分離膜
の乾燥重量で割って、膜１ｇあたりのラジカルスピン含
有量とした。
【００２４】（分離膜吸着ＰＶＰの溶出評価）膜面積
１．５ｍ２で、放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モ
ジュールを準備し、その中空糸内側に、４０容量％エタ
ノール水溶液２００ｃｃを流速２００ｃｃ／分にて、３
７℃、２時間循環した。循環液０．０５ｃｃを、ゲル濾
過カラム（昭和電工社製 Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−７
１０ＨＱ）を取り付けた高速液体クロマトグラフ装置に
注入し、５０ｍＭの食塩水を流速１．０ｃｃ／分で流し
ながら２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターした。高分子
領域である保持時間６〜１０分のピークについて、ＰＶ
Ｐ標準品を用いた検量線からＰＶＰ濃度を求めた。ＰＶ
Ｐの定量限界は２．５ｐｐｍであった。
１．５ｍ２で、放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モ
ジュールを準備し、その中空糸内側に、４０容量％エタ
ノール水溶液２００ｃｃを流速２００ｃｃ／分にて、３
７℃、２時間循環した。循環液０．０５ｃｃを、ゲル濾
過カラム（昭和電工社製 Ａｓａｈｉｐａｋ ＧＦ−７
１０ＨＱ）を取り付けた高速液体クロマトグラフ装置に
注入し、５０ｍＭの食塩水を流速１．０ｃｃ／分で流し
ながら２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターした。高分子
領域である保持時間６〜１０分のピークについて、ＰＶ
Ｐ標準品を用いた検量線からＰＶＰ濃度を求めた。ＰＶ
Ｐの定量限界は２．５ｐｐｍであった。
【００２５】（分離膜の抗血栓性評価）放射線滅菌後９
０±３日目の血液処理モジュールから分離膜を切り出
し、長さ２０ｃｍ、３００本からなるミニモジュールを
作成した。該モジュールにヘパリン加ヒト新鮮血を３７
℃で１０分間充填させた後、血液を押し出して回収し
た。充填前後の血液をそれぞれ血漿分離して、血漿中の
トロンボキサンＢ２濃度をラジオイムノアッセィ法にて
測定し、充填前に対する充填後の増加率を算出した。な
お、血小板活性化の激しい陽性対照として、ＰＶＰを全
く含有しない膜を用い、試験品と同時に比較した。
０±３日目の血液処理モジュールから分離膜を切り出
し、長さ２０ｃｍ、３００本からなるミニモジュールを
作成した。該モジュールにヘパリン加ヒト新鮮血を３７
℃で１０分間充填させた後、血液を押し出して回収し
た。充填前後の血液をそれぞれ血漿分離して、血漿中の
トロンボキサンＢ２濃度をラジオイムノアッセィ法にて
測定し、充填前に対する充填後の増加率を算出した。な
お、血小板活性化の激しい陽性対照として、ＰＶＰを全
く含有しない膜を用い、試験品と同時に比較した。
【００２６】（分離膜中のＰＶＰ含有率の測定）照射滅
菌後に水洗して凍結乾燥させた分離膜を５ｍｇ秤量し、
元素分析計を用いて測定した総窒素量からＰＶＰ含有率
を算出した。
菌後に水洗して凍結乾燥させた分離膜を５ｍｇ秤量し、
元素分析計を用いて測定した総窒素量からＰＶＰ含有率
を算出した。
【００２７】
【実施例１】ポリスルホン系高分子（アモコ社製：Ｐ−
１７００）１７．５部とＰＶＰ（ＢＡＳＦ社製：Ｋ９
０、重量平均分子量３６万）４．５部をＮ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド（以下、ＤＭＡＣという）７８部に添
加、溶解して製膜原液を得た。中空剤はＤＭＡＣ１２．
５部と水８７．５部の混合液とし、これらを４０℃の二
重紡糸口金から吐出させ、凝固浴を通過させた後にカセ
に巻取った。巻き束を５０容量％ＤＭＡＣ水溶液に浸漬
し、７５℃で３０分間抽出して余分のＰＶＰを抽出後、
水洗した。さらに、４５重量％のグリセリン水溶液を付
着させ、７０℃で１０時間乾燥させて乾燥膜を得た。こ
の膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、γ線を
２０ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目におい
て、分離膜中のラジカルスピン含有量は２．７×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．２重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．８ｐ
ｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．
３であり、陽性対照の１０．１に比較して明らかに抗血
栓性が優れていた。同様に作成したモジュールの６０
℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は２．３
×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は
２．５にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
１７００）１７．５部とＰＶＰ（ＢＡＳＦ社製：Ｋ９
０、重量平均分子量３６万）４．５部をＮ，Ｎ−ジメチ
ルアセトアミド（以下、ＤＭＡＣという）７８部に添
加、溶解して製膜原液を得た。中空剤はＤＭＡＣ１２．
５部と水８７．５部の混合液とし、これらを４０℃の二
重紡糸口金から吐出させ、凝固浴を通過させた後にカセ
に巻取った。巻き束を５０容量％ＤＭＡＣ水溶液に浸漬
し、７５℃で３０分間抽出して余分のＰＶＰを抽出後、
水洗した。さらに、４５重量％のグリセリン水溶液を付
着させ、７０℃で１０時間乾燥させて乾燥膜を得た。こ
の膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、γ線を
２０ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目におい
て、分離膜中のラジカルスピン含有量は２．７×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．２重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．８ｐ
ｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．
３であり、陽性対照の１０．１に比較して明らかに抗血
栓性が優れていた。同様に作成したモジュールの６０
℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は２．３
×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は
２．５にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００２８】
【実施例２】水性媒体として、３５容量％ＤＭＡＣ水溶
液を用い、９０℃で３０分間浸漬抽出した以外は、実施
例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．
５ｍ ２のモジュールに成形し、減圧・窒素置換を３回繰
り返した後、真空パックした。γ線を２５ＫＧｙ照射し
たところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラ
ジカルスピン含有量は２．１×１０１５スピン／ｇ、Ｐ
ＶＰ含有率は６．４重量％であり、４０容量％エタノー
ル循環液中のＰＶＰ濃度は５．４ｐｐｍであった。ま
た、トロンボキサンＢ２増加率は２．４であった。同様
に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラ
ジカルスピン含有量は２．０×１０１５スピン／ｇ、ト
ロンボキサンＢ２増加率は２．５にとどまり、抗血栓性
は保持されていた。
液を用い、９０℃で３０分間浸漬抽出した以外は、実施
例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．
５ｍ ２のモジュールに成形し、減圧・窒素置換を３回繰
り返した後、真空パックした。γ線を２５ＫＧｙ照射し
たところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラ
ジカルスピン含有量は２．１×１０１５スピン／ｇ、Ｐ
ＶＰ含有率は６．４重量％であり、４０容量％エタノー
ル循環液中のＰＶＰ濃度は５．４ｐｐｍであった。ま
た、トロンボキサンＢ２増加率は２．４であった。同様
に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラ
ジカルスピン含有量は２．０×１０１５スピン／ｇ、ト
ロンボキサンＢ２増加率は２．５にとどまり、抗血栓性
は保持されていた。
【００２９】
【実施例３】水性媒体として、５０容量％ＤＭＡＣ水溶
液を用い、９０℃で６０分間浸漬抽出した以外は、実施
例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．
５ｍ ２のモジュールに成形し、５００ｐｐｍのピロ亜硫
酸ナトリウム水溶液を充填して一晩静置した。γ線を２
７．５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目にお
いて、分離膜中のラジカルスピン含有量は６．９×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．０重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐ
ｐｍ以下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は
２．７であった。同様に作成したモジュールの６０℃、
４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．１×１
０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は２．７
にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
液を用い、９０℃で６０分間浸漬抽出した以外は、実施
例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．
５ｍ ２のモジュールに成形し、５００ｐｐｍのピロ亜硫
酸ナトリウム水溶液を充填して一晩静置した。γ線を２
７．５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目にお
いて、分離膜中のラジカルスピン含有量は６．９×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．０重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐ
ｐｍ以下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は
２．７であった。同様に作成したモジュールの６０℃、
４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．１×１
０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は２．７
にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００３０】
【実施例４】実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水
性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理し、乾燥膜を
得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形
後、４０℃の６０容量％エタノール水溶液を流速５０ｍ
ｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。さらに、モ
ジュールを水洗し、分離膜を４０重量％のグリセリン水
溶液で置換後、中空部をエアーフラッシュした。γ線を
２２ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目におい
て、分離膜中のラジカルスピン含有量は３．３×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．０ｐ
ｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．
９であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週
間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０
１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．２に
とどまり、抗血栓性は保持されていた。
性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理し、乾燥膜を
得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形
後、４０℃の６０容量％エタノール水溶液を流速５０ｍ
ｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。さらに、モ
ジュールを水洗し、分離膜を４０重量％のグリセリン水
溶液で置換後、中空部をエアーフラッシュした。γ線を
２２ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目におい
て、分離膜中のラジカルスピン含有量は３．３×１０
１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、
４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．０ｐ
ｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．
９であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週
間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０
１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．２に
とどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００３１】
【実施例５】実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水
性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理し、乾燥膜を
得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形
後、４０℃の４０容量％テトラヒドロフラン水溶液を流
速５０ｍｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。モ
ジュールを水洗後、内部に水を充填したままγ線を２２
ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、
分離膜中のラジカルスピン含有量は９．３×１０１５ス
ピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、４０容
量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐｐｍ以
下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．２
であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間
加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５
スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．５にとど
まり、抗血栓性は保持されていた。
性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理し、乾燥膜を
得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形
後、４０℃の４０容量％テトラヒドロフラン水溶液を流
速５０ｍｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。モ
ジュールを水洗後、内部に水を充填したままγ線を２２
ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、
分離膜中のラジカルスピン含有量は９．３×１０１５ス
ピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、４０容
量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐｐｍ以
下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．２
であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間
加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５
スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．５にとど
まり、抗血栓性は保持されていた。
【００３２】
【比較例１】実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水
性媒体による抽出処理をせずに水洗、グリセリン処理を
行い、乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジ
ュールに成形し、２２．５ＫＧｙのγ線照射滅菌後９０
日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は２３
×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は９．２重量％で
あり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は４
７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２
増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモ
ジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン
含有量は２．４×１０１５スピン／ｇまで減少し、一
方、トロンボキサンＢ２増加率は９．５と増大し、抗血
栓性が低下した。
性媒体による抽出処理をせずに水洗、グリセリン処理を
行い、乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジ
ュールに成形し、２２．５ＫＧｙのγ線照射滅菌後９０
日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は２３
×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は９．２重量％で
あり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は４
７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２
増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモ
ジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン
含有量は２．４×１０１５スピン／ｇまで減少し、一
方、トロンボキサンＢ２増加率は９．５と増大し、抗血
栓性が低下した。
【００３３】
【比較例２】比較例１の乾燥膜を膜面積１．５ｍ２のモ
ジュールに成形後、水を充填してγ線を２２．５ＫＧｙ
照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜
中のラジカルスピン含有量は３１×１０１５スピン／
ｇ、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は１９
ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２増
加率は３．３であった。ところが、同様に作成したモジ
ュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含
有量は３．３×１０１５スピン／ｇまで減少し、一方、
トロンボキサンＢ２増加率は１０．２と増大し、抗血栓
性は低下した。
ジュールに成形後、水を充填してγ線を２２．５ＫＧｙ
照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜
中のラジカルスピン含有量は３１×１０１５スピン／
ｇ、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は１９
ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２増
加率は３．３であった。ところが、同様に作成したモジ
ュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含
有量は３．３×１０１５スピン／ｇまで減少し、一方、
トロンボキサンＢ２増加率は１０．２と増大し、抗血栓
性は低下した。
【００３４】
【比較例３】ポリスルホン系高分子１５部とＰＶＰ９部
をＤＭＡＣ７６部に添加、溶解した以外は、実施例１と
同様の条件で巻き束を得た。この束を、２５容量％のジ
メチルスルホキシド水溶液に７５℃で３０分間浸漬抽出
した後、１時間水洗し、さらに４５重量％のグリセリン
水溶液を付着させて７０℃で１０時間乾燥した。この膜
を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、水を充填し
てγ線を２５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日
目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は４３×
１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は１１．４重量％で
あり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度も５
７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２
増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモ
ジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン
含有量は５．２×１０１５スピン／ｇまで減少し、一
方、トロンボキサンＢ２増加率は９．４と増大し、抗血
栓性は低下した。
をＤＭＡＣ７６部に添加、溶解した以外は、実施例１と
同様の条件で巻き束を得た。この束を、２５容量％のジ
メチルスルホキシド水溶液に７５℃で３０分間浸漬抽出
した後、１時間水洗し、さらに４５重量％のグリセリン
水溶液を付着させて７０℃で１０時間乾燥した。この膜
を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、水を充填し
てγ線を２５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日
目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は４３×
１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は１１．４重量％で
あり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度も５
７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２
増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモ
ジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン
含有量は５．２×１０１５スピン／ｇまで減少し、一
方、トロンボキサンＢ２増加率は９．４と増大し、抗血
栓性は低下した。
【００３５】
【発明の効果】本発明のポリスルホン系血液処理モジュ
ールは、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量が少な
く、長期保管中も抗血栓状態を保持できるため、血液浄
化の分野に好適に利用できる。
ールは、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量が少な
く、長期保管中も抗血栓状態を保持できるため、血液浄
化の分野に好適に利用できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4C077 AA05 BB01 BB02 KK04 LL05 LL23 NN18 PP08 PP15 4D006 GA13 JA02B JA13C JA25C JB06 KC21 MA01 MA31 MA33 MB20 MC40X MC62X MC88 NA04 NA10 NA13 NA14 NA54 NA64 NA71 PA01 PB09 PC47
Claims (4)
- 【請求項１】 ポリスルホン系高分子、およびポリビニ
ルピロリドンからなる分離膜を組み込んで放射線滅菌さ
れた血液処理モジュールにおいて、該分離膜中のラジカ
ルスピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下で
あることを特徴とする、ポリスルホン系血液処理モジュ
ール。 - 【請求項２】 該モジュール内部の空間がドライ状態で
あり、しかも該分離膜中のラジカルスピン含有量が３．
０×１０１５スピン／ｇ以下であることを特徴とする、
請求項１に記載のポリスルホン系血液処理モジュール。 - 【請求項３】 該モジュールを４０容量％エタノール水
溶液で循環したとき、循環液中のポリビニルピロリドン
濃度が１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする、請求項
１または２に記載のポリスルホン系血液処理モジュー
ル。 - 【請求項４】 該分離膜中の吸着ポリビニルピロリドン
を水性媒体で抽出除去後、放射線滅菌して得られる請求
項１〜３の何れかに記載のポリスルホン系血液処理モジ
ュール。
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